FR2551579A1 - INTERNAL HIGH VOLTAGE LIFT (VPP) LIMITATION CIRCUIT - Google Patents
INTERNAL HIGH VOLTAGE LIFT (VPP) LIMITATION CIRCUIT Download PDFInfo
- Publication number
- FR2551579A1 FR2551579A1 FR8413375A FR8413375A FR2551579A1 FR 2551579 A1 FR2551579 A1 FR 2551579A1 FR 8413375 A FR8413375 A FR 8413375A FR 8413375 A FR8413375 A FR 8413375A FR 2551579 A1 FR2551579 A1 FR 2551579A1
- Authority
- FR
- France
- Prior art keywords
- voltage
- node
- ramp generator
- terminal coupled
- signal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K19/00—Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits
- H03K19/003—Modifications for increasing the reliability for protection
- H03K19/00346—Modifications for eliminating interference or parasitic voltages or currents
- H03K19/00361—Modifications for eliminating interference or parasitic voltages or currents in field effect transistor circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
- G11C16/10—Programming or data input circuits
- G11C16/12—Programming voltage switching circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03K—PULSE TECHNIQUE
- H03K4/00—Generating pulses having essentially a finite slope or stepped portions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Computing Systems (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Control Of Electrical Variables (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Non-Volatile Memory (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
UN DISPOSITIF DE MEMOIRE A CIRCUIT INTEGRE EST MUNI D'UN CIRCUIT SERVANT A ENGENDRER UNE TENSION DE RAMPE LINEAIRE ENTRE 5V (VCC) ET 21V (VPP) A UNE VITESSE DE RAMPE DE 16VMS. UN MODE D'INHIBITION EST PREVU ET PENDANT CELUI-CI, UN NOEUD INTERNE A CORRESPONDANT A LA TENSION INTERNE VPP EST MAINTENU A LA TENSION VCC PAR UNE PORTE A TRANSISTORS T1-T10. IL EST AUSSI PREVU UN MODE DE PROGRAMMATION DANS LEQUEL UNE TENSION EXTERNE DE PROGRAMMATION EST INTEGREE SUR UN CONDENSATEUR MOS T5. L'ELEVATION DE TENSION DE PROGRAMMATION SUR LE CONDENSATEUR EST MAINTENUE A 16VMS PAR L'ACTIONNEMENT D'UN COMMUTATEUR A TRANSISTOR, DE MANIERE A ABAISSER LA TENSION EXTERNE EXCESSIVE DE PROGRAMMATION A LA MASSE DU CIRCUIT EN REPONSE A UNE ELEVATION EXCESSIVE DE TENSION ENGENDREE SUR LE CONDENSATEUR.AN INTEGRATED CIRCUIT MEMORY DEVICE IS EQUIPPED WITH A CIRCUIT TO GENERATE A LINEAR RAMP VOLTAGE BETWEEN 5V (VCC) AND 21V (VPP) AT A RAMP SPEED OF 16VMS. AN INHIBITION MODE IS PROVIDED AND DURING THIS, AN INTERNAL NODE A CORRESPONDING TO THE INTERNAL VOLTAGE VPP IS MAINTAINED AT THE VOLTAGE VCC BY A DOOR WITH T1-T10 TRANSISTORS. A PROGRAMMING MODE IN WHICH AN EXTERNAL PROGRAMMING VOLTAGE IS INTEGRATED ON A MOS T5 CAPACITOR IS ALSO PROVIDED. THE PROGRAMMING VOLTAGE RISE ON THE CAPACITOR IS MAINTAINED AT 16VMS BY THE ACTION OF A TRANSISTOR SWITCH, SO AS TO LOWER THE EXCESSIVE EXTERNAL PROGRAMMING VOLTAGE TO THE GROUND OF THE CIRCUIT IN RESPONSE TO AN EXCESSIVE OVERVOLTAGE RISE. THE CAPACITOR.
Description
L'invention concerne les circuits intégrés Plus particulièrement, elleThe invention relates to integrated circuits More particularly, it
concerne un circuit interne servant à régler le temps d'élévation de la haute tension (Vpp) interne dans relates to an internal circuit used to adjust the rise time of the internal high voltage (Vpp) in
un dispositif de mémoire à circuits intégrés. an integrated circuit memory device.
