ES2671929T3 - Methods of sampling non-atmospheric vessels in a parallel reactor system - Google Patents

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Abstract

Un método para muestrear desde un recipiente de reacción no atmosférico de un sistema de reactor paralelo, el sistema de reactor incluye un montaje de reactor que comprende al menos dos recipientes de reacción, antecámaras dispuestas encima de cada recipiente de reacción, elementos de sellado de antecámara, una válvula de puerto dispuesta entre cada antecámara y cada recipiente de reacción y un sistema de muestreo para muestrear material de los recipientes de reacción, el sistema de muestreo comprende una bomba de muestreo, una aguja de muestreo tiene una punta y una válvula de muestreo dispuesta entre la bomba de muestreo y la punta, el método comprende: bajar la aguja de muestreo a una antecámara para formar un cierre sustancialmente hermético a los fluidos entre el miembro de sellado de la antesala y la aguja de toma de muestras; bajar la aguja de muestreo en el recipiente de reacción, el recipiente tiene material de reactor en el mismo; introducir material desde el recipiente de reacción en la aguja de muestreo para formar una barra combustible de muestra; levantar la aguja de muestreo para colocar la punta de la aguja de muestreo en la antecámara; cerrar la válvula de puerto después de colocar la punta de la aguja de muestreo en la antecámara; retraer la barra para que se disponga una primera porción entre la válvula de muestreo y la bomba de muestreo y se disponga una segunda porción entre la válvula de muestreo y la punta de la aguja de muestreo; y descargar la barra en un sustrato objetivo.A method for sampling from a non-atmospheric reaction vessel of a parallel reactor system, the reactor system includes a reactor assembly comprising at least two reaction vessels, antechambers arranged above each reaction vessel, antechamber sealing elements , a port valve arranged between each antechamber and each reaction vessel and a sampling system for sampling material from the reaction vessels, the sampling system comprises a sampling pump, a sampling needle has a tip and a sampling valve disposed between the sampling pump and the tip, the method comprises: lowering the sampling needle into an antechamber to form a substantially fluid tight seal between the antechamber sealing member and the sampling needle; Lower the sampling needle into the reaction vessel, the vessel has reactor material in it; introducing material from the reaction vessel into the sampling needle to form a sample fuel rod; lift the sampling needle to position the tip of the sampling needle in the antechamber; close the port valve after placing the tip of the sampling needle in the antechamber; retracting the bar so that a first portion is provided between the sampling valve and the sampling pump and a second portion is provided between the sampling valve and the tip of the sampling needle; and discharging the bar onto a target substrate.

Description

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DESCRIPCIONDESCRIPTION

Métodos de muestreo de recipientes no atmosféricos en un sistema de reactor paralelo Referencia cruzada a solicitud relacionadaSampling methods of non-atmospheric vessels in a parallel reactor system Cross reference to related request

Esta solicitud reivindica el beneficio de la Solicitud Provisional de Estados Unidos No. 61/817,670, presentada el 30 de abril de 2013.This application claims the benefit of U.S. Provisional Application No. 61 / 817,670, filed on April 30, 2013.

Campo de la divulgaciónDisclosure Field

El campo de la divulgación se refiere a métodos para muestrear los contenidos del reactor en sistemas de reactor en paralelo y, en realizaciones particulares, para muestrear los contenidos del reactor en recipientes de reacción presurizados.The field of disclosure relates to methods for sampling reactor contents in parallel reactor systems and, in particular embodiments, for sampling reactor contents in pressurized reaction vessels.

AntecedentesBackground

Los programas de investigación y desarrollo dirigidos al descubrimiento de materiales utilizan herramientas de selección de alto rendimiento para evaluar múltiples materiales candidatos diferentes y/o condiciones del proceso para reducir los costes y el tiempo asociados con la identificación de materiales candidatos promisorios y/o condiciones del proceso. Se han desarrollado diversos sistemas de reactores paralelos de alto rendimiento para evaluar múltiples materiales candidatos y/o condiciones de proceso mediante la realización de reacciones múltiples en paralelo (es decir, durante el mismo período de tiempo o periodo de tiempo de solapamiento).Research and development programs aimed at the discovery of materials use high-performance selection tools to evaluate multiple different candidate materials and / or process conditions to reduce the costs and time associated with the identification of promising candidate materials and / or conditions of the process. process. Various high-performance parallel reactor systems have been developed to evaluate multiple candidate materials and / or process conditions by performing multiple reactions in parallel (i.e., during the same time period or overlapping time period).

Existe una necesidad continua de métodos para muestrear los contenidos del recipiente de reacción en sistemas de reactor en paralelo que son capaces de muestrear cuando los contenidos de los recipientes de reacción están presurizados. Ejemplos de la tecnología de la técnica anterior se muestran en los documentos US2003/0211016, US2008/0286171 y US2003/0152489.There is a continuing need for methods to sample the contents of the reaction vessel in parallel reactor systems that are capable of sampling when the contents of the reaction vessels are pressurized. Examples of prior art technology are shown in documents US2003 / 0211016, US2008 / 0286171 and US2003 / 0152489.

ResumenSummary

Un aspecto de la presente divulgación se refiere a un método para muestrear un recipiente de reacción no atmosférico de un sistema de reactor paralelo. El sistema de reactor incluye una matriz de reactor que comprende al menos dos recipientes de reacción, antecámaras dispuestas encima de cada recipiente de reacción, elementos de sellado de antecámara, una válvula de puerto dispuesta entre cada antecámara y cada recipiente de reacción y un sistema de muestreo para muestrear el material de los recipientes de reacción. El sistema de muestreo incluye una bomba de muestreo, una aguja de muestreo que tiene una punta y una válvula de muestreo dispuesta entre la bomba de muestreo y la punta. La aguja de muestreo se baja dentro de una antecámara para formar un cierre sustancialmente hermético a los fluidos entre el elemento de sellado de la antesala y la aguja de muestreo. La aguja de muestreo se baja dentro del recipiente de reacción que tiene material de reactor en su interior. El material del recipiente de reacción se introduce en la aguja de muestreo para formar una barra de muestra. La aguja de muestreo se levanta para colocar la punta de la aguja de muestreo en la antecámara. La válvula de puerto se cierra después de colocar la punta de la aguja de muestreo en la antecámara. La barra se retrae de modo que una primera porción se dispone entre la válvula de muestreo y la bomba de muestreo y se dispone una segunda porción entre la válvula de muestreo y la punta de la aguja de muestreo. La barra se descarga en un sustrato objetivo.One aspect of the present disclosure relates to a method for sampling a non-atmospheric reaction vessel from a parallel reactor system. The reactor system includes a reactor matrix comprising at least two reaction vessels, antechambers disposed above each reaction vessel, antechamber sealing elements, a port valve disposed between each antechamber and each reaction vessel and a system of sampling to sample the material of the reaction vessels. The sampling system includes a sampling pump, a sampling needle that has a tip and a sampling valve disposed between the sampling pump and the tip. The sampling needle is lowered into a antechamber to form a substantially fluid tight seal between the sealing element of the anteroom and the sampling needle. The sampling needle is lowered into the reaction vessel that has reactor material inside. The material from the reaction vessel is introduced into the sampling needle to form a sample bar. The sampling needle is raised to place the tip of the sampling needle in the antechamber. The port valve closes after placing the tip of the sampling needle in the antechamber. The bar is retracted so that a first portion is disposed between the sampling valve and the sampling pump and a second portion is disposed between the sampling valve and the tip of the sampling needle. The bar is unloaded on a target substrate.

Existen diversos refinamientos de las características indicadas en relación con los aspectos de la presente divulgación mencionados anteriormente. También se pueden incorporar características adicionales en los aspectos mencionados anteriormente de la presente divulgación. Estos refinamientos y características adicionales pueden existir individualmente o en cualquier combinación. Por ejemplo, varias características discutidas a continuación en relación con cualquiera de las realizaciones ilustradas de la presente divulgación pueden incorporarse en cualquiera de los aspectos de la presente descripción descritos anteriormente, solos o en cualquier combinación.There are various refinements of the characteristics indicated in relation to the aspects of the present disclosure mentioned above. Additional features may also be incorporated in the aforementioned aspects of the present disclosure. These refinements and additional features may exist individually or in any combination. For example, several features discussed below in relation to any of the illustrated embodiments of the present disclosure may be incorporated into any of the aspects of the present description described above, alone or in any combination.

