ES2232441T3 - ELECTRODEPOSITE BATHROOMS CONTAINING ITRIUM. - Google Patents

ELECTRODEPOSITE BATHROOMS CONTAINING ITRIUM.

Info

Publication number
ES2232441T3
ES2232441T3 ES00921937T ES00921937T ES2232441T3 ES 2232441 T3 ES2232441 T3 ES 2232441T3 ES 00921937 T ES00921937 T ES 00921937T ES 00921937 T ES00921937 T ES 00921937T ES 2232441 T3 ES2232441 T3 ES 2232441T3
Authority
ES
Spain
Prior art keywords
yttrium
weight
electrodepositable
approximately
coating composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
ES00921937T
Other languages
Spanish (es)
Inventor
Richard F. Karabin
Alan J. Kaylo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
PPG Industries Ohio Inc
Original Assignee
PPG Industries Ohio Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by PPG Industries Ohio Inc filed Critical PPG Industries Ohio Inc
Application granted granted Critical
Publication of ES2232441T3 publication Critical patent/ES2232441T3/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
    • C09D5/4488Cathodic paints
    • C09D5/4492Cathodic paints containing special additives, e.g. grinding agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
    • C09D5/448Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications characterised by the additives used
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S524/00Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S524/901Electrodepositable compositions

Landscapes

  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)

Abstract

Disclosed are improved electrodeposition bath compositions comprising a resinous phase dispersed in an aqueous medium, the resinous phase being comprised of an active hydrogen containing ionic electrodepositable resin and a curing agent, where the improvement comprises the addition to an electrodeposition bath of at least one source of yttrium in an amount of about 10 to 10,000 parts per million of total yttrium based on electrodeposition bath weight. The electrodeposition bath compositions are preferably cationic and provide for excellent corrosion resistance over a variety of metal substrates including untreated steel. Also disclosed is a method of electrocoating a conductive substrate using the improved electrodeposition bath compositions of the invention. Metallic substrates which are coated using the method of the invention are also disclosed.

Description

Baños de electrodepósito que contienen itrio.Electrodeposition baths containing yttrium.

Campo de la invenciónField of the Invention

La presente invención se refiere a composiciones de recubrimiento mejoradas y, en particular, a baños de electrodepósito que contienen una fase resinosa dispersa en un medio acuoso, comprendiendo la fase resinosa una resina iónica electrodepositable, un agente de curado para la misma y una fuente de itrio; y a su utilización en el método de electrodepósito.The present invention relates to compositions improved coating and, in particular, to baths of electrodeposition containing a resinous phase dispersed in a medium aqueous, the resinous phase comprising an ionic resin electrodepositable, a curing agent for it and a source of yttrium; and its use in the electrodeposition method.

Antecedentes de la invenciónBackground of the invention

El electrodepósito como método de aplicación de recubrimientos supone el depósito de una composición formadora de película sobre un substrato conductor bajo la influencia de un potencial eléctrico aplicado.The electrodeposit as an application method of coatings means the deposit of a forming composition of film on a conductive substrate under the influence of a electrical potential applied.

El electrodepósito ha crecido en importancia en la industria de recubrimientos porque, en comparación con medios de recubrimiento no-electroforéticos, el electrodepósito ofrece una mejor utilización de la pintura, mejor protección frente a la corrosión y baja contaminación medioambiental.The electrodeposit has grown in importance in the coatings industry because, compared to means of non-electrophoretic coating, the electrodeposit offers a better use of paint, better protection against corrosion and low pollution environmental.

Inicialmente, el electrodepósito se lleva a cabo colocando la pieza que se recubre como ánodo. Por eso se ha hablado siempre de electrodepósito anódico. Sin embargo, en 1972, se introdujo comercialmente el electrodepósito catiónico. Desde ese momento, el electrodepósito catiónico ha ido ganando en popularidad de forma continua y hoy día es con mucho el método de electrodepósito que prevalece. Más del 80 por ciento de todos los vehículos de motor producidos en todo el mundo reciben un primer recubrimiento por electrodepósito catiónico.Initially, the electrodeposition is carried out placing the piece that is covered as an anode. That's why it has been spoken always anodic electrodeposit. However, in 1972, it commercially introduced the cationic electrodeposition. From that At the moment, the cationic electrodeposition has been gaining in popularity continuously and today is by far the method of electrodeposition that prevails. More than 80 percent of all motor vehicles produced worldwide receive a first cationic electrodeposition coating.

Típicamente, los recubrimientos electrodepositables comprenden un polímero formador de película electrodepositable y un agente de curado en combinación con pigmentos, entre otros. Los pigmentos que contienen plomo tales como sílice cromato de plomo, silicato básico de plomo, cromato de plomo y sulfato de plomo se utilizan frecuentemente en recubrimientos electro-depositables debido a que imparten excelente resistencia a la corrosión al artículo recubierto electrolíticamente. Sin embargo, el ácido empleado en los baños de electrodepósito catiónico disuelve frecuentemente una porción del pigmento de plomo formando sales de plomo que son solubles en la fase acuosa del baño de electrodepósito. Estas sales de plomo frecuentemente quedan en forma de ultrafiltrados en el baño, lo que requiere su separación y subsiguiente retirada del plomo metálico y/o materiales iónicos u orgánicos que contienen plomo.Typically, coatings electrodepositables comprise a film-forming polymer electrodepositable and a curing agent in combination with pigments, among others. Pigments that contain lead such as silica lead chromate, basic lead silicate, lead chromate and lead sulfate are frequently used in coatings electro-depositable because they impart excellent corrosion resistance to the coated article electrolytically However, the acid used in the baths of cationic electrodeposition frequently dissolves a portion of the lead pigment forming lead salts that are soluble in the aqueous phase of the electrodeposition bath. These lead salts they are often in the form of ultrafiltrates in the bathroom, which requires its separation and subsequent removal of metallic lead and / or ionic or organic materials that contain lead.

