FR2659780A1 - Optically read memory based on a ferroelectric material - Google Patents
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Abstract
Description
MOIRE A BASE DE MATéRIAU
FERRO#EL#CTRIQUE ET A LECTURE OPTIQUE
La présente invention concerne des mémoires à base de matériau ferroélectrique et à lecture optique. Elle concerne plus particulièrement des mémoires programmables.MOIRE BASED ON MATERIAL
FERRO # EL # CTRIQUE AND OPTICAL READING
The present invention relates to memories based on ferroelectric material and optical reading. It relates more particularly to programmable memories.
On connaît différentes manières de réaliser des mémoires à partir de matériaux ferroélectriques, par exemple grâce aux documents US 2 922 986, US 3 710 353, US 3 264 618,
EP 166 938, US 3 872 318, GB 890 780, FR 2 604 283 et "A
Ferroelectric Nonvolatile Memory" (S. EATON, D. BUTLER, M.There are various ways of making memories from ferroelectric materials, for example from US 2,922,986, US 3,710,353, US 3,264,618, US Pat.
EP 166,938, US 3,872,318, GB 890,780, FR 2,604,283 and "A
Ferroelectric Nonvolatile Memory "(S. EATON, D. BUTLER, M.
PARRIS, D. WILSON, H. McNEILLIE, 1988, IEEE, International Solid-State Circuits Conference). Tous ces documents concernent des mémoires à base de matériaux ferroélectriques comme le titanate de baryum BaTiO3, les céramiques PZT (oxyde de plomb, de zirconium et de titane) et PLZT (oxyde de plomb, de lanthane, de zirconium et de titane), le polymère PVDF (polyfluorure de vinyldène) ou le copolymère P(VDF-TrFE) (fluorure de vinylidène/trifluoroéthylène). Ces documents concernent également des procédés de lecture de ces mémoires, par effet pyroélectrique, optique ou capacitif.PARRIS, D. WILSON, H. McNEILLIE, 1988, IEEE, International Solid-State Circuits Conference). All these documents concern memories based on ferroelectric materials such as BaTiO3 barium titanate, PZT (lead oxide, zirconium and titanium oxide) ceramics and PLZT (lead, lanthanum, zirconium and titanium oxide). PVDF polymer (vinyldene polyfluoride) or copolymer P (VDF-TrFE) (vinylidene fluoride / trifluoroethylene). These documents also relate to methods for reading these memories, by pyroelectric, optical or capacitive effect.
La lecture optique par génération de seconde harmonique se heurte à une difficulté majeure : les états ferroélectriques -P et + PO (représentatifs des états de
o polarisation rémanente) ne peuvent pas être dissociés l'un de l'autre sur une même couche ferroélectrique du fait qu'ils génèrent la même intensité de seconde harmonique. Il n'existe donc qu'un contraste de lecture entre des états de polarisation P = O et P = + P ou -P0, ce qui nécessite un système
o d'effacement ou de remise à zéro (P = 0) pour une utilisation en mémoire type WRM (Write Read Many).The optical reading by second harmonic generation encounters a major difficulty: the ferroelectric states -P and + PO (representative of the states of
o remanent polarization) can not be dissociated from each other on the same ferroelectric layer because they generate the same intensity of second harmonic. There is therefore only a reading contrast between states of polarization P = O and P = + P or -P0, which requires a system
o erase or reset (P = 0) for use in memory type WRM (Write Read Many).
Pour pallier ces inconvénients, la présente invention porte sur une mémoire à base de matériau ferroélectrique et formée de couches superposées de ce matériau, un élément de mémoire étant formé de zones superposées de ces couches. La lecture des informations se fera à partir de la modulation de l'intensité de génération de seconde harmonique issue de ces couches en fonction du rapport de leur épaisseur à la longueur de cohérence, et de l'orientation de la polarisation induite par rapport à l'onde optique incidente. To overcome these drawbacks, the present invention relates to a memory based on ferroelectric material and formed of superimposed layers of this material, a memory element being formed of superimposed areas of these layers. The information will be read from the modulation of the second harmonic generation intensity resulting from these layers as a function of the ratio of their thickness to the coherence length, and the orientation of the polarization induced with respect to the incident optical wave.
Un avantage important de l'invention réside dans le fait qu'elle permet d'accroître la densité d'information qui peut être stockée dans ce type de mémoire du fait de l'utilisation d'un système multicouche. An important advantage of the invention lies in the fact that it increases the information density that can be stored in this type of memory due to the use of a multilayer system.
Chaque élément de mémoire est programmable, effaçable et possède un nombre de niveaux ajustables en fonction du nombre de couches (raisonnablement de 2 à 6), du nombre de valeurs de polarisation utilisées (raisonnablement de 2 à 12) et de l'arrangement des directions de polarisation entre elles (parallèles ou antiparallèles). Each memory element is programmable, erasable and has a number of levels adjustable according to the number of layers (reasonably from 2 to 6), the number of polarization values used (reasonably from 2 to 12) and the arrangement of directions polarization between them (parallel or antiparallel).
De plus, le principe de lecture optique permet d'accroître la vitesse de lecture de la mémoire en utilisant le parallélisme de l'optique (toute la mémoire peut être lue simultanément). In addition, the principle of optical reading makes it possible to increase the reading speed of the memory by using the parallelism of the optics (all the memory can be read simultaneously).
Chaque zone d'élément d'image (quelques ,umZ de surface) peut être reprogrammée par une remise à zéro (polarisation parallèle) ou mise au niveau 1 par application d'une tension inverse permettant d'obtenir la polarisation antiparallèle. Cette opération peut être faite en 1 ,us à température ambiante pour des champs électriques maxima de 106 V/cm soit 100 volts pour 1 um. Each pixel zone (a few, umZ of area) can be reprogrammed by resetting (parallel polarization) or leveling 1 by applying a reverse voltage to obtain antiparallel polarization. This operation can be done in 1, us at room temperature for maximum electric fields of 106 V / cm or 100 volts for 1 um.