Les dispositifs de mémoire solides tels que les dispositifs E 2 PROM qui sont fabriqués selon une technique à effet de tunnel à oxyde mince sont sujets à une rupture accidentelle de l'oxyde quand une tension d'écriture ou d'effacement appliquée de part et d'autre de la mince couche d'oxyde, par exem10 ple entre le substrat et la porte flottante, dépasse un niveau Solid memory devices such as E 2 PROM devices which are manufactured using a thin oxide tunneling technique are subject to accidental rupture of the oxide when a write or erase voltage is applied on both sides. other of the thin oxide layer, for example between the substrate and the floating door, exceeds a level
maximal de tolérance Pour éviter une telle rupture accidentelle de l'oxyde, un signal extérieur de programmation de haute tension (Vpp) est traité au moyen d'un circuit ou dispositif extérieur pour obtenir un signal pulsé ayant une forme 15 d'onde exponentielle d'une constante de temps RC de 600 us. maximum tolerance To avoid such an accidental rupture of the oxide, an external high voltage programming signal (Vpp) is processed by means of an external circuit or device to obtain a pulsed signal having an exponential waveform d '' an RC time constant of 600 us.
Ainsi, la solution de la technique antérieure pour empêcher une rupture accidentelle de l'oxyde consiste à conformer la haute tension externe Vpp avec un circuit extérieur formé de composants fournis par l'usager pour limiter le temps d'éléva20 tion d'une tension interne Vpp engendrée en partant de la tension externe Ces circuits de conformation de signal augmentent la complexité d'ensemble des circuits parce qu'ils nécessitent des composants supplémentaires et un espace d'installation de circuits En conséquence, les besoins d'énergie 25 des circuits sont accrus et l'établissement initial et l'entretien des circuits sont compliqués davantage Cela est particulièrement vrai parce que les circuits conformateurs de forme d'onde de la technique antérieure sont typiquement d'un type RC comportant des capacités variables ou des résistances 30 variables qu'il faut optimiser pour assurer un fonctionnement correct des circuits En outre, ces circuits manquent de précision et en conséquence, ils sont sujets à un fonctionnement Thus, the solution of the prior art to prevent accidental rupture of the oxide consists in conforming the external high voltage Vpp with an external circuit formed of components supplied by the user to limit the time of rise of an internal voltage Vpp generated from external voltage These signal shaping circuits increase the overall complexity of the circuits because they require additional components and circuit installation space. Consequently, the energy requirements of the circuits are increased and the initial establishment and maintenance of the circuits is further complicated. This is particularly true because prior art waveform conforming circuits are typically of an RC type having variable capacitances or variable resistors that 'It is necessary to optimize to ensure correct functioning of the circuits.In addition, these circuits lack precision and as a result, they are subject to operation
dégradé dans des conditions variables d'environnement. degraded under varying environmental conditions.
Dans une application typique de dispositif E PROM o la 35 haute tension externe Vpp = 21 V, la tension maximale permise de part et d'autre de la zone d'oxyde mince du dispositif doit être limitée à environ 11,4 V Le fait de prévoir une rampe linéaire à une vitesse de 16 V/ms, lorsque la haute tension externe Vpp = 21 V, limite à environ 11,5 V une haute tension interne Vpp prévue de part et d'autre de la zone d'oxyde du circuit En conséquence, on reconnaît que l'on peut utiliser une vitesse de rampe linéaire engendrée intérieurement de In a typical application of an E PROM device where the external high voltage Vpp = 21 V, the maximum voltage allowed on either side of the thin oxide zone of the device must be limited to approximately 11.4 V. provide a linear ramp at a speed of 16 V / ms, when the external high voltage Vpp = 21 V, limits an internal high voltage Vpp provided for on either side of the oxide zone of the circuit to approximately 11.5 V Consequently, we recognize that we can use an internally generated linear ramp speed of
16 V/ms par exemple, au lieu de la forme d'onde exponentielle 5 de 60 ms RC engendrée extérieurement, et limiter encore de façon satisfaisante la tension appliquée de part et d'autre de la zone d'oxyde mince à effet de tunnel du dispositif Cette idée permet, en partie, de remplacer avantageusement le circuit de programmation de haute tension externe par des cir10 cuits internes. 16 V / ms for example, instead of the exponential waveform 5 of 60 ms RC generated externally, and still satisfactorily limit the voltage applied on either side of the thin oxide zone with tunnel effect of the device This idea makes it possible, in part, to advantageously replace the external high-voltage programming circuit with internal cooked circuits.
