FI89899B - SPECIELLT MED KLORHEXIDIN KOMPATIBEL KISELDIOXID FOER ANVAENDNING I TANDKRAEMSKOMPOSITIONER - Google Patents

SPECIELLT MED KLORHEXIDIN KOMPATIBEL KISELDIOXID FOER ANVAENDNING I TANDKRAEMSKOMPOSITIONER Download PDF

Info

Publication number
FI89899B
FI89899B FI885079A FI885079A FI89899B FI 89899 B FI89899 B FI 89899B FI 885079 A FI885079 A FI 885079A FI 885079 A FI885079 A FI 885079A FI 89899 B FI89899 B FI 89899B
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
silica
silica according
acid
suspension
ppm
Prior art date
Application number
FI885079A
Other languages
Finnish (fi)
Swedish (sv)
Other versions
FI885079A0 (en
FI89899C (en
FI885079A (en
Inventor
Jacques Persello
Original Assignee
Rhone Poulenc Chimie
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=9356468&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=FI89899(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Rhone Poulenc Chimie filed Critical Rhone Poulenc Chimie
Publication of FI885079A0 publication Critical patent/FI885079A0/en
Publication of FI885079A publication Critical patent/FI885079A/en
Application granted granted Critical
Publication of FI89899B publication Critical patent/FI89899B/en
Publication of FI89899C publication Critical patent/FI89899C/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/126Preparation of silica of undetermined type
    • C01B33/128Preparation of silica of undetermined type by acidic treatment of aqueous silicate solutions
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61KPREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
    • A61K8/00Cosmetics or similar toiletry preparations
    • A61K8/18Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
    • A61K8/19Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing inorganic ingredients
    • A61K8/25Silicon; Compounds thereof
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61QSPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
    • A61Q11/00Preparations for care of the teeth, of the oral cavity or of dentures; Dentifrices, e.g. toothpastes; Mouth rinses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/14Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
    • C01B33/152Preparation of hydrogels
    • C01B33/154Preparation of hydrogels by acidic treatment of aqueous silicate solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/10Solid density
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/19Oil-absorption capacity, e.g. DBP values
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/90Other properties not specified above

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Birds (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)

Description

1 *898991 * 89899

Hamm&etahnakooetumukeiin käytettävä, erityieeati klorheksi-diinin kanssa yhteensopiva piidioksidiSilica for use in Hamm & oakmake preference, specially compatible with chlorhexidine

Keksintö koskee piidioksidia, joka sopii erityisesti hammas-tahnakoostumuksiin, sen valmistusmenetelmää samoin kuin tätä piidioksidia sisältäviä hammastahnakoostumukeia.The invention relates to silica, which is particularly suitable for toothpaste compositions, to a process for its preparation, as well as toothpaste compositions containing this silica.

On tunnettua, että piidioksidia käytetään yleisesti hammastahnojen valmistuksessa. Sillä voi sitä paitsi olla siinä monta tehtävää.It is known that silica is commonly used in the manufacture of toothpastes. Besides, it can have many functions in it.

Se toimii ensinnäkin hioma-aineena ja myötävaikuttaa mekaanisella toiminnallaan hamroaeplakin poistamiseen.First, it acts as an abrasive and, through its mechanical action, contributes to the removal of dental plaque.

Se voi myös olla sakeuttamisaineena antamassa hammastahnaan määrättyjä Teologisia ominaisuuksia samoin kuin optisena tekijänä antamassa toivotun värin.It may also act as a thickening agent to impart to the toothpaste certain Theological properties as well as an optical agent to impart a desired color.

Lisäksi on tunnettua, että hammastahnat sisältävät erilaisia vaikutuaaineita erityisesti hammasmädän ehkäisyyn, vähentämään hammasplakin muodostumista tai hammaskiven kerrostumista. Näiden aineiden joukosta voidaan mainita varsinkin fluoridit. Myös muita aineita käytetään kuten fosfaatteja, pyrofosfaat-teja, polyfosfaatteja, polyfosfonaatteja, guanidiineja; varsinkin bis-biguanidiineja, joista eräs käytetyimpiä aineita on klorheksidiini. Hammastahnatormuloinnit voivat myös sisältää sinkkiä, aromiaineita, hajusteita jne.In addition, it is known that toothpastes contain various active ingredients, in particular for the prevention of tooth decay, to reduce the formation of dental plaque or for the formation of tartar. Among these substances, fluorides in particular can be mentioned. Other substances are also used, such as phosphates, pyrophosphates, polyphosphates, polyphosphonates, guanidines; especially bis-biguanidines, one of the most commonly used of which is chlorhexidine. Toothpaste formulations may also contain zinc, flavorings, perfumes, etc.

Näiden vaikutusaineiden mukanaolo hammastahnassa aiheuttaa ongelman niiden yhteensopivuudesta piidioksidin kanssa. Nimenomaan adsorboivien omineisuuksiensa johdosta piidioksidi saattaa todellakin olla taipuvainen reagoimaan näiden vaiku-tusaineiden kanssa siten, etteivät ne enää kykene toimimaan yllä kuvatulla tavalla terapeuttisesti.The presence of these active ingredients in toothpaste poses a problem of their compatibility with silica. Indeed, due to their adsorbent properties, silica may tend to react with these active ingredients so that they are no longer able to function therapeutically as described above.

2 898992,89899

Keksinnön tavoitteena on siis löytää piidioksideja, jotka ovat yhteensopivia yllä mainittujen vaikutusaineiden ja erityisesti guanidiinien kanssa ja siis erittäin sopivia hammastahnojen formulointiin.The object of the invention is therefore to find silicas which are compatible with the abovementioned active ingredients and in particular with guanidines and are therefore very suitable for the formulation of toothpastes.

Keksinnön toisena tavoitteena on löytää menetelmä, joka mahdollistaa tällaisten yhteensopivien piidioksidien valmistuksen .Another object of the invention is to find a process which makes it possible to prepare such compatible silicas.

Mutta tätä silmällä pitäen oivallettiin, että etsityt yhteen-sopivuusominaisuudet olivat riippuvaiset ennen kaikkea käytetyn piidioksidin pintakemiasta. Siksi laadittiin tietty määrä ehtoja piidioksidin pinnalle, jotta piidioksidit olisivat yhteensopivia .But with this in mind, it was realized that the compatibility properties sought depended above all on the surface chemistry of the silica used. Therefore, a number of conditions were established on the surface of the silica to make the silicas compatible.

Keksinnön mukaiselle piidioksidille on ominaista, että se on yhteensopiva guanidiini-tyyppisten tuotteiden ja varsinkin klorheksidiinin kanssa vähintään 65-proeenttisesti ja erityisemmin vähintään 90-proeenttiseeti.The silica according to the invention is characterized in that it is compatible with guanidine-type products, and in particular chlorhexidine, at least 65% and more particularly at least 90%.

Lisäksi keksinnön mukaiselle piidioksidille, joka on yhteensopiva erityisesti guanidiini-tyyppisten ja varsinkin klorhek-sidiinin kanssa, on ominaista myös, että sen pintakemia on sellainen, että sen happamuusfunktio Ho on vähintään 3,3.Furthermore, the silica according to the invention, which is compatible in particular with guanidine-type and in particular chlorhexidine, is also characterized in that its surface chemistry is such that its acid function Ho is at least 3.3.

Lisäksi yllä kuvatun tyyppisen piidioksidin valmistusmenetelmä sisältää ensimmäisen variantin mukaan jonkin silikaatin reaktion jonkin hapon kanssa, minkä avulla saadaan piidioksi-disuspensio tai -geeli, piidioksidin erottamisen ja kuivaamisen, ja sille on ominaista, että piidioksidin erottamisen jälkeen suoritetaan tästä erottamisesta tuloksena olevan kakun huuhtelu vedellä kunnes suodoksen johtavuus on korkeintaan 200 ^uS/cm.In addition, according to a first variant, the silica production method of the type described above comprises reacting a silicate with an acid to obtain a silica suspension or gel, separating and drying the silica, and characterized in that the cake resulting from this separation is rinsed with water until the conductivity of the filtrate is at most 200 μS / cm.

3 898993,89899

Toisen variantin mukaan keksinnön mukaisen piidioksidin valmistusmenetelmä sisältää jonkin silikaatin reaktion jonkin hapon kanssa, minkä avulla saadaan piidioksidisuspensio tai -geeli, piidioksidin erottamisen ja kuivaamisen, ja sille on ominaista, että tästä erottamisesta tuloksena olevan kakun ensimmäinen huuhtelu suoritetaan vedellä ja sen jälkeen toinen huuhtelu tai käsittely happamalla liuoksella.According to another variant, the process for preparing silica according to the invention comprises reacting a silicate with an acid to obtain a silica suspension or gel, separating and drying the silica, characterized in that the cake resulting from this separation is first rinsed with water followed by a second rinse or treatment with an acidic solution.

Keksintö koskee siis hammastahnakoostumuksia, jotka sisältävät edellä kuvatun tyyppistä piidioksidia tai piidioksidia, joka on valmistettu edellä mainitulla tavalla.The invention therefore relates to toothpaste compositions containing silica of the type described above or silica prepared as mentioned above.

Keksinnön muut ominaispiirteet ja edut ymmärretään parhaiten, kun luetaan selostus sekä konkreettiset mutta ei-rajoittavat esimerkit, jotka seuraavat.Other features and advantages of the invention will be best understood from the following description and the specific but non-limiting examples which follow.

Kuten johdannossa ilmaistiin, sijaitsevat keksinnön mukaisten piidioksidien olennaiset piirteet niiden pintakemiassa. Tarkemmin sanoen eräs tämän pintakemian huomionarvoisista näkökohdista on happamuus. Tässä suhteessa yksi keksinnön mukaisten piidioksidien tunnusmerkeistä on niiden pinnan happamien kohtien voimakkuus.As stated in the introduction, the essential features of the silicas according to the invention are located in their surface chemistry. More specifically, one of the notable aspects of this surface chemistry is acidity. In this respect, one of the characteristics of the silicas according to the invention is the strength of the acidic sites on their surface.

Tässä happamuus ymmärretään Lewisin käsityksen mukaisesti, toisin sanoen, että se ilmaisee tietyn kohdan kyvyn ottaa vastaan yksi elektronipari jostakin emäksestä seuraavan tasapainon ehdolla:Here, acidity is understood as Lewis's notion, that is, it expresses the ability of a particular site to receive one pair of electrons from a base under the following equilibrium condition:

B : + A = BAB: + A = BA

Keksinnön mukaisia piidioksideja luonnehtimaan käytetään Ham-mettin kehittämää ilmausta "happamuusfunktio" Ho, jolla mitataan hapon, tässä tapauksessa piidioksidin, kykyä ottaa vastaan yksi elektronipari jostakin emäksestä.To characterize the silicas according to the invention, the term "acidity function" Ho, developed by Hammet, is used to measure the ability of an acid, in this case silica, to take up one electron pair from a base.

4 898994,89899

Funktio Ho määritetään tunnetulla yhtälöllä: pKa + log (B : ) ----------= Ho (B :> < A)The function Ho is defined by a known equation: pKa + log (B:) ---------- = Ho (B:> <A)

Keksinnön mukaisen piidioksidin happamien paikkojen voimakkuuden määrittämiseksi Hammettin metodilla käytetään indi-kaattorimenetelmää, jonka alkujaan on esittänyt Walling (J. Am. chem. Soc. 1950, 72, 1164).To determine the strength of the acidic sites of the silica according to the invention, the Hammett method uses the indicator method originally presented by Walling (J. Am. Chem. Soc. 1950, 72, 1164).

Happamien kohtien voimakkuus määritetään väri-indikaattoreilla, joiden happamen ja emäksisen muodon välisen siirtymisen pKa kyseisissä olosuhteissa tunnetaan.The intensity of the acidic sites is determined by color indicators for which the pKa of the transition between the acidic and basic forms under these conditions is known.

Täten mitä matalampi on indikaattorin pKa, sitä voimakkaampi on kohdan happamuus. Alla olevaan taulukkoon on koottu esimerkkinä ei-rajoittava luettelo Hammettin indikaattoreista, joita voidaan käyttää Ho-arvon rajaamiseksi määrittämällä se muoto, jossa kaksi peräkkäin olevaa indikaattoria adsorboituvat .Thus, the lower the pKa of the indicator, the stronger the acidity of the site. The table below provides, by way of example, a non-limiting list of Hammett indicators that can be used to delineate the Ho value by determining the form in which two consecutive indicators are adsorbed.

väricolor

Indikaattori emäksinen muoto hapan muoto pKaIndicator of the basic form of the acid form of pKa

Neutraali punainen keltainen punainen + 6,8Neutral red yellow red + 6.8

Metyy1ipunainen keltainen punainen + 4,8Methyl red yellow red + 4.8

Fenyyliatsonaftylamiini keltainen punainen +4,0 p-dimetyyliaminoatsoben- keltainen punainen + 3,3 seeni 2-amino-5-atsotolueeni keltainen punainen + 2,0Phenylazonaphthylamine yellow red +4.0 p-dimethylaminoazobenz yellow red + 3.3 mushene 2-amino-5-azotoluene yellow red + 2.0

Benseeniatsodifenyyli- keltainen punainen + 1,5 ami ini 4-dimetyy1iamiiniatso-l- naftaleeni keltainen punainen + 1,2Benzene azodiphenyl yellow red + 1.5 amine 4-dimethylamine azo-1-naphthalene yellow red + 1.2

Kristallivioletti sininen keltainen + 0,8 5 89899 p-nit robenseen iatβο-< ρ'- nitroJdifenyyliamiini oraneei violetti + 0,43Crystal purple blue yellow + 0.8 5 89899 p-nitro benzene iatβο- <ρ'-nitro] diphenylamine orange purple + 0.43

Disinnamaaliasetoni keltainen punainen - 3,0Disinfectant acetone yellow red - 3.0

Benealaeetofenoni väritön keltainen - 5,6Benealaetophenone colorless yellow - 5.6

Antrakinoni väritön keltainen - 8,2Anthraquinone colorless yellow - 8.2

Johonkin piidioksidiin adsorboitujen indikaattorien väri on happamien kohtien voimakkuuden mitta. Mikäli väri on sama kuin indikaattorin happaman muodon väri, on pinnan Ho-funk-tion arvo sama tai alempi kuin indikaattorin pKa.The color of the indicators adsorbed on a silica is a measure of the intensity of the acidic sites. If the color is the same as the color of the acid form of the indicator, the value of the Ho function of the surface is equal to or lower than the pKa of the indicator.

Alhaiset Ho-arvot vastaavat erikoisen voimakkaita happamia koht ia.Low Ho values correspond to particularly strong acidic sites.

Täten esimerkiksi piidioksidi, joka antaa punaisen värin p-dimetyyliaminoatsobeneeenillä ja keltaisen 2-amino-5-atso-tolueenilla, tulee omaamaan happamuusfunktion Ho välillä 3,3 ja 2 .Thus, for example, silica which gives a red color with p-dimethylaminoazobenene and a yellow color with 2-amino-5-azotoluene will have an acidity function Ho between 3.3 and 2.

Kokeessa annostus tapahtuu siten, että 0,2 g piidioksidia pannaan koeputkeen, jossa on indikaattori 1iuos vahvuudeltaan 100 mg/1 eykloheksaanissa .In the experiment, the dosing is carried out by placing 0.2 g of silica in a test tube with an indicator solution in a strength of 100 mg / l in cyclohexane.

. o. o

Piidioksidi on ensin kuivattu 190 C:ssa 2 tunnin ajan ja säilytetty kosteudelta suojattuna ekeikaattorissa.The silica is first dried at 190 ° C for 2 hours and stored protected from moisture in an eco-evaporator.

Sekoitettaessa mahdollisesti tapahtuva adsorptio tapahtuu muutamassa minuutissa ja on todettavissa paljain silmin tai mahdollisesti adsorboiduille värillisille indikaattoreille ominaisia adsorptiospektrejä tutkimalla sekä niiden happamassa että emäksisessä muodossa.When mixed, any adsorption occurs within a few minutes and can be detected with the naked eye or by examining the adsorption spectra characteristic of any adsorbed color indicators in both their acidic and basic forms.

Keksinnön mukaisten piidioksidien ensimmäinen tunnusmerkki on, että ne esittävät edellä mainitulla tavalla määritetyn happamuus f unkt i on , joka on vähintään 3,3.The first characteristic of the silicas according to the invention is that they have an acidity, as defined above, of at least 3.3.

6 898996 89899

Pinnan happamien kohtien voimakkuus ja luonne voidaan myös mitata piidioksidiin adsorboidun pyridiinin infrapunaspektro-metr ia 1la .The intensity and nature of the acidic sites on the surface can also be measured by infrared spectrometry of pyridine adsorbed on silica.

Tiedetään, että kiinteään kappaleeseen adsorboitu pyridiini-määrä antaa mahdollisuuden määritellä erityisesti pinnan happamien paikkojen luonne.It is known that the amount of pyridine adsorbed on a solid body makes it possible to determine in particular the nature of the acidic sites on the surface.

Pyridiini on verrattain voimakas emäs <pKb = 9) eikä tästä syystä reagoi heikkojen paikkojen kanssa päin vastoin kuin NH3 (pKb = 5).Pyridine is a relatively strong base (pKb = 9) and therefore does not react with weak sites in contrast to NH3 (pKb = 5).