L'invention a donc pour objet une mémoire à base de matériau ferroélectrique à inscription électrique et à lecture optique, caractérisée en ce qu'elle comprend au moins deux couches superposées en matériau ferroélectrique, chaque élément de mémoire étant formé de zones superposées desdites couches, les zones d'un même élément de mémoire étant disposées de façon qu'un faisceau lumineux de lecture puisse les traverser, la mémoire comprenant également des moyens d'application de champs électriques permettant de mettre les zones de chaque élément de mémoire dans des états de polarisation déterminés, le faisceau lumineux de lecture générant, en traversant un élément de mémoire, une onde de seconde harmonique dont l'amplitude est fonction des états de polarisation desdites zones. The invention therefore relates to a memory based on ferroelectric material with electrical inscription and optical reading, characterized in that it comprises at least two superposed layers of ferroelectric material, each memory element being formed of superimposed zones of said layers, the zones of the same memory element being arranged in such a way that a reading light beam can pass through them, the memory also comprising means for applying electric fields making it possible to put the zones of each element of memory in states of determined polarization, the reading light beam generating, through a memory element, a second harmonic wave whose amplitude is a function of the polarization states of said zones.
L'invention sera mieux comprise et d'autres avantages apparaîtront grâce à la description qui va suivre, donnée à titre non limitatif, accompagnée des dessins annexés parmi lesquels
- la figure 1 est un diagramme donnant l'intensité d'un signal de seconde harmonique généré dans un matériau électrooptique en fonction de la longueur d'interaction,
- les figures 2 et 3 représentent de manière schématique des éléments de matériau électrooptique,
- la figure 4 représente en coupe une portion de mémoire selon l'invention,
- la figure 5 est un diagramme représentant un cycle d'hystérésis,
- la figure 6 représente un dispositif de lecture d'une mémoire selon l'invention,
- la figure 7 représente une variante de mémoire selon l'invention,
- la figure 8 est un diagramme représentant un cycle d'hystérésis,
- la figure 9 représente une mémoire selon l'invention, en forme de disque.The invention will be better understood and other advantages will become apparent from the following description, given in a non-limiting manner, accompanied by the appended drawings among which:
FIG. 1 is a diagram giving the intensity of a second harmonic signal generated in an electro-optical material as a function of the interaction length,
FIGS. 2 and 3 schematically represent electro-optical material elements,
FIG. 4 represents in section a portion of memory according to the invention,
FIG. 5 is a diagram representing a hysteresis cycle,
FIG. 6 represents a device for reading a memory according to the invention,
FIG. 7 represents a variant of memory according to the invention,
FIG. 8 is a diagram representing a hysteresis cycle,
FIG. 9 represents a memory according to the invention, in the form of a disk.
Les matériaux à structure non-centrosymétrique peuvent générer une onde de seconde harmonique en réponse à
a w une onde électromagnétique incidente. L'intensité I de cette onde de seconde harmonique est fonction du carré de la longueur d'interaction 1, donc de l'épaisseur de matériau électrooptique traversée par l'onde, selon la relation
1 étant appelée longueur de cohérence. La longueur de
c cohérence correspond à la relation
avec ## : longueur d'onde de l'onde électromagnétique
a w w incidente, n indice du matériau à la pulsation 2 # et n# indice du matériau à la pulsation w (pulsation de l'onde incidente).Cette relation est due au désaccord de phase entre l'onde de pulsation w et l'onde de pulsation 2z qui se propagent dans le matériau, l'indice à la pulsation Lt > ) n'étant pas égal à l'indice à la pulsation 2 w (n ).Materials with a non-centrosymmetric structure can generate a second harmonic wave in response to
aw an incident electromagnetic wave. The intensity I of this second harmonic wave is a function of the square of the interaction length 1, and therefore of the thickness of the electro-optical material traversed by the wave, according to the relation
1 being called coherence length. The length of
c consistency is the relationship
with ##: wavelength of the electromagnetic wave
aww incident, n index of the material at the pulsation 2 # and n # index of the material at the pulsation w (pulsation of the incident wave) .This relation is due to the phase mismatch between the pulse wave w and the wave of pulsation 2z propagating in the material, the index at the pulsation Lt>) not being equal to the index at the pulsation 2 w (n).
Dans le cas du copolymère P (VDF-TrPE) de proportions molaires 70/30 (70 % de VDF pour 30 % de TrFE) et pour une longueur d'onde A = 1,06 m, la différence
w d'indice n - n vaut 0,007 et la longueur de cohérence 1
c vaut environ 30 ,um. In the case of the copolymer P (VDF-TrPE) of 70/30 molar proportions (70% of VDF for 30% of TrFE) and for a wavelength λ = 1.06 m, the difference
w of index n - n is 0.007 and the coherence length 1
c is about 30 μm.
