FR2599890A1 - Envelope made of molten silica for a discharge lamp - Google Patents
Envelope made of molten silica for a discharge lamp Download PDFInfo
- Publication number
- FR2599890A1 FR2599890A1 FR8608299A FR8608299A FR2599890A1 FR 2599890 A1 FR2599890 A1 FR 2599890A1 FR 8608299 A FR8608299 A FR 8608299A FR 8608299 A FR8608299 A FR 8608299A FR 2599890 A1 FR2599890 A1 FR 2599890A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- envelope
- tio2
- concentration
- discharge lamp
- wall
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/30—Vessels; Containers
- H01J61/302—Vessels; Containers characterised by the material of the vessel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/40—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03C2201/42—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn containing titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
Abstract
Description
La présente invention se rapporte à une enveloppe en silice fonduepour une lampe à décharge, et plus particulièrement à une enveloppe en silice fondue appropriée à une utilisation pour produire une lampe à décharge sans ozone. The present invention relates to a fused silica envelope for a discharge lamp, and more particularly to a fused silica envelope suitable for use in producing an ozone-free discharge lamp.
De nombreuses lampes à décharge menées par les lampes au xénon et les lampes à vapeur de mercure rayonnent de la lumière qui contient un rayon ultra-violet ayant une longueur d'onde de 200 nm ou moins. Un rayon ultra-violet ayant une longueur d'onde de 200nm ou moins force l'oxygène, qui est contenu dans l'air, à réagir de façon à former de l'ozone. L'ozone est nocif pour les corps humains. En conséquence, sa formation doit être évitée à l'exception que l'ozone est positivement utilisé pour le nettoyage, la stérilisation ou analogue. En effet, il est nécessaire d'empêcher un rayon ultra-violet ayant une longueur d'onde de 200nm ou moins d'être émis par une lampe à décharge.Dans ce but, les enveloppes des lampes à décharge sont formées de ce que l'on appelle du verre de silice fondue sans ozone qui ne permet pas la transmission des rayons ultra-violets ayant des longueurs d'onde de 200 nm et moins. Un verre de silice fondue dopé de TiO2 et contenant des atomes de Ti qui y sont dispersés peut, par exemple, être utilisé comme verre de silice fonduesans ozone. Many discharge lamps led by xenon lamps and mercury vapor lamps radiate light which contains an ultraviolet ray having a wavelength of 200 nm or less. An ultraviolet ray having a wavelength of 200nm or less forces the oxygen, which is contained in the air, to react so as to form ozone. Ozone is harmful to human bodies. Consequently, its formation should be avoided except that ozone is positively used for cleaning, sterilization or the like. Indeed, it is necessary to prevent an ultraviolet ray having a wavelength of 200nm or less from being emitted by a discharge lamp. For this purpose, the envelopes of the discharge lamps are formed so that the '' Ozone-free molten silica glass is called which does not allow the transmission of ultra-violet rays having wavelengths of 200 nm and less. A molten silica glass doped with TiO2 and containing Ti atoms dispersed therein can, for example, be used as fused silica glass without ozone.
Si une enveloppe faite d'un verre de silice fondue, où des atomes de Ti ne sont pas régulièrement dispersés et où la diffusion des atomes de Ti et par conséquent non uniformes, est utilisée pour la fabrication d'une lampe au xénon à titre d'exemple, des efforts de traction doivent se produire dans une couche de surface interne de la paroi de l'enveloppe par les rayons ultra-violets rayonnés par l'arc de la décharge. Par suite, des fissures se produisent dans l'enveloppe en une courte période de temps, donc la durée utile de la lampe au xénon est réduite. Dans certains cas, une contrainte s'est développée dès quelques heures d'éclairement, avec pour résultat une fracture des enveloppes après éclairement pendant environ 100 heures. If an envelope made of a molten silica glass, where Ti atoms are not regularly dispersed and where the diffusion of Ti atoms and therefore non-uniform, is used for the manufacture of a xenon lamp as a For example, tensile forces must occur in an internal surface layer of the wall of the envelope by the ultra-violet rays radiated by the arc of the discharge. As a result, cracks occur in the envelope in a short period of time, so the useful life of the xenon lamp is reduced. In some cases, a stress developed from a few hours of lighting, resulting in a fracture of the envelopes after lighting for about 100 hours.