En años recientes, debido a la sensibilidad por el medio ambiente, particularmente en Europa y Japón, ha sido ordenada la utilización de recubrimientos sin plomo. Aunque se pueden alcanzar recubrimientos de superficies calidad excelente por electrodepósito catiónico de recubrimientos libres de plomo, la eliminación de pigmentos de plomo que inhiben la corrosión puede dar por resultado una reducción de la resistencia a la corrosión de estos recubrimientos, en particular cuando se aplican a substratos de acero sin tratar o pobremente pre-tratados.In recent years, due to the sensitivity for the environment, particularly in Europe and Japan, has been ordered the use of lead-free coatings. Although They can achieve excellent quality surface coatings by cationic electrodeposition of lead-free coatings, the removal of lead pigments that inhibit corrosion can give as a result a reduction in corrosion resistance of these coatings, particularly when applied to substrates untreated or poorly pre-treated steel.

La Patente estadounidense No. 4.789.441 describe un recubrimiento metálico sobre un substrato aplicado por electrodepósito de material compuesto de una matriz metálica de níquel, cobalto o hierro que contiene partículas de CrAIM_{2}, donde M_{2} es itrio, silicio o titanio. El recubrimiento metálico por electrodepósito de material compuesto imparte resistencia a la corrosión al substrato que se utiliza en medios agresivos y es particularmente útil para recubrimiento de paletas de turbinas de gas. Este "recubrimiento" es completamente metálico en su naturaleza y debe ser fundido con el substrato a temperaturas superiores a 700ºC, preferiblemente por encima de 1100ºC, con el fin de alcanzar la difusión de los metales depositados en el substrato. Estos recubrimientos son inadecuados para uso general en aplicaciones de pintura industrial común.U.S. Patent No. 4,789,441 describes a metallic coating on a substrate applied by electrodeposit of composite material of a metal matrix of nickel, cobalt or iron containing CrAIM2 particles, where M_ {2} is yttrium, silicon or titanium. Metal coating by electrodeposit of composite material imparts resistance to substrate corrosion that is used in aggressive media and is particularly useful for coating turbine blades of gas. This "coating" is completely metallic in its nature and must be melted with the substrate at temperatures above 700 ° C, preferably above 1100 ° C, in order of reaching the diffusion of metals deposited in the substrate. These coatings are unsuitable for general use in Common industrial paint applications.

La Patente EP-A-554023 describe una composición de recubrimiento adecuada para su utilización en la protección frente a la corrosión para metales en el electrodepósito, composición que comprende un aglutinante que forma película y, entre otros materiales, una sal de itrio de ácido carboxílico insoluble en agua.The patent EP-A-554023 describes a composition Coating suitable for use in protection against corrosion for metals in the electrodeposit, composition comprising a film forming binder and, among other materials, a carboxylic acid yttrium salt insoluble in water.

La utilización de itrio para mejorar la resistencia a la corrosión de los recubrimientos orgánicos convencionales no es conocida en la técnica. Ni es conocida tampoco la eficacia de compuestos de itrio, que son solubles en medio acuoso, como inhibidores de la corrosión en recubrimientos electrodepositables catiónicos convencionales. Sería ventajoso, por tanto, disponer de un baño de electrodepósito libre de plomo que contuviera una fuente de itrio con el fin de proporcionar una resistencia mejorada a la corrosión de los substratos metálicos recubiertos eléctriolíticamente, especialmente del acero sin tratar.The use of yttrium to improve corrosion resistance of organic coatings Conventional is not known in the art. Nor is it known either the efficacy of yttrium compounds, which are soluble in medium aqueous, as corrosion inhibitors in coatings conventional cationic electrodepositable. It would be advantageous, for therefore, have a lead-free electrodeposition bath that contain a source of yttrium in order to provide a improved corrosion resistance of metal substrates electrolytically coated, especially steel without try.

Compendio de la invenciónCompendium of the invention

Según la presente invención, se proporciona una composición de recubrimiento que comprende (a) una resina que contiene grupo de hidrógeno activo y (b) un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos de hidrógeno activo de (a). La composición contiene de aproximadamente 0,005 a 5 por ciento, preferiblemente no más de 2,5 por ciento, y más preferiblemente no más de 1,0 por ciento en peso de itrio (medido como itrio elemental) basado en el peso del total de sólidos de resina.According to the present invention, a coating composition comprising (a) a resin that contains active hydrogen group and (b) a curing agent that it has reactive functional groups with hydrogen groups asset of (a). The composition contains about 0.005 to 5 percent, preferably not more than 2.5 percent, and more preferably not more than 1.0 percent by weight yttrium (measured as elemental yttrium) based on the weight of the total solids of resin.