La figure 1 est un diagramme donnant l'intensité
2 tex
I du signal de seconde harmonique généré dans un matériau électrooptique en fonction de la longueur d'interaction 1. La courbe Cl a été tracée pour # k = 0 et la courbe C2 pour # k # 0 (~k=k kw, ku; k# et k2# étant les vecteurs d'onde respectivement pour les pulsations W et 2#). La courbe Cl a une allure parabolique tandis que la courbe C2 a une allure sinusoïdale. La courbe C2 possède des valeurs maximales pour des longueurs d'interaction égales à la longueur de cohérence Ic ou multiples impaires de lc. Elle possède des valeurs nulles pour des multiples paires de Ic.Figure 1 is a diagram showing the intensity
2 tex
I of the second harmonic signal generated in an electro-optical material as a function of the interaction length 1. The curve C1 has been plotted for # k = 0 and the curve C2 for # k # 0 (~ k = k kw, ku; k # and k2 # being the wave vectors respectively for the pulsations W and 2 #). The curve C1 has a parabolic appearance while the curve C2 has a sinusoidal shape. The curve C2 has maximum values for interaction lengths equal to the coherence length Ic or odd multiples of 1c. It has null values for multiple pairs of Ics.
c
Une explication simple de la courbe C2 consiste à dire que l'élément de matériau ferroélectrique et électrooptique, dans lequel se propage l'onde de seconde harmonique, peut être subdivisé en tranches d'épaisseur 1.c
A simple explanation of the C2 curve is that the element of ferroelectric and electro-optical material in which the second harmonic wave propagates can be subdivided into slices of thickness 1.
c
Les figures 2 et 3 représentent de manière schématique des éléments de matériau électrooptique d'épaisseur 2 lc. Une onde
c électromagnétique d'intensité I @ incidente à ces éléments génère une onde de seconde harmonique et d'intensité I2#. Si les deux tranches sont polarisées dans le même sens ( SPO et + PO) comme le montre la figure 2, le signal de seconde harmonique produit par la deuxième tranche est en opposition de phase avec celui produit par la première tranche et l'onde de seconde harmonique à la sortie de la deuxième tranche a une amplitude nulle.Si les deux tranches sont polarisées en sens inverse (+ PO et - PO) comme le montre la figure 3, les signaux produits par ces tranches sont en phase et il y a émission d'un signal de seconde harmonique I2 w
K (in') K étant un coefficient de proportionnalité.c
Figures 2 and 3 schematically represent electrooptical material elements of thickness 2 lc. A wave
The electromagnetic c intensity I @ incident to these elements generates a wave of second harmonic and intensity I2 #. If the two slices are polarized in the same direction (SPO and + PO) as shown in FIG. 2, the second harmonic signal produced by the second slice is in phase opposition with that produced by the first slice and the second slice. second harmonic at the output of the second slice has a zero amplitude.If the two slices are polarized in the opposite direction (+ PO and - PO) as shown in Figure 3, the signals produced by these slices are in phase and there is emission of a second harmonic signal I2 w
K (in ') K being a coefficient of proportionality.
Dans le cas d'un matériau ferroélectrique tel que P(VDF-TrEE) de proportions molaires 70/30, la longueur de cohérence mesurée est sensiblement égale à 30 Cun. Cette longueur peut être réduite à quelques Cun par dopage du polymère avec 1 à 10 % de colorants connus de l'homme de l'art. In the case of a ferroelectric material such as P (VDF-TrEE) of 70/30 molar proportions, the measured coherence length is substantially equal to 30 Cun. This length can be reduced to a few Cun by doping the polymer with 1 to 10% of dyes known to those skilled in the art.
Ce dopage modifie la bande d'absorption du polymère dans le domaine du visible qui peut être ajustée en longueur d'onde par le choix du colorant.This doping modifies the absorption band of the polymer in the visible range which can be adjusted in wavelength by the choice of the dye.
On peut ainsi obtenir un système à mémoire selon les états de polarisation des différentes tranches. Le principe de fonctionnement d'une telle mémoire est identique quelle que soit l'épaisseur des couches de polymère pourvu que toutes les couches aient la même épaisseur et que cette épaisseur soit inférieure ou égale à la longueur de cohérence 1
c
En pratique, si les longueurs de cohérence sont de l'ordre de quelques dizaines de pin, il est tout à fait possible d'utiliser des couches de 1 Cun d'épaisseur.It is thus possible to obtain a memory system according to the polarization states of the different slices. The operating principle of such a memory is identical regardless of the thickness of the polymer layers provided that all the layers have the same thickness and that this thickness is less than or equal to the coherence length 1
c
In practice, if the coherence lengths are of the order of a few tens of pin, it is quite possible to use layers of 1 Cun thick.
La figure 4 représente en coupe une portion de mémoire selon l'invention, formée de deux couches de matériau ferroélectrique. On envisagera le cas où la mémoire est lue en transmission et dans ce cas tous ses composants sont transparents au faisceau de lecture. La mémoire comprend un substrat statique 1 en verre par exemple sur lequel on a déposé des électrodes colonnes 2 en oxyde mixte d'étain et d'indium (ITO). On a ensuite déposé, pour obtenir une première couche 3 de matériau ferroélectrique un film de polymère ferroélectrique. FIG. 4 represents in section a portion of memory according to the invention, formed of two layers of ferroelectric material. We will consider the case where the memory is read in transmission and in this case all its components are transparent to the reading beam. The memory comprises a static substrate 1 of glass for example on which column electrodes 2 have been deposited in mixed indium tin oxide (ITO). To obtain a first layer 3 of ferroelectric material, a ferroelectric polymer film was then deposited.
Ce peut être du P(VDF-TrFE) 70/30 déposé à la tournette. Cette couche 3 est ensuite recouverte d'un réseau d'électrodes lignes 4 en ITO puis d'une seconde couche 5 du même polymère ferroélectrique. La couche 5 est alors recouverte d'une électrode uniforme 6 en ITO. Les intersections des lignes et des colonnes définissent les éléments de mémoire selon un système matriciel.It can be P (VDF-TrFE) 70/30 spin-on. This layer 3 is then covered with an array of lines 4 ITO electrodes and a second layer 5 of the same ferroelectric polymer. The layer 5 is then covered with a uniform electrode 6 in ITO. Intersections of rows and columns define the memory elements according to a matrix system.