En particulier, l'invention propose un circuit générateur de rampe' linéaire situé à l'intérieur du dispositif pour engendrer une tension de rampe linéaire comprise entre 5 V (Vcc) et 21 V (Vpp) tout en maintenant une vitesse de rampe 15 de 16 V/ms Le générateur interne de rampe linéaire coopère avec un circuit de dérivation qui conduit de manière à diriger la tension de programmation vers la masse, limitant ainsi la tension appliquée de part et d'autre de la zone d'oxyde mince Ainsi, l'invention évite la possibilité d'une rupture 20 accidentelle de l'oxyde mince pendant un mode de programmation d'écriture ou d'effacement du dispositif Cette protection est avantageusement assurée indépendamment d'une haute In particular, the invention provides a linear ramp generator circuit located inside the device for generating a linear ramp voltage between 5 V (Vcc) and 21 V (Vpp) while maintaining a ramp speed 15 of 16 V / ms The internal linear ramp generator cooperates with a bypass circuit which conducts so as to direct the programming voltage towards ground, thus limiting the voltage applied on either side of the thin oxide zone. the invention avoids the possibility of an accidental rupture of the thin oxide during a programming mode for writing or erasing the device. This protection is advantageously provided independently of a high
tension externe fournie au dispositif. external voltage supplied to the device.
Dans le mode d'exécution préférentiel de l'invention, le 25 E 2 PROM peut fonctionner dans un mode d'inhibition de programmation et dans un mode de programmation Dans le mode d'inhibition de programmation, un premier noeud de circuits internes In the preferred embodiment of the invention, the 25 E 2 PROM can operate in a programming inhibition mode and in a programming mode In the programming inhibition mode, a first node of internal circuits
est maintenu à une basse tension interne (Vcc) par le fonctionnement d'une porte à transistors en réponse à un signal d'in30 hibition de programmation Le premier noeud de circuits internes est couplé directement aux circuits internes du dispositif et en conséquence, fournit un bus d'alimentation en haute tension interne Vpp. is maintained at an internal low voltage (Vcc) by the operation of a transistor gate in response to a programming inhibition signal The first node of internal circuits is directly coupled to the internal circuits of the device and therefore provides a internal high voltage power bus Vpp.
Dans le mode de programmation, la haute tension Vpp ex35 terne est intégrée sur un condensateur oxyde métalliquesilicium (MOS) pour fournir la haute tension interne (Vpp) de façon telle que la tension ainsi engendrée s'élève suivant une forme d'onde linéaire Si la haute tension interne Vpp s'élève à une vitesse dépassant 16 V/ms, un commutateur à In the programming mode, the dull high voltage Vpp ex35 is integrated on a metal oxide silicon (MOS) capacitor to supply the internal high voltage (Vpp) in such a way that the voltage thus generated rises in a linear waveform Si the internal high voltage Vpp rises at a speed exceeding 16 V / ms, a switch to
3 25515793 2551579
transistors est actionné de manière à détourner le courant excessif vers une masse de circuit, limitant ainsi l'élévation excessive de la haute tension Vpp interne fournie au dispositif. En conséquence, on propose un circuit de limitation intégré sur un substrat monolithique de silicium dans lequel la vitesse de rampe d'un signal de programmation interne est fixée à une vitesse d'élévation prédéterminée, par exemple 16 V/ms et dans lequel la vitesse de rampe n'est pas fonc10 tion de la tension externe de programmation ni du temps d'élévation de la tension externe Par suite, il n'est pas nécessaire de traiter ni de pulser un signal extérieur de haute tension ni de prévoir des circuits compliqués de conformation d'onde de signal d'entrée Le nombre de composants des cir15 cuits et l'espace d'acheminement de ligne sont ainsi minimisés transistors is actuated so as to divert the excess current to a circuit ground, thus limiting the excessive rise in the internal high voltage Vpp supplied to the device. Consequently, a limiting circuit integrated on a monolithic silicon substrate is proposed in which the ramp speed of an internal programming signal is fixed at a predetermined elevation speed, for example 16 V / ms and in which the speed ramp does not depend on the external programming voltage or the rise time of the external voltage Consequently, there is no need to process or pulse an external high voltage signal or to provide complicated circuits input signal waveform The number of components of the cir15 baked and the line routing space are thus minimized
tandis que la consommation d'énergie des circuits est réduite. while the energy consumption of the circuits is reduced.