En un modo de realización particular, la invención se basa en un baño de electrodepósito, que tiene una resistencia a la corrosión mejorada, que comprende una fase resinosa dispersa en medio acuoso. La fase resinosa comprende los siguientes componentes:In a particular embodiment, the invention is based on an electrodeposition bath, which has a improved corrosion resistance, comprising a resinous phase dispersed in aqueous medium. The resinous phase comprises the following components:

(a)(to)
una resina iónica electro-depositable que contiene grupo de hidrógeno activo, y  an electro-depositable ionic resin containing active hydrogen group, and

(b)(b)
un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos de hidrógeno activo de (a). El compuesto de itrio, que es soluble en medio acuoso, está presente en el baño de electrodepósito en una cantidad de aproximadamente 0,005 por ciento en peso a aproximadamente 5 por ciento en peso o, alternativamente, en una cantidad de aproximadamente 10 a aproximadamente 10.000 partes por millón de itrio total (medido como itrio elemental) basado en el peso del baño de electodepósito.  a curing agent that has reactive functional groups with the         active hydrogen groups of (a). Yttrium compound, which is soluble in aqueous medium, is present in the bath of electrodeposit in an amount of approximately 0.005 percent by weight to about 5 percent by weight or, alternatively, in an amount of about 10 to about 10,000 parts per million total yttrium (measured as elemental yttrium) based on the weight of the electodeposit bath.

Se proporciona asimismo un método de recubrimiento electrolítico de un substrato conductor que sirve como electrodo cargado en un circuito eléctrico que comprende el electrodo y un contra-electrodo cargado con carga opuesta, sumergidos ambos en el baño acuoso de electrodepósito antes descrito, y substratos metálicos recubiertos por el método.A method of electrolytic coating of a conductive substrate that serves as electrode charged in an electrical circuit comprising the electrode and a counter-electrode charged with charge opposite, both submerged in the aqueous electrodeposition tank before described, and metal substrates coated by the method.

Descripción detallada de la invenciónDetailed description of the invention

Generalmente, el baño de electrodepósito de la presente invención comprende una fase resinosa dispersa en un medio acuoso donde la fase resinosa comprende los siguientes componentes:Generally, the electrodeposit bath of the The present invention comprises a resinous phase dispersed in a medium aqueous where the resinous phase comprises the following components:

(a)(to)
una resina iónica electro-depositable que contiene grupo de hidrógeno activo, y  an electro-depositable ionic resin containing active hydrogen group, and

(b)(b)
un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos de hidrógeno activo de (a)  a curing agent that has reactive functional groups with the         active hydrogen groups of (a)

donde el baño de electrodepósito contiene un compuesto de itrio, soluble en medio acuoso, en una cantidad de aproximadamente 10 a aproximadamente 10.000 partes por millón, preferiblemente no más de aproximadamente 5.000 partes por millón, y más preferiblemente no más de aproximadamente 1.000 partes por millón, del itrio total (medido como itrio elemental).where the electrodeposit bath it contains a compound of yttrium, soluble in aqueous medium, in a amount from about 10 to about 10,000 parts per million, preferably no more than about 5,000 parts per million, and more preferably no more than about 1,000 parts per million, of the total yttrium (measured as yttrium elementary).

A niveles más bajos de 10 partes por millón de itrio total, basado en el peso del baño de electrodepósito no se observa una mejora apreciable en la resistencia a la corrosión del substrato recubierto electrolíticamente. A niveles de itrio mayores de 10.000 ppm pueden resultar afectadas negativamente las características de estabilidad y aplicación de las composiciones del baño de recubrimiento electrolítico.At levels lower than 10 parts per million of Total yttrium, based on the weight of the electrodeposition bath is not observes an appreciable improvement in the corrosion resistance of electrolytically coated substrate. At higher levels of yttrium 10,000 ppm may adversely affect the stability characteristics and application of the compositions of the electrolytic coating bath.

Los compuestos de itrio solubles pueden servir como fuente de itrio en los baños de electrodepósito de la invención. Entre los ejemplos de fuentes de itrio, adecuadas para su uso en baños de electrodepósito libres de plomo de la presente invención, están las sales inorgánicas y orgánicas de itrio solubles tales como acetato de itrio, cloruro de itrio, formiato de itrio, carbonato de itrio, sulfamato de itrio, lactato de itrio y nitrato de itrio. Cuando se añade itrio a un baño de recubrimiento electrolítico como una solución acuosa, se prefiere nitrato de itrio, un compuesto de itrio fácilmente asequible, como fuente de itrio. Otros compuestos de itrio adecuados para su utilización en los baños de electrodepósito de la presente invención son los compuestos orgánicos e inorgánicos de itrio tales como bromuro de itrio, hidróxido de itrio, molibdato de itrio, sulfato de itrio, silicato de itrio y oxalato de itrio. Se pueden utilizar también complejos de organo-itrio y metal itrio.Soluble yttrium compounds may serve as a source of yttrium in the electrodeposition baths of the invention. Among the examples of yttrium sources, suitable for your use in lead-free electrodeposition baths herein invention are soluble inorganic and organic salts of yttrium such as yttrium acetate, yttrium chloride, yttrium formate, yttrium carbonate, yttrium sulfamate, yttrium lactate and nitrate of yttrium When yttrium is added to a coating bath electrolytic as an aqueous solution, nitrate of Yttrium, an easily available yttrium compound, as a source of yttrium. Other yttrium compounds suitable for use in The electrodeposition baths of the present invention are the organic and inorganic yttrium compounds such as bromide yttrium, yttrium hydroxide, yttrium molybdate, yttrium sulfate, yttrium silicate and yttrium oxalate. They can also be used organo-yttrium and metal yttrium complexes.