Breve descripción de los dibujosBrief description of the drawings

La Figura 1 es una vista en perspectiva de un sistema de reactor dentro de una caja de guantes;Figure 1 is a perspective view of a reactor system inside a glove box;

La Figura 2 es una vista frontal de una matriz de reactor y sistema de distribución;Figure 2 is a front view of a reactor matrix and distribution system;

Las Figuras 3-4 son vistas frontales de un recipiente de reacción del montaje de la Figura 2;Figures 3-4 are front views of a reaction vessel of the assembly of Figure 2;

La Figura 5 es una vista frontal del montaje de placa superior del montaje que muestra un elemento de sellado, antecámara y válvula de acceso antes de la inserción de una aguja de inyección;Figure 5 is a front view of the top plate assembly of the assembly showing a sealing element, antechamber and access valve before insertion of an injection needle;

La Figura 6 es una vista frontal del montaje de placa superior de la matriz que muestra un elemento de sellado, una antecámara y una válvula de puerto tras la inserción de la aguja de inyección en la antecámara;Figure 6 is a front view of the matrix top plate assembly showing a sealing element, an antechamber and a port valve after insertion of the injection needle into the antechamber;

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La Figura 7 es una vista frontal del montaje de placa superior del montaje que muestra un elemento de sellado, una antecámara y una válvula de puerto después de la inserción de la aguja de inyección a través de la válvula de puerto abierto;Figure 7 is a front view of the top plate assembly of the assembly showing a sealing element, an antechamber and a port valve after insertion of the injection needle through the open port valve;

La Figura 8 es una vista frontal de tres elementos de sellado alternativos para sellar una antecámara;Figure 8 is a front view of three alternative sealing elements for sealing an antechamber;

La Figura 9 es una vista en perspectiva de una matriz de reactor y matriz de inyección;Figure 9 is a perspective view of a reactor matrix and injection matrix;

La Figura 10 es una vista en perspectiva de la matriz de reactores de la Figura 9;Figure 10 is a perspective view of the reactor matrix of Figure 9;

La Figura 11 es una vista frontal de un recipiente de reacción del montaje de reactores de la Figura 9;Figure 11 is a front view of a reaction vessel of the reactor assembly of Figure 9;

La Figura 12 es una vista frontal de un sistema dispensador para inyectar fluido en los recipientes de reacción;Figure 12 is a front view of a dispensing system for injecting fluid into the reaction vessels;

La Figura 13 es una vista en perspectiva de una sección transversal de un elemento de sellado de un contenedor de desechos antes de la inserción de una aguja de inyección;Figure 13 is a perspective view of a cross section of a sealing element of a waste container before insertion of an injection needle;

La Figura 14 es una vista en perspectiva de una sección transversal de un elemento de sellado de un contenedor de desechos después de la formación de un sello entre la aguja de inyección y una junta tórica y antes de la abertura de la válvula de puerto;Figure 14 is a perspective view of a cross section of a sealing element of a waste container after the formation of a seal between the injection needle and an O-ring and before the opening of the port valve;

La figura 15 es una vista en perspectiva de un corte transversal de un elemento de sellado del contenedor de residuos después de que se abre la válvula de acceso y la aguja de inyección está completamente posicionada para suministrar el desecho.Figure 15 is a perspective view of a cross-section of a sealing element of the waste container after the access valve is opened and the injection needle is fully positioned to deliver the waste.

La Figura 16 es una vista frontal de un montaje de placa superior para muestrear recipientes de reacción y un montaje de muestreo antes de la inserción de una aguja de muestreo;Figure 16 is a front view of a top plate assembly for sampling reaction vessels and a sampling assembly before insertion of a sampling needle;

La figura 17 es una vista frontal de un montaje de placa superior para muestrear recipientes de reacción y un montaje de muestreo tras la inserción de la aguja de muestreo en la antecámara; yFigure 17 is a front view of an upper plate assembly for sampling reaction vessels and a sampling assembly after insertion of the sampling needle into the antechamber; Y

La Figura 18 es una vista frontal de un montaje de placa superior para muestrear recipientes de reacción y un montaje de muestreo después de la inserción de la aguja de muestreo a través de la válvula de puerto abierto.Figure 18 is a front view of a top plate assembly for sampling reaction vessels and a sampling assembly after insertion of the sampling needle through the open port valve.

Los caracteres de referencia correspondientes indican partes correspondientes a lo largo de los dibujos.The corresponding reference characters indicate corresponding parts throughout the drawings.

Descripción detalladaDetailed description

Haciendo referencia ahora a la figura 1, una realización de un sistema de reactor paralelo automático se designa en general como 10. El sistema 10 de reactor paralelo (también denominado aquí simplemente “sistema de reactor”) incluye componentes de reactor tales como un montaje 20 de reactor paralelo dentro de una carcasa 8 que se denomina comúnmente en la técnica como “caja de guantes”. La carcasa 8 de esta realización es sustancialmente hermético al aire con relación al ambiente circundante. En otras realizaciones, el sistema de reactor paralelo no incluye una caja de guantes (por ejemplo, una carcasa que contiene componentes del reactor tales como una matriz de reactor) y se contempla que el muestreo de acuerdo con esta divulgación puede tener lugar fuera de una caja de guantes.Referring now to Figure 1, an embodiment of an automatic parallel reactor system is generally designated as 10. The parallel reactor system 10 (also referred to herein simply as "reactor system") includes reactor components such as an assembly 20 of a parallel reactor within a housing 8 which is commonly referred to in the art as a "glove box". The housing 8 of this embodiment is substantially air tight in relation to the surrounding environment. In other embodiments, the parallel reactor system does not include a glove box (for example, a housing containing reactor components such as a reactor matrix) and it is contemplated that sampling according to this disclosure may take place outside a box of gloves.

En realizaciones en las que el sistema de reactor incluye una caja de guantes, se puede introducir un gas (por ejemplo, gas inerte tal como nitrógeno o argón, o alternativamente un gas reactivo, que incluye sin limitación hidrógeno utilizado en reacciones de hidrogenación) en el sistema de reactor paralelo. El gas puede introducirse continuamente en una entrada y retirarse continuamente a través de una salida (no mostrada). La carcasa 8 puede estar presurizada para evitar que los gases ambientales entren en la carcasa. En realizaciones en las que se utiliza gas inerte, el gas inerte se puede tratar para eliminar contaminantes potenciales (vapor de agua y/u oxígeno), por ejemplo, tratando los gases en un dispositivo de lavado.In embodiments in which the reactor system includes a glove box, a gas (for example, inert gas such as nitrogen or argon, or alternatively a reactive gas, including without limitation hydrogen used in hydrogenation reactions) can be introduced into The parallel reactor system. The gas can be continuously introduced into an inlet and continuously withdrawn through an outlet (not shown). The housing 8 may be pressurized to prevent ambient gases from entering the housing. In embodiments in which inert gas is used, the inert gas can be treated to remove potential contaminants (water vapor and / or oxygen), for example, by treating the gases in a washing device.

El sistema 10 de reactor tiene tres secciones: una primera sección 18, una segunda sección (también denominada aquí cámara principal) 19 y una tercera sección 22. La segunda sección 19 de la carcasa 8 incluye la mayoría de los componentes del sistema de reactor incluyendo las matrices de reactor, reactivos, brazos robóticos y similares. La primera sección 18 y la tercera sección 22 proporcionan espacio de trabajo adicional para el usuario y pueden contener componentes auxiliares. La primera sección 18 y la tercera sección 22 pueden contener componentes de reactor tales como bandejas y recipientes individuales de reactivos, componentes de reactor tales como viales de revestimiento (es decir, tubos de ensayo) e impulsores. Dichos componentes pueden agregarse o eliminarse mediante el uso de antecámaras 31, 33 que pueden aislarse de la primera sección 18 y la tercera sección 22. Los componentes pueden agregarse luego a la antecámara (o retirarse de la antecámara si se están quitando componentes del sistema 10) al purgar las antecámaras 31, 33 con gas inerte (es decir, al menos un ciclo de vacío y lavado con gas inerte) y la presiónThe reactor system 10 has three sections: a first section 18, a second section (also referred to herein as the main chamber) 19 and a third section 22. The second section 19 of the housing 8 includes most of the components of the reactor system including reactor matrices, reagents, robotic arms and the like. The first section 18 and the third section 22 provide additional workspace for the user and may contain auxiliary components. The first section 18 and the third section 22 may contain reactor components such as trays and individual reagent vessels, reactor components such as coating vials (ie, test tubes) and impellers. Such components can be added or removed by the use of antechambers 31, 33 which can be isolated from the first section 18 and the third section 22. The components can then be added to the antechamber (or removed from the antechamber if system components 10 are being removed). ) by purging the antechambers 31, 33 with inert gas (i.e. at least one vacuum cycle and washing with inert gas) and the pressure

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es equívoca con las secciones 18, 22 primera y tercera del sistema reactor. Las antecámaras 31, 33 pueden abrirse luego a las secciones 18, 22 segunda y tercera para añadir material al sistema 10 de reacción. El sistema 10 de reactor puede tener menos de tres secciones y, en algunas realizaciones, tiene solo una sección que contiene todos los componentes del sistema del reactor (es decir, la primera sección 18 y/o la tercera sección 22 son opcionales).It is equivocal with the first and third sections 18, 22 of the reactor system. The antechambers 31, 33 can then be opened to the second and third sections 18, 22 to add material to the reaction system 10. The reactor system 10 may have less than three sections and, in some embodiments, has only one section that contains all the components of the reactor system (ie, the first section 18 and / or the third section 22 are optional).