En outre, il n'est pas nécessaire d'ajuster initialement des circuits externes de conformation d'onde ni de maintenir leur ajustement et un entretien excessif n'est pas nécessaire non 20 plus par suite d'une dégradation des qualités du circuit externe due à des conditions variables de signal d'entrée et d'environnement. la figure 1 est un schéma d'un circuit interne d'impulsion de vitesse de rampe selon l'invention; la figure 2 est un graphique de la tension de part et d'autre d'une mince couche d'oxyde en fonction du temps pour divers signaux d'entrée de tension de programmation dans un dispositif de mémoire à circuits intégrés; la figure 3 est un graphique d'une rampe linéaire cor30 respondant à une tension interne de programmation prévue par l'invention; la figure 4 est un graphique représentant aussi une rampe linéaire correspondant à une tension interne de programmation prévue par l'invention et la figure 5 est un graphique d'une rampe linéaire de Furthermore, there is no need to initially adjust external waveform circuits or to maintain their fit, and excessive maintenance is also not necessary due to degradation of the qualities of the external circuit due to at varying input signal and environmental conditions. Figure 1 is a diagram of an internal ramp speed pulse circuit according to the invention; Figure 2 is a graph of the voltage on either side of a thin oxide layer as a function of time for various programming voltage input signals in an integrated circuit memory device; Figure 3 is a graph of a linear ramp cor30 responding to an internal programming voltage provided by the invention; FIG. 4 is a graph also representing a linear ramp corresponding to an internal programming voltage provided by the invention and FIG. 5 is a graph of a linear ramp of
la tension interne de programmation prévue par l'invention. the internal programming voltage provided by the invention.
Le mode d'exécution préférentiel de l'invention engendre une rampe linéaire entre 5 V (Vcc) et 21 V (Vpp) à une vitesse The preferred embodiment of the invention generates a linear ramp between 5 V (Vcc) and 21 V (Vpp) at a speed
de rampe de 16 V/ms Le mode d'exécution préférentiel est re- of 16 V / ms ramp The preferred embodiment is
présenté par la figure i et comprend des transistors T 1 à T 10 couplés entre eux entre la tension Vcc, la tension Vpp presented by FIG. i and comprises transistors T 1 to T 10 coupled together between the voltage Vcc, the voltage Vpp
et la masse.and the mass.
Deux modes de fonctionnement sont prévus dans ce mode d'exécution préférentiel, un mode d'inhibition de programmation et un mode de programmation Dans+e mode d'inhibition de programmation, la tension externe Vpp = 21 V et la tension de programmation PGM = tension Vcc La tension interne Vpp (noeud A sur la figure 1) est maintenue à la tension Vcc par 10 le transistor Tl,, le transistor T 2 est coupé parce que sa porte (noeud B surla figure 1) est maintenue à la masse par le transistor T 4-, le noeud de circuit C est déchargé à la masse par le transistor T 8 et le noeud de circuit D est polarisé de Two operating modes are provided in this preferred embodiment, a programming inhibition mode and a programming mode In + e programming inhibition mode, the external voltage Vpp = 21 V and the programming voltage PGM = voltage Vcc The internal voltage Vpp (node A in FIG. 1) is maintained at voltage Vcc by 10 the transistor Tl ,, the transistor T 2 is cut off because its gate (node B in FIG. 1) is kept at ground by the transistor T 4-, the circuit node C is discharged to ground by the transistor T 8 and the circuit node D is polarized by
manière à conduire à une masse le courant passant par le 15 transistor T 9. so as to conduct to ground the current passing through the transistor T 9.