Además de los compuestos de itrio antes mencionados, los baños de electrodepósito de la presente invención contienen también, como polímero formador de película principal, una resina electrodepositable iónica, preferiblemente catiónica, que contiene hidrógeno activo. Se conoce una amplia variedad de polímeros formadores de película electrodepositables y se pueden utilizar en los baños de electrodepósito de la presente invención siempre que sean polímeros "dispersables en agua" es decir adaptados para ser disueltos, dispersos o emulsionados en agua. El polímero dispersable en agua es de naturaleza iónica, es decir, el polímero contendrá grupos funcionales aniónicos para impartir una carga negativa o, como es preferido, grupos funcionales catiónicos para impartir una caga positiva.In addition to yttrium compounds before mentioned, the electrodeposition baths of the present invention they also contain, as the main film forming polymer, a ionic electrodepositable resin, preferably cationic, which It contains active hydrogen. A wide variety of electrodepositable film-forming polymers and can be use in the electrodeposition baths of the present invention provided they are "water dispersible" polymers adapted to be dissolved, dispersed or emulsified in water. He water dispersible polymer is ionic in nature, that is, the polymer will contain anionic functional groups to impart a negative charge or, as preferred, cationic functional groups to deliver a positive shit.

Entre los ejemplos de resinas formadoras de película para uso en composiciones de baños de electrodepósito aniónico están los polímeros que contienen ácido carboxílico, solubilizados por base tales como el producto de reacción o aducto de un aceite secante o éster de ácido graso semi-secante con un ácido o anhidrido dicarboxílico; y el producto de reacción de un éster de ácido graso, ácido o anhidrido insaturado y cualquier material modificador insaturado adicional que reaccione además con polialcohol. También son adecuados los interpolímeros, neutralizados al menos parcialmente, de ésteres hidroxi-alquílicos de ácidos carboxílicos insaturados, ácido carboxílico insaturado y al menos otro monómero etilénicamente insaturado. Aún otra resina electrodepositable adecuada comprende un vehículo de aminoplástico alquídico, es decir un vehículo que contiene resina alquídica y una resina amina-aldehído. Aún otra resina electrodepositable aniónica comprende ésteres mixtos de un polialcohol resinoso. Estas composiciones están descritas con detalle en la Patente estadounidense No. 3.749. 657 en la columna 9, líneas 1 a 75 y columna 10, líneas 1 a 13, que se incorpora aquí como referencia. Se pueden utilizar otros polímeros de función ácido tales como poliepóxido fosfatado o polímeros acrílicos fosfatados que son bien conocidos por los especialistas en la técnica.Among the examples of resins forming film for use in electrodeposition bath compositions anionic are polymers that contain carboxylic acid, solubilized by base such as the reaction product or adduct of a drying oil or fatty acid ester semi-drying with a dicarboxylic acid or anhydride; and the reaction product of an ester of fatty acid, acid or unsaturated anhydride and any unsaturated modifying material additional that also reacts with polyalcohol. They are also suitable interpolymers, at least partially neutralized, of hydroxy-alkyl esters of carboxylic acids unsaturated, unsaturated carboxylic acid and at least one other monomer ethylenically unsaturated. Still another electrodepositable resin suitable comprises an alkyd aminoplast vehicle, i.e. a vehicle that contains alkyd resin and a resin amine-aldehyde. Still another electrodepositable resin Anionic comprises mixed esters of a resinous polyol. These Compositions are described in detail in the Patent U.S. No. 3,749. 657 in column 9, lines 1 to 75 and column 10, lines 1 to 13, which is incorporated herein by reference. Be they can use other acidic function polymers such as phosphate polyepoxide or phosphate acrylic polymers that are well known to those skilled in the art.

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

Como se ha mencionado antes, se prefiere que la resina (a) electrodepositable iónica que contiene hidrógeno activo sea catiónica y capaz de depositarse en el cátodo. Entre los ejemplos de tales resinas catiónicas formadoras de película se incluyen resinas que contienen grupo sal de amina tales como los productos de reacción solubilizados con ácido de poliepóxidos y aminas primarias y secundarias tales como los descritos en las Patentes estadounidenses Nos. 3.663.389; 3.984.299; 3.947.338; y 3.947.339. Normalmente, estas resinas que contienen grupo de sal de amina se utilizan en combinación con un agente de curado de isocianato bloqueado. El isocianato puede estar completamente bloqueado como se describe en la Patente estadounidense No. 3.984.299 antes mencionada o el isocianato puede estar bloqueado parcialmente y hacerlo reaccionar con el esqueleto de resina tal como se describe en la Patente estadounidense No. 3.947.38. También se pueden utilizar como resina formadora de película las composiciones de un componente descritas en la Patente U.S. 4.134.866 y DE-OS No. 2.707.405. Junto a los productos de reacción de epoxi-amina, las resinas que forman película se pueden seleccionar también de resinas acrílicas catiónicas tales como las descritas en las Patentes estadounidenses Nos. 3.455 y 3.928.157.As mentioned before, it is preferred that the ionic electrodepositable resin containing active hydrogen be cationic and able to deposit in the cathode. Between the Examples of such cationic film-forming resins are they include resins containing amine salt group such as reaction products solubilized with polyepoxide acids and primary and secondary amines such as those described in US Patents Nos. 3,663,389; 3,984,299; 3,947,338; Y 3,947,339. Normally, these resins containing salt group of amine are used in combination with a curing agent of isocyanate blocked. The isocyanate can be completely blocked as described in U.S. Patent No. 3,984,299 mentioned above or the isocyanate may be blocked partially and make it react with the resin skeleton such as described in U.S. Patent No. 3,947.38. Too They can be used as a film-forming resin one component compositions described in U.S. Pat. 4,134,866 and DE-OS No. 2,707,405. Together to the epoxy-amine reaction products, resins film forming can also be selected from resins cationic acrylics such as those described in the Patents US Nos. 3,455 and 3,928,157.