++

Pyridiniumionin (PyH > muodostuminen mahdollistaa lisäksi Lewis-tyyppisten ja Bronsted-tyyppisten paikkojen differen-t io innin.In addition, the formation of the pyridinium ion (PyH>) allows the differentiation of Lewis-type and Bronsted-type sites.

Informaatiota jonkin kiinteän kappaleen pinnan happamuudesta voidaan myös saada tutkimalla pyridiinin absorptiovöitä -1 -1 alueella 1700 cm 1400 cmInformation on the acidity of the surface of a solid can also be obtained by examining pyridine absorption bands -1 -1 in the range 1700 cm 1400 cm

Lisäksi pyridiinille ja sen ionoiduille muodoille ominainen vöiden siirtymä ennen adsorptiota ja sen jälkeen mahdollistaa happamien kohtien voimakkuuden kvantifioimisen.In addition, the band shift characteristic of pyridine and its ionized forms before and after adsorption allows the intensity of acidic sites to be quantified.

-1-1

Pyridiniumioni antaa vyön kohdassa 1540 cm , kun taas vetysi-doksin sidottu pyridiini tai koordinoitu pyridiini antaa vyöhykkeellä 1440-1465 cm olevia vöitä. Lisäksi voidaan havaita, että kohdassa 1583 cm sijaitseva pyridiinin vyö siirtyy, kun pyridiini adsorpoituu. Tämä vyö osoittaa Lewis-tyyppisten happamien kohtien olemassaolon. Jälkimmäisten happamuus on verrannollinen vyön siirtymään.Pyridinium ion gives a band at 1540 cm, while hydrogen-bonded pyridine or coordinated pyridine gives belts in the band 1440-1465 cm. In addition, it can be seen that the pyridine band at 1583 cm shifts as the pyridine adsorbs. This belt indicates the existence of Lewis-type acidic sites. The acidity of the latter is proportional to the displacement of the belt.

Yhteenvetona todetaan, että on mahdollista käyttää kohdissa -1 1540, 1640 ja 1485 cm sijaitsevia vöitä Bronsted-tyy^pisen happamuuden määritykseen ja vyöhykkeellä 1440-1465 cm sijaitsevia vöitä Lewi s-tyyppisen happamuuden määritykseen.In summary, it is possible to use the bands at -11540, 1640 and 1485 cm for the determination of Bronsted-type acidity and the bands at 1440-1465 cm for the determination of Lewi-type acidity.

7 898997 89899

Koemittaukset suoritetaan piidioksidin hiilitetrakloridisus-pensiolla pyridiinin läsnäollessa.Experimental measurements are performed with a carbon tetrachloride suspension of silica in the presence of pyridine.

oo

Ensiksi piidioksidi kuivataan 190 C:ssa 2 tunnin ajan ja säilytetään kosteudelta suojattuna. Sen jäähdyttyä dispergoidaan se magneettisekoitusta käyttäen, minkä jälkeen seuraa ultra-äänidispersio (10 min), 1 g piidioksidia 50 mitään CC14:ta.First, the silica is dried at 190 ° C for 2 hours and stored protected from moisture. After cooling, it is dispersed using magnetic stirring, followed by an ultrasonic dispersion (10 min), 1 g of silica 50 any CCl 4.

Lisätään 0,8 g pyridiiniä lisätyn piidioksidin pinnan neliömetriä kohden. Kuumennetaan palautus jäähdytystä käyttäen ja sekoittaen 1 tunnin ajan.0.8 g of pyridine per square meter of silica added is added. Heat to reflux with cooling and stirring for 1 hour.

Samaa menettelyä noudattaen valmistetaan pyridiiniväkevyydel-tään sama mutta ilman piidioksidia oleva vertailuliuos sekä piidioksidiväkevyydeltään sama mutta ilman pyridiiniä oleva vertai lueuspensio.Following the same procedure, prepare a reference solution of the same pyridine concentration but without silica and a reference suspension of the same silica concentration but without pyridine.

Pyridiinin adsorptiospektri aikaansaadaan infrapunaspektrosko-pialla suspensiosta, ilman piidioksidia olevasta pyridiini-liuoksesta sekä ilman pyridiiniä olevasta piidioksidisuspen-siosta.The adsorption spectrum of pyridine is obtained by infrared spectroscopy from a suspension, a pyridine solution without silica and a silica suspension without pyridine.

Vähennetään suspensio lähtökohtana saadusta spektristä ver-tailuliuosta vastaava spektri sekä vertailususpensiota vastaava spektri.Subtract from the spectrum obtained from the starting spectrum the spectrum corresponding to the reference solution and the spectrum corresponding to the reference suspension.

Piidioksidi määritetään jäljellä olevien vöiden sijainnilla sekä pyridiinin ja pyridiniumionin absorptiovöiden siirtymällä suhteessa vöiden ei-adsorboitujen muotojen sijaintiin.Silica is determined by the location of the remaining bands and the displacement of the pyridine and pyridinium ion absorption bands relative to the location of the non-adsorbed forms of the bands.

Yleisesti ottaen saadun spektrin ei pidä omata pyridinium-huippua (vyö kohdassa 1540 cm ), osoittaahan tämän huipun puuttuminen piidioksidin omaavan happamuusfunktion Ho, joka on vähintään 3,3.In general, the spectrum obtained should not have a pyridinium peak (belt at 1540 cm), since the absence of this peak indicates an acid function Ho with a silica of at least 3.3.

β 89899β 89899

Pyridiinivöiden sekä adsorboidun pyridiinin siirtymän merkittävyys suo mahdollisuuden pinnan happamien kohtien korkeamman tai alhaisemman^happamuuden arvioimiseen. Yleisesti ottaen paikan 1440 cm vyölle tämän siirtymän < ) tulee olla^kor- keintaan 10 cm , vielä erityisemmin korkeintaan 5 cmThe significance of the displacement of the pyridine bands as well as the adsorbed pyridine makes it possible to evaluate the higher or lower acidity of the acidic sites on the surface. In general, for a belt of 1440 cm, this displacement <) should be at most 10 cm, more particularly at most 5 cm

Keksinnön edullisimman suoritustavan mukaan tämä ( ) on nolla.According to a most preferred embodiment of the invention, this () is zero.

Piidioksidi sellaisena kuin se on yllä määritetty on hyvin yhteensopiva klorheksidiinin kanssa, tämän alla kuvatulla testillä mitatun yhteensopivuuden voidessa olla vähintään 65 X, erityisesti vähintään 80 X ja edullisimmin vähintään 90 X.Silica as defined above is highly compatible with chlorhexidine, the compatibility measured by the test described below being at least 65X, especially at least 80X and most preferably at least 90X.

Keksinnön erään erityisen toteutustavan mukaan piidioksidit voivat olla yhteensopivia lisäksi fluorin kanssa. Tässä ta- 2 - - paukseesa ne omaavat anionipitoisuuden tyyppiä SOA , Cl , 3- 2- -3 NOg , PO^ , CO3 korkeintaan 5,10 moolia/100 g piidioksidia .According to a particular embodiment of the invention, the silicas may be additionally compatible with fluorine. In this case, they have an anion content of the type SOA, Cl, 3- 2- -3 NOg, PO2, CO3 up to 5.10 moles / 100 g of silica.

Yhteensopivuus on sitä suurempi mitä alhaisempi tämä pitoisuus on. Edul1 is impien varianttien mukaan se on korkeintaan -3 -3 1.10 moolia ja aivan erityisesti 0,2.10 moolia/100 g piidioksidia .The lower the concentration, the higher the compatibility. According to the preferred variants, it is at most -3 -3 1.10 moles and in particular 0.2.10 moles / 100 g of silica.

Käytettäessä rikkihappoa lähtökohtana valmistettuja piidioksideja ilmaistaan tämä anionipitoisuus mukavimmin SO^tnä ja painona ilmaistulla pitoisuudella. Tässä tapauksessa tämä pitoisuus on korkeintaan 0,5 X.When sulfuric acid is used as the starting silica, this anion content is most conveniently expressed as SO 2 and by weight. In this case, this concentration is not more than 0.5 X.

Keksinnön edullisimman variantin mukaan tämä pitoisuus on korkeintaan 0,1 X ja mieluiten korkeintaan 0,02 X.According to a most preferred embodiment of the invention, this concentration is at most 0.1 X and preferably at most 0.02 X.

Tätä yhteensopivuutta voidaan vielä parantaa erityisesti tiettyjen aineiden kuten sinkin suhteen, jos tarkkaillaan pinnan happamien paikkojen luvun ehtoja. Tämä luku voidaan mitata 2 OH-ryhmien tai silanolien määränä/nm .This compatibility can be further improved, especially for certain substances such as zinc, by observing the conditions for the number of acidic sites on the surface. This number can be measured as the number of 2 OH groups or silanols / nm.

9 89899 Tämän luvun määritys tapahtuu seuraavasti:9 89899 This chapter is determined as follows:

Pinnan OH-kohtien määrä assimiloidaan piidioksidin vapautet- o o tuun vesimäärään välillä 190 C-900 C.The number of OH sites on the surface is assimilated to the amount of water released between 190 ° C and 900 ° C.

oo

Piidioksidiotokeet kuivataan etukäteen 105 C:ssa 2 tunnin ajan.The silica samples are pre-dried at 105 ° C for 2 hours.

Piidiokeidimaeea Po asetetaan termostaattiin ja pidetään o 190 C:ssa 2 tunnin ajan; saatu massa merkittäköön P190. Piidi- o oksidia pidetään sitten 900 C:asa 2 tunnin ajan, jolloin saatu uusi massa merkitään P900.Silicon oakeaeea Po is placed in a thermostat and kept at o 190 ° C for 2 hours; the mass obtained is denoted P190. The silica is then maintained at 900 ° C for 2 hours, at which time the new mass obtained is designated P900.

OH-kohtien lukumäärä saadaan seuraavasta yhtälöstä: 66922,2 P190-P900 NOH = _ x _ A P 190 2 jossa NOH on OH-kohtien lukumäärä pinnan nm kohden; : : 2 A on kiinteän kappaleen ominaiepinta <BET> m /g:na. Tässä tapauksessa keksinnön mukaisilla piidioksideilla OH/nm -luku on edullisesti 15 tai sen alle, mieluiten korkeintaan 12 ja erityisesti välillä 3-12.The number of OH sites is obtained from the following equation: 66922.2 P190-P900 NOH = _ x _ A P 190 2 where NOH is the number of OH sites per nm of surface; :: 2 A is the specific surface area of the solid body <BET> in m / g. In this case, the silicas according to the invention preferably have an OH / nm number of 15 or less, preferably at most 12 and in particular between 3 and 12.

Keksinnön mukaisten piidioksidien OH-kohtien laatu, joka on myös niiden pintakemian eräs tunnusmerkki, voidaan myös määrittää nolla-varauksen pisteellä.The quality of the OH sites of the silicas according to the invention, which is also a feature of their surface chemistry, can also be determined by the zero-charge point.

Tämä nolla-varauksen piste (PZC) määritetään jonkin piidiok-sidisuspension pH:n avulla, jolle pH:lie kiinteän kappaleen pinnan sähkövaraus on nolla ja pysyy sellaisena ympäristön ionivoimakkuudesta riippumatta. Tämä PZC mittaa pinnan todellisen pH-arvon sen mukaan, miten tämä pinta on vapaa kaikista ionityyppisistä epäpuhtauksista.This zero charge point (PZC) is determined by the pH of a silica suspension at which the electrical charge on the surface of the solid body is zero and remains so regardless of the ionic strength of the environment. This PZC measures the true pH of a surface based on how free it is from all ionic impurities.

ίο 3 9 8 99 Sähkövaraus määritetään potentometrialla. Menetelmän periaate perustuu tietyllä pH-arvolla piidioksidin pintaan adsorboituneiden tai siitä desorboituneiden protonien kokonaistaseeseen.ίο 3 9 8 99 The electric charge is determined by potentiometry. The principle of the method is based on the total balance of protons adsorbed on or desorbed from the surface of silica at a given pH.

Lähtökohtana operaation kokonaistasetta kuvaavat yhtälöt on helppo osoittaa, että pinnan sähkövaraus C otettuna suhteessa nollapintavarausta vastaavaan vertailuun saadaan yhtälöstä:As a starting point, it is easy to show the equations describing the overall balance of the operation that the electric charge C of the surface, taken in relation to the comparison corresponding to the zero surface charge, is obtained from the equation:

FF

C = -------- (H - OH)C = -------- (H - OH)

A.Ma.m

jossa : A on kiinteän kappaleen ominaispinta m /g:na, M on kiinteän aineen määrä suspensiossa grammoina, F on Faradayn vakio, + - H vast. OH ovat H , vast. OH -ionien ylimäärä kiinteän aineen pinnassa pinta-alan yksikköä kohti.where: A is the specific surface area of the solid in m / g, M is the amount of solid in the suspension in grams, F is the Faraday constant, + - H resp. OH are H, resp. Excess OH ions on the surface of the solid per unit area.

PZC:n määrityksen koe on seuraava: Käytetään Peruben ja de Bruynin kuvailemaa menetelmää (J. Colloid Interface Sc. 1968, 27, 305).The experiment for the determination of PZC is as follows: The method described by Perube and de Bruyn (J. Colloid Interface Sc. 1968, 27, 305) is used.

Piidioksidi huuhdellaan ensiksi deponoidussa vedessä, jonka resistiivisyys on korkea (10 Mega.Ohm.cm), kuivataan sekä kuivatislataan.The silica is first rinsed in deposited water of high resistivity (10 Mega.Ohm.cm), dried and dry distilled.

Käytännössä valmistetaan K0H:ta tai HNOg:a lisäämällä liuos- sarja, jossa pH on 8,5 ja joka sisältää indifferenttiä elekt- — 5 — 1 rolyyttiä (KNOg) rajoissa 10 -10 moolia/1 vaihtelevin vä kevyyksin .In practice, KHH or HNOg is prepared by adding a series of solutions with a pH of 8.5 and containing an inert electrolytic electrolyte (KNOg) in the range of 10 to 10 mol / l in varying concentrations.

I: 11 8 9 899 Näihin liuoksiin lisätään tietty piidioksidimassa ja annetaan o saatujen suspensioiden pH:n tasaantua sekoittamalla, 25 C:sea ja typpi-ilmakehässä 24 tunnin ajan; olkoon sen arvo pH'o.I: 11 8 9 899 To these solutions a certain mass of silica is added and the suspensions obtained are allowed to equilibrate with stirring, at 25 DEG C. and under a nitrogen atmosphere for 24 hours; let its value be pH'o.

Vertailuliuokset koostuvat supernatantista, joka on saatu sentrifugoimalla 30 minuutin ajan nopeudella 1000 1/min osaa näistä samoista suspensioista; olkoon näiden supernatanttien pH-arvo pH'o.The reference solutions consist of the supernatant obtained by centrifugation at 1000 l / min for 30 minutes of a portion of these same suspensions; let the pH of these supernatants be pH'o.

Sitten saatetaan pH tietystä volyymista näitä suspensioita sekä vastaavia vertailuliuoksia arvoon pHo lisäämällä tarvittava määrä KOH:ta ja annetaan suspensioiden sekä vertailu-liuosten tasaantua 4 tunnin ajan.The pH of a certain volume of these suspensions and the corresponding reference solutions are then adjusted to pHo by adding the required amount of KOH and the suspensions and reference solutions are allowed to equilibrate for 4 hours.

Olkoon Voh.Noh lisätyn emäksen vasta—arvojen luku siirryttäessä pH'o-arvosta pHo-arvoon suspension tai vertailuliuok-een jossain tietyssä volyymissa (V).Let Voh.Noh be the number of counter-values of the added base as it moves from pH'o to pHo of the suspension or reference solution in a given volume (V).

Suspensioiden ja vertailuliuosten potentiometrinen annostus suoritetaan pHo lähtökohtana lisäämällä typpihappoa kunnes pHf = 2,0.Potentiometric dosing of the suspensions and reference solutions is carried out as a starting point for pHo by adding nitric acid until pHf = 2.0.

Edullisimmin menetellään tekemällä happolisäys, joka vastaa 0,2 pH-yksikön pH-muutosta. Jokaisen lisäyksen jälkeen pH:n annetaan tasaantua 1 minuutin ajan.Most preferably, the process is performed by making an acid addition corresponding to a pH change of 0.2 pH units. After each addition, the pH is allowed to equilibrate for 1 minute.

Olkoon Vh.Nh happovasta-arvojen luku pHf :n saavuttamiseksi.Let Vh.Nh be the number of acid equivalents to reach pHf.

Lähtökohtana pHo laaditaan termi <Vh.Nh-Voh.Noh) lisättyjen pH-arvojen mukaisesti kaikille suspensioille (vähintään 3 io-nivoimakkuutta) sekä kaikille vastaaville vertailuliuoksille.As a starting point, the pHo is formulated according to the added pH values of the term <Vh.Nh-Voh.Noh) for all suspensions (at least 3 io levels) and for all corresponding reference solutions.

++

Kullekin pH-arvolle (ei arvolle 0,2) lasketaan sitten H :n tai OH :n kulutuksen ero sekä suspensiolle että vastaavalle vertailuliuokselle. Tämä toimenpide toistetaan kaikkien ioni-voimakkuuksien suhteen.For each pH value (not 0.2) the difference in consumption of H or OH for both the suspension and the corresponding reference solution is then calculated. This procedure is repeated for all ionic strengths.