La introducción de gases inertes dentro y fuera de la carcasa 8 puede permitir que la cantidad de vapor de agua en el sistema 10 se reduzca a menos de aproximadamente 10 ppm o incluso a menos de aproximadamente 1 ppm. El uso del gas inerte también puede permitir que la cantidad de oxígeno en el sistema se reduzca a menos de aproximadamente 10 ppm o incluso menos de aproximadamente 1 ppm. Sin embargo, el sistema del reactor puede incluir más o menos vapor de agua y oxígeno sin apartarse del alcance de la presente divulgación. Se pueden medir las concentraciones de oxígeno y agua en el gas inerte y, como en algunas realizaciones, se miden de forma semicontinua o continua.The introduction of inert gases into and out of the housing 8 may allow the amount of water vapor in the system 10 to be reduced to less than about 10 ppm or even less than about 1 ppm. The use of inert gas can also allow the amount of oxygen in the system to be reduced to less than about 10 ppm or even less than about 1 ppm. However, the reactor system may include more or less water vapor and oxygen without departing from the scope of the present disclosure. The concentrations of oxygen and water in the inert gas can be measured and, as in some embodiments, are measured semi-continuously or continuously.

Con referencia ahora a la Figura 2, se muestra una matriz 20 de reactor del sistema de reactor. La matriz 20 de reactores permite el control automatizado (y, opcionalmente, el control individual) de la temperatura, la presión y la agitación de manera que se puede realizar la optimización del material (por ejemplo, catalizador). La matriz 20 puede estar alojada en la cámara 19 principal de la carcasa 8. La matriz 20 de reactores incluye un número de recipientes 9 de reacción dentro de un bloque 11 de reacción y un montaje 13 de placa superior que sella los recipientes de reacción.Referring now to Figure 2, a reactor matrix 20 of the reactor system is shown. The array 20 of reactors allows automated control (and, optionally, individual control) of temperature, pressure and stirring so that the optimization of the material (eg, catalyst) can be performed. The matrix 20 may be housed in the main chamber 19 of the housing 8. The reactor matrix 20 includes a number of reaction vessels 9 within a reaction block 11 and a top plate assembly 13 that seals the reaction vessels.

La matriz 20 mostrada en la Figura 2 incluye ocho recipientes 9 de reacción en una disposición de 1x8. La matriz 20 puede incluir dos recipientes 9 de reacción o más, como en otras realizaciones, aproximadamente 4 recipientes de reacción o más, aproximadamente 8 recipientes de reacción o más, aproximadamente 16 recipientes de reacción o más o incluso aproximadamente 48 recipientes de reacción o más. Los recipientes de reacción pueden estar en cualquier disposición adecuada (por ejemplo, 1x8, 2x4, 4x4, etc.).Matrix 20 shown in Figure 2 includes eight reaction vessels 9 in a 1x8 arrangement. The matrix 20 may include two reaction vessels 9 or more, as in other embodiments, approximately 4 reaction vessels or more, approximately 8 reaction vessels or more, approximately 16 reaction vessels or more or even approximately 48 reaction vessels or more . The reaction vessels may be in any suitable arrangement (for example, 1x8, 2x4, 4x4, etc.).

Aunque los recipientes 9 de reacción se muestran en general en las Figuras como viales de reacción, debe entenderse que pueden usarse otros recipientes (por ejemplo, pocillos que incluyen pocillos de placas de microtitulación y similares) sin apartarse del alcance de la presente divulgación.Although the reaction vessels 9 are generally shown in the Figures as reaction vials, it should be understood that other vessels (eg, wells including microtiter plate wells and the like) can be used without departing from the scope of the present disclosure.

La matriz 20 de reactor incluye una matriz 85 de inyección (figura 9) que incluye puertos 87 de acceso y válvulas que se utilizan para aislar los contenidos de los recipientes 9 de reacción durante el suministro del material y el muestreo de la mezcla de reacción.The reactor matrix 20 includes an injection matrix 85 (Figure 9) that includes access ports 87 and valves that are used to isolate the contents of the reaction vessels 9 during material delivery and sampling of the reaction mixture.

Con referencia ahora a la figura 10 (se omite la matriz de inyección), la matriz de reactor incluye un bloque 91 de reactor calentado y una entrada 92 de fluido refrigerante (por ejemplo, de gas o líquido) y una salida 93 de fluido refrigerante. En algunas realizaciones, el líquido se utiliza como fluido de enfriamiento para una transferencia de calor máxima. Un colector 79 de distribución de fluido (figura 11) dirige el fluido de refrigeración alrededor de los recipientes 9 de reacción individuales de modo que la temperatura dentro de cada recipiente de reacción puede controlarse por debajo de la temperatura ambiente. En una realización, el flujo de fluido de enfriamiento (es decir, el gradiente de temperatura entre el fluido de enfriamiento y el contenido del recipiente de reacción) a reactores individuales puede controlarse para una respuesta térmica máxima.Referring now to Figure 10 (the injection matrix is omitted), the reactor matrix includes a heated reactor block 91 and a cooling fluid inlet 92 (eg gas or liquid) and a cooling fluid outlet 93 . In some embodiments, the liquid is used as a cooling fluid for maximum heat transfer. A fluid distribution manifold 79 (Figure 11) directs the cooling fluid around the individual reaction vessels 9 so that the temperature within each reaction vessel can be controlled below room temperature. In one embodiment, the flow of cooling fluid (ie, the temperature gradient between the cooling fluid and the contents of the reaction vessel) to individual reactors can be controlled for a maximum thermal response.

La matriz 20 de reactor incluye una entrada 82 de gas de proceso (es decir, entrada de gas reactivo o gas inerte) y salida 97 para la introducción automática de un gas de proceso que presuriza cada recipiente 9 de reacción y proporciona el ambiente para cada recipiente. Cada recipiente de reacción incluye un sensor 99 de presión para medir y transmitir la presión en cada recipiente de reacción.The reactor matrix 20 includes a process gas inlet 82 (i.e., inlet of reactive gas or inert gas) and outlet 97 for the automatic introduction of a process gas that pressurizes each reaction vessel 9 and provides the environment for each container. Each reaction vessel includes a pressure sensor 99 for measuring and transmitting the pressure in each reaction vessel.

La matriz incluye canales 30 de refrigeración (figura 3) y entradas 27 de refrigeración (figura 11) y salidas 29 de refrigeración asociadas a cada recipiente 9 de reacción. La matriz también incluye zonas 32 calentadas (figura 3) en comunicación térmica con cada recipiente 9 de reacción para controlar la temperatura de la mezcla de reacción en el recipiente. Las zonas 32 calentadas pueden calentarse mediante el uso de un calentador 90 de barra (figura 11). Se puede utilizar un termopar externo (no se muestra, pero su posición indicada por “79”) para medir indirectamente la temperatura de los contenidos de la reacción. El montaje puede incluir aislamiento para ayudar a regular la temperatura de la mezcla de reacción.The matrix includes cooling channels 30 (Figure 3) and cooling inputs 27 (Figure 11) and cooling outputs 29 associated with each reaction vessel 9. The matrix also includes heated zones 32 (Figure 3) in thermal communication with each reaction vessel 9 to control the temperature of the reaction mixture in the vessel. The heated zones 32 can be heated by the use of a bar heater 90 (Figure 11). An external thermocouple can be used (not shown, but its position indicated by "79") to indirectly measure the temperature of the reaction contents. The assembly may include insulation to help regulate the temperature of the reaction mixture.

Se utiliza un sistema 15 dispensador automático (figura 2) para suministrar material en cada recipiente 9 de reacción. El sistema 15 dispensador se controla mediante un brazo (no mostrado) que coloca el sistema dispensador sobre cada recipiente 9 de reacción para suministrar material.An automatic dispensing system 15 (Figure 2) is used to supply material in each reaction vessel 9. The dispensing system 15 is controlled by an arm (not shown) that places the dispensing system on each reaction vessel 9 to deliver material.

Con referencia ahora a la figura 3, los contenidos de los recipientes 9 de reacción se pueden agitar mediante el uso de una unidad 6 magnética que gira un agitador 21 acoplado magnéticamente. El agitador 21 puede incluir un impulsor 24 para promover la agitación de los contenidos del recipiente 9 de reacción. La rotación del imán 6 hace que un imán correspondiente en el recipiente de reacción gire junto con un agitador 21 unido al imán agitando así los contenidos del recipiente 9 de reacción. En algunas realizaciones y como se muestra en la figura 3, el agitador 21 se extiende desde un extremo 25 superior del recipiente 9 de reacción y no entra en contacto con las paredes del recipiente de reacción durante el uso.Referring now to Figure 3, the contents of the reaction vessels 9 can be agitated by the use of a magnetic unit 6 that rotates a magnetically coupled agitator 21. The stirrer 21 may include a impeller 24 to promote agitation of the contents of the reaction vessel 9. The rotation of the magnet 6 causes a corresponding magnet in the reaction vessel to rotate together with an agitator 21 attached to the magnet thereby agitating the contents of the reaction vessel 9. In some embodiments and as shown in Figure 3, the stirrer 21 extends from an upper end 25 of the reaction vessel 9 and does not come into contact with the walls of the reaction vessel during use.