Además de las resinas que contienen grupo sal de amina, se pueden emplear también resinas que contienen grupo sal de amonio cuaternario. Entre los ejemplos de estas resinas están las formadas por reacción de un poliepóxido orgánico con una sal de amina terciaria. Estas resinas están descritas en las Patentes estadounidenses Nos. 3.962.165; 3.975.346; y 4.001.101. Entre los ejemplos de otras resinas catiónicas están las resinas que contienen grupo sal de sulfonio ternario y las resinas que contienen grupo sal de fosfonio cuaternario tales como las descritas en las Patentes estadounidenses Nos. 3.793.278 y 3.984.922, respectivamente. Se pueden utilizar también resinas formadoras de película que se curan a través de transesterificación tales como las descritas en la Solicitud de Patente europea No. 12463. Además se pueden emplear las composiciones catiónicas preparadas a partir de bases de Mannich tales como las descritas en la Patente estadounidense No. 4.134.932.In addition to resins containing salt group of amine, resins containing salt group of quaternary ammonium Among the examples of these resins are the formed by reacting an organic polyepoxide with a salt of tertiary amine These resins are described in the Patents Americans Nos. 3,962,165; 3,975,346; and 4,001,101. Between the Examples of other cationic resins are resins that contain ternary sulfonium salt group and resins containing salt group of quaternary phosphonium such as those described in the Patents US Nos. 3,793,278 and 3,984,922, respectively. Be they can also use film-forming resins that cure through transesterification such as those described in the European Patent Application No. 12463. In addition, the cationic compositions prepared from Mannich bases such as those described in US Patent No. 4,134,932.

Las resinas con las que la presente invención es particularmente eficaz son las resinas cargadas positivamente que contienen grupos amina primaria y/o secundaria. Estas resinas están descritas en las Patentes estadounidenses Nos. 3.663.389; 3.947.339; y 4.116.900. En la Patente estadounidense No. 3.947.339, se hace reaccionar un derivado policetimina de una poliamina tal como dietilentriamina o trietilentetraamina con un poliepóxido. Cuando el producto de reacción se neutraliza con ácido y se dispersa en agua, se generan grupos amina primaria libres. También se forman productos equivalentes cuando el poliepóxido se hace reaccionar con exceso de poliaminas tales como dietilentriamina y trietilentetraamina y el exceso de amina se arrastra al vacío desde la mezcla d e reacción. Estos productos están descritos en las Patentes estadounidenses Nos. 3.663.389 y 4.116.900.The resins with which the present invention is particularly effective are positively charged resins that They contain primary and / or secondary amine groups. These resins are described in US Patent Nos. 3,663,389; 3,947,339; and 4,116,900. In U.S. Patent No. 3,947,339, it is made reacting a polythimine derivative of a polyamine such as diethylenetriamine or triethylenetetraamine with a polyepoxide. When he reaction product is neutralized with acid and dispersed in water, Free primary amine groups are generated. Products are also formed equivalents when the polyepoxide is reacted with excess of polyamines such as diethylenetriamine and triethylenetetraamine and the excess amine is drawn in vacuo from the reaction mixture. These products are described in US Pat. Nos. 3,663,389 and 4,116,900.

La resina iónica electrodepositable que contiene hidrógeno activo descrita antes está presente en el baño de electrodepósito de la invención en cantidades de aproximadamente 1 a aproximadamente 60 por ciento en peso, preferiblemente de aproximadamente 5 a aproximadamente 25 basado en el peso total del baño de electrodepósito.The electrodepositable ionic resin it contains active hydrogen described above is present in the bath of electrodeposit of the invention in amounts of about 1 to about 60 percent by weight, preferably of about 5 to about 25 based on the total weight of the electrodeposit bath.

La fase resinosa del baño de electrodepósito de la presente invención comprende además (b) un agente de curado adaptado para reaccionar con los grupos de hidrógeno activo de la resina electrodepositable (a) que se acaba de describir. Ambos agentes de curado poliisocianato orgánico bloqueado y aminoplástico son adecuados para su uso en la presente invención, aunque aquí se prefieren los isocianatos bloqueados para electrodepósito catiónico.The resinous phase of the electrodeposition bath of The present invention further comprises (b) a curing agent adapted to react with the active hydrogen groups of the electrodepositable resin (a) just described. Both of them Aminoplastic and blocked organic polyisocyanate curing agents they are suitable for use in the present invention, although here prefer locked isocyanates for electrodeposition cationic