Le problème ci-dessus ne se pose pas si l'on utilise une enveloppe faite en verre de silice fondue de haute qualité, sans ozonejavec des atomes de Ti qui y sont uniformément dispersés. Il est cependant nécessaire de faire fondre Ti02 et Si02 à une température élevée pendant plusieurs heures afin de produire un verre de silice fondue avec des atomes de Ti qui y sont uniformément dispersés. Sa production est par conséquent très longue et fastidieuse et son prix est en conséquence élevé. The above problem does not arise if an envelope made of high quality fused silica glass without ozone is used with Ti atoms which are uniformly dispersed therein. It is however necessary to melt Ti02 and Si02 at a high temperature for several hours in order to produce a glass of fused silica with Ti atoms which are uniformly dispersed there. Its production is therefore very long and tedious and its price is consequently high.
En gardant les problèmes ci-dessus en vue, la présente invention a pour objet de former une enveloppe en silice fondue qui puisse être produite facilement, ait une bonne durabilité, empêche complètement la transmission des rayons ultra-violets ayant des longueurs d'onde de 200 nm et moins et soit par conséquent appropriée à une utilisation dans une lampe à décharge sans ozone. Keeping the above problems in view, the object of the present invention is to form a shell of fused silica which can be produced easily, has good durability, completely prevents the transmission of ultra-violet rays having wavelengths. 200 nm and less and is therefore suitable for use in an ozone-free discharge lamp.
Selon un aspect de cette invention, on prévoit ainsi une enveloppe en silice fonduepour une lampe à décharge, où la concentration en Ti dans une gamme de 1 um- IDU m à partir de la surface interne de la paroi de l'enveloppe est de 0,5 % - 7 % en termes de Ti02 et le produit de la concentration moyenne totale en Ti et de l'épaisseur de la paroi de l'enveloppe est compris entre 3,7 %)um et 42 %y m. According to one aspect of this invention, a casing of fused silica is thus provided for a discharge lamp, where the concentration of Ti in a range of 1 μm-IDU m from the internal surface of the wall of the casing is 0 , 5% - 7% in terms of Ti02 and the product of the total average Ti concentration and the wall thickness of the envelope is between 3.7%) µm and 42% y m.
La présente invention apporte de nombreux avantages. The present invention provides many advantages.
Par exemple, elle a permis de produire facilement une enveloppe en silice fondue appropriée à une utilisation dans une lampe à décharge sans ozone ayant une bonne durabilité et pouvant absorber complètement des rayons ultra-violets ayant des longueurs d'onde de 200 nm et moins. For example, it made it possible to easily produce a fused silica envelope suitable for use in an ozone-free discharge lamp having good durability and capable of completely absorbing ultraviolet rays having wavelengths of 200 nm and less.
L'invention sera mieux comprise, et d'autres buts, caractéristiques, détails et avantages decelle-ci apparaîtront plus clairement au cours de la description explicative qui va suivre faite en référence aux dessins schématiques annexés donnés uniquement à titre d'exemple illustrant un mode de réalisation de l'invention, et dans lesquels
- la figure 1 est un diagramme curviligne montrant les caractéristiques de transmission des rayons ultra-violets d'une enveloppe en silice fondueselon la présente invention, la longueur d'onde étant indiquéeen abscisses et la trans mittance en ordonnées
- la figure 2 illustre schématiquement l'étape de production de l'enveloppe en silice fondue ; et
- la figure 3 est un diagramme curviligne montrant la concentration en TiO2 en ordonnées en fonction de la profondeur à partir de la surface interne de la paroi de l'enveloppe, en abscisses.The invention will be better understood, and other objects, characteristics, details and advantages thereof will appear more clearly during the explanatory description which follows, made with reference to the appended schematic drawings given solely by way of example illustrating a mode. of the invention, and in which
- Figure 1 is a curvilinear diagram showing the transmission characteristics of ultraviolet rays of a silica envelope fused according to the present invention, the wavelength being indicated on the abscissa and the trans mittance on the ordinate
- Figure 2 schematically illustrates the stage of production of the envelope of fused silica; and
- Figure 3 is a curvilinear diagram showing the concentration of TiO2 on the ordinate as a function of the depth from the internal surface of the wall of the envelope, on the abscissa.
