FR2629946A1 - Radiation sensor comprising a charge-transfer device and image intensifier tube and television picture tube which are fitted with such a sensor - Google Patents

Radiation sensor comprising a charge-transfer device and image intensifier tube and television picture tube which are fitted with such a sensor Download PDF

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Abstract

Radiation sensor comprising a slender charge-transfer device CTD connected by interconnection wires to metal tracks deposited on a support. This slender CTD is arranged inside an opening made in the support, the CTD and the interconnection wires being embedded in a sealing material which affords the sealing of the CTD to the support by its front face whilst leaving its rear face free. The latter is substantially flush with the face of the support which receives the radiation. It is covered with a thin conductive layer so as to constitute a uniform and substantially equipotential relief surface. This sensor is used in image intensifier tubes and television picture tubes. Application: image intensifier tubes and television picture tube.

Description

CAPTEUR DE RAYONNEMENT COMPRENANT UN DISPOSITIF A TRANSFERT
DE CHARGES ET TUBE INTENSIFICATEUR D'IMAGES ET TUBE DE PRISE
DE VUE DE TELEVISION MUNIS D'UN TEL CAPTEUR
L'invention concerne un capteur de rayonnement comprenant un dispositif à transfert de charges (DTC) aminci fixé à un support, et des fils d'interconnexion assurant les liaisons électriques entre la face avant du DTC, qui comporte des plots de contacts, et des pistes métalliques déposées sur le support, le DTC recevant le rayonnement sur sa face arrière.
RADIATION SENSOR COMPRISING A TRANSFER DEVICE
CHARGE AND IMAGE ENHANCER TUBE AND TAKE TUBE
TELEVISION VIEWING EQUIPPED WITH SUCH A SENSOR
The invention relates to a radiation sensor comprising a thinned charge transfer device (DTC) fixed to a support, and interconnection wires ensuring the electrical connections between the front face of the DTC, which comprises contact pads, and metal tracks deposited on the support, the DTC receiving radiation on its rear face.

Elle concerne également un tube intensificateur d'images ou un tube de prise de vue de télévision utilisant un tel capteur. It also relates to an image intensifier tube or a television shooting tube using such a sensor.

Une invention de ce genre est connue du document: "Large area CCD imager sensors for scientific applications",
M.M. BLOUKE, D.L. HEIDTMANN, B.CORRIE, M. LUST, J.R. JANESICK,
SPSE and IGC, Electronic Imaging'85, 7-10th october, BOSTON (MA), p. 160.
An invention of this kind is known from the document: "Large area CCD imager sensors for scientific applications",
MM BLOUKE, DL HEIDTMANN, B.CORRIE, M. LUST, JR JANESICK,
SPSE and IGC, Electronic Imaging'85, 7-10th October, BOSTON (MA), p. 160.

Il y est décrit un dispositif pour imagerie utilisant des dispositifs à transfert de charges (DTC). Le capteur utilisé dans ce dispositif comprend un DTC fixé à un support de céramique ou autres qui comporte des pistes électriques. Le DTC est aminci jusqu'à constituer une très fine membrane de l'ordre de 10 microns qui, en fonctionnement, est éclairée par la face arrière du DTC, ctest-à-dire celle qui est à l'opposé de celle qui supporte les contacts. There is described an imaging device using charge transfer devices (DTC). The sensor used in this device includes a DTC attached to a ceramic or other support which includes electrical tracks. The DTC is thinned until it forms a very thin membrane of the order of 10 microns which, in operation, is illuminated by the rear face of the DTC, that is to say that which is opposite to that which supports the contacts.

Une réalisation conforme à ce principe d'utilisation est connue du brevet US 4 422 091 qui concerne un DTC réalisé sur un substrat de GaAs. An embodiment in accordance with this principle of use is known from US Pat. No. 4,422,091 which relates to a DTC produced on a GaAs substrate.

C'est une technologie par amincissement uniforme. It is a uniform thinning technology.

La matrice DTC est scellée sur toute sa surface sur un support mécanique isolant par la face équipée des électrodes de transfert. Toute la matrice est amincie jusqu'à 10 microns environ, puis la périphérie est suramincie en pratiquant un masquage central pour dégager la zone des contacts électriques. La matrice est ensuite mise en place sur un support et les liaisons électriques sont réalisées de manière classique par thermocompression de fils d'or ou d'aluminium. Cette technologie se caractérise par l'amincissement de la zone active avant l'établissement des connexions électriques par des fils métalliques. La rigidité mécanique est assurée par le support isolant. Comme cela est apparent sur la figure 1 du document de
M.BLOUKE et al, en conformité avec l'état de l'art sur ce problème, les fils de connexion doivent former une boucle, afin qu'ils ne soient par raidis, ce qui aurait pour conséquence de fragiliser les connexions ou de créer des risques de court-circuits sur les arêtes de la matrice. A cause de ces boucles, les fils sont en relief, par rapport au plan sensible du DTC sur lequel arrive le rayonnement à détecter. Ce rayonnement peut être photonique ou électronique.
The DTC matrix is sealed over its entire surface on an insulating mechanical support by the face equipped with transfer electrodes. The entire matrix is thinned down to approximately 10 microns, then the periphery is super-thinned by practicing central masking to clear the area of the electrical contacts. The matrix is then placed on a support and the electrical connections are made in a conventional manner by thermocompression of gold or aluminum wires. This technology is characterized by the thinning of the active area before the establishment of electrical connections by metallic wires. Mechanical rigidity is ensured by the insulating support. As is apparent in Figure 1 of the document from
M.BLOUKE et al, in accordance with the state of the art on this problem, the connection wires must form a loop, so that they are not stiffened, which would have the consequence of weakening the connections or creating risks of short-circuits on the edges of the matrix. Because of these loops, the wires are raised, relative to the sensitive plane of the DTC on which the radiation to be detected arrives. This radiation can be photonic or electronic.