Las resinas de aminoplástico, que son los agentes de curado preferidos para electrodepósito aniónico, son productos de condensación de aminas o amidas con aldehídos. Entre los ejemplos de amina o amida adecuadas están melamina, benzoguanamina, urea y compuestos similares. Generalmente, el aldehído empleado es formaldehido, aunque se pueden obtener productos de otros aldehídos tales como acetaldehido y furfural. Los productos de condensación contienen grupos metilol o grupos alquilol similares dependiendo del aldehído particular empleado. Preferiblemente, estos grupos metilol se eterifican por reacción con un alcohol. Entre los diversos alcoholes empleados se incluyen alcoholes monohidroxílicos que contienen de 1 a 4 átomos de carbono tales como metanol, etanol, isopropanol y n-butanol, siendo el preferido el metanol. Las resinas de aminoplástico están disponibles comercialmente de American Cyanamid Co. bajo la marca comercial CYMEL y de Monsanto Chemical Co. bajo la marca comercial RESIMENE.Aminoplast resins, which are the agents of preferred curing for anionic electrodeposition, are products of condensation of amines or amides with aldehydes. Among the examples of Suitable amine or amide are melamine, benzoguanamine, urea and similar compounds. Generally, the aldehyde used is formaldehyde, although products from other aldehydes can be obtained such as acetaldehyde and furfural. Condensation products they contain methylol groups or similar alkylol groups depending on the particular aldehyde employed. Preferably, these methylol groups they are etherified by reaction with an alcohol. Among the various alcohols used include monohydric alcohols that they contain 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol, isopropanol and n-butanol, the preferred being methanol Aminoplast resins are available commercially from American Cyanamid Co. under the trademark CYMEL and Monsanto Chemical Co. under the trademark RESIMENE

Los agentes de curado de aminoplástico se utilizan típicamente junto con la resina electrodepositable aniónica que contiene hidrógeno activo en cantidades que varían desde aproximadamente 5 por ciento a aproximadamente 60 por ciento en peso, preferiblemente de aproximadamente 20 por ciento a aproximadamente 40 por ciento en peso, estando los porcentajes basados en el peso total de sólidos de resina en el baño de electodepósito.Aminoplast curing agents are typically used in conjunction with anionic electrodepositable resin which contains active hydrogen in amounts that vary from about 5 percent to about 60 percent in weight, preferably about 20 percent to approximately 40 percent by weight, the percentages being based on the total weight of resin solids in the bath of electodeposit.

Los agentes de curado preferidos para uso en electrodepósito catódico son poliisocianatos orgánicos bloqueados. Los poliisocianatos pueden estar completamente bloqueados como se describe en la Patente estadounidense No. 3.984.299 columna 1, líneas 1 a 68, columna 2 y columna 3 líneas 1 a 15, o parcialmente bloqueados y hacerlos reaccionar con el esqueleto de polímero como se describe en la Patente estadounidense No. 3.947.338 columna 2, líneas 65 a 68, columna 3 y columna 4, líneas 1 a 30, que se incorporan aquí como referencia. "Bloqueado" significa que los grupos isocianato se han hecho reaccionar con un compuesto de manera que el grupo isocianato bloqueado resultante es estable a hidrógenos activos a temperatura ambiente pero reactivo con hidrógenos activo del polímero formador de película a temperaturas elevadas, normalmente entre 90ºC y 200ºC.Preferred curing agents for use in cathodic electrodeposition are blocked organic polyisocyanates. The polyisocyanates can be completely blocked as described in US Patent No. 3,984,299 column 1, lines 1 to 68, column 2 and column 3 lines 1 to 15, or partially blocked and make them react with the polymer skeleton as is described in U.S. Patent No. 3,947,338 column 2, lines 65 to 68, column 3 and column 4, lines 1 to 30, which incorporate here as a reference. "Blocked" means that isocyanate groups have been reacted with a compound of so that the resulting blocked isocyanate group is stable at hydrogens active at room temperature but reactive with active hydrogens of the film forming polymer at temperatures high, usually between 90ºC and 200ºC.

Entre los poliisocianatos adecuados se incluyen poliisocianatos aromáticos y alifáticos, entre los que están poliisocianatos cicloalifáticos y son ejemplos representativos difenilmetano-4,4'-diisocianato (MDI), 2,4- o 2,6-tolueno diisocianato (TDI), incluyendo las mezclas de los mismos, diisocianato de p-fenileno, diisocianatos de tetrametileno y hexametileno, diciclohexilmetano-4,4'-diisocianato, diisocianato de isoforona, mezclas de fenilmetano-4,4'-diisocianato y polifenilisocianato de polimetileno. Se pueden emplear poliisocianatos superiores tales como triisocianato. Un ejemplo incluirá trifenilmetano-4,4',4''-triisocianato. Se pueden utilizar también ()-prepolímeros de isocianato con polialcoholes tales como neopentil glicol y trimetilolpropano y con polialcoholes poliméricos tales como policaprolactona dioles y trioles (relación de equivalentes NCO/OH mayor de 1).Suitable polyisocyanates include aromatic and aliphatic polyisocyanates, among which are cycloaliphatic polyisocyanates and are representative examples diphenylmethane-4,4'-diisocyanate (MDI), 2,4- or 2,6-toluene diisocyanate (TDI), including mixtures thereof, diisocyanate p-phenylene, tetramethylene diisocyanates and hexamethylene, dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate, Isophorone diisocyanate, mixtures of phenylmethane-4,4'-diisocyanate and polymethylene polyphenyl isocyanate. Can be used higher polyisocyanates such as triisocyanate. An example will include triphenylmethane-4,4 ', 4' '- triisocyanate. You can also use () -prepolymers of isocyanate with polyols such as neopentyl glycol and trimethylolpropane and with polymeric polyols such as polycaprolactone diols and triols (ratio of NCO / OH equivalents greater than 1).