Les deux couches ferroélectriques 3 et 5 sont d'épaisseur égale à la longueur de cohérence lc. La couche 5
c est tout d'abord polarisée uniformément et une fois pour toutes entre les électrodes 4 et 6 en lui appliquant un champ électrique coercitif environ égal à 80 V/,um. Cet état de polarisation, par exemple Po, est représenté sur la figure 4 par des flèches. Toutes les zones de la couche 5 sont polarisées dans le même sens.The two ferroelectric layers 3 and 5 are of thickness equal to the coherence length lc. Layer 5
c is first polarized uniformly and once and for all between the electrodes 4 and 6 by applying a coercive electric field of about 80 V / um. This state of polarization, for example Po, is represented in FIG. 4 by arrows. All areas of layer 5 are polarized in the same direction.
Pour chaque élément d'image, les états O et 1 s'obtiennent en appliquant + ou - la tension coercitive Vcoerc entre les électrodes lignes 4 et les électrodes colonnes 2. For each image element, the states O and 1 are obtained by applying + or - the coercive voltage Vcoerc between the row electrodes 4 and the column electrodes 2.
Pour l'inscription de la couche 3, on peut utiliser le type d'adressage suivant en relation avec la figure 5 qui représente un cycle d'hystérésispour un matériau ferroélectrique. D'abord, l'ensemble de la couche 3 peut être mis dans l'état de polarisation -P en appliquant une tension
o Vl sur les électrodes lignes 4 et une tension + Vc sur les électrodes colonnes 2. La couche 3 est alors soumise à une tension Vl - Vc, ce qui correspond au point A sur le cycle d'hystérésis de la figure 5, soit pratiquement l'état de polarisation -P . De cette façon l'ensemble de la mémoire est
o mise dans l'état mémoire 0.For the inscription of the layer 3, the following type of addressing can be used in connection with FIG. 5 which represents a hysteresis cycle for a ferroelectric material. First, the entire layer 3 can be put in the state of polarization -P by applying a voltage
o Vl on the electrodes lines 4 and a voltage + Vc on the column electrodes 2. The layer 3 is then subjected to a voltage V1 - Vc, which corresponds to the point A on the hysteresis cycle of FIG. the state of polarization -P. In this way the whole memory is
o put in the memory state 0.
Pour mettre certains éléments de mémoire dans l'état 1, l'inscription se fait ligne par ligne. On applique +V1 sur la ligne à inscrire, -V c sur les colonnes correspondant aux éléments de mémoire à mettre dans l'état mémoire 1, + V sur
c les colonnes correspondant aux éléments de mémoire à garder dans l'état mémoire 0. Ainsi, pour la ligne à inscrire, les zones de la couche 3 soumises à une tension V + V sont
c dans l'état de polarisation + P (point B du cycle
o d'hystérésis) et l'élément mémoire correspondant sera dans l'état mémoire 1.Toujours pour cette ligne à inscrire, les zones de la couche 3 soumises à une tension V1 - V sont
c dans l'état de polarisation -P (point A du cycle
o d'hystérésis) et l'élément mémoire correspondant sera dans l'état mémoire 0. Pendant ce temps, les autres électrodes lignes sont mises au potentiel 0 de sorte que les zones de la couche 3 correspondantes sont soumises à + ou - V c (points C et D du cycle d'hystérésis) ce qui ne change pas leur état de polarisation (environ -PO)
Sur la figure 4, on a représenté trois éléments de mémoire à l'état mémoire 1 et quatre éléments de mémoire à l'état mémoire 0. En réponse à un signal optique de lecture I#, les éléments à l'état mémoire 1 génèrent un signal I2# et les éléments à l'état mémoire 0 ne génèrent aucun signal 12w
La figure 6 représente un dispositif de lecture d'une mémoire selon l'invention à une seule rangée d'éléments mémoire.To put some memory elements in state 1, the registration is done line by line. Apply + V1 on the line to be written, -V c on the columns corresponding to the memory elements to put in the memory state 1, + V on
c the columns corresponding to the memory elements to be kept in the memory state 0. Thus, for the line to be written, the zones of the layer 3 subjected to a voltage V + V are
c in the state of polarization + P (point B of the cycle
hysteresis) and the corresponding memory element will be in the memory state 1.Always for this line to be written, the zones of the layer 3 subjected to a voltage V1-V are
c in the state of polarization -P (point A of the cycle
hysteresis) and the corresponding memory element will be in the memory state 0. During this time, the other row electrodes are set to potential 0 so that the corresponding areas of the layer 3 are subjected to + or - V c (points C and D of the hysteresis cycle) which does not change their state of polarization (about -PO)
FIG. 4 shows three memory elements in the memory state 1 and four memory elements in the memory state 0. In response to an optical reading signal I #, the elements in the memory state 1 generate a signal I2 # and the elements in the memory state 0 generate no signal 12w
FIG. 6 represents a device for reading a memory according to the invention with a single row of memory elements.
Ce dispositif comprend une barrette 10 de lasers pouvant émettre des faisceaux lumineux à la pulsation w et une barrette li de détecteurs de signaux lumineux de pulsation 2 w . La mémoire, que l'on a désignée sous la référence 12, est placée entre les barrettes 10 et 11. De la mémoire 12 on n'a représenté que le substrat 1 et les couches ferroélectriques 3 et 5. La mémoire est inclinée d'un angle 0 par rapport à la normale aux faisceaux de lecture. Cet angle 9 est avantageusement fixé entre 500 et 600 pour obtenir un signal I u) détecté maximum.This device comprises a bar 10 of lasers capable of emitting pulsed light beams w and a strip li of pulsed light signal detectors 2 w. The memory, which has been designated as reference 12, is placed between the bars 10 and 11. Memory 12 only shows the substrate 1 and the ferroelectric layers 3 and 5. The memory is inclined. an angle 0 relative to the normal reading beams. This angle 9 is advantageously set between 500 and 600 to obtain a maximum detected signal I u).