En rayonnement photonique ces fils doivent être disposés de manière à ne pas produire des ombres portées sur la zone sensible afin de ne pas dégrader la qualité de l'image. D'autre part, les photons incidents ne doivent pas arriver en dehors de la zone matricielle que constituent les points images, sous peine de créer des charges parasites qui perturberaient l'image détectée en venant s'y superposer. C'est pour cela que la figure 1 de ce document fait apparaître un type de cache de protection. In photonic radiation, these wires must be arranged so as not to produce shadows cast on the sensitive area so as not to degrade the quality of the image. On the other hand, the incident photons must not arrive outside of the matrix zone which constitute the image points, under penalty of creating parasitic charges which would disturb the detected image by coming to be superimposed thereon. This is why Figure 1 of this document shows a type of protective cover.

Lorsque le rayonnement est électronique, le capteur est placé dans une enveloppe à vide et les répartitions de potentiels autour de la surface sensible du DTC ont un rôle primordial. Un capteur tel que celui de ce document ne peut remplir cet usage car les fils de connexions répartis en nombre élevé tout autour de la surface du DTC perturbent les répartitions du potentiel. Dans ce mode de fonctionnement la présence d'un cache, en relief du plan sensible, est également indispensable. En effet, la présence de zones isolantes entre les connexions, impose l'emploi d'un cache qui supprime l'impact des électrons dans ces zones, et évite toute perturbation des répartitions équipotentielles par influence électrostatique. La présence des boucles sur les fils d'interconnexion, et celle d'un cache métallique impose à la zone active du dispositif d'être en retrait.La profondeur de ce retrait formant cavité, est déterminée par la taille des boucles et l'encom- brement inévitable du cache délimitant la zone active, réduite à la zone matricielle. When the radiation is electronic, the sensor is placed in a vacuum envelope and the distribution of potentials around the sensitive surface of the DTC have a primordial role. A sensor such as that of this document cannot fulfill this use since the connection wires distributed in high numbers all around the surface of the DTC disturb the potential distributions. In this operating mode the presence of a cover, in relief of the sensitive plane, is also essential. Indeed, the presence of insulating zones between the connections, imposes the use of a mask which suppresses the impact of the electrons in these zones, and avoids any disturbance of the equipotential distributions by electrostatic influence. The presence of the loops on the interconnection wires, and that of a metal cover requires the active area of the device to be set back. The depth of this setback forming a cavity is determined by the size of the loops and the size. - briefly unavoidable of the mask delimiting the active zone, reduced to the matrix zone.

Un des buts de l'invention est de supprimer toute protubérance ou cavité qui détériorerait la répartition du potentiel, et faire que la surface formée par le DTC et le support constitue une surface régulière équipotentielle. One of the aims of the invention is to remove any protuberance or cavity which would deteriorate the distribution of the potential, and to cause the surface formed by the DTC and the support to constitute a regular equipotential surface.

Un autre but de l'invention est de supprimer tout élément en relief qui aurait pour conséquence de contraindre à augmenter la distance entre la source électronique et la surface du capteur, afin de placer le capteur très près de l'émetteur, pour constituer un dispositif fonctionnant en focalisation de proximité. Another object of the invention is to remove any element in relief which would have the consequence of forcing to increase the distance between the electronic source and the surface of the sensor, in order to place the sensor very close to the transmitter, to constitute a device. operating in proximity focusing.

Pour cela l'invention telle que définie dans le préambule est remarquable en ce que le DTC aminci est disposé à l'intérieur d'une ouverture faite dans le support, le DTC et les fils d'interconnexions étant noyés dans un matériau de scellement qui assure le scellement du DTC au support par la face avant du DTC en laissant libre sa face arrière, celle-ci affleurant sensiblement de la face du support qui reçoit le rayonnement, le capteur étantl dans cette direction, recouvert d'une couche mince conductrice, à l'exclusion de la zone active du DTC qui détecte le rayonnement, afin de constituer une surface de relief uniforme sensiblement équipotentielle. For this, the invention as defined in the preamble is remarkable in that the thinned DTC is disposed inside an opening made in the support, the DTC and the interconnection wires being embedded in a sealing material which ensures the sealing of the DTC to the support by the front face of the DTC leaving its rear face free, the latter being substantially flush with the face of the support which receives the radiation, the sensor being in this direction, covered with a thin conductive layer, excluding the active area of the DTC which detects radiation, in order to constitute a uniform relief surface that is substantially equipotential.