Los agentes de curado poliisocianato se utilizan típicamente en unión con resina catiónica electrodepositable que contiene hidrógeno activo en cantidades que varían de aproximadamente 5 por ciento a aproximadamente 60 por ciento en peso, preferiblemente de aproximadamente 20 por ciento en peso a aproximadamente 50 por ciento en peso, basándose los porcentajes en el peso total de los sólidos de resina del baño de electrodepósito.Polyisocyanate curing agents are used. typically in conjunction with electrodepositable cationic resin that contains active hydrogen in amounts that vary from about 5 percent to about 60 percent in weight, preferably about 20 percent by weight to approximately 50 percent by weight, based on the percentages in The total weight of resin solids in the bath of electrodeposit.

Las composiciones acuosas de la presente invención están en la forma de una dispersión acuosa. El término "dispersión" se emplea para indicar un sistema resinoso transparente, translúcido u opaco en dos fases en que la resina está en la fase dispersa y el agua está en la fase continua. El tamaño medio de partícula de la fase resinosa es por lo general inferior a 1,0 y normalmente inferior a 0,5 micras, preferiblemente menos de 0,15 micras.The aqueous compositions of the present invention are in the form of an aqueous dispersion. The term "dispersion" is used to indicate a resinous system transparent, translucent or opaque in two phases in which the resin is in the dispersed phase and the water is in the continuous phase. The size Particle medium of the resinous phase is usually less than 1.0 and normally less than 0.5 microns, preferably less than 0.15 microns

La concentración de la fase resinosa en el medio acuoso es de al menos 1 y normalmente de aproximadamente 2 a aproximadamente 60 por ciento en peso basado en el peso total de la dispersión acuosa. Cuando las composiciones de la presente invención están en la forma de concentrados de resina, éstos tienen por lo general un contenido de sólidos de resina de aproximadamente 20 a aproximadamente 60 por ciento en peso basado en el peso de la dispersión
acuosa.
The concentration of the resinous phase in the aqueous medium is at least 1 and usually from about 2 to about 60 percent by weight based on the total weight of the aqueous dispersion. When the compositions of the present invention are in the form of resin concentrates, they generally have a resin solids content of about 20 to about 60 percent by weight based on the weight of the dispersion
watery

Los baños de electrodepósito de la invención se suministran típicamente como dos componentes: (1) una alimentación de resina transparente, que incluye generalmente la resina electrodepositable iónica que contiene hidrógeno activo, es decir, el polímero formador de película principal, el agente de curado, y cualquier componente no pigmentado adicional dispersable en agua; y (2) una pasta de pigmento que incluye generalmente uno o más pigmentos, una resina de trituración dispersable en agua que puede ser la misma o diferente del polímero principal que forma película y, opcionalmente, aditivos tales como agentes humectantes y dispersantes. Los componentes del baño de electrodepósito (1) y (2) se dispersan en un medio acuoso que comprende agua y, normalmente disolventes coalescentes.The electrodeposition baths of the invention are They typically supply as two components: (1) a feed of transparent resin, which usually includes the resin electrodepositable ionic containing active hydrogen, that is, the main film forming polymer, the curing agent, and any additional non-pigmented water dispersible component; Y (2) a pigment paste that generally includes one or more pigments, a water dispersible crushing resin that can be the same or different from the main polymer that forms a film and, optionally, additives such as wetting agents and dispersants The components of the electrodeposition bath (1) and (2) they are dispersed in an aqueous medium comprising water and, normally coalescing solvents.

Hay que hacer notar que existen varios métodos por los que se puede incorporar el compuesto de itrio al baño de electrodepósito. Se puede añadir un compuesto soluble de itrio "neto" es decir, añadirlo directamente al baño sin previo mezclado o reacción con otros componentes. Alternativamente, se puede añadir un compuesto de itrio soluble a la alimentación de resina transparente pre-dispersa que puede incluir la resina iónica, el agente de curado y/o cualquier otro componente no-pigmentado. Preferiblemente, el compuesto soluble de itrio se añade "neto" al baño de electrodepósito. Los compuestos de itrio insolubles y/o los pigmentos de itrio, por otra parte, se mezclan previamente preferiblemente con el componente de pasta de pigmento antes de la incorporación de la pasta al baño de electrodepósito.It should be noted that there are several methods whereby the yttrium compound can be incorporated into the bath of electrodeposit. A soluble yttrium compound can be added "net" that is, add it directly to the bathroom without prior mixed or reaction with other components. Alternatively, it you can add a soluble yttrium compound to the feed of pre-dispersed transparent resin that may include ionic resin, curing agent and / or any other component non-pigmented Preferably, the soluble compound of yttrium is added "net" to the electrodeposit tank. The insoluble yttrium compounds and / or yttrium pigments, on the other part, they are preferably pre-mixed with the component of pigment paste before incorporating the paste into the bath of electrodeposit.

El baño de electrodepósito de la presente invención puede contener itrio como único componente inorgánico que inhibe la corrosión o puede estar suplementado con otros componentes orgánicos o inorgánicos de inhibición de la corrosión tales como calcio, bismuto o polifenoles, tales como polímeros de función fenol. Preferiblemente el baño de electrodepósito está libre de plomo.The electrodeposition bath of the present invention may contain yttrium as the only inorganic component that inhibits corrosion or may be supplemented with other components organic or inorganic corrosion inhibition such as calcium, bismuth or polyphenols, such as functional polymers phenol. Preferably the electrodeposition bath is free of lead.