Les épaisseurs de paroi des enveloppes des lampes à décharge sont généralement d'environ 2 - 5 mm. Dans des enveloppes en silice fondue sans ozone conventionnelles,
TiO2 est dispersé à une concentration d'ordre de 100 ppmdans toutes les enveloppes. Ure diffusion non uniforme des atomes de Ti a cependant tendance à se produire du fait de la nature de leur procédé de production. Comme on peut le comprendre par les caractéristiques ci-dessus décrites de la présente invention, contrairement aux enveloppes conventionnelles une couche où Ti02 est dispersé à une haute concentration est formée à la profondeur spécifiée avec précision à partir de la surface interne de la paroi d'une enveloppe selon l'invention et la partie majeure restante de la paroi de l'enveloppe peut ne pas toujours nécessiter la diffusion de TiO2.Les présents inventeurs ont trouvé que le problème de la diffusion non uniforme de TiO2 pouvait être evité à la manière ci-dessus lorsque sa diffusion le long de l'enveloppe est prise en considération, conduisant à l'accomplissement de la présente invention.The wall thicknesses of the enclosures of the discharge lamps are generally around 2 - 5 mm. In fused silica envelopes without conventional ozone,
TiO2 is dispersed at a concentration of around 100 ppm in all the envelopes. Non-uniform diffusion of Ti atoms, however, tends to occur due to the nature of their production process. As can be understood from the above described features of the present invention, unlike conventional envelopes a layer where Ti02 is dispersed at a high concentration is formed to the depth precisely specified from the inner surface of the wall. an envelope according to the invention and the remaining major part of the wall of the envelope may not always require the diffusion of TiO2. The present inventors have found that the problem of non-uniform diffusion of TiO2 could be avoided in the following manner. above when its diffusion along the envelope is taken into consideration, leading to the accomplishment of the present invention.
La gamme dans laquelle TiO2 est dispersé à une haute concentration est limitée entre lJum et lO,u m à partir de la surface interne pour les raisons suivantes. En effet, il est difficile de disperser TiO2 uniquement dans une couche plus mince que lji m de manière à remplir les conditions d'un verre de silice fondue sans ozone. Par ailleurs, il est également difficile de disperserTi02 à une haute concentration dans une couche plus profonde que 10 m. De plus, la diffusion de TiO2 à une profondeur au-delà de 10 m est plus ou moins sujette à une diffusion non uniforme. The range in which TiO2 is dispersed at a high concentration is limited between 10 µm and 10 µm from the internal surface for the following reasons. Indeed, it is difficult to disperse TiO2 only in a layer thinner than lji m so as to fulfill the conditions for a glass of fused silica without ozone. Furthermore, it is also difficult to disperse Ti02 at a high concentration in a layer deeper than 10 m. In addition, the diffusion of TiO2 to a depth beyond 10 m is more or less subject to non-uniform diffusion.
La concentration de Ti02 est déterminée en considérant les caractéristiques souhaitées en tant que verre en silice fonduectns ozone et les limites imposées par une technique de production à employer pour la diffusion efficace de TiO2 à une si haute concentration. Si la concentration moyenne totale de TiD2 et l'épaisseur de la paroi d'une enveloppe se trouvent dans la gamme de 3,7 % Ji m à 42 % m, les caractéristiques de transmission des ultra-violets présentant une absorption complète des rayons ultra-violets de 200 nm et moins peuvent être obtenues comme le montre la figure 1 à titre d'exemple. Si le produit est plus petit que 3,7 % Sm, il est impossible de satisfaire les conditions des verres en silice fondue sans ozone. Tous les produits de plus de 42 % ju m ont pour résultat une absorption des rayons ultra-violets ayant de plus~grandes longueurs d'onde. La concentration en TiO2 a été définie à 0,5 % 7 % dans la plage de profondeur étroite à partir de la surface interne de la paroi de l'enveloppe, parce que cette plage spécifique de profondeur permet une diffusion efficace de TiO2 tout en satisfaisant aux conditions des verres en silice fonduesans ozone. En effet, totte concentration inférieure à 0,5 % pose des difficultés pour répondre aux conditions pour des verres en silice fonduesans ozone.Par ailleurs, il e-st difficile de disperser efficacement TiD2 à une haute concentration supérieure à 7 %, et cela est en pure perte. The concentration of TiO2 is determined by considering the characteristics desired as fused ozone silica glass and the limits imposed by a production technique to be used for the efficient diffusion of TiO2 at such a high concentration. If the total average concentration of TiD2 and the thickness of the wall of an envelope are in the range of 3.7% Ji m to 42% m, the transmission characteristics of ultraviolet rays exhibiting complete absorption of ultra -piles of 200 nm and less can be obtained as shown in Figure 1 by way of example. If the product is smaller than 3.7% Sm, it is impossible to meet the conditions for fused silica glasses without ozone. All products over 42% ju m result in absorption of ultraviolet rays having longer ~ long wavelengths. The TiO2 concentration has been defined at 0.5% 7% in the narrow depth range from the internal surface of the wall of the envelope, because this specific depth range allows an efficient diffusion of TiO2 while satisfying under the conditions of silica glasses melted without ozone. Indeed, any concentration less than 0.5% poses difficulties in meeting the conditions for silica glasses melted without ozone. In addition, it is difficult to disperse TiD2 effectively at a high concentration greater than 7%, and this is in pure loss.