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La disposición del reactor puede incluir un tubo 12 de inmersión (figura 4) con una frita 14 en cada recipiente 9 de reacción para eliminar fluidos del recipiente 9 de reacción. La frita 14 actúa para filtrar sólidos mientras retira fluido del recipiente 9. La frita 14 puede lavarse periódicamente para evitar que el exceso de material sólido obstruya la frita 14.The reactor arrangement may include an immersion tube 12 (Figure 4) with a frit 14 in each reaction vessel 9 to remove fluids from the reaction vessel 9. The frit 14 acts to filter solids while removing fluid from the container 9. The frit 14 can be periodically washed to prevent excess solid material from clogging the frit 14.

Se puede utilizar un segundo tubo 16 para la inyección de disolvente. En algunas realizaciones, el tubo 16 se elimina y el disolvente se introduce a través del tubo de inmersión lavando de este modo la frita 14.A second tube 16 can be used for solvent injection. In some embodiments, the tube 16 is removed and the solvent is introduced through the immersion tube thereby washing the frit 14.

En algunas realizaciones y como se muestra en las Figuras 3-7, el sistema de reactor paralelo incluye un elemento 3 de sellado dispuesto encima de cada recipiente 9 de reacción. El elemento 3 de sellado forma un sello sustancialmente hermético a los fluidos entre una aguja 50 de inyección del dispensador 15 del sistema (figura 2).In some embodiments and as shown in Figures 3-7, the parallel reactor system includes a sealing element 3 disposed above each reaction vessel 9. The sealing element 3 forms a substantially fluid-tight seal between an injection needle 50 of the system dispenser 15 (Figure 2).

En la figura 8 se muestran elementos 3 de sellado alternativos adecuados para cubrir una abertura dentro del montaje 13 de placa superior sobre el recipiente 9 de reacción. Una primera realización del elemento 3 de sellado se menciona como 3a en la figura 8. El elemento 3a de sellado es un septo. Para suministrar material en el recipiente 9 de reacción, la aguja 50 de inyección (figura 2) se baja y perfora el septo 3a. El septo 3a forma un sello alrededor de la aguja de inyección y aísla el recipiente de reacción de los otros componentes del sistema de reactor paralelo. La aguja de inyección continúa bajando para suministrar material como se describe más adelante.Alternative sealing elements 3 suitable for covering an opening within the upper plate assembly 13 on the reaction vessel 9 are shown in Figure 8. A first embodiment of the sealing element 3 is mentioned as 3a in Figure 8. The sealing element 3a is a septum. To supply material in the reaction vessel 9, the injection needle 50 (Figure 2) is lowered and the septum 3a pierced. Sept 3a forms a seal around the injection needle and insulates the reaction vessel from the other components of the parallel reactor system. The injection needle continues to lower to supply material as described below.

Una segunda realización del elemento 3 de sellado se menciona como 3b en la Figura 8. El montaje 13 de placa superior puede incluir inyectores 3b de pico de pato que están asentados en las aberturas dentro del montaje de placa superior. Para suministrar material en el recipiente 9 de reacción, se baja la aguja de inyección y se perfora el inyector 3b de pico de pato. El inyector 3b de pico de pato forma un sello alrededor de la aguja de inyección y aísla el recipiente de reacción de los otros componentes del sistema de reactor paralelo. La aguja de inyección continúa bajando para suministrar material como se describe más adelante. Una vez que se reduce la presión del fluido, el inyector se sella lo que evita el reflujo del fluido.A second embodiment of the sealing element 3 is referred to as 3b in Figure 8. The upper plate assembly 13 may include duckbill injectors 3b that are seated in the openings within the upper plate assembly. To supply material in the reaction vessel 9, the injection needle is lowered and the duckbill injector 3b is perforated. The duckbill injector 3b forms a seal around the injection needle and isolates the reaction vessel from the other components of the parallel reactor system. The injection needle continues to lower to supply material as described below. Once the fluid pressure is reduced, the injector is sealed which prevents the reflux of the fluid.

Se hace referencia a una tercera realización del elemento de sellado como 3c en la figura 8. El montaje 13 de placa superior puede incluir una junta 3c tórica asentada en las aberturas dentro del montaje de placa superior. Para suministrar material en el recipiente 9 de reacción, la aguja de inyección se hace descender a través de la junta 3c tórica formando así un cierre hermético al aire con la junta 3c tórica. La aguja de inyección continúa bajando para suministrar material como se describe más adelante. En otra realización, el elemento 3 de sellado puede ser una válvula (no mostrada).Reference is made to a third embodiment of the sealing element as 3c in Figure 8. The upper plate assembly 13 may include an O-ring 3c seated in the openings within the upper plate assembly. To supply material in the reaction vessel 9, the injection needle is lowered through the O-ring 3c thus forming an air tight seal with the O-ring 3c. The injection needle continues to lower to supply material as described below. In another embodiment, the sealing element 3 may be a valve (not shown).

Además del elemento 3 de sellado, el montaje 13 de placa superior puede incluir antecámaras 2 (Figuras 2-7) dispuestas encima de cada recipiente 9 de reacción. Las antecámaras 2 incluyen entradas de gas inerte y salidas de ventilación (no mostradas) para purgar la antecámara. Los gases corrosivos pueden entrar en la antecámara 2 durante el descenso de la aguja 50 en el recipiente 9 de reacción (figuras 6-7). La antecámara 2 permite que dichos gases se aíslen y eliminen (y se traten corriente abajo) impidiendo que dichos gases entren en contacto con otras partes del sistema de reactor paralelo.In addition to the sealing element 3, the upper plate assembly 13 may include antechambers 2 (Figures 2-7) disposed above each reaction vessel 9. The antechambers 2 include inert gas inlets and ventilation outlets (not shown) to purge the antechamber. Corrosive gases may enter the antechamber 2 during the descent of the needle 50 into the reaction vessel 9 (Figures 6-7). The antechamber 2 allows said gases to be isolated and eliminated (and treated downstream) preventing said gases from coming into contact with other parts of the parallel reactor system.

Además de la antecámara 2, el montaje 13 de placa superior puede incluir una válvula 5 de puerto (figuras 5-7) que aísla la antecámara 2 del recipiente 9 de reacción cuando está cerrada. La válvula 5 de acceso puede controlarse mediante un mecanismo 1 de accionamiento. La válvula 5 de acceso puede cerrarse mientras la aguja 50 de inyección desciende para acoplarse con el elemento 3 de sellado y entrar en la antecámara 2. Puede introducirse gas inerte en la antecámara 2 y retirarse (opcionalmente mientras se crea un vacío) para purgar la antecámara de cualquier fluido que esté presente en la aguja. Un sistema de presión de colector de gas (no mostrado) unido al brazo del sistema dispensador puede sellarse con un orificio 4 para aplicar un vacío y/o aplicar un gas inerte a la antecámara 2.In addition to the antechamber 2, the upper plate assembly 13 may include a port valve 5 (Figures 5-7) that isolates the antechamber 2 from the reaction vessel 9 when closed. The access valve 5 can be controlled by a drive mechanism 1. The access valve 5 can be closed while the injection needle 50 is lowered to engage the sealing element 3 and enter the antechamber 2. Inert gas can be introduced into the antechamber 2 and removed (optionally while creating a vacuum) to purge the antechamber of any fluid that is present in the needle. A gas manifold pressure system (not shown) attached to the arm of the dispensing system can be sealed with a hole 4 to apply a vacuum and / or apply an inert gas to the antechamber 2.

Después de purgar la antecámara 2, se abre la válvula 5 de acceso y se baja la aguja 50 hacia la cámara 9 de reacción (figura 7) para suministrar material en la cámara de reacción. En realizaciones en las que el recipiente 9 de reacción está a una presión diferente a la presión ambiente, la antecámara 2 se presuriza (o se aplica vacío) para coincidir sustancialmente con la presión de la cámara 9 de reacción.After purging the antechamber 2, the access valve 5 is opened and the needle 50 is lowered into the reaction chamber 9 (Figure 7) to supply material in the reaction chamber. In embodiments where the reaction vessel 9 is at a pressure different from the ambient pressure, the antechamber 2 is pressurized (or vacuum is applied) to substantially coincide with the pressure of the reaction chamber 9.

Después de suministrar material a través de la aguja 50 de inyección en el recipiente de reacción, la aguja de inyección se eleva hasta que la punta de la inyección pasa a través de la válvula 5 de puerto a la antecámara 2. La válvula 5 de puerto se cierra y el líquido restante en la aguja se dirige rápidamente hacia atrás detrás de la primera válvula 71 del sistema 15 dispensador (figura 12), por ejemplo, mediante una bomba. La antecámara 2 se purga a continuación con gas inerte y se lleva a presión ambiente para purgar cualquier vapor que pueda estar presente en la aguja 50. La aguja 50 de inyección se puede elevar y retirar después del montaje 13 de placa superior.After supplying material through the injection needle 50 into the reaction vessel, the injection needle is raised until the tip of the injection passes through the port valve 5 to the antechamber 2. The port valve 5 it is closed and the liquid remaining in the needle is quickly directed backwards behind the first valve 71 of the dispensing system 15 (figure 12), for example, by means of a pump. The antechamber 2 is then purged with inert gas and brought to ambient pressure to purge any vapor that may be present in the needle 50. The injection needle 50 can be raised and removed after mounting 13 of the upper plate.