Elle est également remarquable en ce que la face du capteur dirigée vers le rayonnement présente des irrégularités de surface inférieures à environ un micron. It is also remarkable in that the face of the sensor facing the radiation has surface irregularities of less than about one micron.

Le support, qui peut être un matériau céramique tel que l'alumine, est percé d'une ouverture afin que le DTC puisse y être placé. Celui-ci est de structure classique pour les dispositifs amincis. Il comporte une couche épitaxiale p d'environ 10 microns, déposée sur un substrat de silicium p+. The support, which can be a ceramic material such as alumina, is pierced with an opening so that the DTC can be placed there. This is of conventional structure for thinned devices. It comprises an epitaxial layer p of approximately 10 microns, deposited on a silicon substrate p +.

Cette interface p/p+ est destinée à faciliter la mise à épaisseur par attaque mécano-chimique et à assurer une épaisseur homogène à la couche active. De plus, elle permet de réaliser à l'interface DTC/vide un gradient de dopage favorable à la collection des charges par les éléments d'images du DTC. La structure des électrodes de transfert est réalisée selon la technologie et les règles de gravure du type de DTC choisi. Un préamincissement mécanique peut être mis en oeuvre pour améliorer l'attaque sélective mécano-chimique. L'épaisseur de substrat de silicium p+ conservée (100 à 150 microns) assure la tenue mécanique pendant les étapes intermédiaires et les thermocompressions.This p / p + interface is intended to facilitate thickening by mechanical-chemical attack and to ensure a homogeneous thickness in the active layer. In addition, it makes it possible to achieve at the DTC / vacuum interface a doping gradient favorable to the collection of the charges by the image elements of the DTC. The structure of the transfer electrodes is produced according to the technology and the etching rules of the type of DTC chosen. Mechanical pre-thinning can be implemented to improve the selective mechanical-chemical attack. The thickness of silicon substrate p + conserved (100 to 150 microns) ensures the mechanical strength during the intermediate stages and the thermocompressions.

La mise en place du DTC dans l'ouverture du support est effectuée à l'aide de cales d'épaisseur, selon une fixation provisoire respectant la géométrie souhaitée. Les connexions électriques entre la matrice et le support sont ensuite réalisées par thermocompression de fils d'or ou d'aluminium par exemple. On procède ensuite au scellement par la face avant de la matrice. The installation of the DTC in the opening of the support is carried out using shims, according to a temporary fixing respecting the desired geometry. The electrical connections between the matrix and the support are then made by thermocompression of gold or aluminum wires for example. Then proceed to the sealing by the front face of the matrix.

Les matériaux de scellement sont choisis pour permettre une mise en oeuvre avec des cycles thermiques supportables par le DTC. En mode électronosensible, ils doivent être compatibles avec la technologie des tubes électroniques. The sealing materials are chosen to allow implementation with thermal cycles tolerable by DTC. In electron-sensitive mode, they must be compatible with the technology of electronic tubes.

On peut utiliser un verre à basse température de recuit par exemple un verre riche en oxyde de plomb. Le coefficient de dilatation doit être proche de celui des matériaux de la matrice et voisin de 60.10-7/OC. On peut également employer des résines isolantes mono et bi-composants, ou bien des composés organiques polyimide. It is possible to use a glass with a low annealing temperature, for example a glass rich in lead oxide. The coefficient of expansion must be close to that of the materials of the matrix and close to 60.10-7 / OC. One and two-component insulating resins or polyimide organic compounds can also be used.

Dans le cas des capteurs sensibles aux électrons, où la compatibilité avec le vide est déterminante, notamment en ce qui concerne les taux de dégazage et les températures supportables, on utilise de préférence des verres de scellement à basse température. In the case of sensors sensitive to electrons, where compatibility with vacuum is decisive, in particular with regard to degassing rates and tolerable temperatures, sealing glasses are preferably used at low temperature.

Le DTC est ainsi fixé rigidement au support et dépasse de la surface du support de l'épaisseur du substrat. The DTC is thus rigidly fixed to the support and exceeds the thickness of the substrate from the surface of the support.

Le capteur est alors aminci mécanochimiquement pour éliminer l'épaisseur de substrat restante et faire apparaître la couche épitaxiale active p destinée à recevoir le rayonnement.The sensor is then thinned mechanochemically to eliminate the remaining thickness of substrate and to reveal the active epitaxial layer p intended to receive the radiation.

A la fin de l'amincissement une couche métallique, par exemple en aluminium, est déposée localement sur la surface du DTC et sur son support pour délimiter la fenêtre image et constituer une surface équipotentielle. Cette couche élimine les photons ou les électrons incidents hors champ et évite la création de charges parasites venant se superposer à l'image électronique utile. At the end of the thinning, a metallic layer, for example aluminum, is deposited locally on the surface of the DTC and on its support to delimit the image window and constitute an equipotential surface. This layer eliminates the photons or electrons incident outside the field and avoids the creation of parasitic charges coming to be superimposed on the useful electronic image.