Certains exemples de production seront décrits cidessous pour expliquer le fait que des enveloppes en silice fondue de cette invention peuvent être facilement et efficacement produites. Some production examples will be described below to explain the fact that fused silica envelopes of this invention can be easily and efficiently produced.
Afin de disperser TiO2 à une haute concentration dans une couche extrêmement mince à partir de la surface interne de la paroi d'une enveloppe, il est par exemple possible de diffuser Ti02 à tartir de la surface interne ou de cuire une couche de verre de TiO2-Si 02, qui contient TiO2 à une haute concentration, sur la surface interne. In order to disperse TiO2 at a high concentration in an extremely thin layer from the internal surface of the wall of an envelope, it is for example possible to diffuse Ti02 to spread from the internal surface or to bake a glass layer of TiO2 -Si 02, which contains TiO2 at a high concentration, on the internal surface.
D'abord ! on decrira un procédé de diffusion de TiD2 à partir de la surface interne. Une formule de revêtement est préparéeen utilisant du tetraéthoxyde de titane
Ti ( OC2H5)42 sous la forme d'un soluté et en ajoutant, en tant que solvant,un mélange d'éthanol comme composant principal et d'un acide carboxylique tel que l'acide acétique en une quantité telle que la concentration de la formule résultant de revêtement soit d'environ 30 g/l en termesde TiO2. Comme cela est illustré sur la figure 2, un tube en silice fonduede départI est placé à l'une de ses extrémités ouvertes dans la formule de revêtement L remplissant un récipient V.L'air est extrait de l'intérieur du tube 1 par son autre extrémité ouverte au moyen d'un aspirateur qui n'est pas illustré sur le dessin, pour ainsi permettre à la formule de revê tement L de monter. En permettant à la formule de revêtement L de descendre tout en contrôlant sa vitesse de descente, la forme de revêtement est appliquée
à la surface interne du tube en silice fondue de départ à une certaine épaisseur. Le tube en silice fondue de départ 1 où est appliquée la formule de revêtement, est naturellement séché avec ensuite son préchauffage à environ 1500 C pendant 10 minutes puis son traitement thermique à une température de 2500C ou plus pendant 10 minutes. Par ce processus, il se forme une couche de 0,1 - I)Jm m d'épaisseur à la surface interne. Le processus ci-dessus peut être répété selon la nécessité.First ! a process for the diffusion of TiD2 from the internal surface will be described. A coating formula is prepared using titanium tetraethoxide
Ti (OC2H5) 42 in the form of a solute and adding as a solvent a mixture of ethanol as the main component and a carboxylic acid such as acetic acid in an amount such as the concentration of the resulting coating formula is approximately 30 g / l in terms of TiO2. As illustrated in FIG. 2, a silica tube melted from departure I is placed at one of its open ends in the coating formula L filling a container V. The air is extracted from the interior of the tube 1 by its another end open by means of a vacuum cleaner which is not illustrated in the drawing, thus allowing the coating formula L to rise. By allowing the coating formula L to descend while controlling its rate of descent, the coating form is applied
on the internal surface of the starting fused silica tube at a certain thickness. The starting molten silica tube 1, where the coating formula is applied, is naturally dried with then its preheating at around 1500 C for 10 minutes and then its heat treatment at a temperature of 2500C or more for 10 minutes. By this process, a layer of 0.1 - I) Jm m thick is formed on the internal surface. The above process can be repeated as necessary.