Con referencia ahora a la Figura 12, se muestra una realización de un sistema 15 dispensador para uso en el suministro de dos materiales en cada recipiente de reacción. El sistema 15 incluye una primera válvula 71 usada para controlar el flujo de un primer fluido (por ejemplo, fluido de reacción) a través de una primera línea 80 de suministro y una segunda válvula 72 utilizada para controlar el flujo de un segundo fluido (por ejemplo, solvente) a través de una segunda línea 76 de suministro. El primer fluido es generalmente diferente al segundo fluido. Las válvulas pueden serReferring now to Figure 12, an embodiment of a dispensing system 15 for use in the supply of two materials in each reaction vessel is shown. System 15 includes a first valve 71 used to control the flow of a first fluid (e.g., reaction fluid) through a first supply line 80 and a second valve 72 used to control the flow of a second fluid (by example, solvent) through a second supply line 76. The first fluid is generally different from the second fluid. The valves can be

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accionadas electrónicamente o neumáticamente. Permitir que se dosifiquen dos fluidos mediante el uso de un sistema de suministro reduce la contaminación cruzada (y la corrosión resultante) aislando el fluido corrosivo de la atmósfera circundante y proporcionando un mecanismo para que el sistema de suministro se enjuague con un material inerte.electronically or pneumatically operated. Allowing two fluids to be dosed through the use of a delivery system reduces cross contamination (and the resulting corrosion) by isolating the corrosive fluid from the surrounding atmosphere and providing a mechanism for the supply system to be rinsed with an inert material.

Otras realizaciones del sistema dispensador utilizan válvula (s) de estilo de selección adicionales más allá de las mostradas en la Figura 12. Esto permite que los volúmenes controlados de diferentes fluidos estén contenidos dentro de una única línea y separados por espacios de aire. De esta manera, la cantidad exacta requerida de fluido corrosivo puede estar contenida detrás de la válvula de fluido descrita en la Figura 12, seguido por un espacio de aire y un fluido de tipo solvente no corrosivo. Al suministrar, la válvula de fluido se acciona y se suministra suficiente volumen para expulsar por completo el fluido corrosivo y una pequeña porción del espacio de aire. Después de que el fluido se haya suministrado por completo, no existe una cantidad masiva de líquido corrosivo que permanezca expuesto a la atmósfera circundante.Other embodiments of the dispensing system use additional selection style valve (s) beyond those shown in Figure 12. This allows controlled volumes of different fluids to be contained within a single line and separated by air spaces. In this manner, the exact amount of corrosive fluid required may be contained behind the fluid valve described in Figure 12, followed by an air gap and a non-corrosive solvent type fluid. Upon delivery, the fluid valve is operated and sufficient volume is supplied to completely expel the corrosive fluid and a small portion of the air gap. After the fluid has been supplied completely, there is no massive amount of corrosive liquid that remains exposed to the surrounding atmosphere.

El sistema 10 de reactor paralelo (figura 1) puede incluir contenedores de residuos para la eliminación de reactivos que no han reaccionado o subproductos de reacción y otros materiales corrosivos. En algunas realizaciones y como se muestra en las Figuras 13-15, cada contenedor de desechos puede estar conectado a un montaje de sellado para evitar que el material se llene de nuevo desde el contenedor de desechos. El montaje de sellado del contenedor de desechos incluye un elemento 84 de sellado y una válvula 77. El elemento 84 de sellado puede ser, por ejemplo, una junta tórica que se adapta al tamaño y la forma de la aguja 75 de suministro o el elemento de sellado puede ser un septo o inyector de pico de pato como se describió anteriormente en relación con el elemento 3 de sellado (figura 8) de la matriz 20 de reactor (figura 2). El sistema de reactor puede incluir dos o más de dichos contenedores de desechos para evitar la mezcla de dos corrientes de desechos diferentes que son capaces de reaccionar fuertemente cuando se combinan. La conmutación de flujo entre los contenedores de residuos se puede lograr por medio de una válvula selectora (no mostrada) que puede ser accionada por control de software, de acuerdo con los pasos de la química para evitar la mezcla de corrientes de desechos incompatibles.The parallel reactor system 10 (Figure 1) may include waste containers for the disposal of unreacted reagents or reaction by-products and other corrosive materials. In some embodiments and as shown in Figures 13-15, each waste container may be connected to a sealing assembly to prevent the material from being refilled from the waste container. The sealing assembly of the waste container includes a sealing element 84 and a valve 77. The sealing element 84 can be, for example, an O-ring that adapts to the size and shape of the supply needle 75 or the element The seal may be a septum or duckbill injector as described above in relation to the sealing element 3 (Figure 8) of the reactor matrix 20 (Figure 2). The reactor system may include two or more of said waste containers to avoid mixing two different waste streams that are capable of reacting strongly when combined. The flow switching between the waste containers can be achieved by means of a selector valve (not shown) that can be operated by software control, in accordance with the chemistry steps to avoid mixing incompatible waste streams.

Para inyectar residuos en el recipiente de desechos, la aguja 75 de suministro de desechos se coloca a través del elemento 84 de sellado para formar un sello primario. La válvula 77 se abre y la aguja 75 desciende por la válvula 77. Se inyecta fluido en el recipiente de desecho y la aguja 75 de suministro se retira del elemento 84 de sellado. La válvula 77 se cierra antes de que la aguja de suministro se retire del elemento sellado para evitar el rellenado de material de los contenedores de residuos.To inject waste into the waste container, the waste supply needle 75 is placed through the sealing element 84 to form a primary seal. The valve 77 opens and the needle 75 descends through the valve 77. Fluid is injected into the waste container and the supply needle 75 is removed from the sealing element 84. The valve 77 is closed before the supply needle is removed from the sealed element to prevent material refilling of the waste containers.

El sistema de sellado puede incluir un puerto 81 para introducir gas inerte en el recipiente de desechos. Un gas de purga inerte puede alimentarse continuamente al recipiente de desechos para excluir la atmósfera circundante y evitar la reacción no deseada con esa atmósfera. El gas puede tratarse (por ejemplo, en un burbujeador de neutralización) y ventilarse (no se muestra). Los burbujeadores de neutralización permiten la verificación visual de que está ocurriendo la ventilación. El burbujeador puede incluir cualquier líquido (por ejemplo, aceite) que pueda neutralizar gases corrosivos y/o gases peligrosos. Después del tratamiento, los gases se pueden ventilar a través de una campana. En algunas realizaciones, la atmósfera está ventilando continuamente.The sealing system may include a port 81 to introduce inert gas into the waste container. An inert purge gas can be continuously fed to the waste container to exclude the surrounding atmosphere and avoid unwanted reaction with that atmosphere. The gas can be treated (for example, in a neutralization bubbler) and vented (not shown). Neutralization bubbles allow visual verification that ventilation is occurring. The bubbler may include any liquid (eg oil) that can neutralize corrosive gases and / or hazardous gases. After treatment, the gases can be vented through a hood. In some embodiments, the atmosphere is continuously ventilating.

En algunas realizaciones, los contenedores de residuos se colocan fuera de la cámara 19 principal (figura 1). Las líneas entre los contenedores de desechos y la cámara 19 principal son un camino de ingreso potencial para la atmósfera circundante. Se pueden utilizar una o más válvulas de retención y/o válvulas de solenoide para evitar que la atmósfera circundante entre en la cámara 19 principal. Los desechos pueden eliminarse de los recipientes de reacción presurizando el recipiente de reacción por encima de la presión del recipiente de desechos (por ejemplo, mediante un gas inerte) para hacer que los desechos fluyan al contenedor de desechos y se vacíen por completo en el contenedor de desechos.In some embodiments, the waste containers are placed outside the main chamber 19 (Figure 1). The lines between the waste bins and the main chamber 19 are a potential entry path for the surrounding atmosphere. One or more check valves and / or solenoid valves can be used to prevent the surrounding atmosphere from entering the main chamber 19. The waste can be removed from the reaction vessels by pressurizing the reaction vessel above the pressure of the waste container (for example, by an inert gas) to cause the waste to flow into the waste container and empty completely into the container of waste

El montaje 13 de placa superior (figura 2) también se puede utilizar para muestrear los contenidos de los recipientes 9 de reacción para el análisis de los contenidos. Como se muestra en las Figuras 16-18, los contenidos de la reacción se muestrean usando un sistema 52 de muestreo que incluye una aguja 60 de muestreo que tiene una punta, una bomba 64 de muestreo y una válvula 62 de muestreo dispuesta entre la punta de la aguja 60 y la bomba 64. El sistema de muestreo 60 está típicamente automatizado. La bomba 64 está en comunicación fluida con un solvente 66 de respaldo (por ejemplo, cualquier solvente acuoso u orgánico adecuado, típicamente con viscosidad relativamente baja (por ejemplo, menos de aproximadamente 10 cP)) que se utiliza para aspirar la muestra. La bomba 64 puede ser cualquier bomba adecuada tal como una bomba de jeringa que sea operable mediante un sistema de accionamiento (no mostrado).The upper plate assembly 13 (Figure 2) can also be used to sample the contents of the reaction vessels 9 for content analysis. As shown in Figures 16-18, the reaction contents are sampled using a sampling system 52 that includes a sampling needle 60 having a tip, a sampling pump 64 and a sampling valve 62 disposed between the tip of the needle 60 and the pump 64. The sampling system 60 is typically automated. Pump 64 is in fluid communication with a backup solvent 66 (for example, any suitable aqueous or organic solvent, typically with relatively low viscosity (eg, less than about 10 cP)) that is used to aspirate the sample. Pump 64 may be any suitable pump such as a syringe pump that is operable by means of a drive system (not shown).