On obtient ainsi un capteur où les fils de connexions électriques sont disposés du côté opposé à la surface détectrice. Il possède une structure plane dans laquelle aucun conducteur n'est en relief de la surface détectrice. Les fils de connexions sont établis sur la face comportant les électrodes de transfert avant de fixer et d'amincir la matrice. Ces fils de connexion sont noyés dans le matériau de scellement pendant l'opération de fixation. Le capteur est mécaniquement rigide et solide : toute la surface amincie de la matrice est scellée au support mécanique, aucune zone de la matrice n'est suramincie, l'épaisseur moyenne de la matrice est constante (une dizaine de microns). A sensor is thus obtained in which the electrical connection wires are arranged on the side opposite to the detector surface. It has a planar structure in which no conductor is in relief from the detector surface. The connection wires are established on the face comprising the transfer electrodes before fixing and thinning the matrix. These connection wires are embedded in the sealing material during the fixing operation. The sensor is mechanically rigid and solid: the entire thinned surface of the matrix is sealed with mechanical support, no area of the matrix is super-thinned, the average thickness of the matrix is constant (around ten microns).

Une grande partie du capteur est en contact direct avec le support mécanique, ce qui favorise les échanges thermiques vers l'extérieur en bénéficiant de la conductibilité thermique du support qui peut être par exemple en céramique. Ce type de montage permet de stabiliser la température du composant en fonctionnement - ce qui permet d'éviter la dérive du courant d'obscurité -, ou bien d'en abaisser la valeur par refroidissement. A large part of the sensor is in direct contact with the mechanical support, which promotes heat exchanges to the outside while benefiting from the thermal conductivity of the support which can for example be made of ceramic. This type of mounting makes it possible to stabilize the temperature of the component in operation - which makes it possible to avoid the drift of the dark current - or else to lower the value by cooling.

En mode électronosensible, aucune perturbation des surfaces équipotentielles ne peut venir altérer la qualité ou la résolution de l'image électronique et en mode photosensible, aucune ombre portée ou image parasite latérale ne peut perturber l'image focalisée sur le DTC. In electronosensitive mode, no disturbance of the equipotential surfaces can alter the quality or resolution of the electronic image and in photosensitive mode, no drop shadow or lateral parasitic image can disturb the image focused on the DTC.

Un tel capteur peut être disposé dans une enveloppe à vide dans laquelle une photocathode d'entrée reçoit un rayonnement lumineux et émet un faisceau d'électrons vers la face sensible du DTC qui opère ainsi en mode éiectronosen- sible. Such a sensor can be placed in a vacuum envelope in which an input photocathode receives light radiation and emits an electron beam towards the sensitive face of the DTC which thus operates in electronically sensitive mode.

Avec un DTC à transfert de trame on peut ainsi détecter une image électronique et la restituer sous la forme d'un signal de télévision. On réalise ainsi un tube intensificateur d'images pour prise de vue qui peut être utilisé dans une caméra de télévision à bas niveau de lumière. With a frame transfer DTC one can thus detect an electronic image and reproduce it in the form of a television signal. An image intensifier tube for shooting is thus produced which can be used in a television camera with low light level.

Un tel capteur peut également opérer en mode photosensible pour détecter un rayonnement lumineux. Such a sensor can also operate in photosensitive mode to detect light radiation.

L'invention sera mieux comprise à l'aide des figures suivantes, données à titre d'exemples non limitatifs, qui représentent
figure 1 : une vue en coupe d'un capteur, selon l'invention, avant l'opération d'amincissement,
figure 2 : le même capteur après l'opération d'amincissement et revêtu d'une couche conductrice,
figure 3 : une vue en coupe d'un tube intensificateur d'images à dégrandissement comprenant un capteur selon l'invention,
figure 4 : une vue en coupe d'un tube intensificateur d'images à focalisation de proximité.
The invention will be better understood using the following figures, given by way of nonlimiting examples, which represent
FIG. 1: a sectional view of a sensor, according to the invention, before the thinning operation,
FIG. 2: the same sensor after the thinning operation and coated with a conductive layer,
FIG. 3: a sectional view of an image intensifier tube with enlargement comprising a sensor according to the invention,
Figure 4: a sectional view of an image intensifier tube with proximity focusing.

La figure 1 représente le capteur 5 comprenant un dispositif à transfert de charges 10 comprenant entre autres un substrat préaminci 11 de 130 à 150 microns d'épaisseur par exemple, et une couche épitaxiale 12 de 10 microns d'épaisseur par exemple. C'est dans cette dernière couche que sont réalisés les circuits du DTC. Les plots de contacts et les lignes de commande nécessaires au fonctionnement sont dé poses sur la face libre du DTC située du côté de la couche épitaxiale. Cette face du DTC est appelée face avant du DTC. FIG. 1 represents the sensor 5 comprising a charge transfer device 10 comprising inter alia a pre-thinned substrate 11 of 130 to 150 microns thick for example, and an epitaxial layer 12 of 10 microns thick for example. It is in this last layer that the DTC circuits are made. The contact pads and control lines required for operation are deposited on the free face of the DTC located on the side of the epitaxial layer. This side of the DTC is called the front side of the DTC.