Dans le mode de programmation, la tension externe Vpp = 21 V, courant continu, et la tension de programmation PGM = 0 V (PGM) Les transistors T 1 et T 4 sont coupés en l'absence de la tension PGM Par suite, la tension au noeud B, fournie 20 par l'intermédiaire du transistor T 3, s'élève vers la tension externe Vpp Cette élévation de tension, à son tour, fait varier la tension interne Vpp (noeud de circuit A) en direction de la tension externe Vpp en passant par le transistor T 2 De façon correspondante, il se produit une élévation de tension 25 de part et d'autre du transistor T 5 (qui a la configuration d'un condensateur MOS) Le courant fourni au noeud de circuit C par le transistor T 5 est: ic= CT 5 d V/dt ( 1) Pour obtenir une vitesse de rampe linéaire d V/dt = 16 V/ms 30 dans le mode d'exécution préférentiel de l'invention dans lequel CT 5 = 20 exp 10 12 F, i = 0,32)A Le passage du couT 5 c rant par le transistor T 8 est fixé par les transistors T 9 et T 10 et peut comprendre un niveau minimal de rampe ou décalage In the programming mode, the external voltage Vpp = 21 V, direct current, and the programming voltage PGM = 0 V (PGM) The transistors T 1 and T 4 are switched off in the absence of the PGM voltage. voltage at node B, supplied via transistor T 3, rises towards the external voltage Vpp This voltage rise, in turn, varies the internal voltage Vpp (circuit node A) towards the voltage external Vpp via the transistor T 2 Correspondingly, there is a rise in voltage 25 on either side of the transistor T 5 (which has the configuration of a MOS capacitor) The current supplied to the circuit node C by the transistor T 5 is: ic = CT 5 d V / dt (1) To obtain a linear ramp speed d V / dt = 16 V / ms 30 in the preferred embodiment of the invention in which CT 5 = 20 exp 10 12 F, i = 0.32) A The passage of the current 5 through the transistor T 8 is fixed by the transistors T 9 and T 10 and can include a ni minimum ramp or offset calf
de point initial, déterminé par les transistors T 9 et T 10. of initial point, determined by the transistors T 9 and T 10.
Dans le mode d'exécution préférentiel de l'invention, un décalage initial de 5 V est assuré à la tension de rampe Le courant passant par le transistor T 9 est indépendant de la tension Vcc puisque le transistor T 9 est dans la région de fonc- In the preferred embodiment of the invention, an initial offset of 5 V is ensured at the ramp voltage The current passing through the transistor T 9 is independent of the voltage Vcc since the transistor T 9 is in the region of function -
tionnement de saturation.saturation.
Si la vitesse de rampe de la tension interne Vpp (noeud A sur la figure 1) dépasse 16 V/ms, le courant i augmente selon l'équation ( 1) ci-dessus En conséquence, la tension au 5 noeud de circuit C s'élève Cela résulte du fait que le transistor T 8 est à l'état saturé A mesure que la tension au noeud de circuit C augmente, le transistor T 6 est rendu conducteur et conduit à la masse du circuit la tension en excès présente au noeud de circuit B, en passant par le transistor 10 T 7 La conduction du transistor T 2 est par conséquent réduite, ce qui diminue la vitesse de rampe au noeud de circuit B A nouveau, la vitesse de rampe de la tension interne Vpp (noeud If the ramp speed of the internal voltage Vpp (node A in Figure 1) exceeds 16 V / ms, the current i increases according to equation (1) above Consequently, the voltage at the 5 circuit node C s This results from the fact that the transistor T 8 is in the saturated state As the voltage at the circuit node C increases, the transistor T 6 is made conductive and leads to the ground of the circuit the excess voltage present at the node of circuit B, passing through transistor 10 T 7 The conduction of transistor T 2 is consequently reduced, which decreases the ramp speed at the new BA circuit node, the ramp speed of the internal voltage Vpp (node
A sur la figure 1) est aussi réduite. A in Figure 1) is also reduced.