Un réseau de fibres optiques 13 distribue les signaux optiques de lecture aux éléments de mémoire. Un réseau de fibres optiques 14 recueille, par l'intermédiaire de microlentilles 15, les signaux optiques générés par les éléments de mémoire vers la barrette de détecteurs 11.An optical fiber network 13 distributes the optical read signals to the memory elements. An optical fiber network 14 collects, via microlenses 15, the optical signals generated by the memory elements towards the detector array 11.
Un système de lecture plus élaboré consiste à utiliser une barrette à une seule rangée de lasers et se déplaçant ligne par ligne (ou colonne par colonne) de façon à lire une mémoire 2 dimensions. La barrette à une seule rangée de détecteurs correspondante se déplace de façon synchrone au déplacement de la barrette de lasers. A more sophisticated reading system is to use a single-row array of lasers and move line by line (or column by column) so as to read a 2-dimensional memory. The bar with a single row of corresponding detectors moves synchronously with the movement of the laser array.
Un autre système consiste à utiliser une matrice de lasers N x M et une matrice de détecteurs N x M afin de lire sans déplacement une mémoire deux dimensions. Another system consists in using an N x M laser matrix and an N x M detector array in order to read a two-dimensional memory without displacement.
En associant n couches de polymère ferroélectriques avec un nombre approprié de réseaux d'électrodes croisés et isolés, on peut réaliser une mémoire ferroélectrique où chaque élément de mémoire possède un nombre de niveaux programmables fonction du nombre de couches et des valeurs de polarisation utilisées. Les couches de polymère utilisées peuvent avoir de 1 à 2 Xum d'épaisseur. By associating n ferroelectric polymer layers with a suitable number of crossed and isolated electrode arrays, a ferroelectric memory can be made wherein each memory element has a number of programmable levels depending on the number of layers and the polarization values used. The polymer layers used may be from 1 to 2 μm thick.
La mémoire de la figure 4 comprenait des couches ferroélectriques d'épaisseur égale à la longueur de cohérence. The memory of Figure 4 included ferroelectric layers of thickness equal to the coherence length.
Le choix de cette épaisseur se justifiait par la raison qu'on peut ainsi simplement faire la distinction entre un signal d'une amplitude maximum pour 1 = le (voir la figure 1) et un signal d'amplitude nulle. Par contre, si les couches ferroélectriques ont des épaisseurs inférieures à la longueur de cohérence, on peut obtenir par superposition de couches toute une série de valeurs pour l'amplitude I2 du faisceau généré allant de la valeur 0 à la valeur correspondant à l = 1
c
La figure 7 représente une mémoire selon l'invention vue en coupe et comprenant 4 films ferroélectriques.Elle comprend un substrat 20 transparent au faisceau optique de lecture sur lequel sont déposées quatre couches de polymère ferroélectrique référencées 21, 22, 23 et 24. Chaque couche ferroélectrique est comprise entre des réseaux d'électrodes lignes et colonnes transparentes au faisceau optique de lecture.The choice of this thickness was justified by the reason that one can thus simply distinguish between a signal of maximum amplitude for 1 = the (see Figure 1) and a zero amplitude signal. On the other hand, if the ferroelectric layers have thicknesses less than the coherence length, a plurality of values can be obtained by superposition of layers for the amplitude I2 of the generated beam going from the value 0 to the value corresponding to l = 1.
c
FIG. 7 represents a memory according to the invention seen in section and comprising 4 ferroelectric films. It comprises a substrate 20 transparent to the reading optical beam on which are deposited four ferroelectric polymer layers referenced 21, 22, 23 and 24. Each layer ferroelectric is between rows and columns of electrodes transparent to the reading optical beam.
Ainsi la couche 21 est encadrée par des réseaux d'électrodes lignes 25 et d'électrodes colonnes 26 ; la couche 22 est encadrée par des réseaux d'électrodes lignes 27 et d'électrodes colonnes 28 ; la couche 23 est encadrée par des réseaux d'électrodes lignes 29 et d'électrodes colonnes 30 ; la couche 24 est encadrée par des réseaux d'électrodes lignes 31 et d'électrodes colonnes 32. Des couches diélectriques 33, 34 et 35 transparentes au faisceau de lecture sont interposées entre les électrodes colonnes d'une couche de polymère ferroélectrique et les électrodes lignes de la couche ferroélectrique suivante afin d'éviter les courts-circuits entre ces électrodes.Thus the layer 21 is framed by arrays of line electrodes 25 and column electrodes 26; the layer 22 is framed by rows of electrode electrodes 27 and column electrodes 28; the layer 23 is framed by arrays of line electrodes 29 and column electrodes 30; the layer 24 is framed by arrays of row electrodes 31 and column electrodes 32. Dielectric layers 33, 34 and 35 transparent to the reading beam are interposed between the column electrodes of a ferroelectric polymer layer and the row electrodes of the next ferroelectric layer to avoid short circuits between these electrodes.
Un laser 40 délivre un faisceau lumineux de lecture 41 rendu parallèle grâce à la lentille 42. Le faisceau 41 est incliné d'un angle & par rapport à la normale aux couches, cet angle S étant choisi de façon à obtenir un signal généré d'amplitude maximale. La figure 7 montre le faisceau lumineux 42 traversant un élément de mémoire. Les électrodes lignes correspondant à un même élément de mémoire sont donc décalées les unes des autres en relation avec l'angle e
L'épaisseur des couches de polymère ferroélectrique peut être comprise entre 1 et 5 ,um donc suffisamment faible par rapport à la longueur de cohérence. Ces épaisseurs correspondent à la progression parabolique du début du diagramme de la figure 1. L'épaisseur totale des couches ferroélectriques est au plus égale à la longueur de cohérence.A laser 40 delivers a reading light beam 41 made parallel through the lens 42. The beam 41 is inclined at an angle θ with respect to the normal to the layers, this angle S being chosen so as to obtain a signal generated by maximum amplitude. Figure 7 shows the light beam 42 passing through a memory element. The row electrodes corresponding to the same memory element are therefore offset from one another in relation to the angle e
The thickness of the ferroelectric polymer layers may be between 1 and 5 μm, which is therefore sufficiently small relative to the coherence length. These thicknesses correspond to the parabolic progression of the beginning of the diagram of FIG. 1. The total thickness of the ferroelectric layers is at most equal to the length of coherence.