12 39899 Tämä antaa tulokseksi termin, <H-OH>, joka vastaa pinnan pro-tonikulutusta. Pintavaraus lasketaan ylläolevalla yhtälöllä.12 39899 This results in the term, <H-OH>, which corresponds to the proton consumption of the surface. The surface charge is calculated by the above equation.

Sitten piirretään pintavarauskäyrät pH-arvon mukaisesti kaikille tarkasteltaville ionivoimakkuuksi1le. Käyrien leikkaus-kohta määrää PZC:n.The surface charge curves are then plotted according to pH for all ionic strengths considered. The intersection of the curves determines the PZC.

Piidioksidiväkevyys säädetään piidioksidin ominaispinnan mukaisesti .The silica concentration is adjusted according to the specific surface area of the silica.

2 Käytetään esimerkiksi 2 % suspensiota 50 m /g:n piidioksideille kolmella ioniväkevyydellä <0,1; 0,01 sekä 0,001 moolia / 1 ) .2 For example, a 2% suspension is used for 50 m / g silicas with three ionic strengths <0.1; 0.01 and 0.001 mol / l).

Annostus tehdään 100 ml:lie suspensiota käyttäen 0,1 M kalium-hydroksidia .Dosing is done with 100 ml of suspension using 0.1 M potassium hydroxide.

Käytännössä on edullista, että tämän PZC:n arvo on vähintään 3 ja vielä mieluummin välillä 4-6. Ollakseen parhaiten yhteensopiva sinkin kanssa on se korkeintaan 6,5. Ollakseen yhteensopiva fluorin kanssa on PZC:n edullisinta olla korkeintaan 7.In practice, it is preferred that the value of this PZC is at least 3 and more preferably between 4-6. To be most compatible with zinc, it is at most 6.5. To be compatible with fluorine, it is most preferred for PZC to be at most 7.

Edelleen yhteensopivuuden parantamiseksi etenkin fluorin kanssa on edullista, että keksinnön mukaisten piidioksidien alumiinipitoisuus on korkeintaan 500 ppm.In order to further improve the compatibility, in particular with fluorine, it is preferred that the silicas according to the invention have an aluminum content of at most 500 ppm.

Toisaalta keksinnön mukaisten piidioksidien rautapitoisuus voi olla edullisesti korkeintaan 200 ppm.On the other hand, the iron content of the silicas according to the invention can preferably be at most 200 ppm.

Lisäksi on edullista, että kalsiumpitoisuus on korkeintaan 500 ppm ja mieluiten korkeintaan 300 ppm.In addition, it is preferred that the calcium content is at most 500 ppm and preferably at most 300 ppm.

On myös edullista, että keksinnön mukaisten piidioksidien hiilipitoisuus on korkeintaan 50 ppm ja mieluiten korkeintaan 10 ppm.It is also preferred that the silicas according to the invention have a carbon content of at most 50 ppm and preferably at most 10 ppm.

ti 13 39899ti 13 39899

Keksinnön mukaisten piidioksidien pH-arvo mitattuna standardin NFT 45-007 mukaan on yleensä korkeintaan 8. Vielä erityisemmin se on välillä 6,0-7,5.The pH of the silicas according to the invention, measured according to NFT 45-007, is generally at most 8. More particularly, it is between 6.0 and 7.5.

Edellä olevat ominaisuudet tekevät mahdolliseksi piidioksidin, joka on yhteensopiva ainakin guanidiinien ja erityisesti klorheksidiinin kanssa sekä tapauksista riippuen lisäksi myös fluoridien, fosfaattien ja niiden johdannaisten sekä erityisesti sinkin kanssa.The above properties make it possible for silica which is compatible at least with guanidines and in particular chlorhexidine and, where appropriate, also with fluorides, phosphates and their derivatives and in particular zinc.

Paitsi pintakemiaan liittyviä ominaisuuksia, jotka on kuvattu aiemmin ja jotka asettavat ehdot yhteensopivuuksille, on keksinnön mukaisilla piidioksideilla myös fyysisiä ominaisuuksia, joiden ansiosta ne sopivat hyvin käytettäviksi hammastahnoissa. Nämä rakennetyyppiominaisuudet kuvataan jäljempänä.In addition to the surface chemistry properties described above, which set the conditions for compatibility, the silicas of the invention also have physical properties that make them well suited for use in toothpastes. These structure type characteristics are described below.

Yleensä keksinnön mukaisten piidioksidien pinta BET on välil-2 2 lä 40-600 m /g, vielä erityisemmin välillä 40-350 m /g^ Niiden pinta CTAB vaihtelee tavallisesti välillä 40-400 m /g, 2 vielä erityisemmin välillä 40-200 m /g.In general, the surface area BET of the silicas according to the invention is between 40 and 600 m / g, more particularly between 40 and 350 m / g. Their surface CTAB usually varies between 40 and 400 m / g, more particularly between 40 and 200 m / g. / g.

Pinta BET määritetään Brunauer-Emmet-Teller -menetelmän mukaisesti, joka esitetään julkaisussa Journal of the American Chemical Society voi. 60, sivu 309, February 1938 sekä standardin NF-X11-622 (3.3) mukaan.The surface BET is determined according to the Brunauer-Emmet-Teller method as described in the Journal of the American Chemical Society vol. 60, page 309, February 1938 and according to standard NF-X11-622 (3.3).

Pinta CTAB on ulkopinta, joka määräytyy standardin ASTM D3765 mukaan kuitenkin käyttäen heksadekyy1itrimetyy1iammoniumbro- midin adsorptiota pH-arvolla 9 ja olettaen CTAB-molekyy1 in o2Surface CTAB is an outer surface determined, however, according to ASTM D3765 using adsorption of hexadecyltrimethylammonium bromide at pH 9 and assuming a CTAB molecule in o2.

projisoiduksi pinta-alaksi 35 Aprojected area 35 A

Keksinnön mukaiset piidioksidit voivat tietysti vastata kolmea hammastahnoissa totutusti erotettavaa tyyppiä.The silicas according to the invention can, of course, correspond to three types which are customarily distinguishable in toothpastes.

14 3989914 39899

Keksinnön mukaiset piidioksidit voivat siten olla tylpiltään hiovia. Tällöin niiden pinta BET on välillä 40-300 m /g. Täs- 2 sä tapauksessa pinta CTAB on välillä 40-100 m /g.The silicas according to the invention can thus be abrasive in blast. In this case, their surface BET is between 40-300 m / g. In this case, the surface CTAB is between 40 and 100 m / g.

Keksinnön mukaiset piidioksidit voivat myös olla tyypiltään sakeuttavia. Tällöin niiden pinta BET on välillä 120-450 m /g 2 vielä erityisemmin välillä 120-200 m /g. Tällöin niiden pinta 2 CTAB voi olla välillä 120-400 m /g ja vielä erityisemmin vä-2The silicas according to the invention can also be of a thickening type. In this case, their surface BET is between 120-450 m / g 2, more particularly between 120-200 m / g. In this case, their surface area 2 CTAB can be between 120-400 m / g and even more particularly co-2

Iillä 120-200 m /g.It has 120-200 m / g.

Lopuksi keksinnön mukaiset piidioksidit voivat olla kolmannen tyypin mukaisesti kaksitoimisia. Tällöin niiden pinta BET on 2 2 välillä Θ0-200 m /g. Pinta CTAB taas on välillä 80-200 m /g.Finally, according to the third type, the silicas according to the invention can be bifunctional. Then their surface BET is 2 2 between Θ0-200 m / g. The surface CTAB, on the other hand, is between 80-200 m / g.

Keksinnön mukaiset piidioksidit voivat myös omata standardin NFT-30-022 (maaliskuu 53) mukaan määritetyn öljynottokyvyn välillä 80-500 cm /100 g panemalla toimeen dibutyyliftalaatin.The silicas according to the invention can also have an oil uptake capacity of 80-500 cm / 100 g, determined according to standard NFT-30-022 (March 53), by carrying out dibutyl phthalate.

3 Täsmällisemmin tämä öljynottokyky on välillä 100-140 cm /100 g, kun kyse on hiovista piidioksideista, välillä 200-400 sakeuttavien piidioksidien kohdalla ja välillä 100-300 kaksi-toimisten kohdalla.3 More specifically, this oil uptake capacity is between 100 and 140 cm / 100 g in the case of abrasive silicas, between 200 and 400 for thickening silicas and between 100 and 300 for double-acting silicas.

Lisäksi ajatellen edelleenkin käyttöä hammastahnassa, on piidioksidin hiukkaskoko edullisimmin välillä 1-10 /Um.In addition, still contemplated for use in toothpaste, the particle size of the silica is most preferably in the range of 1-10 μm.

Tämä keskimääräinen hiukkaskoko mitataan Counter-Coulter-mene-telmällä.This average particle size is measured by the Counter-Coulter method.

Keskitiheys vaihtelee yleensä välillä 0,01-0,3. Keksinnön erään erityisen toteutustavan mukaan piidioksidit ovat saos-tuspiidioksideja.The average density usually ranges from 0.01 to 0.3. According to a particular embodiment of the invention, the silicas are precipitated silicas.

Keksinnön mukaisilla piidioksideilla on taitekerroin yleensä välillä 1,440-1,465.The silicas of the invention generally have a refractive index between 1.440 and 1.465.

15 2 9 8 9915 2 9 8 99

Keksinnön mukaisten piidioksidien valmistusmenetelmä kuvataan nyt yksityiskohtaisemmin.The process for the preparation of the silicas according to the invention will now be described in more detail.

Kuten edellä mainittiin, on tämä menetelmä tyyppiä, joka sisältää jonkin silikaatin reaktion jonkin hapon kanssa, mikä johtaa piidioksidisuspeneion tai -geelin muodostumiseen.As mentioned above, this method is of the type which involves the reaction of a silicate with an acid, resulting in the formation of a silica suspension or gel.

On huomattava, että tähän suspensioon tai geeliin pääsemiseksi voidaan käyttää mitä tahansa tunnettua toimintamuotoa (hapon lisääminen si1ikaattiseospohjaan, hapon ja silikaatin samanaikainen, täydellinen tai osittainen lisääminen vesi-tai si1ikaatti1iuospohjaan jne.); valinnan määräävät ennen kaikkea ne piidioksidin fyysiset ominaisuudet, jotka halutaan saada. Havaitaan, että voi olla edullista, että saatetaan suspension tai geelin saatu pH korkeintaan arvoon 6 ja vielä erityisemmin välille 4-6.It should be noted that any known mode of action can be used to access this suspension or gel (addition of acid to the silicate mixture base, simultaneous, complete or partial addition of acid and silicate to the aqueous or silicate solution base, etc.); the choice is determined above all by the physical properties of the silica to be obtained. It will be appreciated that it may be advantageous to bring the pH of the suspension or gel obtained up to a maximum of 6 and more particularly between 4 and 6.

Sitten suoritetaan piidioksidin erottaminen reaktioympäris-töstä mitä tahansa tunnettua menetelmää, esimerkiksi imusuo-datusta tai suotopuristusta käyttäen.The separation of the silica from the reaction medium is then carried out by any known method, for example by suction filtration or filtration.

Näin kerätään piidioksidikakku.This is how the silica cake is collected.

Tämän jälkeen keksinnön mukainen menetelmä voidaan panna toimeen kahden päävariantin mukaan.The method according to the invention can then be carried out according to two main variants.

Ensimmäinen variantti koskee varsinkin guanidiinien ja erityisesti klorheksidiinin kanssa yhteensopivien piidioksidien valmistusta.The first variant relates in particular to the preparation of guanidines and, in particular, chlorhexidine-compatible silicas.

Tässä tapauksessa menetelmä käsittää kakun yhden huuhtelun. Tämä huuhtelu tapahtuu vedellä, yleensä deionoidulla vedellä kunnes saadaan huuhtelusuodos, jonka johtavuus on korkeintaan 200 ^uS/cm.In this case, the method comprises one rinse of the cake. This rinsing takes place with water, usually deionized water, until a rinsing filtrate with a conductivity of at most 200 μS / cm is obtained.

16 8989916 89899

Mikäli prosessin avulla saatujen piidioksidien johtavuutta halutaan vielä parantaa, jatketaan huuhtelua.If the conductivity of the silicas obtained by the process is to be further improved, rinsing is continued.

Erityisesti, keksinnön edullisimman suoritustavan mukaisesti, huuhtelua jatketaan siksi, kunnes johtavuus on korkeintaan 100 ^uS/cm.In particular, according to the most preferred embodiment of the invention, the rinsing is continued until the conductivity is at most 100 μS / cm.

Kun piidioksidikakku on huuhdeltu juuri kerrotulla tavalla, kuivataan se tai, mikäli se on hajonnut, sen suspensio mitä tahansa tunnettua menetelmää käyttäen. Erityisesti kuivaus voidaan tehdä sumuttamalla. Kuivattu tuote jauhetaan tarvittaessa halutun raekoostumuksen saavuttamiseksi.After the silica cake has been rinsed as just described, it is dried or, if it has broken up, its suspension using any known method. In particular, drying can be done by spraying. If necessary, the dried product is ground to achieve the desired granular composition.

Menetelmän toinen variantti koskee paitsi guanidiinien myös muiden aineiden kuten fluorin, sinkin ja fosfaattien kanssa yhteensopivien piidioksidien valmistusta.Another variant of the process concerns the preparation of not only guanidines but also silicas compatible with other substances such as fluorine, zinc and phosphates.

Tässäkin tapauksessa menetelmä sisältää vedellä tapahtuvan huuhtelun; yleensä deionoidulla vedellä, kuten ensimmäises-säkin variantissa. Tämän huuhtelun ei kuitenkaan tarvitse olla yhtä voimakas. Se voidaan esimerkiksi suorittaa niin, että saadaan suodos, jonka johtavuus on korkeintaan 2000 ^uS/cm.Again, the method includes rinsing with water; usually with deionized water, as in the first-sack variant. However, this rinsing does not have to be as intense. For example, it can be carried out to obtain a filtrate having a conductivity of up to 2000 μS / cm.

Tämän ensimmäisen, vedellä tapahtuvan huuhtelun jälkeen suoritetaan toisessa variantissa kakun toinen huuhtelu tai käsittely happamelle liuoksella tai happopitoisella vedellä. Tämän toisen huuhtelun tai käsittelyn päämääränä on saada prosessista tulokseksi piidioksidi, jonka pH-arvo on korkeintaan 8 ja vielä erityisemmin välillä 6,0-7,5 sekä lisäksi PZC-arvo, joka on vähintään 3 ja vielä erityisemmin välillä 4-6 .After this first rinsing with water, in a second variant, a second rinsing or treatment of the cake with an acidic solution or acidic water is performed. The purpose of this second rinsing or treatment is to obtain from the process silica having a pH of at most 8 and more particularly between 6.0-7.5 and in addition a PZC of at least 3 and even more particularly between 4-6.

Huuhtelu tai käsittely voidaan tehdä valelemalla hapanta liuosta kakulle tai lisäämällä liuos kakun hajottua saatuun suspensioon.The rinsing or treatment can be done by pouring the acidic solution onto the cake or by adding the solution to the resulting suspension after the cake has broken down.

il 17 09899 Tämä hapan huuhtelu ja käsittely suoritetaan sellaisissa olosuhteissa, että edellisessä kappaleessa ilmaistun pH-arvon omaavan piidioksidin saamiseksi suspension tai ympäristön pH-arvon tulee olla ennen kuivausta välillä 4-8, erityisesti 5-8 ja vielä erityisemmin 6-7.il 17 09899 This acid rinsing and treatment is carried out under conditions such that, in order to obtain the silica having the pH indicated in the preceding paragraph, the pH of the suspension or the environment before drying must be between 4-8, in particular 5-8 and even more particularly 6-7.

Tämä hapan liuos voi olla esimerkiksi jonkin mineraa1ihapon kuten typpihapon liuos.This acidic solution may be, for example, a solution of a mineral acid such as nitric acid.

Kuitenkin keksinnön erityisen toteutustavan mukaan voi tämä hapan liuos olla myös jonkin orgaanisen hapon, varsinkin kompleksoivan orgaanisen hapon liuos. Tämä happo voidaan valita karboksyy1i-, dikarboksyy1i-, hydroksikarboksyy1i-ja aminokarboksyy1ihappojen joukosta.However, according to a particular embodiment of the invention, this acidic solution can also be a solution of an organic acid, in particular a complexing organic acid. This acid can be selected from carboxylic, dicarboxylic, hydroxycarboxylic and aminocarboxylic acids.

Esimerkkeinä tällaisista hapoista voidaan mainita etikkahappo sekä kompleksoiviata hapoista viinihappo, ma leiinihappo, gly-serolihappo, glukonihappo ja sitruunahappo.Examples of such acids are acetic acid and, as complexing acids, tartaric acid, malic acid, glycerol acid, gluconic acid and citric acid.

Saattaa olla edullista, varsinkin käytettäessä jonkin mine-raalihapon liuosta, suorittaa viimeinen huuhtelu deponoidulla vedellä.It may be advantageous, especially when using a solution of a mineral acid, to perform a final rinse with deposited water.