La figure 2 est un graphique de la tension de part et d'autre d'une mince couche d'oxyde, dans un dispositif de mémoire à circuits intégrés, en fonction du temps, pour divers signa-x d'entrée de tension de programmation Sur la figure 2, la forme d'onde exponentielle normale de 600 us RC est comparée à diverses autres formes d'onde, comprenant la rampe li20 néaire de 16 V/ms engendrée par le mode d'exécution préférentiel de l'invention On peut voir d'après le graphique que l'on peut choisir diverses valeurs de rampe selon les nécessités de la mince couche d'oxyde du circuit intégré dont il s' agit En consequence, l'invention est facile à adapter en vue 25 de l'utilisation dans tout dispositif de mémoire à circuits intégrés qui utilise le mode d'écriture et d'effacement à effet de tunnel à oxyde mince Il s'ensuit que les valeurs de rampe prévues par l'exemple d'exécution de l'invention peuvent FIG. 2 is a graph of the voltage on either side of a thin layer of oxide, in an integrated circuit memory device, as a function of time, for various programming voltage input signals. In FIG. 2, the normal exponential waveform of 600 us RC is compared with various other waveforms, including the linear 20 V ramp of 16 V / ms generated by the preferred embodiment of the invention. see from the graph that various ramp values can be chosen according to the needs of the thin oxide layer of the integrated circuit in question. Consequently, the invention is easy to adapt for the purpose of use in any memory device with integrated circuits which uses the writing and erasing mode with a thin oxide tunnel effect. It follows that the ramp values provided by the embodiment of the invention can
être facilement modifiées pour s'adapter à divers paramètres 30 de circuit. be easily modified to suit various circuit parameters.
Les figures 3 à 5 montrent diverses caractéristiques de fonctionnement du mode d'exécution préférentiel de l'invention Sur les figures 3 à 5, le terme C Ex se réfère à une ligne d' x habilitation de circuit Quand la ligne C Ex est basse, la 35 rampe linéaire interne de tension Vpp I s'amorce; quand la ligne C Ex est haute, la tension interne Vpp I se décharge à son état initial de 5 V, courant continu (Vcc) Les termes Vpp I = Vppi = Vip se réfèrent tous au signal interne de tension Vpp (noeud de circuit A sur la figure 1) On utilise l'indice "i" pour indiquer un signal engendré de façon interne Le terme TA se réfère à la température ambiante à laquelle les mesures représentées ont été prises dans le cas présent, la tempé5 rature ambiante, soit environ 25 C Enfin, le terme Vppx se réfère à l'entrée de signal qui nécessitait une forme d'onde exponentielle de 600 ps RC dans les circuits de la technique antérieure L'indice "x" est utilisé pour indiquer un signal FIGS. 3 to 5 show various operating characteristics of the preferred embodiment of the invention. In FIGS. 3 to 5, the term C Ex refers to a line enabling circuit When the line C Ex is low, the internal linear voltage ramp Vpp I starts; when the line C Ex is high, the internal voltage Vpp I discharges in its initial state of 5 V, direct current (Vcc) The terms Vpp I = Vppi = Vip all refer to the internal signal of voltage Vpp (circuit node A in FIG. 1) The index "i" is used to indicate an internally generated signal The term TA refers to the ambient temperature at which the measurements represented were taken in this case, the ambient temperature, that is to say approximately 25 C Finally, the term Vppx refers to the signal input which required an exponential waveform of 600 ps RC in prior art circuits The subscript "x" is used to indicate a signal
appliqué extérieurement.applied externally.
Les figures 3 et 4 indiquent la vitesse de rampe de la tension interne Vpp sur divers modes d'exécution de l'invention Plus particulièrement, les figures 3 et 4 sont des graphiques d'une rampe linéaire correspondant à une tension de Figures 3 and 4 show the ramp speed of the internal voltage Vpp on various embodiments of the invention More particularly, Figures 3 and 4 are graphs of a linear ramp corresponding to a voltage of
programmation interne fournie par l'exemple d'exécution de 15 l'invention. internal programming provided by the exemplary embodiment of the invention.
La figure 5 est un graphique d'une rampe linéaire correspondant à une tension interne de programmation Vpp I, la tension Vpp extérieure (Vppx) étant à 21 V et 15 V Le graphique FIG. 5 is a graph of a linear ramp corresponding to an internal programming voltage Vpp I, the external voltage Vpp (Vppx) being at 21 V and 15 V The graph
de la figure 5 illustre le fait que la vitesse de rampe in20 terne assurée par l'exemple d'exécution de l'invention est indépendante de la tension externe Vpp. of FIG. 5 illustrates the fact that the dull ramp speed in20 ensured by the exemplary embodiment of the invention is independent of the external voltage Vpp.