L'épaisseur des couches diélectriques 33, 34 et 35 peut être comprise entre 0,1 et 0,2 iim. The thickness of the dielectric layers 33, 34 and 35 may be between 0.1 and 0.2 μm.
L'invention permet aussi de prendre compte d'états de polarisation intermédiaires, par exemple +Po/2 et -Po/2. The invention also makes it possible to take account of intermediate polarization states, for example + Po / 2 and -Po / 2.
On peut ainsi obtenir quatre états de polarisation à partir de deux couches de polymère ferroélectrique, soit les états de polarisation +P0, -POJ + P /2 et -P0/2. Si
o
I est l'amplitude du faisceau lumineux susceptible d'être généré dans une couche polarisée à Po, il sera possible de recueillir des faisceaux générés d'amplitudes proportionnelles à 0, 1/4 12w, 9/4 I2 > 7 et 4 î2W. C'est ce que résume le tableau 1 placé en fin de description. On obtient ainsi quatre niveaux de codage. L'inscription peut être effectuée de la manière suivante en relation avec la figure 8 qui représente un cycle d'hystérésis.L'une des deux couches peut être placée dans l'état de polarisation +P et toutes les zones de cette
o couche resteront dans cet état. C'est la polarisation de la deuxième couche qui déterminera les états mémoire finaux.It is thus possible to obtain four polarization states from two ferroelectric polymer layers, namely the polarization states + P0, -POJ + P / 2 and -P0 / 2. Yes
o
I is the amplitude of the light beam that can be generated in a layer polarized at Po, it will be possible to collect beams generated amplitudes proportional to 0, 1/4 12w, 9/4 I2> 7 and 4 î2W. This is summarized in Table 1 at the end of the description. This gives four levels of coding. The inscription can be carried out in the following manner in relation to FIG. 8 which represents a hysteresis cycle. One of the two layers can be placed in the polarization state + P and all the zones of this
o layer will remain in this state. It is the polarization of the second layer that will determine the final memory states.
L'inscription de la deuxième couche peut être effectuée comme suit. D'abord l'ensemble de la deuxième couche peut être mis dans l'état de polarisation -P en appliquant une tension +
o
V sur les électrodes lignes et une tension + V sur les
1 c électrodes colonnes correspondant à la deuxième couche. Celle-ci est alors soumise à une tension Vl-Vc, ce qui correspond au point A sur le cycle d'hystérésis de la figure 8, soit pratiquement l'état de polarisation -P . De cette façon
o l'ensemble de la mémoire est mise dans l'état mémoire 0. D'un point de vue macroscopique, la polarisation de la mémoire est nulle. On procède ensuite ligne par ligne. Supposons que l'on veuille inscrire sur la ligne i les états de polarisation suivants : SPOJ -POJ + Po/2 et -Po/2. Il faut alors appliquer + V sur la ligne i, -V sur les colonnes
1 c correspondant aux zones de la deuxième couche à mettre dans l'état de polarisation + P (point B du diagramme), + V sur
o c les colonnes correspondant aux zones de la deuxième couche à laisser dans l'état de polarisation Po, -V' sur les colonnes correspondant aux zones de la deuxième couche à mettre dans l'état de polarisation + Po/2 (point E du diagramme), + V' sur les colonnes correspondant aux zones de la deuxième couche à mettre dans l'état de polarisation -P0/2 (point F du diagramme). Pendant ce temps, on peut soumettre les autres électrodes lignes au potentiel 0 de sorte que les zones correspondantes de la deuxième couche soient soumises à + ou Ve (points C et D du diagramme) ou à + ou - V' (points G et
H du diagramme) ce qui ne change pas leur état de polarisation (environ -PO) . The inscription of the second layer can be performed as follows. First the whole of the second layer can be put in the state of polarization -P by applying a voltage +
o
V on the electrodes lines and a voltage + V on the
1 c column electrodes corresponding to the second layer. This is then subjected to a voltage V1-Vc, which corresponds to point A on the hysteresis cycle of FIG. 8, that is practically the state of polarization -P. Like this
o the entire memory is put in the memory state 0. From a macroscopic point of view, the polarization of the memory is zero. Then proceed line by line. Suppose we want to write on line i the following polarization states: SPOJ -POJ + Po / 2 and -Po / 2. We must then apply + V on the line i, -V on the columns
1 c corresponding to the zones of the second layer to put in the state of polarization + P (point B of the diagram), + V on
oc the columns corresponding to the areas of the second layer to leave in the state of polarization Po, -V 'on the columns corresponding to the zones of the second layer to put in the state of polarization + Po / 2 (point E of the diagram ), + V 'on the columns corresponding to the zones of the second layer to put in the state of polarization -P0 / 2 (point F of the diagram). During this time, the other line electrodes can be subjected to the potential 0 so that the corresponding zones of the second layer are subjected to + or Ve (points C and D of the diagram) or to + or - V '(points G and
H of the diagram) which does not change their state of polarization (about -PO).
