FI116918B - Strålformare - Google Patents

Claims (8)

1. Strälformare, som är avsedd att anvär samband med en kvasi-monokromatisk ljuskäll< 5 särskilt för att avrunda, ellipsera, koll: divergera, konvergera en ljussträle/-strälai och/eller för ett motsvarande ändamäl och, vill· tillverkad av väsentligen ljusgenomsläppligt mate som ett ljusets gäng styrande transmissionse] 10 (3)/1 vilket man har ätminstone delvis utn^ binäriska ytrelief-typiska diffraktiva strukt vars lokala gallerperioder är optimerade i re] till en längd- och tvärriktning samt en optisl· väsentligen enligt Braggs diffraktionsgeometri f< 15 ästadkomma maximal diffraktionseffekt eller fö motsvarande ändamäl/ kannetecknad därav, strälformaren (3) är anordnad med transmissionselement (3'), som är integrerat p sammanbildat sätt med ljuskallan (1) ocb, som 20 ljusträlen/-strälarna (R) omedelbart vidare däri varvid transmissionselementets (3’) ätminstoi ,. ytprofil är ätminstone delvis formad enligt Έ • ** dif fraktionsgeometri . • « · • * • « ·· i *·* 25 2. Strälformare enligt patentkravet 1, \ * · ·/·· det ljussträlarna (R) styrande transmissionseleme :***: (3) avbildningsgeometri är 1:1, kännetecknad c ··♦ ·***; att strälformarens ytprofil (3') är anordnad ] *·# niväyta pä ett diffraktiviskt sätt sä, att styrr ; .·, 30 av 1 jussträlen/-strälarna (R) , vars/v * * · [11/ infallsvinkel är over 5’ - 30*, företrädesvis 15 strälformarens ytprofil (3') är anordnad pä hybridstruktuerat sätt sä, att styrninger ljussträlen/-strälarna (R) , vars/vilkas infallsv är mindre an 15* - 40* , företrädesvis 30*, är ano 5 med en refraktivisk lins, och av ljussträ strälarna (R), vars/vilkas infallsvinkel är stör 15' - 40 *, företrädesvis 30*, pä motsvarande genom utnyttjande av en ätminstone delvis diffr Braggs gallerstruktur. 10

4. Strälformare enligt patentkravet 1, v det 1jussträlen/-strälarna (R) st yi transmissionselementets (3) avbildningsgeoi avviker sig väsentligen frän proportionen 15 kännetecknad därav, att strälformarens ytprofil är anordnad pä ett hybridstruktuerat sätt sä, at diffraktiva Braggs gallerstrukturen är anordnad ; asfärisk eller sfärisk refraktivisk yta för förverkliga Braggs villkor och för att ästadkoira 20 hög diffraktionsverkningsgrad. .. 5. Strälformare enligt nägot av de ovanst. « ·· , patentkraven 1-4, som är integrerad med en k1 • · · ·* monokromatisk ljuskälla (1), kännetecknad därav, • ft S ββ 25 strälformaren är anordnad omedelbart pä ljuskä! • * s/·: (1) yta och/eller pä ett sammanbildat sätt oird ··· ·.„· densamma sä, att den formar samtidigt en ljuski :[*]: (1) ätminstone delvis övertäckande skyddsmatris. ! 30 6. Strälformare enligt nägot av de ovanst< ftftft * .···, patentkraven 1-4, som är integrerad med en to * * • * * motsvarande sä, att den formar en ljuskällar ätminstone delvis övertäckande skyddsmatris.

7. Strälformare enligt nägot av de ovanst 5 patentkraven 1-6, som är integrerad med en k' monokromatisk ljuskälla (1), kännetecknad därav strälformaren är avsedd att bearbeta strälning, och intensitetfördelningar av en eller flera ens ljuskällor (1), säsom en led, organisk 10 resonanskavitetled (RC-LED) , vertikal kavitet (VCSEL), nägon annan halvledardiod och/eller och/eller motsvarande.

8. Strälformare enligt patentkravet 7, k 15 tecknad därav, att den är avsedd att bearbeta si ningsfälten och intensitetfördelningarna av tvä « flera ljuskällor (1) eller ljuskällamatriser säsom en led- och laser-matris och/eller motsvar-

9. Strälformare enligt nägot av de ovanst- patentkraven 1-8, kännetecknad därav, att de tillverkad frän optiskt klart material, säso *φ I* nanomeriskt, elastomeriskt, keramiskt och/i ♦ ♦ · | ·* motsvarande material, som fungerar som en isoler; • e ί " 25 icke elektricitetledande struktur (3), vars viskoi • e v·; är optimerad enligt fordringar •e* *,..ϊ tillverkningsmetodet, som skall utnyttjas. ··· • e • * • e·

10. Strälformare enligt nägot av de ovanst; : .·. 30 patentkraven 1-8, kännetecknad därav, att den • e* * ,···. tillverkats frän ett eller flera väsentligen opi 4

11. Strälformare enligt nägot av de ovanst patentkraven 1-10, kiinne tecknad därav, att vid massaproduktion, säsom formsprutn reaktionsformgjutning, gjutning, varmnarvi 5 sprutning, beläggning, duktryckning och/< motsvarande har använts en planformig ooh/' mängformig tryckplatta och/eller insert, varvi modellutformad ytprofil (31), som har modellutfo: genom en vid tryckplattans och/eller inse; 10 modellutformning användad elektronstr lasersträlprinter och/eller dylik, har repliker; samband med produkten, som skall tillverkas. • m • «· «· ♦ * · » * · • « *« * 1 • · ♦ • · ti# • ·# • » • · · # t • 1 ·«· • t • # i1« • « • m « • · ♦ ·· • · • « ««·