On peut voir que, lorsque l'invention est incorporée à un dispositif de mémoire à circuits intégrés, la vitesse de rampe du signal de tension interne Vpp est maintenue à 16 V/ms 25 (ou autrement, comme on le désire, dans divers modes d'exécution équivalents) et n'est donc pas fonction de la tension externe Vpp ni de la tension Vcc Donc, on n'a pas besoin de pulser la tension externe Vpp ni d'utiliser le circuit compliqué de synchronisation externe et générateur de forme d'onde 30 nécessaire dans les dispositifs antérieurs En conséquence, l'invention assure une économie d'éléments fonctionnels et une fiabilité améliorée du fonctionnement des circuits tout en évitant la rupture de l'oxyde due à une chute de tension excessive pendant un mode de programmation d'écriture ou d' 35 effacement, dans un dispositif de mémoire solide à circuits intégrés. On a indiqué ce qui précède à titre d'exemple Divers It can be seen that, when the invention is incorporated into an integrated circuit memory device, the ramp speed of the internal voltage signal Vpp is maintained at 16 V / ms 25 (or otherwise, as desired, in various modes of equivalent execution) and is therefore not a function of the external voltage Vpp nor of the voltage Vcc Therefore, there is no need to pulse the external voltage Vpp nor to use the complicated external synchronization circuit and shape generator wave 30 required in prior devices Consequently, the invention ensures a saving of functional elements and improved reliability of the operation of the circuits while avoiding the rupture of the oxide due to an excessive voltage drop during a mode of write or erase programming, in a solid memory device with integrated circuits. The above has been indicated by way of example Miscellaneous
modes d'exécution équivalents de Il'invention sont possibles. equivalent embodiments of the invention are possible.
Par exemple, on peut prévoir une vitesse différente de rampe For example, we can provide a different ramp speed
7 25515797 2551579
en faisant varier la capacité du transistor T 5 conformément à la vitesse de rampe désirée pour une technologie particuière ou un dispositif particulier. by varying the capacitance of the transistor T 5 in accordance with the ramp speed desired for a particular technology or a particular device.
8 25515798 2551579
Claims (4)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US52801783A | 1983-08-31 | 1983-08-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FR2551579A1 true FR2551579A1 (en) | 1985-03-08 |
FR2551579B1 FR2551579B1 (en) | 1992-05-07 |
Family
ID=24103921
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FR8413375A Expired - Fee Related FR2551579B1 (en) | 1983-08-31 | 1984-08-29 | INTERNAL HIGH VOLTAGE LIFT (VPP) LIMITATION CIRCUIT |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6074558A (en) |
DE (1) | DE3430803A1 (en) |
FR (1) | FR2551579B1 (en) |
GB (1) | GB2146502B (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5408133A (en) * | 1993-05-03 | 1995-04-18 | Delco Electronics Corporation | Ramp control circuit |
JP2002315444A (en) * | 2001-04-18 | 2002-10-29 | C I Kasei Co Ltd | Fixing device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2120889A (en) * | 1982-05-27 | 1983-12-07 | Xicor Inc | High voltage ramp rate control systems |
GB2127642A (en) * | 1982-09-17 | 1984-04-11 | Nec Corp | Programmable memory circuit |
GB2146145A (en) * | 1983-08-31 | 1985-04-11 | Nat Semiconductor Corp | Internal high voltage regulator for integrated circuits |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2008879B (en) * | 1977-11-25 | 1982-05-19 | Rca Corp | Relaxation oscillator |
JPS5619676A (en) * | 1979-07-26 | 1981-02-24 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
US4326134A (en) * | 1979-08-31 | 1982-04-20 | Xicor, Inc. | Integrated rise-time regulated voltage generator systems |