On peut aussi obtenir cinq états de polarisation à partir de deux couches de polymère ferroélectrique, soit les états de polarisation + Po, -P0, + Po/2, - Po/2 et 0. Si I2 rg est l'amplitude du faisceau lumineux susceptible d'être généré dans une couche polarisée à P, il sera possible de recueillir des faisceaux générés d'amplitudes proportionnelles à 0 1/4 I2n > , î2w, 9/4 12w et 4 I2#. C'est ce que résume le tableau 2 placé en fin de description. On obtient ainsi cinq niveaux de codages.L'inscription peut se faire comme pour le cas précédent comprenant quatre niveaux de codage, sauf à prévoir d'appliquer une tension nulle sur la colonne correspondant aux zones de la deuxième couche à mettre dans l'état de polarisation 0. Five polarization states can also be obtained from two ferroelectric polymer layers, ie the polarization states + Po, -P0, + Po / 2, - Po / 2 and 0. If I2 rg is the amplitude of the light beam It can be generated in a polarized layer at P, it will be possible to collect beams generated amplitudes proportional to 0 1/4 I2n>, 12w, 9/4 12w and 4 I2 #. This is summarized in Table 2 at the end of the description. We obtain five levels of codings. The inscription can be done as for the previous case including four levels of coding, except to envisage to apply a tension null on the column corresponding to the zones of the second layer to put in the state polarization 0.
On peut encore obtenir cinq états de polarisation à partir de trois couches de polymère ferroélectrique, soit les états de polarisation + Po, + Po/2, -Po/2, Po et 0. Si I2# est l'amplitude du faisceau lumineux susceptible d'être généré dans une couche polarisée à Po, il sera possible de recueillir des faisceaux générés d'amplitudes proportionnelles à 0, 1/4 I2#, I2#, 9/4 I2#, 4 I20, 25/4 I2# et 9 I2W. C'est ce que résume le tableau 3 placé en fin de description. On obtient ainsi sept niveaux de codage. Les exemples précédents donnent toutes les indications pour obtenir les cinq états de polarisation nécessaires. Five polarization states can still be obtained from three layers of ferroelectric polymer, ie the polarization states + Po, + Po / 2, -Po / 2, Po and 0. If I2 # is the amplitude of the light beam that is susceptible to to be generated in a polarized layer at Po, it will be possible to collect beams generated of amplitudes proportional to 0, 1/4 I2 #, I2 #, 9/4 I2 #, 4 I20, 25/4 I2 # and 9 I2W. This is summarized in Table 3 at the end of the description. Seven levels of coding are thus obtained. The preceding examples give all the indications to obtain the five necessary states of polarization.
Il entre dans le cadre de la présente invention de réaliser un nombre plus important de couches ferroélectriques. It is within the scope of the present invention to provide a larger number of ferroelectric layers.
On peut ainsi obtenir un codage sur 4 bits (16 niveaux) avec un système à 8 couches. It is thus possible to obtain a 4-bit coding (16 levels) with an 8-layer system.
La figure 9 illustre une autre variante de l'invention. Il s'agit d'une mémoire ferroélectrique sur un support disque mobile. La mémoire comprend un disque 50 en matériau isolant et transparent au faisceau de lecture. Il supporte une électrode transparente 51 sur laquelle a été formée la couche 52 en polymère ferroélectrique. La couche 52 est elle-même recouverte d'une électrode uniforme et transparente 53 sur laquelle a été formée la couche 54 en polymère ferroélectrique. La couche 52 est polarisée uniformément et une fois pour toutes à la fabrication du disque par application d'un champ électrique supérieur au champ électrique coercitif. Lors de la fabrication, on a fait en sorte que l'électrode 51 ne puisse être mise en contact avec l'axe métallique 55 de centrage du disque sur son dispositif d'inscription.Par contre, l'électrode 53 est réalisée de façon qu'elle soit en contact électrique avec l'axe 55. Ainsi l'électrode 53 pourra être mise au potentiel de la masse, lors de l'inscription, grâce à l'axe 55. Cette inscription pourra être réalisée par polarisation de zones de la couche 54 grâce à un dispositif à pointe Corona 56. Figure 9 illustrates another variant of the invention. This is a ferroelectric memory on a mobile disk medium. The memory comprises a disk 50 made of insulating material and transparent to the reading beam. It supports a transparent electrode 51 on which has been formed the layer 52 of ferroelectric polymer. The layer 52 is itself covered with a uniform and transparent electrode 53 on which the ferroelectric polymer layer 54 has been formed. The layer 52 is polarized uniformly and once and for all in the manufacture of the disk by application of an electric field greater than the coercive electric field. During manufacture, it has been ensured that the electrode 51 can not be brought into contact with the metal centering axis 55 of the disk on its marking device. On the other hand, the electrode 53 is made in such a way that it is in electrical contact with the axis 55. Thus the electrode 53 can be put at the potential of the mass, at the time of the inscription, thanks to the axis 55. This inscription can be achieved by polarization of zones of the layer 54 with a Corona tip 56 device.
Les couches 52 et 54 sont d'épaisseur égale à la longueur de cohérence 1c Si la polarisation d'une zone de la couche 54 a lieu dans le même sens que celui de la polarisation de la couche 52, l'élément mémoire correspondant se trouve dans l'état mémoire 0 (cas de la figure 2). Dans le cas inverse, l'élément mémoire est dans l'état mémoire 1 (cas de la figure 3). La lecture de la mémoire se fait grâce au laser 57 émettant un faisceau lumineux de lecture faisant un angle 8 avec la normale au disque. Le faisceau de seconde harmonique généré par la mémoire est détecté par le photodétecteur 58 après passage au travers du filtre 59. L'état de la mémoire est révélé par l'intensité à 2w générée au point considéré.The layers 52 and 54 are of thickness equal to the coherence length 1c If the polarization of an area of the layer 54 takes place in the same direction as that of the polarization of the layer 52, the corresponding memory element is in the memory state 0 (case of Figure 2). In the opposite case, the memory element is in the memory state 1 (case of FIG. 3). The memory is read by the laser 57 emitting a reading light beam at an angle 8 with the normal disk. The second harmonic beam generated by the memory is detected by the photodetector 58 after passage through the filter 59. The state of the memory is revealed by the intensity at 2w generated at the point in question.