Para muestrear el material dentro del recipiente 9 de reacción (figura 2), la aguja 60 de muestreo se baja dentro de la antecámara 2 como se muestra en la figura 17 para formar un sellado sustancialmente hermético a los fluidos con el elemento 3 de sellado de la antecámara. Cuando la válvula 5 de puerto está cerrada, el fluido se purga de la antecámara 2 haciendo circular gas inerte a través de la antecámara. La presión entre la antecámara 2 y el recipiente 9 de reacción (figura 2) se iguala (típicamente presurizando la antecámara). A este respecto, la presente divulgación no está limitada a una presión particular. Se pueden utilizar presiones de hasta aproximadamente 3.500 kPa (aproximadamente 507 psi) o más sin limitación. Alternativamente, el recipiente 9 de reacción puede estar bajo vacío.To sample the material inside the reaction vessel 9 (Figure 2), the sampling needle 60 is lowered into the antechamber 2 as shown in Figure 17 to form a substantially fluid tight seal with the sealing element 3 of the antechamber When the port valve 5 is closed, the fluid is purged from the antechamber 2 by circulating inert gas through the antechamber. The pressure between antechamber 2 and reaction vessel 9 (Figure 2) is equalized (typically pressurizing the antechamber). In this regard, the present disclosure is not limited to a particular pressure. Pressures of up to approximately 3,500 kPa (approximately 507 psi) or more can be used without limitation. Alternatively, the reaction vessel 9 may be under vacuum.

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El recipiente de reacción se puede referir aquí como “no atmosférico” que pretende incluir realizaciones en las que el recipiente de reacción está presurizado o realizaciones en las que el recipiente de reacción está bajo vacío.The reaction vessel may be referred to herein as "non-atmospheric" which is intended to include embodiments in which the reaction vessel is pressurized or embodiments in which the reaction vessel is under vacuum.

La atmósfera del recipiente 9 de reacción puede incluir un gas inerte. Al purgar fluido de la antecámara 2 haciendo circular gas inerte a través de la antecámara, puede mantenerse una atmósfera de gas inerte en el recipiente 9 de reacción durante y después del muestreo (es decir, el recipiente de reacción incluye una atmósfera inerte antes de bajar la aguja de muestreo a la antecámara y la atmósfera inerte se mantiene al menos hasta que la válvula de puerto se cierre como se describe a continuación).The atmosphere of the reaction vessel 9 may include an inert gas. By purging fluid from the antechamber 2 by circulating inert gas through the antechamber, an atmosphere of inert gas can be maintained in the reaction vessel 9 during and after sampling (i.e., the reaction vessel includes an inert atmosphere before lowering the sampling needle to the antechamber and the inert atmosphere is maintained at least until the port valve closes as described below).

Típicamente, la aguja 60 de muestreo se llena con solvente de respaldo (en la parte superior de la aguja) cuando la punta se baja a la antecámara 2. En realizaciones en las que la antecámara 2 se presuriza, la presurización de la antecámara 2 provoca una cantidad de vapor para ingresar la aguja 60 de muestreo. Este vapor separa el solvente de respaldo del material muestreado durante la aspiración.Typically, the sampling needle 60 is filled with backing solvent (at the top of the needle) when the tip is lowered to the antechamber 2. In embodiments in which the antechamber 2 is pressurized, the pressurization of the antechamber 2 causes a quantity of steam to enter the sampling needle 60. This vapor separates the backing solvent from the sampled material during aspiration.

Después de ajustar la presión de la antecámara 2 de modo que la presión de la antecámara 2 sea sustancialmente la misma que la del recipiente 9 de reacción, la válvula 5 de acceso se abre y la aguja 60 de muestreo se baja dentro del recipiente de reacción como se muestra en la figura 18. La bomba 64 de muestreo funciona para reducir la presión en la bomba. La presión diferencial provoca una cantidad de material (que puede denominarse aquí “barrena” de muestreo de material) en el recipiente de reacción para entrar en la aguja 60 de muestreo. Este volumen de material se puede denominar aquí volumen de muestreo”.After adjusting the pressure of the antechamber 2 so that the pressure of the antechamber 2 is substantially the same as that of the reaction vessel 9, the access valve 5 opens and the sampling needle 60 is lowered into the reaction vessel as shown in figure 18. The sampling pump 64 works to reduce the pressure in the pump. The differential pressure causes a quantity of material (which can be referred to herein as the "sampling" bit of material) in the reaction vessel to enter the sampling needle 60. This volume of material can be referred to here as the sampling volume ”.

La aguja 60 de muestreo que contiene la barra de muestra se eleva entonces de manera que la punta de la aguja 60 de muestreo se coloca en la antecámara 2. La válvula 5 de acceso se cierra después de colocar la punta en la antecámara 2. La bomba 64 es operada de modo que la bala se retraiga adicionalmente en la aguja de muestreo y/o líneas de muestra. La muestra se retrae hasta que una primera porción (por ejemplo, porción corriente arriba) de la barra está dispuesta entre la válvula 62 de muestreo y la bomba 64 de muestreo y una segunda porción (por ejemplo, porción corriente abajo) está dispuesta entre la válvula 62 de muestreo y la punta de la aguja 60 de muestreo. La cantidad de solvente de retorno retraída por la bomba 64 para retraer la barra a la posición de destino se puede referir aquí como el “volumen de retracción”. Al no retraer todo el volumen de muestra más allá de la válvula 62 de muestreo, el gas no se retrae más allá de la válvula de muestreo. Dicho gas puede interferir con la exactitud y la precisión de los volúmenes de muestra distribuidos (por ejemplo, puede evitar que la barra de muestra se mueva durante la etapa de despresurización que se describe a continuación). Dicho gas puede desplazar a la barra al azar en la línea que evita que la barra se dispense en su totalidad sin suministrar parte del solvente de retorno. Suministrar el disolvente de la parte posterior distorsiona la composición de la muestra y la concentración con respecto al contenido del recipiente de reacción.The sampling needle 60 containing the sample bar is then raised so that the tip of the sampling needle 60 is placed in the antechamber 2. The access valve 5 is closed after placing the tip in the antechamber 2. The Pump 64 is operated so that the bullet is further retracted into the sampling needle and / or sample lines. The sample is retracted until a first portion (e.g., upstream portion) of the bar is disposed between sampling valve 62 and sampling pump 64 and a second portion (e.g. downstream portion) is disposed between sampling valve 62 and needle tip 60 sampling. The amount of return solvent retracted by the pump 64 to retract the bar to the target position can be referred to herein as the "retraction volume". By not retracting the entire sample volume beyond the sampling valve 62, the gas does not retract beyond the sampling valve. Said gas can interfere with the accuracy and precision of the distributed sample volumes (for example, it can prevent the sample bar from moving during the depressurization stage described below). Said gas can displace the bar at random in the line that prevents the bar from dispensing in its entirety without supplying part of the return solvent. Supplying the solvent from the back distorts the composition of the sample and the concentration with respect to the content of the reaction vessel.

En algunas realizaciones de la presente descripción, la parte corriente abajo de la barra dispuesto entre la válvula 62 de muestreo y la punta de la aguja 60 de muestreo tiene un tamaño suficientemente pequeño para que la porción corriente abajo de la barra se mantenga en la aguja 60 por tensión superficial.In some embodiments of the present description, the downstream part of the bar disposed between the sampling valve 62 and the tip of the sampling needle 60 is small enough for the downstream portion of the bar to remain in the needle 60 by surface tension.

Después de que la barra se retrae adicionalmente, la presión en la antecámara 2 se ajusta para igualar la presión en la carcasa 8 (figura 1) en la que está montada la matriz 20 de reactor. Típicamente, el recipiente 9 de reacción se presuriza con relación a la carcasa de manera que la antecámara 2 se despresuriza antes de retirar la aguja 60 de muestreo de la antecámara 2. Al ajustar la presión después de que la barra se retraiga más, se puede prevenir el suministro de una porción de la barra en la cámara de reacción. El vapor puede ser purgado de la antecámara 2 después de que la válvula de puerto se cierra haciendo circular gas inerte a través de la antecámara 2.After the bar is further retracted, the pressure in the antechamber 2 is adjusted to equalize the pressure in the housing 8 (Figure 1) in which the reactor matrix 20 is mounted. Typically, the reaction vessel 9 is pressurized relative to the housing so that the antechamber 2 is depressurized before removing the sampling needle 60 from the antechamber 2. By adjusting the pressure after the bar is further retracted, it can be prevent the supply of a portion of the bar in the reaction chamber. The steam can be purged from the antechamber 2 after the port valve is closed by circulating inert gas through the antechamber 2.