Des fils de connexion, par exemple le fil 13, assurent les connexions entre le DTC et des pistes électriques 14 déposées sur un support 15, par exemple en alumine. Les pistes électriques peuvent être réalisées par un dépôt sous forme de conducteurs massifs ou de couches épaisses déposées par sérigraphie, mais préférentiellement on utilise un peigne métallique, d'épaisseur par exemple 200 microns, qui est fixé au support' 15 par scellement avec des matériaux vitro-cristallins selon l'art connu. Dans ce cas chaque élément de contact du peigne dépasse du support 15 afin d'effectuer le montage ultérieur.Connection wires, for example wire 13, provide the connections between the DTC and electrical tracks 14 deposited on a support 15, for example made of alumina. The electrical tracks can be produced by a deposit in the form of solid conductors or thick layers deposited by screen printing, but preferably a metal comb is used, of thickness for example 200 microns, which is fixed to the support 15 by sealing with materials. in vitro according to known art. In this case, each contact element of the comb protrudes from the support 15 in order to carry out the subsequent mounting.

Ce support 15 présente une ouverture afin que le DTC puisse y être placé.This support 15 has an opening so that the DTC can be placed there.

Le DTC 10 est positionné dans cette ouverture de sorte que l'interface entre le substrat 11 et la couche 12 soit sensiblement au niveau de la face 16 du support 15. Ceci est obtenu à l'aide de cales d'épaisseur appropriée et d'une embase provisoire non représentées sur la figure. The DTC 10 is positioned in this opening so that the interface between the substrate 11 and the layer 12 is substantially at the level of the face 16 of the support 15. This is obtained using shims of appropriate thickness and a provisional base not shown in the figure.

Après ce positionnement on opère une fixation provisoire du DTC par collage. Ceci permet de réaliser, les connexions électriques entre ies plots du DTC et les pistes du support par thermocompression de fils d'or ou d'aluminium (diamètre environ 25 microns). Un matériau de scellement est placé autour des fils de connexion de façon à recouvrir lten- semble du DTC et une partie du support. L'ensemble subit le traitement thermique approprié au matériau utilisé. Le DTC 10 est ainsi fixé au support 15 à l'aide d'un matériau de scellement 17 qui peut être un verre à basse température de recuit, par exemple riche en oxyde de plomb, ou des résines isolantes à un ou deux composants ou des composés organiques polyimides. After this positioning, the DTC is temporarily fixed by gluing. This makes it possible to make the electrical connections between the studs of the DTC and the tracks of the support by thermocompression of gold or aluminum wires (diameter about 25 microns). A sealing material is placed around the connection wires so as to cover the whole of the DTC and part of the support. The assembly undergoes the appropriate heat treatment for the material used. The DTC 10 is thus fixed to the support 15 using a sealing material 17 which may be a low-annealing temperature glass, for example rich in lead oxide, or insulating resins with one or two components or polyimide organic compounds.

Le DTC 10 et les fils de connexion 13 sont ainsi fixés rigidement au support par le matériau de scellement.L'embase provisoire, devenue inutile, peut être éliminée.The DTC 10 and the connection wires 13 are thus rigidly fixed to the support by the sealing material. The temporary base, which has become unnecessary, can be eliminated.

Pour donner au matériau de scellement 17 une face
18 ayant une forme recherchée, par exemple plane, on peut dis
poser, sur le matériau de scellement lors de son traitement
thermique, des pièces appropriées faisant pression. Ceci présente l'intérêt de permettre à la face 18 de servir d'appui dans les étapes ultérieures de réalisation.
To give the sealing material 17 a face
18 having a desired shape, for example planar, one can say
put on the sealing material during its treatment
thermal, suitable pressure parts. This has the advantage of allowing the face 18 to serve as support in the subsequent stages of production.

La structure de la figure 1 constitue une étape intermédiaire dans la réalisation du capteur. Le semiconducteur du DTC est alors aminci mécanochimiquement afin de faire disparaître le substrat 10. The structure of FIG. 1 constitutes an intermediate stage in the production of the sensor. The DTC semiconductor is then thinned mechanochemically in order to make the substrate 10 disappear.

La couche épitaxiale devient ainsi apparente et sa surface se trouve alors dans le prolongement de la face 16 du support. L'ensemble est ensuite recouvert d'une mince couche conductrice 21 à l'exclusion de la zone sensible du DTC comme cela apparaît sur la figure 2. Le rayonnement 22 arrive donc sur le capteur et excite la zone sensible du DTC par sa face dite arrière. Les fils de connexion sont ainsi placés derrière le DTC dans le sens de propagation du rayonnement. The epitaxial layer thus becomes apparent and its surface is then in the extension of the face 16 of the support. The assembly is then covered with a thin conductive layer 21 excluding the sensitive zone of the DTC as it appears in FIG. 2. The radiation 22 therefore arrives on the sensor and excites the sensitive zone of the DTC by its so-called face back. The connection wires are thus placed behind the DTC in the direction of propagation of the radiation.