Toisen variantin mukaisten huuhtelujen tai käsittelyjen jälkeen suoritetaan kuivaus samalla tavoin kuin edellä on kerrottu ensimmäisen variantin kohdalla.After rinsing or treatment according to the second variant, the drying is performed in the same way as described above for the first variant.

Keksinnön erään toisen erityisvariantin mukaisesti suoritetaan hapon ja silikaatin reaktion jälkeen juuri ennen piidioksidin erottamista suspension tai geelin kypsytys. Tämä kyp-sytys tapahtuu yleensä pH-arvon ollessa korkeintaan 6 ja esimerkiksi välillä 4-6.According to another specific variant of the invention, after the reaction of the acid and the silicate, the maturation of the suspension or gel is carried out just before the separation of the silica. This cooking usually takes place at a pH of at most 6 and, for example, between 4-6.

On myös mahdollista suorittaa kypsytys reaktion kuluessa, esimerkiksi pH-arvon ollessa 6-8. Nämä kypsytykset tapahtuvat o edullisimmin kuumassa, lämpötilan ollessa esimerkiksi 80 - ie 8 9 899 o 100 C, ajassa, joka voi vaihdella 15 minuutista kahteen tuntiin.It is also possible to carry out the maturation during the reaction, for example at a pH of 6-8. These ripenings are most preferably carried out in the hot, for example at a temperature of 80 to 8 9 899 ° C, in a time which can vary from 15 minutes to two hours.

Havaittiin, että oli mahdollista vielä parantaa keksinnön mukaisten tuotteiden yhteensopivuutta eräällä toisella täydentävällä käsittelyllä.It was found that it was possible to further improve the compatibility of the products according to the invention with another additional treatment.

Käsittely sisältää jonkin maa-alkalin käytön. Tämä aine voidaan lisätä joko piidioksidieuspensioon tai -geeliin tai edullisimmin kakkuun erityisesti kun se on hajonnut, esimerkiksi suolan tai hydroksidin muodossa.The treatment involves the use of some alkaline earth. This substance can be added either to the silica suspension or gel or, most preferably, to the cake, especially when it has decomposed, for example in the form of a salt or hydroxide.

Käytetään väreinkin jotain orgaanista suolaa, joka nimen omaan kompleksoi maa-alkalia, yleensä jotakin bariumsuolaa, esimerkiksi bariumasetaattia.An organic salt is used which is complexed with an alkaline earth alkali, usually a barium salt, for example barium acetate.

Keksintö koskee myös hammastahnakoostumuksia, jotka sisältävät edellä kerrottua tyyppiä olevia tai edellä esitetyllä menemällä saatuja piidioksideja.The invention also relates to toothpaste compositions containing silicas of the type described above or obtained by the above process.

Keksinnön mukaisen piidioksidin määrä hammastahnakoostumuk-sisea käytettäessä voi vaihdella suurestikin, yleensä se on välillä 5-35 %.The amount of silica according to the invention when using the toothpaste composition can vary widely, generally between 5-35%.

Keksinnön mukaiset piidioksidit soveltuvat erityisen hyvin hammaetahnakooetumuksiin, jotka sisältävät ainakin yhden aineen seuraavasta ryhmästä: fluoridit, fosfaatit sekä guani-diinit, joihin klorheksidiini kuuluu. Jäljessä seuraavien testien mukaan nämä piidioksidit voivat todellakin olla vähintään 90 prosenttisesti yhteensopivia kaikkien näiden aineiden kanssa.The silicas according to the invention are particularly well suited for toothpaste compositions which contain at least one substance from the following group: fluorides, phosphates and guanidines, to which chlorhexidine belongs. Indeed, according to the tests that follow, these silicas may be at least 90% compatible with all of these substances.

Keksinnön mukaiset piidioksidit ovat lisäksi yhteensopivia maleiinihapon ja vinyylietyylieetterin kopolymeerien kanssa ja ne voidaan siis yhdistää näitä kopolymeerejä sisältäviin i.The silicas according to the invention are furthermore compatible with copolymers of maleic acid and vinylethyl ether and can therefore be combined with i-containing copolymers.

^ 39899 hammastahnakoostumuksiin. Ne voivat olla sinkin kansaa yhteensopivia vähintään 50-proeenttlsesti, edullisimmin vähintään 80-prosenttiseeti.^ 39899 for toothpaste compositions. They may be at least 50%, most preferably at least 80% compatible with the zinc people.

Mitä tulee fluoriyhdisteisiin, vastaa niiden määrä edullisimmin koostumuksessa fluoriväkevyyttä, joka on 0,01-1 * painona ja vielä erityisemmin se on 0,1-0,5 X. Fluoriyhdisteet ovat erityisesti monofluorifos forihapon suoloja ja varsinkin natrium-, kalium-, litium-, kalsium-, alumiini- ja ammoniumsuo-loja, mono- ja difluorifosfaattia samoin kuin erilaisia fluo-rideja, jotka sisältävät sidotun ionin muodossa erityisesti emäksisiä fluorideja kuten natrium-, litium-, kaliumfluoride-ja, aramoniumfluoridia, tinapitoista fluoridia, mangaani fluo-ridia, zirkoniumfluoridia, alumiinifluoridia samoin kuin näiden fluoridien additiotuoteita keskenään tai yhdessä muiden fluoridien kuten kalium-, natrium- tai mangaani fluoridien kanssa.As for the fluorine compounds, their amount in the composition most preferably corresponds to a fluorine concentration of 0.01 to 1 * by weight, and more particularly 0.1 to 0.5 X. The fluorine compounds are in particular salts of monofluorophosphoric acid and especially sodium, potassium, lithium , calcium, aluminum and ammonium salts, mono- and difluorophosphates as well as various fluorides containing, in the form of a bound ion, in particular basic fluorides such as sodium, lithium, potassium fluoride, arammonium fluoride, tin-containing fluoride, manganese fluoride , zirconium fluoride, aluminum fluoride as well as adducts of these fluorides with each other or in combination with other fluorides such as potassium, sodium or manganese fluorides.

Myös muita fluorideja voidaan käyttää tähän keksintöön, kuten 68imerkiksi sinkkifluoridia, germaniumfluoridia, palladium-fluoridia, titääni fluoridia, emäksisiä fluozirkonaatteja, ku-^eri natrium- ja kai iumf luozirkonaatte ja , t inaf luozi rkonaat t ia , fiuoboraattia tai natrium- ja kaiiumfluofosfaattia.Other fluorides may also be used in this invention, such as zinc fluoride, germanium fluoride, palladium fluoride, titanium fluoride, basic fluorozirconates, various sodium and calcium zirconate, and tin fluorosulphate and fibroborate.

Myös orgaanisia fluoriyhdisteitä voidaan käyttää, edullisim-min niitä, jotka tunnetaan pitkäketjuisten amiinien tai aminohappojen additiotuotteina yhdessä vetyfluoridin, setyyliamii-nifluoridin, bis-<hydroksietyyli>aminopropyy1i-N-hydroksie-tYyli-oktadekyyliamiinin dihydrofluoridin, oktadekyy1iamiini-fluoridin sekä N,N',N'-tri-(polyoksietyieeni)-N-heksadekyyli-Propeenidiamiinin dihydrofluoridin kanssa tulee sinkkiin, on se mukana erityiaesti sitraatti- tai ®U1faattimuodossa.Organofluoro compounds can also be used, most preferably those known as long chain amine or amino acid adducts, together with hydrogen fluoride, cetylamine fluoride, bis- (hydroxyethyl> aminopropyl-N-hydroxyethyl-octadecylamine N-fluorine, dihydrofluoramide, octadecylamine, octadecyl N'-tri- (polyoxyethylene) -N-hexadecyl-propenediamine with dihydrofluoride enters the zinc, is especially present in the citrate or ®U1fate form.

20 3 989920 3 9899

Plakineetoaineina käytettävinä elementteinä, jotka ovat tyypiltään polyfoefaatteja tai polyfoefonatteja, guanidiineja, bie-biguanidiineja, voidaan mainita ne, jotka on ilmaistu patenteissa US-3 934 002 tai 4 110 083, joiden tietämys on liitetty tähän.As the elements to be used as plaque agents, which are of the type polyfoefates or polyfoefonates, guanidines, bie-biguanidines, those mentioned in U.S. Pat. No. 3,934,002 or 4,110,083, the knowledge of which is incorporated herein by reference, may be mentioned.

Lisäksi hammastahnakoostumukset voivat sisältää jonkun sideaineen. Tärkeimmät käytetyt sideaineet valitaan erityisesti seuraavista: seiluloosapitoiset johdannaiset: metyy1iselluloosa, hydroksi-etyy1iselluloosa, natriumkarboksyy1 imetyyliselluloosa; kasviliimat: karragenaatit, alginaatit, agar-agar ja liivate-aineet ; kumit: arabi- ja traganttikumit, ksantaanikumi, karaijakumi; karbokeyy1ivinyyli- ja akryylipolymeerit; polyoksietyleenihartsit .In addition, the toothpaste compositions may contain a binder. The main binders used are selected in particular from the following: cellulose-containing derivatives: methylcellulose, hydroxyethylcellulose, sodium carboxylmethylcellulose; vegetable glues: carrageenates, alginates, agar-agar and gelatins; gums: gum arabic and tragacanth, xanthan gum, karaya gum; carboxyl vinyl and acrylic polymers; polyoxyethylene resins.

Keksinnön mukaisten piidioksidien ohella voivat hammastahna-koostumukset sisältää myös yhden tai useita muita tasoittavia hioma-aineita, jotka valitaan erityisesti seuraavista: seostettu kalsiumkarbonaatti, magnesiumkarbonaatti, di- ja trikalsiumpitoiset, kaleiumfosfaatit, 1iukenematon natriummetaf os faatt i, kalsiumpyrof osfaatti, titaanioksidi (valkaisuaine), s i1ikaat i t, alumiinioksidit ja piialuminaatit, sinkki- ja tinaoksidit, talkki, kaoliini.In addition to the silicas of the invention, the toothpaste compositions may also contain one or more other leveling abrasives selected in particular from: doped calcium carbonate, magnesium carbonate, di- and tricalcium-containing, potassium phosphates, insoluble sodium metaphane, phosphatophosphate, calcium sicides, aluminas and silicon aluminates, zinc and tin oxides, talc, kaolin.

8989989899

Hammastahnakoostumukset voivat sisältää myös detergentte jä, kosteuttavia aineita, aromiaineita, makeutusaineita, sekä väriaineita ja säilytysaineita.Toothpaste compositions may also contain detergents, humectants, flavors, sweeteners, and colorants and preservatives.

Tärkeimmät käytetyt detergentit valitaan erityisesti seuraa-vista: natriumlauryylieulfaatti, lauryy1ieetterisulfaatti ja natriumlauryy1isulfoasetaatti , natriumdioktyy1isulfosukkinaatti, natriumlauryy1isarkosinaatti, natriumrisino1saatti, sulfatoidut monoglyseridit.The main detergents used are selected in particular from sodium lauryl sulfate, lauryl ether sulfate and sodium lauryl sulfoacetate, sodium dioctyl sulfosuccinate, sodium lauryl sarcosinate, sodium risinosilate, sulfated monoglycerides.

Tärkeimmät käytetyt kosteuttavat aineet valitaan erityisesti polyalkoholien joukosta: glyseroli, sorbitoli, yleensä 70 X liuoksena vedessä, glykolipropeeni .The main wetting agents used are selected in particular from polyalcohols: glycerol, sorbitol, usually 70 X in solution in water, glycol propylene.

Tärkeimmät aromiaineet (tuoksu) valitaan erityisesti seuraa-vista: anis-, tähtianis-, minttu-, katajanmarja-, kaneli-, mausteneilikka- ja ruusuöljyt.The main flavorings (fragrance) are selected in particular from the following: anise, star anise, mint, juniper berry, cinnamon, cloves and rose oils.

Tärkeimmät makeutusaineet valitaan erityisesti ortosulfoben-soeimidien ja syklamaattien joukosta.The main sweeteners are selected in particular from orthosulfobenzoimides and cyclamates.

Tärkeimmät käytetyt väriaineet valitaan erityisesti halutun värin mukaan seuraavista: punainen ja vaaleanpunainen väri: amarantti, atsorubiini, ka-teku, uusi koksiini (PONCEAU-4-R>, kokenilli, erytrosiini; vihreä väri: klorofylli ja klorofylliini; keltainen väri: auringonkeltainen (Oragne-S) sekä kinoliini-keltainen.The main dyes used are selected according to the desired color in particular: red and pink: amaranth, azorubine, ka-teku, new coxin (PONCEAU-4-R>, cochineal, erythrosine; green color: chlorophyll and chlorophyllin; yellow color: sun yellow) -S) as well as quinoline-yellow.

22 89 899 Käytetyimmät tärkeimmät eäilytyeaineet ovat: parahydroksiben-eoaatit, formoli sekä siitä saadut aineet, hsksstidiini, neli-ammoniumit, hekeaklorofeeni, bromofeeni ja hsksamediini.22 89 899 The main preservatives used are: parahydroxybenzoates, formol and its derivatives, hexstidine, quaternary ammonium, hexachlorophene, bromophen and hexamedamine.

Lopuksi hammastahnakoostumukeet sisältävät terapeuttisesti vaikuttavia aineita, joista tärkeimmät valitaan erityisesti seuraavista: antiseptiset ja antibioottiset aineet, entsyymit, hivenaineet sekä edellä mainitut fluoriyhdisteet.Finally, toothpaste compositions contain therapeutically active substances, the most important of which are selected in particular from antiseptic and antibiotic substances, enzymes, trace elements and the above-mentioned fluorine compounds.

Tämän jälkeen annetaan konkreettisia muttei rajoittavia esimerkkejä keksinnöstä.Hereinafter, concrete but non-limiting examples of the invention will be provided.

Ensin esitetään teetit, jotka on tehty piidioksidin ja eri aineiden välisen yhteensopivuuden mittaamiseksi.First, theses made to measure compatibility between silica and various substances are presented.

Yhteensopivuuden mittaus klorhekeidiinin kanssa 4 g piidioksidia dispergoidaan 16 g;aan vesipitoista klorhek- sidiini1iuosta, jonka klorheksidiinidiglukonaattiväkevyye on o 1 X. Suspensiota sekoitetaan 24 tunnin ajan 37 C:sea.Measurement of compatibility with chlorhexidine 4 g of silica are dispersed in 16 g of an aqueous solution of chlorhexidine having a chlorhexidine digluconate concentration of 1 X. The suspension is stirred for 24 hours at 37 ° C.

Sitten suspensio eentrifugoidaan nopeudella 20 000 1/min 30 minuutin ajan ja saatu supernatantti suodatetaan Millipore 0,2 /um -suodattimena.The suspension is then centrifuged at 20,000 rpm for 30 minutes and the resulting supernatant is filtered through a Millipore 0.2 filter.

Sen jälkeen erotetaan 0,5 ml näin suodatettua liuosta ja laimennetaan mittapulloesa 100 ml:aan vettä. Tämä liuos muodostaa koeliuoksen.Then separate 0,5 ml of the solution thus filtered and dilute to 100 ml with water in a graduated flask. This solution forms a test solution.

Vertailuliuos tehdään samalla tavalla mutta ilman piidioksidia. Vesipitoista liuosta, jonka klorheksidiinidiglukonaattίο väkevyys on 1 X sekoitetaan 24 tunnin ajan 37 C:ssa, sitten se eentrifugoidaan nopeudella 2000 1/min ja supernatantti 23 89899 suodatetaan Millipore 0,2 ^um -auodattimella. 0,5 ml näin saatua liuosta laimennetaan mittapullossa 100 ml:aan vettä.The reference solution is made in the same way but without silica. An aqueous solution of chlorhexidine digluconate at 1X is stirred for 24 hours at 37 ° C, then centrifuged at 2000 rpm and the supernatant 23 89899 is filtered through a Millipore 0.2 filter. Dilute 0.5 ml of the solution thus obtained to 100 ml with water in a graduated flask.

Sen jälkeen mitataan spektrometrin (Uvikon 810/820) avulla kummankin nm-arvoltaan 254 olevan liuoksen absorptio.The absorbance of each of the 254 solutions is then measured using a spectrometer (Uvikon 810/820).

Vapaan klorheksidiinin määrä ilmaistuna % Yhteensopivuus määritetään suhteen avulla:Amount of free chlorhexidine expressed as% Compatibility is determined by the ratio:

Koeliuoksen absorptio % Yhteensopivuus = _____x 100Absorption of test solution% Compatibility = _____x 100

Vertailuliuoksen absorptioAbsorption of the reference solution

Yhteensopivuuden mittaus fluoridien kanssa 4 g piidioksidia dispergoidaan 16 g:aan liuosta natriumfluo- ridiväkevyydeItään (NaF) 0,3 X. Suspensiota sekoitetaan 24 o tunnin ajan 37 C:ssa. Kun suspensiota on sentrifugoitu nopeudella 20 000 1/min 30 minuutin ajan, suodatetaan supernatant-ti Millipore 0,2 ^um -suodattimena. Näin eaatu liuos muodostaa koeliuoksen.Measurement of compatibility with fluorides 4 g of silica are dispersed in 16 g of a solution of sodium fluoride (NaF) 0.3 X. The suspension is stirred for 24 hours at 37 ° C. After centrifugation of the suspension at 20,000 rpm for 30 minutes, the supernatant is filtered through a Millipore 0.2 filter. The solution thus obtained forms a test solution.