Después de ajustar la presión en la antecámara 2, la aguja 60 de muestreo puede retirarse de la antecámara 2 (es decir, elevar la aguja de muestreo de manera que la aguja de muestreo desenganche el elemento de sellado de la antecámara 3). La aguja 60 de muestreo puede reposicionarse a un sustrato objetivo (colocado encima o dentro de dicho sustrato) tal como un recipiente de análisis tal como viales de HPLC, placas de microtitulación y similares o un dispositivo analítico tal como HPLC, unidad de cromatografía de gases. En algunas realizaciones, el sustrato objetivo es otro recipiente de reacción tal como en los casos en que el primer recipiente de reacción es un reactivo o catalizador que se utiliza en el segundo recipiente para una reacción adicional. A este respecto, el término “muestreo” como se utiliza en el presente documento incluye cualquier método en el que el material se extrae de un recipiente de reacción para su uso posterior que incluye procesamiento o análisis adicional, a menos que se indique lo contrario. El término “muestreo” no debe considerarse en un sentido limitativo.After adjusting the pressure in the antechamber 2, the sampling needle 60 can be removed from the antechamber 2 (ie, raising the sampling needle so that the sampling needle disengages the sealing element of the antechamber 3). Sampling needle 60 may be repositioned to an objective substrate (placed on or within said substrate) such as an analysis vessel such as HPLC vials, microtiter plates and the like or an analytical device such as HPLC, gas chromatography unit . In some embodiments, the target substrate is another reaction vessel such as in cases where the first reaction vessel is a reagent or catalyst that is used in the second vessel for an additional reaction. In this regard, the term "sampling" as used herein includes any method in which the material is removed from a reaction vessel for later use that includes further processing or analysis, unless otherwise indicated. The term "sampling" should not be considered in a limiting sense.

Una vez que la aguja de muestreo se reposiciona, la bomba 64 se hace funcionar para despresurizar el material corriente arriba de la válvula 62 de punta. Esta despresurización hace que el gas dispuesto entre la barra de muestra y el solvente de respaldo se expanda. Este aumento de volumen se puede referir aquí como el “volumen de despresurización”. La válvula 62 de muestreo se abre y la bomba 64 se acciona para suministrar la barra de muestreo. Además del volumen de muestra en sí, el volumen de retracción se suministra para mover al menos el volumen de la muestra. También se puede suministrar una porción del volumen de despresurización para asegurar que toda la muestra se suministra sin administrar disolvente.Once the sampling needle is repositioned, the pump 64 is operated to depressurize the material upstream of the tip valve 62. This depressurization causes the gas disposed between the sample bar and the backing solvent to expand. This increase in volume can be referred to here as the "depressurization volume". The sampling valve 62 opens and the pump 64 is operated to supply the sampling bar. In addition to the sample volume itself, the retraction volume is supplied to move at least the sample volume. A portion of the depressurization volume can also be supplied to ensure that the entire sample is supplied without administering solvent.

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El volumen de retracción y los volúmenes de despresurización descritos anteriormente pueden determinarse por métodos empíricos. El volumen preciso dependerá de la dinámica del sistema, incluido el dimensionamiento de la aguja de inyección y las líneas de conexión asociadas, el solvente de retorno, el material muestreado y la presión del recipiente de reacción. El volumen de retracción generalmente puede aumentar al aumentar la presión del reactor debido a la conformidad mecánica en las líneas de muestreo. El volumen de despresurización (es decir, el volumen necesario para mantener la muestra en el sistema de muestreo sin que la muestra se retraiga o se mueva hacia la punta al abrir la válvula de muestreo) puede determinarse aspirando un volumen de muestra (opcionalmente con colorante añadido para indicar la muestra en líneas transparentes), despresurizar un volumen conocido y determinar si la muestra se mueve corriente abajo o corriente arriba después de que se abre la válvula 62 de muestreo. El volumen de despresurización se puede ajustar hasta que la muestra no se mueva corriente arriba o corriente abajo al abrir la válvula 62 de muestreo.The shrinkage volume and depressurization volumes described above can be determined by empirical methods. The precise volume will depend on the dynamics of the system, including the dimensioning of the injection needle and the associated connection lines, the return solvent, the sampled material and the pressure of the reaction vessel. The shrinkage volume can generally increase with increasing reactor pressure due to mechanical compliance in the sampling lines. The volume of depressurization (that is, the volume needed to hold the sample in the sampling system without the sample retracting or moving towards the tip when opening the sampling valve) can be determined by aspirating a sample volume (optionally with dye added to indicate the sample in transparent lines), depressurize a known volume and determine if the sample moves downstream or upstream after the sampling valve 62 is opened. The depressurization volume can be adjusted until the sample does not move upstream or downstream when the sampling valve 62 is opened.

El sistema 10 de reactor paralelo (figura 1) puede incluir varios brazos para inyectar reactivo y/o recipiente de reacción de muestreo, por ejemplo, inyectar automáticamente reactivo o tomar muestras, y puede incluir recipientes de reacción adicionales, almacenamiento de reactivo y similares. El sistema de reactor paralelo puede incluir diversos elementos de soporte para asegurar los componentes del sistema y estos elementos de soporte pueden ser distintos entre sí (similares a las secciones de la carcasa) o pueden estar conectados de manera integral en el sistema. El sistema puede emplear diversos elementos de calentamiento y/o enfriamiento para calentar y/o enfriar los reactivos y/o las mezclas de reacción. En general, estos componentes se pueden diseñar y seleccionar de acuerdo con los principios y estándares dentro del campo de procesamiento paralelo de alto rendimiento. Los diversos componentes pueden estar vinculados a un controlador (por ejemplo, un microcontrolador u ordenador que incluye un software de ordenador) que está configurado para operar automáticamente los reactores en paralelo, como entenderán los expertos en la materia.The parallel reactor system 10 (Figure 1) may include several arms for injecting reagent and / or sampling reaction vessel, for example, automatically injecting reagent or taking samples, and may include additional reaction vessels, reagent storage and the like. The parallel reactor system may include various support elements to secure the system components and these support elements may be different from each other (similar to the housing sections) or may be integrally connected to the system. The system may employ various heating and / or cooling elements to heat and / or cool the reagents and / or reaction mixtures. In general, these components can be designed and selected according to the principles and standards within the high-performance parallel processing field. The various components may be linked to a controller (for example, a microcontroller or computer that includes computer software) that is configured to automatically operate the reactors in parallel, as those skilled in the art will understand.

Los métodos de la presente divulgación para muestrear recipientes de reacción de sistemas de reactor en paralelo tienen varias ventajas en comparación con los métodos convencionales. En realizaciones en las que todo el volumen de muestra no se retrae más allá de la válvula 62 de muestreo, se evita que el gas se retraiga más allá de la válvula de muestreo. Tal gas interfiere con la exactitud y la precisión de los volúmenes de muestra suministrados. Además, para hardware dado del sistema (por ejemplo, tubo de tamaño dado y aguja de muestreo), los métodos permiten muestrear un volumen de muestra relativamente pequeño mientras se despresuriza la muestra de manera controlable. Dichos volúmenes de muestra pueden variar de aproximadamente 25 a aproximadamente 100 microlitros o incluso tan bajos como 5 microlitros. Al purgar la antecámara con un gas inerte durante el muestreo, se puede mantener un gas inerte, una atmósfera de gas inerte en el recipiente 9 de reacción durante y después del muestreo. Además, el sistema 10 de reactor paralelo descrito anteriormente puede usarse con reactivos que son corrosivos, y/o para producir productos de reacción que son corrosivos. El protocolo de muestreo puede evitar la liberación incontrolada de material corrosivo desde la aguja de muestreo (por ejemplo, liberación en otros componentes del sistema del reactor que pueden provocar corrosión). El sistema del reactor puede configurarse para reducir la cantidad de material corrosivo que puede escapar del almacenamiento del reactivo o del recipiente de reacción durante o después de la inyección del material corrosivo. Para los fines de la presente divulgación, el término “corrosivo” incluye materiales que provocan la oxidación u otro debilitamiento de los componentes comunes del sistema del reactor que provocan que los componentes tengan que ser reemplazados antes de su vida útil esperada. Dichos materiales corrosivos incluyen materiales que a su vez son corrosivos y/o que pueden reaccionar con materiales ambientales tales como vapor de agua u oxígeno o pueden reaccionar con otros reactivos de reacción para crear un material corrosivo.The methods of the present disclosure for sampling reaction vessels of parallel reactor systems have several advantages compared to conventional methods. In embodiments in which the entire sample volume does not retract beyond the sampling valve 62, the gas is prevented from retracting beyond the sampling valve. Such gas interferes with the accuracy and precision of the sample volumes supplied. In addition, for given system hardware (for example, given size tube and sampling needle), the methods allow a relatively small sample volume to be sampled while the sample is depressurized in a controllable manner. Such sample volumes may vary from about 25 to about 100 microliters or even as low as 5 microliters. By purging the antechamber with an inert gas during sampling, an inert gas, an inert gas atmosphere can be maintained in the reaction vessel 9 during and after sampling. In addition, the parallel reactor system 10 described above can be used with reagents that are corrosive, and / or to produce reaction products that are corrosive. The sampling protocol can prevent uncontrolled release of corrosive material from the sampling needle (for example, release into other components of the reactor system that can cause corrosion). The reactor system can be configured to reduce the amount of corrosive material that can escape the storage of the reagent or reaction vessel during or after the injection of the corrosive material. For the purposes of the present disclosure, the term "corrosive" includes materials that cause oxidation or other weakening of the common components of the reactor system that cause the components to have to be replaced before their expected useful life. Such corrosive materials include materials that in turn are corrosive and / or that can react with environmental materials such as water vapor or oxygen or can react with other reaction reagents to create a corrosive material.

