FR1535167A - Procédé et dispositif de dégazage en continu de matériaux métalliques de revêtement - Google Patents

Procédé et dispositif de dégazage en continu de matériaux métalliques de revêtement

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    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0152668A2 (fr) * 1984-02-17 1985-08-28 Stauffer Chemical Company Procédé de dépôt sous vide élevé utilisant un dispositif d'alimentation continue de pnicture
EP0152669A2 (fr) * 1984-02-17 1985-08-28 Stauffer Chemical Company Source continue de pnicture et dispositif d'alimentation pour le dépôt de films, notamment par dépôt chimique en phase vapeur
EP0153526A2 (fr) * 1984-02-17 1985-09-04 Stauffer Chemical Company Procédé de dépôt sous vide utilisant un dispositif d'alimentation continue de pnicture, notamment pour pulvérisation
FR2568545A1 (fr) * 1984-07-31 1986-02-07 Instruments Sa Distributeur de materiau liquide, destine en particulier a remplir un recipient sous vide

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EP0153526A2 (fr) * 1984-02-17 1985-09-04 Stauffer Chemical Company Procédé de dépôt sous vide utilisant un dispositif d'alimentation continue de pnicture, notamment pour pulvérisation
EP0152669A3 (fr) * 1984-02-17 1986-06-11 Stauffer Chemical Company Source continue de pnicture et dispositif d'alimentation pour le dépôt de films, notamment par dépôt chimique en phase vapeur
EP0153526A3 (fr) * 1984-02-17 1986-06-18 Stauffer Chemical Company Procédé de dépôt sous vide utilisant un dispositif d'alimentation continue de pnicture, notamment pour pulvérisation
EP0152668A3 (fr) * 1984-02-17 1986-06-25 Stauffer Chemical Company Procédé de dépôt sous vide élevé utilisant un dispositif d'alimentation continue de pnicture
FR2568545A1 (fr) * 1984-07-31 1986-02-07 Instruments Sa Distributeur de materiau liquide, destine en particulier a remplir un recipient sous vide

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