Vertailuliuos tehdään samalla tavalla mutta ilman piidioksidia.The reference solution is made in the same way but without silica.

Yhteensopivuuden fluoridien kanssa määrää sen vapaan fluori-din X-määrä, joka mitataan fluoridille selektiivisellä elektrodilla (Orion). Se määritetään alla olevan yhtälön avulla.Compatibility with fluorides is determined by the amount of free fluoride X measured with a fluoride selective electrode (Orion). It is determined using the equation below.

Koeliuoksen F-väkevyys (ppm) X Yhteensopivuus = __________— x *00F-concentration of the test solution (ppm) X Compatibility = __________— x * 00

Vertailuliuoksen F-väkevyys (ppm)F concentration of the reference solution (ppm)

Yhteensopivuuden mittaus sinkin kanssa 4 g piidioksidia dispergoidaan 100 ml:aan liuosta, jonka ZnS04, 7H2O -väkevyys on 0,06 X. Saadaan suspensio, jonka pH stabiloidaan arvoon 7 15 minuutin ajan lisäämällä NaOH:ta tai H^SO^tä. Suspensiota sekoitetaan sitten 24 tunnin ajan 24 8 9 899 o 37 C:esa ja eentrifugoidaan een jälkeen nopeudella 20 000 1/min 30 minuutin ajan.Measurement of compatibility with zinc 4 g of silica are dispersed in 100 ml of a solution with a ZnSO 4, 7H 2 O concentration of 0.06 X. A suspension is obtained whose pH is stabilized at 7 for 15 minutes by adding NaOH or H 2 SO 4. The suspension is then stirred for 24 hours at 24 8 9 899 ° C and then centrifuged at 20,000 rpm for 30 minutes.

Millipore 0,2 ^um -euodattimella suodatettu eupernatantti muodostaa koeliuoksen.The eupernatant filtered through a Millipore 0.2 filter forms a test solution.

Vertailuliuos tehdään samalla tavalla mutta ilman piidioksidia .The reference solution is made in the same way but without silica.

Kummankin liuoksen vapaan sinkin väkevyys määräytyy atomiabsorption avulla <214 nm).The concentration of free zinc in each solution is determined by atomic absorption (<214 nm).

Yhteensopivuus määräytyy alla olevan yhtälön avulla:Compatibility is determined by the equation below:

Koeliuoksen Zn-väkevyys (ppm) X Yhteensopivuus = _ x 100Zn concentration of the test solution (ppm) X Compatibility = _ x 100

Vertailuliuoksen Zn-väkevyys <ppm>Zn concentration of the reference solution <ppm>

Yhteensopivuuden mittaus natrium-—ia kaiiumpvrofosfaattien Kang-SAMeasurement of compatibility of sodium and potassium prophosphates Kang-SA

4 g piidioksidia dispergoidaan 16 g:aan suspensiota natrium- tai ka 1iumpyrofosfaattiväkevyydeltään 1,5 %. Suspensiota se- o koitetaan 24 tunnin ajan 37 C:ssa ja eentrifugoidaan sitten nopeudella 20 000 1/min 30 minuutin ajan.4 g of silica are dispersed in 16 g of a suspension with a sodium or potassium pyrophosphate concentration of 1.5%. The suspension is stirred for 24 hours at 37 ° C and then centrifuged at 20,000 rpm for 30 minutes.

Supernatantti suodatetaan Millipore 0,2 /um -euodattimella.The supernatant is filtered through a Millipore 0.2 filter.

0,2 g mittapullossa 100 ml:aan vettä laimennettua liuosta muodostaa koeliuoksen.A solution of 0.2 g in a graduated flask diluted in 100 ml of water forms a test solution.

Vertailuliuos tehdään samalla tavalla mutta ilman piidioksidia .The reference solution is made in the same way but without silica.

Vapaan pyrofosfaatti-ionin <P2°7 > väkevyys kummassakin liuoksessa määritetään integraattorilla varustetulla ionikro-matografiällä <DIONEX-2000i -järjestelmä).The concentration of free pyrophosphate ion <P2 ° 7> in each solution is determined by ion chromatography with an integrator (DIONEX-2000i system).

25 8989925 89899

Yhteensopivuus määritetään kromatogrammeissa saatujen huippujen pinta-alojen suhteesta, jotka huiput vastaavat pyrofos-faatin retentioaikaa sekä koe- että vertailuliuoksessa.The compatibility is determined from the ratio of the areas of the peaks obtained in the chromatograms, which peaks correspond to the retention time of the pyrophosphate in both the test and reference solutions.

koeliuokeen huipun pinta-ala * Yhteensopivuus = 100 x _______ vertailuliuoksen huipun pinta-alapeak area of the test solution * Compatibility = 100 x _______ peak area of the reference solution

Esimerkki 1 Tämä esimerkki koskee yhteensopivan, hiovaa tyyppiä olevan piidioksidin valmistusta.Example 1 This example relates to the preparation of a compatible abrasive type silica.

Lämmön- ja pH-arvonsäätöjärjestelmällä sekä turpiinisekoitue-järjestelmällä varustettuun reaktoriastiaan viedään 6 1 deio-noitua vettä.6 l of deionized water are introduced into a reactor vessel equipped with a heat and pH control system and a turbine mixing system.

Kun sekoittaminen on saatettu käyntiin <300 1/min), kuumenne- o taan näin saatu seospohja 85 C:een.After stirring (<300 l / min), the mixture base thus obtained is heated to 85 ° C.

Kun lämpötila on saavutettu, aletaan lisätä samanaikaisesti 8.5 1 natriumsilikaattia si1ikaattiväkevyydeltään 120 g/1, SiC^/NaC^-suhteeltaan 3,5 ja virtaamaltaan 0,34 1/min sekä 13.5 1 rikkihappoa väkevyydeltään 80 g/1. Happovirtaama säädetään niin, että ympäristön pH-arvo on jatkuvasti 8,0.When the temperature has been reached, 8.5 l of sodium silicate with a silicate concentration of 120 g / l, a SiO2 / NaCl4 ratio of 3.5 and a flow rate of 0.34 l / min and 13.5 l of sulfuric acid with a concentration of 80 g / l are added simultaneously. The acid flow is adjusted so that the pH of the environment is constantly 8.0.

Kun lisäystä on jatkettu 40 min, lopetetaan silikaatin lisääminen ja jatketaan hapon lisäämistä kunnes reaktioseoksen pH tasaantuu arvoon 4.After the addition is continued for 40 minutes, the addition of silicate is stopped and the addition of acid is continued until the pH of the reaction mixture stabilizes at 4.

Tämän jälkeen suoritetaan kypsytys 15 minuutin ajan tässä pH-Maturation is then carried out for 15 minutes at this pH.

OO

arvoeea ja Θ5 C:eea.value and Θ5 C: eea.

Sitten seos suodatetaan ja kosteaa kakkua huuhdellaan deionoi-dulla vedellä kunnes suodoksen johtavuus on alle 100 /US.The mixture is then filtered and the moist cake is rinsed with deionized water until the conductivity of the filtrate is less than 100 / US.

26 3 98 99 Tämän jälkeen suoritetaan yksi kakun huuhtelu vedellä, jonka pH on saatettu arvoon 4 etikkahappoa lisäämällä.26 3 98 99 One cake rinse is then carried out with water adjusted to pH 4 by the addition of acetic acid.

Viimeinen huuhtelu suoritetaan deionoidulla vedellä.The final rinse is performed with deionized water.

Tuote kuivataan sitten sulauttamalla ja jauhetaan Forplex-tyyppisellä myllyllä niin, että saadaan 10 mikronin raekoostumus .The product is then dried by melting and ground in a Forplex-type mill to give a 10 micron granular composition.

Näin saadun piidioksidin fysikaalis-kemialliset ominaisuudet ovat seuraavat: 2The physico-chemical properties of the silica thus obtained are as follows: 2

Pinta BET 100 m /g 5Surface BET 100 m / g 5

Pinta CTAB 55 m /g 3 Ö1jynottokyky 120 cm /100 g pH 6,5Surface CTAB 55 m / g 3 Absorption capacity 120 cm / 100 g pH 6.5

Piidioksidin kemialliset analyysit on ryhmitelty seuraavaan taulukkoon.The chemical analyzes of silica are grouped in the following table.

ionit S04 AI Fe Ca Cions S04 AI Fe Ca C

ppM 100 250 130 300 10ppM 100 250 130 300 10

Pintakemia kvantifioidaan seuraavin parametrein:Surface chemistry is quantified by the following parameters:

Ho korkeampi kuin 3,3 PZC = 4 -1 AV = 2 5 cm OH/nm -luku: 9.Ho higher than 3.3 PZC = 4 -1 AV = 2 5 cm OH / nm number: 9.

Jäljempänä taulukossa annetaan piidioksidin yhteensopivuudet erään hammastahnakoostumuksen eri aineosien kanssa.The table below shows the compatibility of silica with the various ingredients of a toothpaste composition.

li 27 8 9 8 99li 27 8 9 8 99

Aineosat Fluoridi Pyrofosfaatti Klorheksidiini- Sinkki NaF Na/K diglukonaatti ZnS04 % Yhteen- 95 98 75 70 sopivuusIngredients Fluoride Pyrophosphate Chlorhexidine- Zinc NaF Na / K digluconate ZnSO 4% Total 95 98 75 70 Compatibility

Esimerkki 2Example 2

Seurataan esimerkkiä 1 kunnes saadaan piidioksidikakku, joka on kerran huuhdeltu vedellä, jonka pH on saatettu arvoon 4 etikkahappoa lisäämällä.Follow Example 1 until a silica cake is rinsed once with water adjusted to pH 4 by the addition of acetic acid.

Näin saatu kakku hajotetaan hajottimessa niin, että saadaan nestemäinen suspensio.The cake thus obtained is decomposed in a disperser to obtain a liquid suspension.

Lisätään sekoittaen 0,2 g bariumasetaattia.0.2 g of barium acetate are added with stirring.

Sitten piidioksidi kuivataan sulauttamalla ja jauhetaan niin, että keskimääräiseksi hiukkaskooksi saadaan 10 /um.The silica is then dried by melting and ground to give an average particle size of 10.

Näin saadun piidioksidin fysikaalis-kemialliset ominaisuudet ovat seuraavat: 2The physico-chemical properties of the silica thus obtained are as follows: 2

Pinta BET 100 m /g 2Surface BET 100 m / g 2

Pinta CTAB 60 m /g 3 01jynottokyky 110 cm /100 g pH 6,5Surface CTAB 60 m / g 3 01 absorption 110 cm / 100 g pH 6.5

Piidioksidin kemialliset analyysit on ryhmitelty seuraavaan taulukkoon.The chemical analyzes of silica are grouped in the following table.

ionit SO^ AI Fe Ca Cions SO ^ AI Fe Ca C

ppM 100 250 130 400 40 28 89 899ppM 100 250 130 400 40 28 89 899

Pintakemia kvantifioidaan eeuraavin parametrein:Surface chemistry is quantified by the following parameters:

Ho korkeampi kuin 3,3 PZC =4,5 AV =2 cm 2 OH/nm -luku = 8 YhteeneopivuudetHo higher than 3.3 PZC = 4.5 AV = 2 cm 2 OH / nm number = 8

Aineosat Fluoridi Pyrofosfaatti Klorheksidiini Sinkki NaF Na/K diglukonaatti ZnSO^ X yhteen- 95 98 90 70 sopivuusIngredients Fluoride Pyrophosphate Chlorhexidine Zinc NaF Na / K digluconate ZnSO 4 X compatibility 95 98 90 70 compatibility

Esimerkki 3 Tämä esimerkki koskee sakeuttavaa piidioksidia sisältävän geelin valmistusta.Example 3 This example relates to the preparation of a gel containing a thickening silica.

Lämmön- ja pH-arvonsäätöjärjestelmällä sekä turpiinisekoitus-järjestelmällä varustettuun reaktoriastiaan viedään 14 1 Na-eilikaattia piidioksidiväkevyydeltään 86 g/1 ja Si02/Na20-suhteeltaan 3,5.A reactor vessel equipped with a heat and pH control system and a turbine mixing system is charged with 14 l of Na-sorlate with a silica concentration of 86 g / l and a SiO2 / Na2O ratio of 3.5.

Kun sekoittaminen on saatettu käyntiin <100 1/min), lisätään 1,45 1 28-prosenttieta ammoniakkia 2 minuutissa.When stirring is started <100 l / min), 1.45 l of 28% ammonia are added over 2 minutes.

Sitten lisätään 0,8 1 rikkihappoa väkevyydeltään 200 g/1 virtaamalla 0,2 1/min.0.8 l of sulfuric acid with a concentration of 200 g / l is then added at a flow rate of 0.2 l / min.

Tässä tilassa seoksen annetaan reagoida 5 minuutin ajan valvo-o tussa 20 C:n lämpötilassa.In this state, the mixture is allowed to react for 5 minutes at a controlled temperature of 20 ° C.

Sitten lisätään 5,2 1 rikkihappoa väkevyydeltään 200 g/1 virtaamalla 0,2 1/min, li 29 ;98995.2 l of sulfuric acid at a concentration of 200 g / l are then added at a flow rate of 0.2 l / min, li 29; 9899

Geelin ilmaannuttua (näkyvästi tai veden sameutta mittaamalla), annetaan seoksen kypsyä 10 minuutin ajan.When the gel appears (visibly or by measuring the turbidity of the water), the mixture is allowed to mature for 10 minutes.

Geeli dispergoidaan sitten sekoittamalla seosta nopeudella 400 1/min 30 minuutin ajan.The gel is then dispersed by stirring the mixture at 400 rpm for 30 minutes.

Ympäristön pH lasketaan sitten arvoon 3,5 lisäämällä rikkihappoa (200 g/1) virtaamalla 0,2 1/min.The pH of the medium is then lowered to 3.5 by adding sulfuric acid (200 g / l) at a flow rate of 0.2 l / min.

Reaktioseoksen annetaan tasaantua 1 tunnin ajan lämpötilassa o 60 C .The reaction mixture is allowed to equilibrate for 1 hour at 0 ° C.

Geelin valmistus päätetään suodattamalla tämä seos ja huuhte- lemalla saatu kakku 2 kertaa 20 l:ssa deionoitua vettä läm-o potilaitaan 60 C sekä 20 l:ssa vettä, jonka pH-arvo on 3.The preparation of the gel is terminated by filtering this mixture and rinsing the resulting cake twice in 20 l of deionized water at a temperature of 60 ° C and in 20 l of water with a pH of 3.

Keksinnön mukainen käsittely suoritetaan sitten deionoidul-o la vedellä 20 C:ssa tapahtuvalla huuhtelulla siksi kunnes saavutetaan johtavuus 200 /uS/cm.The treatment according to the invention is then carried out by rinsing with deionized water at 20 ° C until a conductivity of 200 μS / cm is reached.

Saatu kakku hajotetaan, jotta saataisiin tasakoosteinen pii-dioksidisuspeneio väkevyydeltään 10 %, joka väkevyys on säädetty vettä lisäämällä.The resulting cake is decomposed to obtain a homogeneous silica suspension with a concentration of 10%, which concentration is adjusted by adding water.

Piidioksidi kuivataan Anhydro-tyyppisellä eumuttimella surmattamalla. Sen jälkeen piidioksidi mikronieoidaan JET Pulveri-zer-myllyllä 1,5 /um:n raekoostumuksen aikaansaamiseksi.The silica is dried by killing with an Anhydro-type eumutifier. The silica is then micronized with a JET Powder Mill to obtain a 1.5 micron grain composition.

Näin saadun piidioksidin fysikaalis-kemialliset ominaisuudet ovat seuraavat : 2The physico-chemical properties of the silica thus obtained are as follows: 2

Pinta BET 450 m /g 2Surface BET 450 m / g 2

Pinta CTAB 350 m /g 3 01jynottokyky 300 cm /100 g pH 6 , ΘSurface CTAB 350 m / g 3 01bsorption 300 cm / 100 g pH 6, Θ

Keskitiheys 0,270Mean density 0.270

Taitekerroin 1,445 30 89899Refractive index 1,445 30 89899

Piidioksidin kemialliset analyysit on ryhmitelty alla seuraa-vaan taulukkoon.The chemical analyzes of the silica are grouped in the table below.

ionit SO4 AI Fe Ca Cions SO4 AI Fe Ca C

ppM 500 200 120 300 10ppM 500 200 120 300 10

Pintakemia kvantifioidaan seuraavin parametrein:Surface chemistry is quantified by the following parameters:

Ho korkeampi kuin 3,3 PZC = 3,6Ho higher than 3.3 PZC = 3.6

Ei pyridiinin adsorptiovöitä YhteensopivuudetNo pyridine adsorption bands Compatibilities

Aineosat Fluoridi Pyro foefaatti Klorheksidiini- SinkkiIngredients Fluoride Pyro Foephate Chlorhexidine- Zinc

NaF NaK diglukonaatti ZnS04 * yhteen- 90 95 65 50 sopivaNaF NaK digluconate ZnSO 4 * compatible with 90 95 65 50

Esimerkki 4 Tämä esimerkki koskee sakeuttavaa piidioksidia.Example 4 This example relates to thickening silica.