Cuando se introducen elementos de la presente descripción o la(s) realización(es) de los mismos, los artículos “un”, “una”, “el” y “dicho” pretenden indicar que hay uno o más de los elementos. Los términos “que comprende”, “que incluye”, “que contiene” y “que tiene” pretenden ser incluyentes y significa que puede haber elementos adicionales distintos de los elementos enumerados. El uso de términos que indican una orientación particular (por ejemplo, “superior”, “inferior”, “lateral”, etc.) es por conveniencia de la descripción y no requiere ninguna orientación particular del elemento descrito.When elements of the present description or the embodiment (s) thereof are introduced, the articles "a", "one", "the" and "said" are intended to indicate that there are one or more of the elements. The terms "comprising", "including", "containing" and "having" are intended to be inclusive and means that there may be additional elements other than the elements listed. The use of terms that indicate a particular orientation (for example, "upper", "lower", "lateral", etc.) is for the convenience of the description and does not require any particular orientation of the described element.

Como se podrían hacer varios cambios en las construcciones y métodos anteriores sin apartarse del alcance de la divulgación, se pretende que toda la materia contenida en la descripción anterior y mostrada en el dibujo adjunto(s) se interpretarán como ilustrativos y no en un sentido limitativo.As several changes could be made to the previous constructions and methods without departing from the scope of the disclosure, it is intended that all the material contained in the above description and shown in the attached drawing (s) will be interpreted as illustrative and not in a limiting sense .

Claims (14)

55 1010 15fifteen 20twenty 2525 3030 3535 4040 45Four. Five 50fifty 5555 6060 6565 REIVINDICACIONES 1. Un método para muestrear desde un recipiente de reacción no atmosférico de un sistema de reactor paralelo, el sistema de reactor incluye un montaje de reactor que comprende al menos dos recipientes de reacción, antecámaras dispuestas encima de cada recipiente de reacción, elementos de sellado de antecámara, una válvula de puerto dispuesta entre cada antecámara y cada recipiente de reacción y un sistema de muestreo para muestrear material de los recipientes de reacción, el sistema de muestreo comprende una bomba de muestreo, una aguja de muestreo tiene una punta y una válvula de muestreo dispuesta entre la bomba de muestreo y la punta, el método comprende:1. A method for sampling from a non-atmospheric reaction vessel of a parallel reactor system, the reactor system includes a reactor assembly comprising at least two reaction vessels, antechambers arranged above each reaction vessel, sealing elements of the antechamber, a port valve disposed between each antechamber and each reaction vessel and a sampling system for sampling material from the reaction vessels, the sampling system comprises a sampling pump, a sampling needle has a tip and a valve sampling method arranged between the sampling pump and the tip, the method comprises: bajar la aguja de muestreo a una antecámara para formar un cierre sustancialmente hermético a los fluidos entre el miembro de sellado de la antesala y la aguja de toma de muestras;lower the sampling needle to an antechamber to form a substantially fluid tight seal between the seal member of the anteroom and the sampling needle; bajar la aguja de muestreo en el recipiente de reacción, el recipiente tiene material de reactor en el mismo;lower the sampling needle in the reaction vessel, the vessel has reactor material therein; introducir material desde el recipiente de reacción en la aguja de muestreo para formar una barra combustible de muestra;introducing material from the reaction vessel into the sampling needle to form a sample fuel rod; levantar la aguja de muestreo para colocar la punta de la aguja de muestreo en la antecámara;lift the sampling needle to place the tip of the sampling needle in the antechamber; cerrar la válvula de puerto después de colocar la punta de la aguja de muestreo en la antecámara;close the port valve after placing the tip of the sampling needle in the antechamber; retraer la barra para que se disponga una primera porción entre la válvula de muestreo y la bomba de muestreo y se disponga una segunda porción entre la válvula de muestreo y la punta de la aguja de muestreo; yretract the bar so that a first portion is disposed between the sampling valve and the sampling pump and a second portion is disposed between the sampling valve and the tip of the sampling needle; Y descargar la barra en un sustrato objetivo.unload the bar on a target substrate. 2. El método como se establece en la reivindicación 1, que comprende además despresurizar la antecámara después de retraer la barra.2. The method as set forth in claim 1, further comprising depressurizing the antechamber after retracting the bar. 3. El método como se establece en la reivindicación 1 o la reivindicación 2, en el que la segunda porción de material dispuesta entre la válvula de muestreo y la punta de la aguja de muestreo al retraer la barra se suspende en el sistema de muestreo mediante tensión superficial.3. The method as set forth in claim 1 or claim 2, wherein the second portion of material disposed between the sampling valve and the tip of the sampling needle when retracting the rod is suspended in the sampling system by surface tension. 4. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3 donde el montaje de reactores comprende 2 recipientes de reacción o más o 4 recipientes de reacción o más, 8 recipientes de reacción o más, 16 recipientes de reacción o más o 48 recipientes de reacción o más.4. The method as set forth in any one of claims 1 to 3 wherein the reactor assembly comprises 2 reaction vessels or more or 4 reaction vessels or more, 8 reaction vessels or more, 16 reaction vessels or more or 48 reaction vessels or more. 5. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4 que comprende además igualar la presión entre la antecámara y el recipiente de reacción después de bajar la aguja de muestreo hacia la antecámara y antes de bajar la aguja de muestreo hacia el recipiente de reacción.5. The method as set forth in any one of claims 1 to 4, further comprising equalizing the pressure between the antechamber and the reaction vessel after lowering the sampling needle towards the antechamber and before lowering the sampling needle towards the reaction vessel 6. El método como se establece en la reivindicación 5, en el que la antecámara está presurizada.6. The method as set forth in claim 5, wherein the antechamber is pressurized. 7. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6 que comprende además purgar el fluido de la antecámara después de bajar la aguja de muestreo en la antecámara y antes de bajar la aguja de muestreo en el recipiente de reacción.7. The method as set forth in any one of claims 1 to 6 further comprising purging the fluid from the antechamber after lowering the sampling needle in the antechamber and before lowering the sampling needle in the reaction vessel. 8. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, en el que la descarga de la barra en un sustrato objetivo comprende:8. The method as set forth in any one of claims 1 to 7, wherein the discharge of the bar into an objective substrate comprises: abrir la válvula de muestra; yopen the sample valve; Y operar la bomba para permitir que el material se descargue en un sustrato objetivo.Operate the pump to allow the material to discharge onto an objective substrate. 9. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, en el que el sustrato objetivo es un recipiente de análisis, dispositivo analítico o segundo recipiente de reacción.9. The method as set forth in any one of claims 1 to 8, wherein the target substrate is an analysis vessel, analytical device or second reaction vessel. 10. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, que comprende además purgar el vapor de la antecámara después de que se cierre la válvula de puerto.10. The method as set forth in any one of claims 1 to 9, further comprising purging steam from the antechamber after the port valve is closed. 11. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10 que comprende además abrir la válvula de puerto después de bajar la aguja de muestreo en la antecámara y antes de bajar la aguja de muestreo en el recipiente de reacción.11. The method as set forth in any one of claims 1 to 10, further comprising opening the port valve after lowering the sampling needle in the antechamber and before lowering the sampling needle in the reaction vessel. 12. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, en el que descargar la barra en un sustrato objetivo comprende:12. The method as set forth in any one of claims 1 to 11, wherein downloading the bar into an objective substrate comprises: elevar la aguja de muestreo de manera que la punta de la aguja de muestreo desengancha el elemento de sellado de la antecámara; yraise the sampling needle so that the tip of the sampling needle disengages the sealing element from the antechamber; Y posicionar la aguja de muestreo sobre el sustrato objetivo.position the sampling needle on the target substrate. 5 13. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12, en el que la presión en el recipienteThe method as set forth in any one of claims 1 to 12, wherein the pressure in the container de reacción es superior a la presión atmosférica.Reaction is higher than atmospheric pressure. 14. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 13, en el que la presión en el recipiente de reacción está por debajo de la presión atmosférica.14. The method as set forth in any one of claims 1 to 13, wherein the pressure in the reaction vessel is below atmospheric pressure. 1010 15. El método como se establece en una cualquiera de las reivindicaciones 1 a 14, en el que la bomba es una bomba de jeringa.15. The method as set forth in any one of claims 1 to 14, wherein the pump is a syringe pump.
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