La face 23 du capteur, qui fait face au rayonnement, est d'une très grande régularité et ne présente que les irrégularités microscopiques, de l'ordre du micron, liées à l'usinage du support céramique. On dispose ainsi d'une face 23 qui constitue une surface équipotentielle grâce au revêtement métallique déposé. Cette face est préférentiellement plane, mais d'autres formes sont possibles, en particulier la face 16 du support 15 peut être concave.The face 23 of the sensor, which faces the radiation, is very regular and only presents microscopic irregularities, of the order of a micron, linked to the machining of the ceramic support. There is thus a face 23 which constitutes an equipotential surface thanks to the deposited metallic coating. This face is preferably planar, but other shapes are possible, in particular the face 16 of the support 15 can be concave.

Un tel capteur 5 est préférentiellement utilisé en mode électronosensible et pour cela est monté dans un tube intensificateur d'images réducteur, ou dans un tube intensificateur d'images à focalisation de proximité. Such a sensor 5 is preferably used in electron-sensitive mode and for this is mounted in a reducing image intensifier tube, or in an image intensifier tube with proximity focusing.

Le tube réducteur 30, représenté sur la figure 3, comprend une fenêtre d'entrée 31 sur laquelle est déposée une photocathode 32, une enveloppe à vide verre-métal 33 selon l'art habituel, une électrode de focalisation 39, une anode 37 et le capteur de rayonnement 5. Le rayonnement lumineux incident 24 arrive sur la photocathode 32 et génère des électrons 25 qui sont accélérés et focalisés selon un faisceau 38 qui forme une image électronique sur le capteur 5. Les conditions de fonctionnement sont, par exemple, les suivantes. La photocathode 32 est en contact électrique avec la pièce 33 que l'on porte à une haute tension négative, par exemple -14 Kvolts. The reduction tube 30, shown in FIG. 3, comprises an inlet window 31 on which a photocathode 32 is deposited, a glass-metal vacuum envelope 33 according to the usual art, a focusing electrode 39, an anode 37 and the radiation sensor 5. The incident light radiation 24 arrives on the photocathode 32 and generates electrons 25 which are accelerated and focused according to a beam 38 which forms an electronic image on the sensor 5. The operating conditions are, for example, the following. The photocathode 32 is in electrical contact with the part 33 which is brought to a negative high voltage, for example -14 Kvolts.

L'électrode de focalisation 39 située entre la photocathode 32 et l'anode 37 est portée au potentiel ajustable de focalisation, par exemple -13,7 Kvolts. L'anode 37 et le substrat du
DTC sont réunis à la masse.
The focusing electrode 39 located between the photocathode 32 and the anode 37 is brought to the adjustable focusing potential, for example -13.7 Kvolts. Anode 37 and the substrate of
DTC are joined to the mass.

Le tube réalisé est dégrandisseur, et en intervenant sur la répartition des potentiels et les dimensions des électrodes, on peut faire varier le rapport de dégrandissement qui peut être réglé de 3 à 7 environ. The tube produced is a roughener, and by acting on the distribution of the potentials and the dimensions of the electrodes, the roughening ratio can be varied, which can be adjusted from 3 to 7 approximately.

Ce tube intensificateur 30 est muni de moyens 361, 362 permettant son' montage et la réalisation de la photocathode. Ce montage est réalisé selon les techniques habituelles dans ce domaine. Ce montage doit être réalisé avec beaucoup de rigueur, car la profondeur de champ d'un tel tube est très faible. This intensifier tube 30 is provided with means 361, 362 enabling it to be mounted and the photocathode to be produced. This assembly is carried out according to the usual techniques in this field. This mounting must be carried out with great rigor, because the depth of field of such a tube is very small.

La photocathode est réalisée à l'aide de sources d'alcalins 34 et de sources d'antimoine 35, afin d'obtenir la photocathode avec les caractéristiques requises. The photocathode is produced using alkaline sources 34 and antimony sources 35, in order to obtain the photocathode with the required characteristics.

Le capteur de rayonnement 5 est monté sur un fond de tube 46 qui peut être en céramique ou en verre, munis de n traversées électriques isolées 471 à 47n Le capteur 5 est monté d'une manière rigoureuse sur ces traversées électriques isolées qui assurent à la fois les contacts électriques et la tenue mécanique du capteur. Pour cela le capteur est positionné à l'aide de cales de montage afin que le capteur soit correctement centré sur l'axe du tube, la face du DTC étant perpendiculaire à l'axe du tubeà mieux que environ 0,05 rad. Pour atteindre cet objectif le plan des lèvres 361 362 est correctement usiné par rapport à l'axe du tube, puis le capteur est monté afin que le plan du DTC et le plan des lèvres 361, 362 soient parallèles.Les extrémités des pistes métalliques du
capteur sont alors soudées aux traversées électriques isolées
471 à 47n par exemple par soudure laser ou électrique.
The radiation sensor 5 is mounted on a tube bottom 46 which can be ceramic or glass, provided with n insulated electrical bushings 471 to 47n The sensor 5 is rigorously mounted on these insulated electrical bushings which ensure both the electrical contacts and the mechanical strength of the sensor. For this the sensor is positioned using mounting shims so that the sensor is correctly centered on the axis of the tube, the face of the DTC being perpendicular to the axis of the tube better than about 0.05 rad. To achieve this objective, the plane of the lips 361 362 is correctly machined relative to the axis of the tube, then the sensor is mounted so that the plane of the DTC and the plane of the lips 361, 362 are parallel. The ends of the metal tracks of the
sensor are then welded to insulated electrical bushings
471 to 47n for example by laser or electric welding.