Lämmön- ja pH-arvonsäätelyjärjestelmällä varustettuun reakto-riastiaan viedään 6 1 vettä ja lisätään sitten sekoittaen 150 g natriumsulfaattia.6 l of water are introduced into a reactor vessel equipped with a heat and pH control system and 150 g of sodium sulphate are then added with stirring.

oo

Seos kuumennetaan 60 C:een. Lisätään sitten samanaikaisesti 10 1 natriumsilikaattia (Rm = 3,5 ja S1O2 = 220 g/1) ja rikkihappoa väkevyydeltään 80 g/1 40 minuutissa.The mixture is heated to 60 ° C. Then 10 l of sodium silicate (Rm = 3.5 and S1O2 = 220 g / l) and sulfuric acid at a concentration of 80 g / l are added simultaneously in 40 minutes.

3i 898993i 89899

Rikkihapon virtaama säädetään siten, että reaktioympäristön pH pysyy jatkuvasti arvossa 7,8.The sulfuric acid flow rate is adjusted so that the pH of the reaction medium remains constant at 7.8.

Ympäristön pH stabiloidaan arvoon 4,0 lisäämällä hyvin no- o peasti rikkihappoa. Annetaan kypsyä 15 minuutin ajan 60 C:ssa.The pH of the environment is stabilized at 4.0 by the rapid addition of sulfuric acid. Allow to cook for 15 minutes at 60 ° C.

oo

Reaktioseos suodatetaan 60 C:ssa ja suoritetaan piidioksidikakun huuhtelu deionoidulla vedellä niin, että saadaan euodok-sen johtavuudeksi 900 ^uS/cm. Sitten kakku huuhdellaan vedellä pH-arvoltaan 4, mikä pH-arvo on säädetty etikkahappoa lisäämällä ja suoritetaan yksi viimeinen huuhtelu deionoidulla vedellä.The reaction mixture is filtered at 60 ° C and the silica cake is rinsed with deionized water to give a conductivity of 900 μS / cm. The cake is then rinsed with water to pH 4, which is adjusted by the addition of acetic acid, and one final rinse is performed with deionized water.

Näin saatu piidioksidikakku hajotetaan ja lisätään siihen sitten sekoittaen 2 g kalsiumasetaattia.The silica cake thus obtained is decomposed and then 2 g of calcium acetate is added thereto with stirring.

Piidioksidi kuivataan sulauttamalla ja mikronisoidaan Jet Pulverizer -myllyllä niin, että piidioksidihiukkasten kooksi saadaan 1,5 /um.The silica is dried by melting and micronized with a Jet Pulverizer to give a silica particle size of 1.5.

Näin saadun piidioksidin fyysillis-kemialliset ominaisuudet ovat seuraavat: 2The physico-chemical properties of the silica thus obtained are as follows: 2

Pinta BET 320 m /g 2Surface BET 320 m / g 2

Pinta CTAB 120 m /g 3 Ö1jynottokyky 250 cm /100 g pH 6,5Surface CTAB 120 m / g 3 Absorption capacity 250 cm / 100 g pH 6.5

Piidioksidin kemialliset analyysit on ryhmitelty seuraavaan taulukkoon.The chemical analyzes of silica are grouped in the following table.

ionit SO^ AI Fe Ca Cions SO ^ AI Fe Ca C

ppM 100 200 120 300 20 32 89 899ppM 100 200 120 300 20 32 89 899

Pintakemia kvantifioidaan seuraavin parametrein:Surface chemistry is quantified by the following parameters:

Ho korkeampi kuin 3,3 PZC = 4 2 OH/nm -luku = 11 Ei pyridiinin adsorptiovöitäHo higher than 3.3 PZC = 4 2 OH / nm = 11 No pyridine adsorption bands

Yhteensopivuudetcompatibilities

Aineosat Fluoridi Pyrofoefaatti Klorheks idi ini- SinkkiIngredients Fluoride Pyrophosphate Chlorhexide ini- Zinc

NaF Na/K diglukonaatti ZnS04 % yhteen- 90 95 90 80 sopivaNaF Na / K digluconate ZnSO 4% combined 90 95 90 80 compatible

Esimerkki 5 Tämä esimerkki koskee hiovan piidioksidin valmistusta.Example 5 This example relates to the preparation of abrasive silica.

Lämmön- ja pH-arvonsäätöjärjestelmällä sekä turpiinisekoitus-järjestelmällä varustettuun reaktoriastiaan viedään 6 1 deio-noitua vettä.6 l of deionized water are introduced into a reactor vessel equipped with a heat and pH control system and a turbine mixing system.

Kun sekoittaminen on pantu käyntiin (300 1/min), kuumennetaan o näin saatu seospohja 85 C:een.After stirring (300 l / min), the mixture base thus obtained is heated to 85 ° C.

Kun lämpötila on saavutettu, lisätään samanaikaisesti 8,5 1 natriumsilikaattia piidioksidiväkevyydeltään 120 g/1, jossa suhde Si02/Na20 on 3,5 ja virtaama 0,34 1/min sekä 13,5 l rikkihappoa väkevyydeltään 80 g/1. Happovirtaama säädetään siten, että ympäristön pH-arvo on jatkuvasti 8,0.When the temperature is reached, 8.5 l of sodium silicate with a silica concentration of 120 g / l, a SiO2 / Na2O ratio of 3.5 and a flow rate of 0.34 l / min and 13.5 l of sulfuric acid with a concentration of 80 g / l are added simultaneously. The acid flow is adjusted so that the ambient pH is constantly 8.0.

Kun lisäystä on jatkettu 40 min, lopetetaan silikaatin lisää- o minen ja annetaan seoksen kypsyä 15 min ajan 85 C:ssa pH:n ollessa 8.After the addition is continued for 40 minutes, the addition of silicate is stopped and the mixture is allowed to mature for 15 minutes at 85 ° C at pH 8.

33 8 98 9933 8 98 99

Jatketaan hapon lieäämietä kunnes reaktioeeokeen pH stabiloituu arvoon 4.Continue the acid slurry until the pH of the reaction mixture stabilizes at 4.

Tämän jälkeen seoksen annetaan kypsyä 15 min ajan tässä pH-o arvossa ja Θ5 C:saa .The mixture is then allowed to mature for 15 minutes at this pH and Θ5 ° C.

Sitten seos suodatetaan ja kosteaa kakkua huuhdellaan deponoidulla vedellä siksi kunnes suodoksen johtavuus on 100 ^uS/ cm.The mixture is then filtered and the moist cake is rinsed with deposited water until the conductivity of the filtrate is 100 μS / cm.

Sen jälkeen kakku huuhdellaan kahdesti vedellä, jonka pH on saatettu arvoon 4 etikkahappoa lisäämällä.The cake is then rinsed twice with water adjusted to pH 4 by the addition of acetic acid.

Viimeinen huuhtelu suoritetaan deionoidulla vedellä.The final rinse is performed with deionized water.

Aine kuivataan sitten sulauttamalla ja jauhetaan forplex-tyyp-pisellä myllyllä siten, että saadaan 9,0 mikronin raekoostumus .The material is then dried by melting and ground in a forplex-type mill to give a granular composition of 9.0 microns.

Näin saadun piidioksidin fyysi11is-kemia11iset ominaisuudet ovat seuraavat: 2The physico-chemical properties of the silica thus obtained are as follows: 2

Pinta BET 60 m /g 2Surface BET 60 m / g 2

Pinta CTAB 50 m /g 3 01jynottokyky 120 cm /100 g pH 6,0Surface CTAB 50 m / g 30 g absorption 120 cm / 100 g pH 6.0

Piidioksidin kemialliset analyysit annetaan seuraavaksi:Chemical analyzes of silica are given as follows:

Ionit S04 AI Fe Ca CIonite SO 4 AI Fe Ca C

ppM 100 250 100 200 10ppM 100 250 100 200 10

Pintakemia kvantifioidaan seuraavin parametrein: 34 8 9 899Surface chemistry is quantified by the following parameters: 34 8 9 899

Ho suurempi kuin 3,3 PZC = 4,5Ho greater than 3.3 PZC = 4.5

Ei pyridiinin adeorptiovöitä YhteensopivuusNo pyridine adsorption belts Compatibility

Aineosat Fluoridi Pyrofosfaatti Klorhekaidiini- Sinkki NaF Na/K diglukonaatti ZnS04 X yhteen- 95 9Θ 70 80 sopivaIngredients Fluoride Pyrophosphate Chlorhexaidine Zinc NaF Na / K digluconate ZnSO 4 X combined 95 9Θ 70 80 suitable

Esimerkki 6 Tämä esimerkki koskee sakeuttavan piidioksidin valmistusta turpiinisekoitusjärjestelmällä varustetussa reaktoriastiassa, johon viedään 5,07 1 natriumsilikaattia piidioksidiväkevyy-deltään 120 g/1 ja SiC>2/Na20 -suhteeltaan 3,5 sekä 3,8 1 deionoitua vettä.Example 6 This example relates to the preparation of thickening silica in a reactor vessel equipped with a turbine mixing system, into which 5.07 l of sodium silicate with a silica concentration of 120 g / l and a SiO 2 / Na 2 O ratio of 3.5 and 3.8 l of deionized water are introduced.

Kun sekoittaminen on pantu käyntiin (300 1/min), kuumennetaan o näin saatu seospohja 68 C:een.After stirring (300 l / min), the mixture base thus obtained is heated to 68 ° C.

Kun lämpötila on saavutettu, aletaan lisätä 2,64 1 rikkihappoa väkevyydeltään 80,5 g/1. Happovirtaama on 0,120 1/min.When the temperature has been reached, 2.64 l of sulfuric acid with a concentration of 80.5 g / l are added. The acid flow is 0.120 rpm.

Kun lisäämistä on jatkettu 22 min, lopetetaan hapon lisääminen ja annetaan seoksen kypsyä 10 min ajan (havaitaan äkillinen sameuden lisääntyminen).After the addition is continued for 22 minutes, the addition of acid is stopped and the mixture is allowed to mature for 10 minutes (a sudden increase in turbidity is observed).

Tämän jälkeen lisätään 4,2 1 rikkihappoa 35 minuutissa.4.2 l of sulfuric acid are then added over a period of 35 minutes.

o Lämpötila saatetaan sitten 87 C:een ja lisätään samanaikaisesti natriumsilikaattia virtaamalla 30 ml/min ja rikkihappoa virtaamalla 52 ml/min 30 min ajan, 35 8 9 899 o Lämpötila saatetaan 95 C:een ja lisätään 0,523 1 rikkihappoa 10 minuutissa.o The temperature is then raised to 87 ° C and at the same time sodium silicate is added at a flow rate of 30 ml / min and sulfuric acid at a flow rate of 52 ml / min for 30 minutes, 35 8 9 899 o The temperature is brought to 95 ° C and 0.523 l of sulfuric acid is added in 10 minutes.

Tämän jälkeen seoksen annetaan kypsyä 10 min ajan.The mixture is then allowed to cook for 10 minutes.

Ympäristön pH saatetaan sitten arvoon 4 happoa lisäämällä.The pH of the medium is then adjusted to 4 by the addition of acid.

Seos suodatetaan ja kosteaa kakkua huuhdellaan deionoidulla vedellä kunnes suodoksen johtavuus on 100 ^uS/cm.The mixture is filtered and the moist cake is rinsed with deionized water until the conductivity of the filtrate is 100 μS / cm.

Sitten suoritetaan yksi kakun huuhtelu vedellä, jonka pH on saatettu arvoon 4 etikkahappoa lisäämällä.One cake rinse is then performed with water adjusted to pH 4 by the addition of acetic acid.

Viimeinen huuhtelu suoritetaan deionoidulla vedellä.The final rinse is performed with deionized water.

Tuote kuivataan sen jälkeen sumuttamalla ja mikronisoidaan Jet Pulverizer -tyyppisellä myllyllä niin, että saadaan 1,2 mikronin raekoostumus.The product is then spray dried and micronized with a Jet Pulverizer type mill to give a 1.2 micron granule composition.

Näin saadun piidioksidin fyysi11 is-kemia 11iset ominaisuudet ovat seuraavat: 2The physical and chemical properties of the silica thus obtained are as follows: 2

Pinta BET 180 m /g 2Surface BET 180 m / g 2

Pinta CTAB 170 m /g 3 Ö1jynottokyky 350 cm /100 g pH 6,8Surface CTAB 170 m / g 3 Absorption capacity 350 cm / 100 g pH 6.8

Piidioksidin kemialliset analyysit on ryhmitelty seuraavaan taulukkoon.The chemical analyzes of silica are grouped in the following table.

ionit SO4 AI Fe Ca Cions SO4 AI Fe Ca C

ppM 500 200 120 300 10 ! 36 89899ppM 500 200 120 300 10! 36 89899

Pintakemia kvantifioidaan eeuraavin parametrein:Surface chemistry is quantified by the following parameters:

Ho korkeampi kuin 3,3 PZC = 3,6Ho higher than 3.3 PZC = 3.6

Ei pyridiinin adeorptiovoitä YhteensopivuusNo pyridine adsorption butter Compatibility

Aineosat Fluoridi Pyrofosfaatti Klorheksidiini- SinkkiIngredients Fluoride Pyrophosphate Chlorhexidine- Zinc

NaF Na/K diglukonaatti ZnS04 % yhteen- 90 95 70 60 sopivaNaF Na / K digluconate ZnSO 4% combined 90 95 70 60 suitable

Saimexkfci 7 Tässä esimerkissä kuvataan sen piidioksidikakun valmistaminen, joka on perustuotteena esimerkkien Θ-12 piidioksideille.Saimexkfci 7 This example describes the preparation of the silica cake which is the basic product for the silicas of Examples Θ-12.

Lämmön- ja pH-arvonsäätöjärjestelmällä sekä Mixel-tyyppisellä sekoitusjärjestelmällä varustettuun 30 l:n reaktioastlaan viedään 1,4 1 natriumeilikaattia Si02/Na20 -suhteeltaan 3,45 o ja Si02 -väkevyydeltään 135 g/1, joka on esikuumennettu 75 C: een. Kun sekoittaminen on pantu käyntiin (300 1/min), kuumen- o netaan näin saatu eeospohja 85 C:een.A 30 l reaction vessel equipped with a heat and pH control system and a Mixel-type stirring system is charged with 1.4 l of sodium silicate with a SiO 2 / Na 2 O ratio of 3.45 ° and a SiO 2 concentration of 135 g / l, preheated to 75 ° C. After stirring (300 l / min), the eeo base thus obtained is heated to 85 ° C.

Kun lämpötila on saavutettu, aletaan lisätä samanaikaisesti tätä samaa natriumeilikaattia virtaamalla 0,28 1/min sekä o 75 C:een esikuumennettua rikkihappoa väkevyydeltään 80 g/1 virtaamalla 0,16 1/min.When the temperature has been reached, the same sodium silicate is added simultaneously at a flow rate of 0.28 l / min and sulfuric acid preheated to 75 ° C at a concentration of 80 g / l at a flow rate of 0.16 l / min.

Ympäristön keskimääräinen pH-arvo samanaikaisesti tapahtuvan lisäyksen aikana on 9,8.The average pH of the medium during the simultaneous addition is 9.8.

Kun samanaikaista lisäämistä on jatkettu 47 min ajan, lopetetaan silikaatin lisääminen ja jatketaan hapon lisäämistä samalla virtaamalla kunnes saavutetaan pH-arvo 8. Tässä tilassa 37 39899 o saatetaan reaktioseokeen lämpötila 95 C-.een 10 minuutissa jatkaen samalla hapon lisäämistä reaktioseokeen pH:n stabi-loimiseksi arvoon 4,2 tässä samassa ajassa.After the co-addition has been continued for 47 minutes, stop the addition of silicate and continue the acid addition with the same flow until a pH of 8 is reached. In this state, 37 39899 ° C is brought to 95 ° C in 10 minutes while continuing to add acid to the reaction mixture. to 4.2 at this same time.

Sen jälkeen seoksen annetaan kypsyä 15 min ajan tässä pH-ar-o vossa ja 95 C:ssa.The mixture is then allowed to mature for 15 minutes at this pH and 95 ° C.

Sitten seos suodatetaan ja kosteaa kakkua huuhdellaan deponoidulla vedellä kunnes suodoksen johtavuus on 2000 ^uS/cm.The mixture is then filtered and the moist cake is rinsed with deposited water until the conductivity of the filtrate is 2000 μS / cm.

Saatu kakku tässä tilassa on lähtökohtana valmistettaessa pintakemialtaan kontrolloituja piidioksideja esimerkkien Θ-12 mukaisesti .The cake obtained in this state is used as a starting point for the preparation of surface chemically controlled silicas according to Examples Θ-12.

Esimerkki 8Example 8

Otetaan esimerkissä 7 saatu kakku.Take the cake obtained in Example 7.

Tämä kakku dispergoidaan deionoituun veteen niin, että muodostuu suspensio, joka sisältää piidioksidia 100 g/1 ja suspensio suodatetaan tämän jälkeen. Toimenpide kerrataan kunnes saadaan suodoksen johtavuudeksi 100 ^uS/cm.This cake is dispersed in deionized water to form a suspension containing 100 g / l of silica and the suspension is then filtered. The procedure is repeated until the conductivity of the filtrate is 100 μS / cm.