Ensuite, TiO2 est forcé à se diffuser dans la paroi du tube en silice fondue par un traitement de cuisson. Then, TiO2 is forced to diffuse in the wall of the fused silica tube by a baking treatment.
Cela peut être fait en chauffant le tube enduit à une température de 17200C ou plus, ou de préférence de 18000C ou plus par un brûleur oxhydrique. Ce traitement peut être appliqué simultanément à la formation d'une partie en forme d'ampoule en gonflant le tube 1 tout en maintenant le tube 1 à un état chauffé et fondu par le brûleur oxhydrique. Il est par conséquent inutile d'ajouter un appareil et une étape séparés spécifiquement pour la diffusion.This can be done by heating the coated tube to a temperature of 17200C or more, or preferably 18000C or more by an oxyhydrogen burner. This treatment can be applied simultaneously to the formation of a bulb-shaped part by inflating the tube 1 while maintaining the tube 1 in a heated and molten state by the oxyhydric burner. There is therefore no need to add a separate device and stage specifically for broadcasting.
La figure 1 est un diagramme curviligne montrant la transmittance spectrale de la paroi d'une enveloppe en silice fondue pour une lampe à décharge de xénon, qui a été traitée à la manière ci-dessus décrite. L'enveloppe a environ 16 mm de diamètre interne et environ 2 mm d'épaisseur. L'enveloppe a été obtenue en formant une couche mince d'oxyde de titane sur sa surface interne puis en la cuisant à 8000 C pendant 10 minutes. Le produit de la concentration moyenne totale en Ti en termes de TiO2 et de l'épaisseur de la paroi de l'enveloppe est de 22 % )um. Cette enveloppe est utile, par exemple, pour la fabrication d'une lampe à décharge de xénon ayant une consommation de puissance nominale de 1 kW. Figure 1 is a curvilinear diagram showing the spectral transmittance of the wall of a fused silica envelope for a xenon discharge lamp, which has been treated in the manner described above. The envelope is approximately 16 mm in internal diameter and approximately 2 mm thick. The envelope was obtained by forming a thin layer of titanium oxide on its internal surface and then baking it at 8000 C for 10 minutes. The product of the total average Ti concentration in terms of TiO2 and the wall thickness of the envelope is 22%) µm. This envelope is useful, for example, for the manufacture of a xenon discharge lamp having a nominal power consumption of 1 kW.
La figure 3 est un diagramme curviligne montant la relation entre la concentration en TiO2 et la profondeur à partir de la surface interne,dans la paroi de l'enveloppe ci-dessus. Comme cela est apparent par ce dessin, on peut facilement envisager que la concentration en TiO2 soit d'environ 3 % sur une profondeur de 5)um à partir de la surface interne avec sensiblement pas de diffusion de
TiO2 à la profondeur de 10jj m à p-artir de la surface interne. La concentration et la profondeur de TiO2 diffusé peuvent être modifiées en contrôlant la concentration de la formule de revêtement L ainsi que son épaisseur revêtue, la température et le temps de cuisson, etc.FIG. 3 is a curvilinear diagram showing the relationship between the concentration of TiO2 and the depth from the internal surface, in the wall of the envelope above. As is apparent from this drawing, it can easily be envisaged that the concentration of TiO2 is approximately 3% over a depth of 5) μm from the internal surface with substantially no diffusion of
TiO2 at the depth of 10 dd m from the internal surface. The concentration and depth of diffused TiO2 can be changed by controlling the concentration of coating formula L as well as its coated thickness, temperature and cooking time, etc.
La diffusion est complétée par le processus ci-dessus. The broadcast is completed by the above process.
L'application de la formule de revêtement peut être facilement effectuée. Le tra-itement thermique de la couche enduite de la formule de revêtement est accompli à une basse température en une courte période de temps. Par ailleurs, la diffusion de Ti02 est entreprise en même temps que la formation de la partie en forme d'ampoule.The application of the coating formula can be easily carried out. The heat treatment of the coated layer of the coating formula is accomplished at a low temperature in a short period of time. Furthermore, the diffusion of Ti02 is undertaken at the same time as the formation of the bulb-shaped part.