Lorsque les pistes conductrices du support 15
du capteur 5 sont constituées de couches épaisses, elles sont
soudées sur la périphérie du support 15 à des broches de con
tact qui servent également au montage électrique et mécanique
du capteur.
When the conductive tracks of the support 15
of sensor 5 consist of thick layers, they are
welded on the periphery of the support 15 to cone pins
tact which are also used for electrical and mechanical mounting
of the sensor.

La figure 4 représente un tube intensificateur
d'images à focalisation de proximité selon une application préférentielle du capteur de rayonnement selon l'invention. Le
tube 50 comprend une fenêtre d'entrée 51 en verre ou en fibres
optiques sur laquelle est déposée la photocathode 52, une en
veloppe 54 verre-métal ou céramique-métal et le capteur de
rayonnement 5. Les conditions de fonctionnement correspondent
au type de focalisation par proximité. La photocathode est en
contact électrique avec les moyens de fermeture du tube 53.
Figure 4 shows an intensifier tube
proximity focusing images according to a preferred application of the radiation sensor according to the invention. The
tube 50 includes an entry window 51 made of glass or fibers
optics on which photocathode 52 is placed, one in
veloppe 54 glass-metal or ceramic-metal and the
radiation 5. The operating conditions correspond
to the type of focus by proximity. The photocathode is in
electrical contact with the tube 53 closing means.

Elle est portée à un potentiel d'environ -5 à -10 kV par rap
port au capteur pendant le fonctionnement. Ce tube intensifi
cateur 50 est préférentiellement réalisé par technique trans
fert pour obtenir une photocathode de grande sensibilité et
homogène et assurer une distance interélectrode réduite, de
1 à 2 mm, imposée par le principe de la focalisation de pro
ximité. Le capteur de rayonnement 5 est monté sur un fond de
tube 56 en céramique ou en verre muni de n traversées 571 à
57n Le montage mécanique est assuré de manière rigoureuse à
l'aide de cales d'épaisseur. Ce parallélisme entre la photo
cathode et la face du capteur est assuré au dixième de milli
mètre. Pour assurer cet objectif, la géométrie et la planéi
té des moyens de scellement sont contrôlés par usinage.Les
moyens de. fermeture 53, 55 et de montage 54 assurent la qua
lité mécanique et l'étanchéité du tube. Dans ce type de struc
ture la résolution image est liée à la qualité de l'optique
électronique et varie selon la relation R = k.V0,5.d-1, c'est
à-dire comme la racine carré de la différence de potentiel
interélectrode et l'inverse de la distance interélectrode.
It is brought to a potential of around -5 to -10 kV compared to
port to the sensor during operation. This intensified tube
Cateur 50 is preferably produced by trans technique
fert to obtain a photocathode of great sensitivity and
homogeneous and ensure a reduced inter-electrode distance,
1 to 2 mm, imposed by the principle of professional focusing
ximited. The radiation sensor 5 is mounted on a bottom of
ceramic or glass tube 56 with n bushings 571 to
57n Mechanical assembly is rigorously ensured at
using shims. This parallelism between the photo
cathode and the sensor face is assured to the tenth of a milli
metre. To ensure this objective, the geometry and the plani
The sealing means are checked by machining.
means of. closure 53, 55 and mounting 54 ensure the quality
mechanical integrity and tightness of the tube. In this type of struc
the image resolution is linked to the quality of the optics
electronic and varies according to the relation R = k.V0,5.d-1, it is
ie as the square root of the potential difference
inter-electrode and the inverse of the inter-electrode distance.

D'une part la face du DTC doit être perpendiculaire à l'axe du tube. D'autre part aucune zone du capteur ne doit être en relief de la surface active sous peine, pour une tension de fonctionnement donnée limitée par la tension de claquage, d'être contraint à augmenter la distance photocathode-zone active du capteur et par voie de conséquence à entrainer une diminution de la résolution du système. On the one hand the face of the DTC must be perpendicular to the axis of the tube. On the other hand, no zone of the sensor must be in relief from the active surface under penalty, for a given operating voltage limited by the breakdown voltage, of being forced to increase the distance photocathode-active zone of the sensor and per channel. consequently result in a decrease in the resolution of the system.