L'invention peut s'appliquer également à un réseau neuronal à polymère ferroélectrique codable sur plusieurs niveaux par adressage électrique et pouvant être lu par un procédé optique à génération de seconde harmonique.
The invention can also be applied to a ferroelectric polymer neural network that can be coded on several levels by electrical addressing and can be read by a second harmonic generation optical method.
<tb> <SEP> 2W
<tb> Couche <SEP> 1 <SEP> 2 <SEP> I
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po <SEP> 4 <SEP> I2# <SEP>
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> P <SEP> - <SEP> P <SEP> o
<tb> <SEP> o <SEP> o
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po/2 <SEP> 9/4 <SEP> I2# <SEP>
<tb> <SEP>
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> PO <SEP> <SEP> -Po/2 <SEP> 1/4 <SEP> <SEP> I2# <SEP>
<tb> <SEP>
<tb> polarisation
<tb> <tb><SEP> 2W
<tb> Layer <SEP> 1 <SEP> 2 <SEP> I
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po <SEP> 4 <SEP> I2 # <SEP>
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> P <SEP> - <SEP> P <SEP> o
<tb><SEP> o <SEP> o
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po / 2 <SEP> 9/4 <SEP> I2 # <SEP>
<tb><SEP>
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> PO <SEP><SEP> -Po / 2 <SEP> 1/4 <SEP><SEP> I2 # <SEP>
<tb><SEP>
<tb> polarization
<Tb>
TABLEAU I
TABLE I
<tb> Couche <SEP> 1 <SEP> 2 <SEP> I
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> P <SEP> ≈<SEP> P <SEP> 4 <SEP> 12w
<tb> <SEP> o <SEP> o
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> p <SEP> - <SEP> PO <SEP> O
<tb> <SEP> o <SEP> o
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po/2 <SEP> <SEP> 9/4 <SEP> I2# <SEP>
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> Po <SEP> Po/2 <SEP> 1/4 <SEP> I2# <SEP>
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> Po <SEP> 0 <SEP> <SEP> I2# <SEP>
<tb> polarisation
<tb>
TABLEAU II
<tb> Layer <SEP> 1 <SEP> 2 <SEP> I
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> P <SEP> ≈ <SEP> P <SEP> 4 <SEP> 12w
<tb><SEP> o <SEP> o
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> p <SEP> - <SEP> PO <SEP> O
<tb><SEP> o <SEP> o
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po / 2 <SEP><SEP> 9/4 <SEP> I2 # <SEP>
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> Po <SEP> Po / 2 <SEP> 1/4 <SEP> I2 # <SEP>
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> Po <SEP> 0 <SEP><SEP> I2 # <SEP>
<tb> polarization
<Tb>
TABLE II
<tb> Couche <SEP> 1 <SEP> 2 <SEP> 3 <SEP> I2# <SEP>
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> PO <SEP> Po <SEP> + <SEP> P <SEP> 9 <SEP> I2w
<tb> <SEP> o <SEP> o <SEP> o
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po <SEP> 0 <SEP> 4 <SEP> I2# <SEP>
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po <SEP> - <SEP> Po <SEP> I2Q <SEP>
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> Po <SEP> P <SEP> + <SEP> Po/2 <SEP> 25/4 <SEP> I2# <SEP>
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po <SEP> -Po/2 <SEP> 9/4 <SEP> I2# <SEP>
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> + <SEP> P <SEP> /2 <SEP> <SEP> 0 <SEP> 0 <SEP> 1/4 <SEP> I2@ <SEP>
<tb> polarisation
<tb> Etat <SEP> de <SEP> o <SEP> <SEP> 0 <SEP> 0 <SEP> 0
<tb> polarisation
<tb>
TABLEAU III <tb> Layer <SEP> 1 <SEP> 2 <SEP> 3 <SEP> I2 # <SEP>
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> PO <SEP> Po <SEP> + <SEP> P <SEP> 9 <SEP> I2w
<tb><SEP> o <SEP> o <SEP> o
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po <SEP> 0 <SEP> 4 <SEP> I2 # <SEP>
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po <SEP> - <SEP> Po <SEP> I2Q <SEP>
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> Po <SEP> P <SEP> + <SEP> Po / 2 <SEP> 25/4 <SEP> I2 # <SEP>
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> Po <SEP> + <SEP> Po <SEP> -Po / 2 <SEP> 9/4 <SEP> I2 # <SEP>
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> + <SEP> P <SEP> / 2 <SEP><SEP> 0 <SEP> 0 <SEP> 1/4 <SEP> I2 @ <SEP>
<tb> polarization
<tb> Status <SEP> of <SEP> o <SEP><SEP> 0 <SEP> 0 <SEP> 0
<tb> polarization
<Tb>
TABLE III
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9003380A FR2659780A1 (en) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Optically read memory based on a ferroelectric material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9003380A FR2659780A1 (en) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Optically read memory based on a ferroelectric material |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2659780A1 true FR2659780A1 (en) | 1991-09-20 |
Family
ID=9394812
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR9003380A Pending FR2659780A1 (en) | 1990-03-16 | 1990-03-16 | Optically read memory based on a ferroelectric material |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
FR (1) | FR2659780A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO1993016476A1 (en) * | 1992-02-18 | 1993-08-19 | Peter Toth | Optical memory |
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-
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