Les opérations ci-dessus sont par conséquent très faciles et efficace;
On décrira maintenant un procédé de cuisson d'une couche de Si02 amorphe qui contient Ti02 à une haute concentration, sur la surface interne.The above operations are therefore very easy and efficient;
We will now describe a method of cooking a layer of amorphous SiO 2 which contains TiO 2 at a high concentration, on the internal surface.
Un mélange liquide d'alcoolate de titane et d'alcoolate de silicium est préparé en tant que formule de revêtement. A liquid mixture of titanium alcoholate and silicon alcoholate is prepared as a coating formula.
Dans cette formule de revêtement, la concentration en titane est contrôlée à 1 - 7 % en termesde TiO2/(SiO2 +
TiO2). L'application de la formule de revêtement à la surface interne de l'enveloppe est effectuée de la même manière que celle montrée sur la figure 2. Après avoir séché naturellement l'enveloppe ainsi enduite, elle est séchée à environ 1500C. Le revêtement est appliqué à une épaisseur souhaitée de 1vu m - ID > jm en répétant le processus ci-dessus selon la nécessité. Lors d'un traitement thermique dans l'enveloppe ainsi enduite à une température de 5000C ou plus ou de préférence de 8000C ou plus, une couche de SiO2 amorphe est cuite. Dans cette couche, Ti02 a déjà été dispersé comme cela est requis dans la présente invention.On comprendra que le présent procédé est aussi facile et efficace que le procédé de diffusion ci-dessus décrit.In this coating formula, the titanium concentration is controlled at 1 - 7% in terms of TiO2 / (SiO2 +
TiO2). The application of the coating formula to the internal surface of the envelope is carried out in the same manner as that shown in FIG. 2. After having naturally dried the envelope thus coated, it is dried at around 1500C. The coating is applied to a desired thickness of 1vu m - ID> jm by repeating the above process as necessary. During a heat treatment in the casing thus coated at a temperature of 5000C or more or preferably 8000C or more, a layer of amorphous SiO2 is fired. In this layer, TiO 2 has already been dispersed as required in the present invention. It will be understood that the present method is as easy and effective as the diffusion method described above.
En utilisant une enveloppe en silice fondue produite à la manière ci-dessus décrite, une lampe au xénon a été assemblée puis allumée. Même après passage de 1 000 heures après son éclairement, aucune contrainte ne s'est développée dans l'enveloppe, avec aucune fracture. On peut par conséquent démontrer que sa durabilité est suffisament élevée. Comme ces caractéristiques de transmission des rayons ultra-violets étaient telles que montrées sur la figure 1, des rayons ultra-violets ayant des longueurs d'onde plus courtes que 200 nm et moins ont été absorbés et n'ont pu pénétrer vers l'extérieur. Par conséquent, elle peut fonctionner avec succès en tant que verre en silice fonduesans ozone. Using a fused silica envelope produced in the above-described manner, a xenon lamp was assembled and then turned on. Even after passing 1000 hours after its illumination, no stress developed in the envelope, with no fracture. It can therefore be demonstrated that its durability is sufficiently high. As these transmission characteristics of ultraviolet rays were as shown in Figure 1, ultraviolet rays having wavelengths shorter than 200 nm and less were absorbed and could not penetrate outwards . Therefore, it can work successfully as an ozone-free fused silica glass.