Le capteur de rayonnement peut également être utilisé pour capter une image photonique dans le domaine des courtes longueurs d'onde. Ceci impose de laisser libre la surface photosensible du silicium de toute contrainte d'absorption.  The radiation sensor can also be used to capture a photonic image in the field of short wavelengths. This requires leaving the photosensitive surface of the silicon free from any absorption constraint.

Claims (6)

REVENDICATIONS 1. Capteur de rayonnement comprenant un dispositif à transfert de charges (DTC) aminci fixé à un support, et des fils d'interconnexion assurant les liaisons électriques entre la face avant du DTC, qui comporte des plots de contacts, et des pistes métalliques déposées sur le support, le DTC rece- vant le rayonnement sur sa face arrière, caractérisé en ce que le DTC aminci est disposé à l'intérieur d'une ouverture faite dans le support, le DTC et les fils d'interconnexions étant noyés dans un matériau de scellement qui assure le scellement du DTC au support par la face avant du DTC, en laissant libre sa face arrière, celle-ci affleurant sensiblement de la face du support qui reçoit le rayonnement, le capteur étant, dans cette direction, recouvert d'une couche mince conductrice, à l'exclusion de la zone active du DTC qui détecte le rayonnement, afin de constituer une surface de relief uniforme sensiblement équipotentielle.1. Radiation sensor comprising a thinned charge transfer device (DTC) fixed to a support, and interconnection wires ensuring the electrical connections between the front face of the DTC, which includes contact pads, and deposited metal tracks on the support, the DTC receiving the radiation on its rear face, characterized in that the thinned DTC is placed inside an opening made in the support, the DTC and the interconnection wires being embedded in a sealing material which seals the DTC to the support by the front face of the DTC, leaving its rear face free, this latter being substantially flush with the face of the support which receives the radiation, the sensor being, in this direction, covered with 'a thin conductive layer, excluding the active area of DTC which detects radiation, in order to constitute a uniform relief surface that is substantially equipotential. 2. Capteur selon la revendication 1, caractérisé en ce que la face dirigée vers le rayonnement présente des irrégularités de surface inférieures à environ un micron.2. Sensor according to claim 1, characterized in that the face directed towards the radiation has surface irregularities of less than about one micron. 3. Capteur selon les revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que le matériau de scellement est un verre à basse température de recuit.3. Sensor according to claims 1 or 2, characterized in that the sealing material is a glass with low annealing temperature. 4. Capteur selon les revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que, le matériau de scellement est une résine époxy ou un composé organique polyimide.4. Sensor according to claims 1 or 2, characterized in that, the sealing material is an epoxy resin or an organic polyimide compound. 5. Tube intensificateur d'images caractérisé en ce qu'il comprend un capteur de rayonnement selon une des revendications 1 à 4.5. Image intensifier tube, characterized in that it comprises a radiation sensor according to one of claims 1 to 4. 6. Tube de prise de vue de télévision caractérisé en ce qu'il comprend au moins un capteur de rayonnement selon une des revendications 1 à#4. 6. Television shooting tube characterized in that it comprises at least one radiation sensor according to one of claims 1 to # 4.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1154457A1 (en) * 1999-01-21 2001-11-14 Hamamatsu Photonics K.K. Electron tube

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3887810A (en) * 1973-01-02 1975-06-03 Texas Instruments Inc Photon-multiplier imaging system
FR2319201A1 (en) * 1975-07-23 1977-02-18 Gen Electric Co Ltd CHARGE COUPLING DEVICE FOR OPTICAL IMAGE FORMATION
GB1533644A (en) * 1977-09-23 1978-11-29 Gen Electric Co Ltd Charge coupled devices
GB2056172A (en) * 1979-07-25 1981-03-11 Rca Corp Manufacture of thinned substrate imagers
US4422091A (en) * 1981-01-19 1983-12-20 Rockwell International Corporation Backside illuminated imaging charge coupled device
EP0186225A1 (en) * 1984-11-30 1986-07-02 Laboratoires D'electronique Philips Image sensor for a dual-mode "day-night" camera

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3887810A (en) * 1973-01-02 1975-06-03 Texas Instruments Inc Photon-multiplier imaging system
FR2319201A1 (en) * 1975-07-23 1977-02-18 Gen Electric Co Ltd CHARGE COUPLING DEVICE FOR OPTICAL IMAGE FORMATION
GB1533644A (en) * 1977-09-23 1978-11-29 Gen Electric Co Ltd Charge coupled devices
GB2056172A (en) * 1979-07-25 1981-03-11 Rca Corp Manufacture of thinned substrate imagers
US4422091A (en) * 1981-01-19 1983-12-20 Rockwell International Corporation Backside illuminated imaging charge coupled device
EP0186225A1 (en) * 1984-11-30 1986-07-02 Laboratoires D'electronique Philips Image sensor for a dual-mode "day-night" camera

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1154457A1 (en) * 1999-01-21 2001-11-14 Hamamatsu Photonics K.K. Electron tube
EP1154457A4 (en) * 1999-01-21 2003-01-22 Hamamatsu Photonics Kk Electron tube
US6586877B1 (en) 1999-01-21 2003-07-01 Hamamatsu Photonics K.K. Electron tube

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