Sitten kakku dispergoidaan uudelleen suspensiomuodossa, väkevyyden ollessa 150 g/1, deionoituun veteen jonka pH saatetaan arvoon 6 etikkahappoa lisäämällä.The cake is then redispersed in suspension form at a concentration of 150 g / l in deionized water, the pH of which is adjusted to 6 by adding acetic acid.

Suodatuksen jälkeen suoritetaan yksi viimeinen huuhtelu deio-noidulla vedellä.After filtration, one final rinse with Deio-treated water is performed.

Sitten tuote kuivataan sulauttamalla ja jauhetaan forplex-tyyppieellä myllyllä niin, että saadaan raekoostumukseksi 9,0 yum.The product is then dried by melting and ground in a forplex-type mill to give a grain composition of 9.0 .mu.m.

38 3989938 39899

Esimerkki 9Example 9

Esimerkin 7 mukaisesti toimien saatua kakkua huuhdellaan deponoidulla vedellä kunnes saadaan suodokeen johtavuudeksi 500 /US/cm.The cake obtained by proceeding according to Example 7 is rinsed with deposited water until the conductivity of the filtrate is 500 / US / cm.

Sitten kakku huuhdellaan 10 1:11a vettä, jonka pH on saatettu arvoon 4 glukonihappoa lisäämällä.The cake is then rinsed with 10 l of water adjusted to pH 4 by the addition of gluconic acid.

Tämän jälkeen suoritetaan yksi viimeinen huuhtelu deionoidulla vedellä.One final rinse with deionized water is then performed.

Kakku hajotetaan tasakoosteisen suspension saamiseksi ja lisätään sekoittaen 8,5 g bariumasetaattia <Ba(C2H202, H2O).The cake is broken down to obtain a homogeneous suspension and 8.5 g of barium acetate <Ba (C2H2O2, H2O) are added with stirring.

Seoksen annetaan kypsyä 30 min ajan.The mixture is allowed to cook for 30 minutes.

Sen jälkeen tuote kuivataan sumuttamalla ja jauhetaan forplex-tyyppisellä myllyllä niin, että saadaan raekoostumukseksi 9,0 /um.The product is then spray-dried and ground in a forplex-type mill to give a grain composition of 9.0.

Esimerkki 10Example 10

Esimerkin 7 mukaisesti toimien saatua kakkua huuhdellaan deionoidulla vedellä kunnes saadaan suodokeen johtavuudeksi 500 ^uS/cm.The cake obtained by operating according to Example 7 is rinsed with deionized water until a conductivity of the filtrate of 500 μS / cm is obtained.

Sitten kakku dispergoidaan uudelleen euepensiomuodosea, väkevyyden ollessa 150 g/1, deponoituun veteen ja veden pH saatetaan arvoon 6 etikkahappoa lisäämällä.The cake is then redispersed in a euepension formulation at a concentration of 150 g / l in deposited water and the pH of the water is adjusted to 6 by adding acetic acid.

Lisätään sekoittaen 25 g bariumhydroksidia Ba<OH>2, 8H20) ja seoksen annetaan kypaya 30 min a;jan25 g of barium hydroxide (Ba <OH> 2, 8H2O) are added with stirring and the mixture is allowed to cool for 30 minutes.

Sitten suspensio suodatetaan ja huuhdellaan 5 1:11a vettä.The suspension is then filtered and rinsed with 5 l of water.

Tämän jälkeen tuote kuivatetaan sumuttamalla ja jauhetaan forplex-tyyppise 1 lä mynyna niin, että saadaan raekoostumukseksi 9,0 mikronia.The product is then spray dried and milled with forplex type 1 Mynyna to give a grain composition of 9.0 microns.

39 S 9 89939 S 9 899

Esimerkki 11Example 11

Esimerkin 7 mukaisesti toimien saatua kakkua huuhdotaan deio-noidulla vedellä, kunnes suodoksen johtavuus on 100 ^uS/cm.The cake obtained by proceeding according to Example 7 is rinsed with deionized water until the conductivity of the filtrate is 100 μS / cm.

Sitten kakku dispergoidaan uudelleen suspensiomuodossa väkevyyden ollessa 150 g/1 deionoituun veteen ja veden pH saatetaan arvoon 6,3 etikkahappoa lisäämällä.The cake is then redispersed in suspension at a concentration of 150 g / l in deionized water and the pH of the water is adjusted to 6.3 by adding acetic acid.

Sen jälkeen suoritetaan yksi viimeinen huuhtelu deponoidulla vedellä.One final rinse with deposited water is then performed.

Lisätään sekoittaen 0,1 g bariumasetaattia BaCC2H202>2< ^O) ja seoksen annetaan kypsyä 30 min ajan.0.1 g of barium acetate (BaCC2H2O2) is added with stirring and the mixture is allowed to mature for 30 minutes.

Sitten tuote kuivataan sulauttamalla ja jauhetaan forplex-tyyp-pisellä myllyllä niin, että saadaan raekoostumukseksi 9,0 mikronia.The product is then dried by melting and ground in a forplex-type mill to give a grain composition of 9.0 microns.

Esimerkki 12Example 12

Otetaan esimerkin 7 mukainen kakku. Tämä kakku dispergoidaan deiosoituun veteen niin, että muodostuu suspensio, jonka piidioksidiväkevyys on 100 g/1 ja suspensio suodatetaan tämän jälkeen. Toimenpide kerrataan, kunnes saadaan suodoksen johtavuudeksi 200 yuS/cm.Take the cake of Example 7. This cake is dispersed in deionized water to form a suspension having a silica concentration of 100 g / l and the suspension is then filtered. The procedure is repeated until the conductivity of the filtrate is 200 yuS / cm.

Sitten tuote kuivataan sulauttamalla ja jauhetaan forplex-tyyp-pisellä myllyllä niin, että saadaan raekoostumukseksi 9,0 mikronia .The product is then dried by melting and ground in a forplex-type mill to give a grain composition of 9.0 microns.

Esimerkkien 8-12 piidioksidien tunnusmerkit annetaan seuraa-vissa taulukoissa: 40 89899The characteristics of the silicas of Examples 8-12 are given in the following tables: 40 89899

Esimerkki Pinnat pH Öljynot- PZC Ho Taite- BET CTAB tokyky kerroin 2 OH/nm 2 m /g 8 250 50 6,9 12 102 4,5 >3,3 1,460 9 250 45 6,8 10 110 4 >3,3 1,457 10 250 60 7,2 12 105 3,8 >3,3 1,458 11 260 55 7,0 10 105 6 >3,3 1,457 12 250 55 7,5 12 100 3,6 >3,3 1,446Example Surfaces pH Oil intake- PZC Ho Refill- BET CTAB tolerance factor 2 OH / nm 2 m / g 8 250 50 6.9 12 102 4.5> 3.3 1.460 9 250 45 6.8 10 110 4> 3.3 1.457 10 250 60 7.2 12 105 3.8> 3.3 1.458 11 260 55 7.0 10 105 6> 3.3 1.457 12 250 55 7.5 12 100 3.6> 3.3 1.446

Kemiallinen analyysi Ionit (ppM)Chemical Analysis of Ions (ppM)

Esimerkit S04 AI Fe Ca CExamples SO 4 Al Fe Ca C

8 70 300 150 300 20 9 150 350 200 350 20 10 200 400 200 350 50 11 50 230 120 120 20 12 200 415 200 355 208 70 300 150 300 20 9 150 350 200 350 20 10 200 400 200 350 50 11 50 230 120 120 20 12 200 415 200 355 20

Yhteensopivuudetcompatibilities

Esimerkit Fluoridi Pyrofoefaatti Klorheksidiini- Sinkki NaF Na/K diglukonaatti ZnSO^ 8 90 95 75 70 9 95 98 80 85 10 96 95 70 65 11 95 96 98 80 12 95 95 70 60 4i 89899Examples Fluoride Pyrophosphate Chlorhexidine-Zinc NaF Na / K digluconate ZnSO 4 90 90 75 70 9 95 98 80 85 10 96 95 70 65 11 95 96 98 80 12 95 95 70 60 4i 89899

Vertailuesimerkki 13Comparative Example 13

Vertailun vuoksi annetaan seuraavassa taulukossa hammastah-nakoostumuksisea yleisesti käytettävien kaupallisten piidioksidien yhteensopivuusmääritykset samoin kuin niiden fyysillis-kemiallieet ominaisuudet.For comparison, the following table provides compatibility assays for commonly used commercial silicas with toothpaste compositions as well as their physicochemical properties.

Määritykset on tehty muualla esitettyjen testien mukaisesti.The assays have been performed according to the tests presented elsewhere.

2 22 2

Piidioksidit Pinta m /g Ho OH/nm SO^ % YhteensopivuusSilicas Surface m / g Ho OH / nm SO 2% Compatibility

Merkki CTAB BET % CHx F Zn PYRBrand CTAB BET% CHx F Zn PYR

Valmistaja painonaManufacturer by weight

Zeodent 113 50 100 43 30 0,65 1 95 0 95Zeodent 113 50 100 43 30 0.65 1 95 0 95

Hubert Z113 70 175 <3 17 0,50 1 96 0 95Hubert Z113 70 175 <3 17 0.50 1 96 0 95

Zeof innZeof inn

Syloblanc Θ1 240 400 43 17 1,56 0 90 40 95Syloblanc Θ1 240 400 43 17 1.56 0 90 40 95

GraceGrace

Syloid 244 400 ^3 17 0,7 4 90 2 90Syloid 244 400 ^ 3 17 0.7 4 90 2 90

GraceGrace

Sipernat 22S 180 190 43 16 1,0 0 90 20 90Sipernat 22S 180 190 43 16 1.0 0 90 20 90

DegussaDegussa

Tixosil 53 50 250 <^3 30 0,8 0 60 0 90Tixosil 53 50 250 <^ 3 30 0.8 0 60 0 90

Rhone Poulenc CHx = klorheksidiini, F = fluori, Zn = sinkki, Pyr = pyrofos-faatti.Rhone Poulenc CHx = chlorhexidine, F = fluorine, Zn = zinc, Pyr = pyrophosphate.

Havaitaan, että taulukossa kaikkien mainittujen tuotteiden kohdalla PZC on pienempi kuin 3.It is found that for all products mentioned in the table, the PZC is less than 3.

Esimerkki 14 Tämä esimerkki koskee jonkin, keksinnön mukaisia piidioksideja sisältävän geelimäisen, läpikuultavan hammastahnan formu-loint ia .Example 14 This example relates to the formulation of a gel-like, translucent toothpaste containing the silicas of the invention.

42 3989942 39899

Kaava on eeura&va:The formula is:

Sorbitoli (70 X vettä) : 65(ooSorbitol (70 X water): 65 (oo

Glyeeroli o,00 CMC 7mFD q 0qGlycerol o, 00 CMC 7mFD q 0q

Natriumeakarinaatti 0,20Sodium acarinate 0.20

Natriumfluoridi 0,24Sodium fluoride 0.24

Natriumbensoaatti . 0,08Sodium benzoate. 0.08

Aromiaine 2,00Flavoring 2.00

Hiova piidiokeidi, esimerkki 2 : 15,00Abrasive silica, Example 2: 15.00

Sakeuttava piidiokeidi, esimerkki 6 8,00Thickening silica, Example 6 8.00

Klorheksidiinidiglukonaatti 1,00Chlorhexidine digluconate 1.00

Tislattu vesi f qqDistilled water f qq

Hammastahna tarjoaa hyviä Teologisia ominaisuuksia ja pursot-tuu sopivasti alun alkaen ja varastoinnin jälkeen <2 kuukautta) .Toothpaste offers good Theological properties and extracts suitably from the beginning and after storage <2 months).

Hammastahnan ulkonäköön perustuva asiantuntijalausunto varmistaa, että pursotteen kiinteys on moitteeton ja että se esiintyy läpikuultavan geelin muodossa.An expert opinion based on the appearance of the toothpaste ensures that the extrudate has a firm firmness and is in the form of a translucent gel.

Tämä hammastahna tarjoaa lisäksi seuraavat ominaisuudet: pH-liuoe 10 * : 6,8This toothpaste also offers the following properties: pH solution 10 *: 6.8

Hiomiskyky kuparilla standardi LNE (mg) : 5,6Grinding ability with copper standard LNE (mg): 5.6

Plastinen viskositeetti (Pa.s) : 0,5Plastic viscosity (Pa.s): 0.5

Anti-bakteerinen toiminta havaittavissa.Anti-bacterial activity detectable.

EgimerKki 1? Tämä esimerkki koskee jonkin tahnamaisen, läpikuultamattoman hammastahnan formulointia.EgimerKki 1? This example relates to the formulation of a paste-like, opaque toothpaste.

Kaava on seuraava:The formula is as follows:

Glyeeroli 22,00 CMC 7mFD 1,0 43 39899Glycerol 22.00 CMC 7mFD 1.0 43 39899

Natriumeakarinaatti 0,20Sodium acarinate 0.20

Natriummonofluorofosfaatti 0,76Sodium monofluorophosphate 0.76

Natriumfluoridi 0,10Sodium fluoride 0.10

Natriumlauryylieulfaatti (30 % vettä) 4,67Sodium lauryl sulphate (30% water) 4.67

Natriumbeneoaatti 0,10Sodium benzoate 0.10

Aromiaine : 0,90Flavoring agent: 0.90

Titaanioksidi 1,00Titanium oxide 1.00

Hiova piidioksidi, esimerkki 5 31,50Abrasive silica, Example 5 31.50

ZnS04, 7 H20 0,48ZnSO 4, 7 H 2 O 0.48

Tislattu vesi 37,29Distilled water 37.29

Luonnollisesti keksintö ei mitenkään rajoitu kuvailtuihin toteutusmuotoihin, jotka on annettu ainoastaan esimerkkeinä. Se käsittää varsinkin kaikki menetelmät, jotka ovat kuvailtujen menetelmien teknisiä vastineita samoin kuin niiden yhdistelmiä, mikäli nämä pannaan täytäntöön vaadittavan suojan puitteissa.Of course, the invention is in no way limited to the described embodiments, which are given by way of example only. It covers, in particular, all methods which are the technical equivalent of the methods described, as well as combinations thereof, provided that they are implemented within the framework of the required protection.

Claims (40)