Le terme "lampe à décharge" tel qu'utilisé ici n'est pas nécessairement limité à des lampes à xé-non. Il est inutile de dire que des enveloppes selon l-'invention peuvent être utilisées dans diverses lampes décharge comprenant des lampes à décharge de gaz rares,des lampes à décharge de vapeur de métal telles que des lampes à vapeur de mercure et des lampes à décharge éclair The term "discharge lamp" as used herein is not necessarily limited to xenon lamps. Needless to say, envelopes according to the invention can be used in various discharge lamps including rare gas discharge lamps, metal vapor discharge lamps such as mercury vapor lamps and discharge lamps lightning bolt
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8608299A FR2599890B1 (en) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | FUSED SILICA ENCLOSURE FOR DISCHARGE LAMP |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8608299A FR2599890B1 (en) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | FUSED SILICA ENCLOSURE FOR DISCHARGE LAMP |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2599890A1 true FR2599890A1 (en) | 1987-12-11 |
| FR2599890B1 FR2599890B1 (en) | 1990-02-02 |
Family
ID=9336141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR8608299A Expired - Lifetime FR2599890B1 (en) | 1986-06-09 | 1986-06-09 | FUSED SILICA ENCLOSURE FOR DISCHARGE LAMP |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| FR (1) | FR2599890B1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0558270A1 (en) * | 1992-02-28 | 1993-09-01 | General Electric Company | High temperature lamps having UV absorbing quartz envelope |
| EP0604207A1 (en) * | 1992-12-22 | 1994-06-29 | Flowil International Lighting (Holding) B.V. | Arc tube for a metal halide lamp |
| DE10039383A1 (en) * | 2000-08-11 | 2002-02-28 | Perkinelmer Optoelectronics | Flash lamp and flash lamp construction |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2757305A (en) * | 1954-05-26 | 1956-07-31 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Ultraviolet lamp |
| FR1575274A (en) * | 1967-07-31 | 1969-07-18 |
-
1986
- 1986-06-09 FR FR8608299A patent/FR2599890B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2757305A (en) * | 1954-05-26 | 1956-07-31 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Ultraviolet lamp |
| FR1575274A (en) * | 1967-07-31 | 1969-07-18 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0558270A1 (en) * | 1992-02-28 | 1993-09-01 | General Electric Company | High temperature lamps having UV absorbing quartz envelope |
| EP0604207A1 (en) * | 1992-12-22 | 1994-06-29 | Flowil International Lighting (Holding) B.V. | Arc tube for a metal halide lamp |
| DE10039383A1 (en) * | 2000-08-11 | 2002-02-28 | Perkinelmer Optoelectronics | Flash lamp and flash lamp construction |
| US6867547B2 (en) | 2000-08-11 | 2005-03-15 | Perkinelmer Optoelectronics Gmbh | Flash lamp and flash lamp structure |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2599890B1 (en) | 1990-02-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4985275A (en) | Method for producing a fused silica envelope for discharge lamp | |
| EP0067741B1 (en) | Preparation of monolithic silica aerogels, aerogels so obtained and use thereof in the preparation of silica glass articles and thermally isolating materials | |
| CH171519A (en) | Process for obtaining ultraviolet radiation and light radiation of selected composition, and device for its implementation. | |
| WO2005118501A1 (en) | Method for producing a hydrophobic coating, device for implementing said method and support provided with a hydrophobic coating | |
| Yao et al. | Ultraviolet photoluminescence from nonbridging oxygen hole centers in porous silica | |
| CA2154431C (en) | Induction plasma gun | |
| FR2599890A1 (en) | Envelope made of molten silica for a discharge lamp | |
| FR2583219A1 (en) | ELECTRIC LAMP HAVING AN INTERFERENTIAL FILTER | |
| US5658612A (en) | Method for making a tantala/silica interference filter on the surface of a tungsten-halogen incandescent lamp | |
| FR2944913A1 (en) | UV ray irradiation device for use in e.g. photochemical treatment, has UV ray lamp equipped with arc tube, where distance of lamp at interior tube is related to power by specific relation | |
| CN102573150B (en) | Preparation process of coated and infrared transmitting halogen heating tube with low brightness | |
| CA2590524A1 (en) | Inactivating biological agents dispersed in gaseous medium with a photoactivated semiconductor | |
| GB2191888A (en) | Fused silica envelope for discharge lamp | |
| JPS61165942A (en) | Quartz tubular bulb for discharge lamp | |
| EP0888814B1 (en) | Reaction support and reactor for the treatment of solid and fluid reactants subjected to a wave-shaped movement | |
| JP7343839B2 (en) | filament lamp | |
| BE435282A (en) | ||
| CH629637A5 (en) | PROCESS FOR PREPARING A TEMPERATURE RESISTANT MASKING AGENT, MASKING AGENT OBTAINED BY THE IMPLEMENTATION OF THIS PROCESS AND USE OF SAID AGENT. | |
| EP3224387B1 (en) | Method for producing a coating layer coated onto the inner surface of a container and a container obtained with such a method | |
| BE480372A (en) | ||
| JPH0754695B2 (en) | Heater lamp | |
| EP1483972A1 (en) | Method and apparatus for preserving agricultural products | |
| WO2021053304A1 (en) | Method for treating a lead-containing glass that makes it possible to limit the migration in solution of the lead contained in this glass | |
| BE435243A (en) | ||
| BE517540A (en) |