JPS56103757A (en) * | 1980-01-22 | 1981-08-19 | Tokyo Electric Co Ltd | Processing system for merchandise sales data |
JPS57143795A (en) * | 1981-03-03 | 1982-09-06 | Toshiba Corp | Nonvolatile semiconductor storage device |
-
1984
- 1984-07-02 GB GB08416782A patent/GB2146502B/en not_active Expired
- 1984-08-22 DE DE19843430803 patent/DE3430803A1/en active Granted
- 1984-08-28 JP JP59179161A patent/JPS6074558A/en active Granted
- 1984-08-29 FR FR8413375A patent/FR2551579B1/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2120889A (en) * | 1982-05-27 | 1983-12-07 | Xicor Inc | High voltage ramp rate control systems |
GB2127642A (en) * | 1982-09-17 | 1984-04-11 | Nec Corp | Programmable memory circuit |
GB2146145A (en) * | 1983-08-31 | 1985-04-11 | Nat Semiconductor Corp | Internal high voltage regulator for integrated circuits |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
IEEE JOURNAL OF SOLID-STATE CIRCUITS, vol. SC-17, no. 5, octobre 1982, pages 828-832, IEEE, New York, US; L. GEE et al.: "An enhanced 16K E2 PROM" * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2551579B1 (en) | 1992-05-07 |
DE3430803C2 (en) | 1992-05-27 |
GB2146502B (en) | 1987-07-01 |
JPS6074558A (en) | 1985-04-26 |
JPH0566680B2 (en) | 1993-09-22 |
GB2146502A (en) | 1985-04-17 |
GB8416782D0 (en) | 1984-08-08 |
DE3430803A1 (en) | 1985-03-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4703196A (en) | High voltage precharging circuit | |
FR2710191A1 (en) | Power MOSFET with overcurrent and overheating protection. | |
EP0743650B1 (en) | Current detector circuit for reading integrated circuit memory | |
FR2730107A1 (en) | Overvoltage Circuit Protection for Integrated Circuits | |
CH642451A5 (en) | TEMPERATURE SENSOR DEVICE. | |
FR2732840A1 (en) | METHOD AND APPARATUS FOR A PLOT CONTROL DEVICE ADAPTING TO THE LOAD | |
FR2601832A1 (en) | CIRCUIT FOR RE-ESTABLISHING THE STABLE OPERATION OF A LOGIC CIRCUIT, IN PARTICULAR A MICROPROCESSOR | |
EP0583203B1 (en) | Circuit that pulls the input of an integrated circuit into a defined state | |
FR3075508A1 (en) | AUTOALIMENT SWITCHING DEVICE AND METHOD FOR OPERATING SUCH A DEVICE | |
FR2485808A1 (en) | INPUT PROTECTION CIRCUIT FOR SEMICONDUCTOR DEVICE | |
EP0388569B1 (en) | Circuit to detect a voltage power drop and to restore the initial circuit condition | |
EP0473193B1 (en) | Semiconductor device having a temperature detection circuit | |
FR2849537A1 (en) | HIGH VOLTAGE BIDIRECTIONAL SWITCH | |
EP3435505A1 (en) | Method for controlling trigger currents that can circulate in a load switch, and corresponding electronic circuit | |
EP1953558A1 (en) | Method and circuit for increasing the service life of field-effect transistors | |
CA1096957A (en) | Two-wire proximity detector | |
EP1826905A1 (en) | Electronic device for controlling an external load, in which the output signal slope is independent from the capacity of the external load, and corresponding integrated component | |
FR2551579A1 (en) | INTERNAL HIGH VOLTAGE LIFT (VPP) LIMITATION CIRCUIT | |
FR2729762A1 (en) | COMPENSATED VOLTAGE DETECTION CIRCUIT IN TECHNOLOGY AND TEMPERATURE | |
EP0618657B1 (en) | Automatic triggering circuit | |
EP3817515A1 (en) | System for protection against electrostatic discharges | |
FR2531580A1 (en) | CIRCUIT FOR PROTECTING AGAINST SHORT-CIRCUIT OF THE DRIVE WINDING FOR A LOW-VOLTAGE ALTERNATOR EQUIPPED WITH A VOLTAGE REGULATOR, PARTICULARLY FOR AUTOMOTIVE CONSTRUCTION | |
FR2729020A1 (en) | OVERVOLTAGE CIRCUIT USED IN AN ACTIVE STATE OF A SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE | |
US3816769A (en) | Method and circuit element for the selective charging of a semiconductor diffusion region | |
EP0926623A1 (en) | Active transponder switchable to passive transponder |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ST | Notification of lapse |