1. Kiseldioxid, kännetecknad av att den är kompatibel med produkter av guanidintyp och speciellt klorhexidin minst 65-procentigt och speciellt minst 90-procentigt.1. Silica, characterized in that it is compatible with guanidine-type products and especially chlorhexidine at least 65% and especially at least 90%. 2. Kiseldioxid enligt patentkravet 1, kännetecknad av att den därtill är kompatibel med zink minst 50-procentigt, fö-reträdesvis 80-procentigt.Silica according to claim 1, characterized in that it is compatible with zinc at least 50%, preferably 80%. 3. Kiseldioxid kompatibel med i synnerhet produkter av guanidintyp och speciellt klorhexidin, kännetecknad av att den uppvisar sädan ytkemi att dess aciditetsfunktion Ho överstiger 3,3.3. Silica compatible with, in particular, guanidine-type products and especially chlorhexidine, characterized in that it exhibits such surface chemistry that its acidity function Ho exceeds 3.3. 4. Kiseldioxid enligt patentkravet 3, kännetecknad av att den uppvisar ett infrarödspektrum för adsorptionen av pyri-din som i jämförelse med pyridinens spektrum uppvisar endast en förskjutning som är högst 10 cm'1, speciellt högst 5 cm1.Silica according to claim 3, characterized in that it exhibits an infrared spectrum for the adsorption of pyridine which, in comparison with the pyridine spectrum, exhibits only a displacement of not more than 10 cm -1, especially not more than 5 cm 1. 5. Kiseldioxid enligt patentkravet 4, kännetecknad av att ovannämnda förskjutning är noli.Silica according to claim 4, characterized in that the aforementioned displacement is zero. 6. Kiseldioxid enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknad av att den uppvisar en anjonhalt av typen S042', ·. Cl', N03', P043', C032' högst 5 10'3 mol/100 g kiseldioxid.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it has an anion content of type SO42 ', ·. Cl ', NO3', PO43 ', CO32' not more than 10'3 mol / 100 g silica. 7. Kiseldioxid enligt patentkravet 6, kännetecknad av att den uppvisar en halt av ovannämnda anjoner som är högst 1 10'3, speciellt högst 0,2·10'3 mol/100 g kiseldioxid.Silica according to claim 6, characterized in that it has a content of the above-mentioned anions which is not more than 1 10'3, especially not more than 0.2 · 10'3 mol / 100 g silica. 8. Kiseldioxid enligt patentkravet 6 eller 7, kännetecknad av att den uppvisar en sulfathalt, uttryckt som S04, av högst 0,5 %; företrädesvis högst 0,1 % och speciellt högst 0,02 %.Silica according to claim 6 or 7, characterized in that it has a sulfate content, expressed as SO4, of not more than 0.5%; preferably at most 0.1% and especially at most 0.02%. 9. Kiseldioxid enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknad av att den uppvisar en sädan ytkemi att OH-ta- 51 89899 let, uttryckt som OH/nm2, är högst 15 och speciellt högst 12.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it has such a surface chemistry that the OH-number, expressed as OH / nm2, is at most 15 and especially at most 12. 10. Kiseldioxid enligt ndgot av de föregdende patentkraven, kännetecknad av att den uppvisar en noli-laddningspunkt (PZC) av minst 3, speciellt mellan 4 och 6.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it has a zero charge point (PZC) of at least 3, especially between 4 and 6. 11. Kiseldioxid enligt ndgot av de föregdende patentkraven, kännetecknad av att den uppvisar en aluminiumhalt av högst 500 ppm.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it has an aluminum content of not more than 500 ppm. 12. Kiseldioxid enligt ndgot av de föregdende patentkraven, kännetecknad av att den uppvisar en jarnhalt av högst 200 ppm.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it has an iron content of not more than 200 ppm. 13. Kiseldioxid enligt ndgot av de föregdende patentkraven, kännetecknad av att den uppvisar en kalciumhalt av högst 500 ppm, speciellt högst 300 ppm.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it has a calcium content of not more than 500 ppm, especially not more than 300 ppm. 14. Kiseldioxid enligt ndgot av de föregdende patentkraven, kännetecknad av att den uppvisar en kolhalt av högst 50 ppm och speciellt högst 10 ppm.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it has a carbon content of not more than 50 ppm and especially not more than 10 ppm. 15. Kiseldioxid enligt ndgot av de föregdende patentkraven, kännetecknad av att den uppvisar ett pH av högst 8 och speciellt mellan 6,0 och 7,5.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it has a pH of not more than 8 and especially between 6.0 and 7.5. 16- Kiseldioxid enligt ndgot av de föregdende patentkraven, kännetecknad av att den uppvisar en yta BET mellan 40 och 600 m2/g.16- Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it has a surface BET between 40 and 600 m2 / g. 17. Kiseldioxid enligt ndgot av de föregdende patentkraven, kännetecknad av att dess CTAB-yta är mellan 40 och 400 m2/g.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that its CTAB surface is between 40 and 400 m2 / g. 18. Kiseldioxid enligt ndgot av de föregdende patentkraven, kännetecknad av att dess BET-yta dr mellan 40 och 300 m2/g.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that its BET surface area is between 40 and 300 m2 / g. 19. Kiseldioxid enligt patentkravet 18, kännetecknad av att dess CTAB-yta dr mellan 4 och 100 m2/g. 52 ’3 9 8 99Silica according to claim 18, characterized in that its CTAB surface area is between 4 and 100 m2 / g. 52 '3 9 8 99 20. Kiseldioxid enligt nägot av patentkraven 1-17, känne-tecknad av att dess BET-yta är mellan 120 och 450 m2/g, spe-ciellt 120 och 200 m2/g.Silica according to any one of claims 1 to 17, characterized in that its BET surface is between 120 and 450 m2 / g, especially 120 and 200 m2 / g. 21. Kiseldioxid enligt patentkravet 20, kännetecknad av att dess CTAB-yta är mellan 120 och 400 m2/g.Silica according to claim 20, characterized in that its CTAB surface is between 120 and 400 m2 / g. 22. Kiseldioxid enligt nägot av patentkraven 1-17, kännetecknad av att dess BET-yta är mellan 80 och 200 m2/g.Silica according to any of claims 1-17, characterized in that its BET surface area is between 80 and 200 m2 / g. 23. Kiseldioxid enligt patentkravet 22, kännetecknad av att dess CTAB-yta är mellan 80 och 200 m2/g.Silica according to claim 22, characterized in that its CTAB surface is between 80 and 200 m2 / g. 24. Kiseldioxid enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknad av att dess oijeupptagningsförmäga är mellan 80 och 500 cm3/g.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that its oil absorption capacity is between 80 and 500 cm3 / g. 25. Kiseldioxid enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknad av att dess genomsnittliga partikelstorlek är mellan 1 och 10 μιη.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that its average particle size is between 1 and 10 μιη. 26. Kiseldioxid enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknad av att dess medeldensitet är mellan 0,01 och 0,3.Silica according to any of the preceding claims, characterized in that its mean density is between 0.01 and 0.3. . 27. Kiseldioxid enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknad av att det är frägan om utfälld kiseldioxid.. Silica according to any of the preceding claims, characterized in that it is the question of precipitated silica. 28. Förfarande för framställning av en kiseldioxid kompati-bel med guanidiner, speciellt klorhexidin, enligt nägot av de föregäende patentkraven av den typ som omfattar en reaktion av ett silikat med en syra för erhällande av en kisel-dioxidsuspension eller -gel, en separering och en torkning av kiseldioxiden, kännetecknat av att efter separeringen av kiseldioxiden utförs en skiljning av den frän denna separering resulterande kakan med vatten tills filtratets konduk-tivitet är högst 200 μ3/αη. 53 89899A process for preparing a silica compatible with guanidines, especially chlorhexidine, according to any of the preceding claims of the type comprising a reaction of a silicate with an acid to obtain a silica suspension or gel, a separation and a drying of the silica, characterized in that after the separation of the silica, a separation of the cake resulting from this separation is carried out with water until the conductivity of the filtrate is at most 200 μ3 / αη. 53 89899 29. Förfarande enligt patentkravet 28, kännetecknad av att man utför sköljningen av ovannämnda kaka med vatten tills filtratets konduktivitet är högst 100 μΞ/cm.Process according to Claim 28, characterized in that the above-mentioned cake is rinsed with water until the conductivity of the filtrate is at most 100 μΞ / cm. 30. Förfarande för framställning av en kiseldioxid kompati-bel med guanidiner, speciellt klorhexidin, enligt nägot av de föregäende patentkraven av den typ som omfattar en reaktion av ett silikat med en syra för erhällande av en kisel-dioxidsuspension eller -gel, kännetecknat av att man utför en första sköljning av den frän denna separering resulteran-de kakan med vatten och sedan en andra sköljning eller be-handling med en sur lösning.A process for preparing a silica compatible with guanidines, especially chlorhexidine, according to any of the preceding claims of the type comprising a reaction of a silicate with an acid to obtain a silica suspension or gel, characterized in that a first rinsing of the cake resulting from this separation is performed with water and then a second rinsing or treatment with an acidic solution. 31. Förfarande enligt patentkravet 30, kännetecknat av att den första sköljningen utförs tills filtratets konduktivitet är högst 2000 μβ/αη.Process according to claim 30, characterized in that the first rinsing is carried out until the conductivity of the filtrate is at most 2000 μβ / αη. 32. Förfarande enligt patentkravet 30 eller 31, kännetecknat av att nämnda sura lösning är en lösning av en organisk syra, speciellt en kömpiexbildande syra.The process according to claim 30 or 31, characterized in that said acidic solution is a solution of an organic acid, in particular a seed pie forming acid. 33. Förfarande enligt patentkravet 32, kännetecknat av att ovannämnda organiska syra väljs bland karboxylsyror, dikar-boxylsyror, aminokarboxylsyror, hydroxikarboxylsyror.Process according to claim 32, characterized in that the above organic acid is selected from carboxylic acids, dicarboxylic acids, amino carboxylic acids, hydroxycarboxylic acids. 34. Förfarande enligt patentkravet 32 eller 33, känneteck-nat av att den organiska syran väljs frän den grupp som in- ; - nehäller ättik-, glukon-, vin-, citron-, malein- och glyse- rolsyror.34. A process according to claim 32 or 33, characterized in that the organic acid is selected from the group consisting of; - contains acetic, glucon, wine, lemon, maleic and glycerol acids. 35. Förfarande enligt nägot av patentkraven 28-34, kännetecknat av att suspensionen eller gelet av den utfällda ki-seldioxiden tilläts mogna före separeringen.Process according to any one of claims 28-34, characterized in that the suspension or gel of the precipitated silica was allowed to mature before the separation. 36. Förfarande enligt nägot av patentkraven 28-35, kännetecknat av att efter reaktionen av silikatet med en syra justeras pH hos suspensionen eller gelet tili ett värde av högst 6, speciellt mellan 4 och 6. 54 39899Process according to any of claims 28-35, characterized in that, after the reaction of the silicate with an acid, the pH of the suspension or gel is adjusted to a value of not more than 6, especially between 4 and 6. 54 39899 37. Förfarande enligt nägot av patentkraven 28-36, känne-tecknat av att man tillsätter ett jordalkalisalt i antingen suspensionen eller gelet eller sedan kakan möjligen efter dess sönderdelning.37. A process according to any of claims 28-36, characterized in that an alkaline earth salt is added to either the suspension or gel or then the cake possibly after its decomposition. 38. Förfarande enligt patentkravet 37, kännetecknat av att man använder ett organiskt sait, som speciellt bildar kom-plex med jordalkali.38. A method according to claim 37, characterized in that an organic site is used, which in particular forms complexes with soil alkali. 39. Tandkrämskomposition, kannetecknad av att den innehäl-ler en kiseldioxid enligt ndgot av patentkraven 1-27 eller en kiseldioxid framställd med användning av ett förfarande enligt nägot av patentkraven 28-38.39. Toothpaste composition, characterized in that it contains a silica according to any one of claims 1-27 or a silica produced using a process according to any of claims 28-38. 40. Tandkrämskomposition enligt patentkravet 39, känneteck-nad av att den innehäller ätminstone ett element valt ur gruppen innehällande fluor, fosfater, guanidiner, zink, ko-polymerer av maleinsyra och vinyletyleter. I:40. Toothpaste composition according to claim 39, characterized in that it contains at least one element selected from the group containing fluorine, phosphates, guanidines, zinc, copolymers of maleic acid and vinyl ethyl ether. IN:
FI885079A 1987-11-04 1988-11-03 SPECIELLT MED KLORHEXIDIN KOMPATIBEL KISELDIOXID FOER ANVAENDNING I TANDKRAEMSKOMPOSITIONER FI89899C (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8715275A FR2622439B1 (en) 1987-11-04 1987-11-04 SILICA FOR TOOTHPASTE COMPOSITIONS COMPATIBLE IN PARTICULAR WITH CHLORHEXIDINE
FR8715275 1987-11-19

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI885079A0 FI885079A0 (en) 1988-11-03
FI885079A FI885079A (en) 1989-05-05
FI89899B true FI89899B (en) 1993-08-31
FI89899C FI89899C (en) 1993-12-10

Family

ID=9356468

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI885079A FI89899C (en) 1987-11-04 1988-11-03 SPECIELLT MED KLORHEXIDIN KOMPATIBEL KISELDIOXID FOER ANVAENDNING I TANDKRAEMSKOMPOSITIONER

Country Status (26)

Country Link
EP (1) EP0315503B2 (en)
JP (1) JPH0699293B2 (en)
KR (1) KR940000106B1 (en)
CN (1) CN1014317B (en)
AR (1) AR240303A1 (en)
AT (1) ATE74502T1 (en)
AU (1) AU625832B2 (en)
BR (1) BR8805841A (en)
CA (1) CA1340770C (en)
DE (1) DE3869905D1 (en)
DK (1) DK612388A (en)
ES (1) ES2036703T5 (en)
FI (1) FI89899C (en)
FR (1) FR2622439B1 (en)
GR (2) GR3004927T3 (en)
HK (1) HK6393A (en)
IE (1) IE60551B1 (en)
IL (1) IL88282A (en)
MA (1) MA21426A1 (en)
MY (1) MY103927A (en)
NZ (1) NZ226818A (en)
PH (1) PH26812A (en)
PT (1) PT88931B (en)
SG (1) SG110892G (en)
TN (1) TNSN88116A1 (en)
ZA (1) ZA888236B (en)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6143281A (en) * 1987-03-31 2000-11-07 Smithkline Beecham P.L.C. Dentifrice compositions
FR2646664B1 (en) * 1989-05-03 1991-09-06 Rhone Poulenc Chimie SILICA FOR TOOTHPASTE COMPOSITIONS COMPATIBLE IN PARTICULAR WITH AMINE ORGANIC COMPOUNDS
ATE159232T1 (en) * 1990-08-06 1997-11-15 Crosfield Joseph & Sons SILICIC ACIDS
WO1993023007A1 (en) * 1992-05-19 1993-11-25 W.R. Grace & Co.-Conn. Oral care compositions containing silica based materials with improved compatibility
US5320830A (en) * 1992-12-30 1994-06-14 The Procter & Gamble Company Oral compositions
DK0643015T3 (en) * 1993-08-07 1996-12-23 Degussa Process for producing precipitated silicic acid
DE4423493A1 (en) * 1993-08-07 1995-02-09 Degussa Process for the preparation of a precipitated silica
TR28113A (en) * 1993-12-09 1996-01-30 Raks Elektrikli Ev Aletleri Sa Automatic aerosol sprayer.
DE19642448A1 (en) * 1996-03-27 1997-10-02 Degussa Precipitated silica
DE10146325A1 (en) * 2001-09-20 2003-04-10 Degussa Precipitated silica with a high BET / CTAB ratio
US6946119B2 (en) * 2003-02-14 2005-09-20 J.M. Huber Corporation Precipitated silica product with low surface area, dentifrices containing same, and processes
AU2011203624B8 (en) 2010-01-07 2013-10-03 Colgate-Palmolive Company Oral care compositions containing a chalcone color change component
WO2011150004A2 (en) * 2010-05-25 2011-12-01 The Procter & Gamble Company Oral care compositions and methods of making oral care compositions comprising silica from plant materials
JP7000101B2 (en) * 2017-09-29 2022-01-19 株式会社フジミインコーポレーテッド Silica dispersion, polishing slurry and polishing slurry preparation kit
CN108061715B (en) * 2017-12-14 2020-04-24 石药银湖制药有限公司 Method for rapidly and quantitatively evaluating quality stability of traditional Chinese medicine injection
WO2021190979A1 (en) 2020-03-24 2021-09-30 Rhodia Operations Whitening oral care compositions

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1506330A (en) * 1966-05-24 1967-12-22 Fr Des Silicates Speciaux Sifr Improvements to silica manufacturing processes and products obtained by these processes
US4340583A (en) * 1979-05-23 1982-07-20 J. M. Huber Corporation High fluoride compatibility dentifrice abrasives and compositions
US4562066A (en) * 1984-12-11 1985-12-31 Colgate-Palmolive Company Astringent dentifrice containing monofluorophosphate
GB8529796D0 (en) * 1985-12-03 1986-01-08 Unilever Plc Precipitated silicas
GB8604985D0 (en) * 1986-02-28 1986-04-09 Unilever Plc Precipitated silicas
GB8721644D0 (en) * 1987-09-15 1987-10-21 Unilever Plc Silicas

Also Published As

Publication number Publication date
DE3869905D1 (en) 1992-05-14
ES2036703T3 (en) 1993-06-01
PH26812A (en) 1992-11-05
ZA888236B (en) 1989-08-30
MA21426A1 (en) 1989-07-01
FI885079A0 (en) 1988-11-03
CN1035268A (en) 1989-09-06
IE60551B1 (en) 1994-07-27
JPH0699293B2 (en) 1994-12-07
MY103927A (en) 1993-10-30
JPH01207228A (en) 1989-08-21
EP0315503A1 (en) 1989-05-10
IL88282A (en) 1992-11-15
NZ226818A (en) 1990-08-28
FI89899C (en) 1993-12-10
GR3004927T3 (en) 1993-04-28
IL88282A0 (en) 1989-06-30
AR240303A1 (en) 1990-03-30
DK612388A (en) 1989-05-05
EP0315503B1 (en) 1992-04-08
AU2459588A (en) 1989-06-29
FR2622439A1 (en) 1989-05-05
EP0315503B2 (en) 1995-11-08
FI885079A (en) 1989-05-05
GR3018817T3 (en) 1996-04-30
DK612388D0 (en) 1988-11-03
ATE74502T1 (en) 1992-04-15
PT88931A (en) 1988-12-01
HK6393A (en) 1993-02-05
KR940000106B1 (en) 1994-01-05
IE883324L (en) 1989-05-04
FR2622439B1 (en) 1991-07-12
KR890008021A (en) 1989-07-08
CN1014317B (en) 1991-10-16
AU625832B2 (en) 1992-07-16
SG110892G (en) 1992-12-24
TNSN88116A1 (en) 1990-07-10
PT88931B (en) 1993-01-29
CA1340770C (en) 1999-09-28
ES2036703T5 (en) 1996-03-16
BR8805841A (en) 1989-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI89899B (en) SPECIELLT MED KLORHEXIDIN KOMPATIBEL KISELDIOXID FOER ANVAENDNING I TANDKRAEMSKOMPOSITIONER
US5286478A (en) Dentifrice-compatible silica particulates
AU621117B2 (en) Silica and method of preparing same for use in toothpaste compositions
FI91387B (en) Especially with metallic cations compatible silica for toothpastes
FI87066C (en) Especially with zinc-compatible silica for toothpaste compositions
US5614177A (en) Dentifrice-compatible silica particulates
US20210230008A1 (en) Silica for oral care compositions
KR920008564B1 (en) Silica for dentifrice compositions more particularly compatible with organic amino compounds
JP2023151986A (en) Hydrotalcite compound and fluorine sustained-release agent including the same
JPS6165812A (en) Dentifrice composition
JPH0764549B2 (en) Silica for toothpaste compositions which is particularly compatible with organic amino compounds

Legal Events

Date Code Title Description
BB Publication of examined application
MM Patent lapsed

Owner name: RHONE-POULENC CHIMIE