El baño de electrodepósito de la presente invención tiene un contenido de sólidos de resina que está normalmente dentro del intervalo de aproximadamente 5 a 25 por ciento en peso basado en el peso total del baño de electrodepósito.The electrodeposition bath of the present invention has a resin solids content that is normally within the range of about 5 to 25 per weight percent based on total bath weight of electrodeposit.

Como se ha mencionado antes, además del agua, el medio acuoso puede contener un disolvente coalescente. Entre los disolventes coalescentes útiles se incluyen hidrocarburos, alcoholes, ésteres, éteres y cetonas. Los disolventes coalescentes preferidos incluyen alcoholes, polialcoholes y cetonas. Disolventes coalescentes específicos son el isopropanol, butanol, 2-etilhexanol, isoforona, 2-metoxipentanona, etilen y propilen glicol y los éteres monoetílico, monobutílico y monohexílico de etilen glicol. La cantidad de disolvente coalescente es por lo general de aproximadamente 0,01 a 25 por ciento y, en la práctica, es preferiblemente de aproximadamente 0,05 a aproximadamente 5 por ciento en peso basado en el peso total del medio acuoso.As mentioned before, in addition to water, the Aqueous medium may contain a coalescing solvent. Between the useful coalescing solvents include hydrocarbons, alcohols, esters, ethers and ketones. Coalescing solvents Preferred include alcohols, polyols and ketones. Solvents Specific coalescers are isopropanol, butanol, 2-ethylhexanol, isophorone, 2-methoxypentanone, ethylene and propylene glycol and monoethyl, monobutyl and monohexyl ethers of ethylene glycol. The amount of coalescing solvent is usually of approximately 0.01 to 25 percent and, in practice, is preferably from about 0.05 to about 5 per weight percent based on the total weight of the aqueous medium.

Tal como se ha discutido antes, se puede incluir en la dispersión una composición de pigmento y, si se desea, varios aditivos tales como agentes tensioactivos, agentes humectantes o catalizador. La composición del pigmento puede ser del tipo convencional que comprende pigmentos, por ejemplo, óxidos de hierro, cromato de estroncio, negro de carbono, polvo de carbón, dióxido de titanio, talco, sulfato de bario, así como pigmentos de color tales como amarillo de cadmio, rojo de cadmio, amarillo de cromo y similares. El contenido de pigmento de la dispersión se expresa normalmente como la relación de pigmento a resina. En la práctica de la invención, cuando se emplea pigmento, la relación pigmento a resina está normalmente dentro del intervalo de aproximadamente 0,02 a 1,1. Los otros aditivos mencionados antes están normalmente en la dispersión en cantidades de aproximadamente 0,01 a 3 por ciento en peso basado en el peso de sólidos de resina.As discussed before, it can be included in the dispersion a pigment composition and, if desired, several additives such as surfactants, wetting agents or catalyst. The pigment composition can be of the type conventional comprising pigments, for example, iron oxides, strontium chromate, carbon black, carbon powder, dioxide titanium, talc, barium sulfate, as well as color pigments such like cadmium yellow, cadmium red, chrome yellow and Similar. The pigment content of the dispersion is expressed normally as the ratio of pigment to resin. In the practice of the invention, when pigment is used, the pigment ratio to resin is normally within the range of about 0.02 to 1.1. The other additives mentioned above are normally in the dispersion in amounts of about 0.01 to 3 percent in weight based on the weight of resin solids.

Las composiciones de recubrimiento electrodepositables de la presente invención se pueden aplicar por electrodepósito a una diversidad de substratos electroconductores, especialmente metales tales como acero sin tratar, acero galvanizado, aluminio, cobre, magnesio y materiales recubiertos de carbono conductor. La tensión eléctrica aplicada para electrodepósito puede variar y puede ser, por ejemplo, tan baja como 1 voltio hasta tal alta como varios miles de voltios, pero típicamente está entre 50 y 500 voltios. La densidad de corriente es normalmente entre 0,5 amperios y 5 amperios por pie cuadrado (por 0,09 m^{2}) y tiende a decrecer durante el electrodepósito lo que indica la formación de una película aislante.Coating compositions electrodepositable of the present invention can be applied by electrodeposition to a variety of electroconductive substrates, especially metals such as untreated steel, steel galvanized, aluminum, copper, magnesium and coated materials conductive carbon The applied electrical voltage for electrodeposit can vary and can be, for example, as low as 1 volt to as high as several thousand volts, but It is typically between 50 and 500 volts. Current density is normally between 0.5 amps and 5 amps per square foot (per 0.09 m 2) and tends to decrease during electrodeposition which indicates the formation of an insulating film.

Una vez aplicado el recubrimiento por electrodepósito, se cura normalmente por horneado a temperaturas elevadas tales como aproximadamente 90ºC a aproximadamente 260ºC durante aproximadamente 1 a 40 minutos.Once applied the coating by electrodeposition, it is normally cured by baking at temperatures elevated such as about 90 ° C to about 260 ° C for about 1 to 40 minutes.

Los siguientes ejemplos son ilustrativos de la invención, que no ha de considerarse sin embargo limitada a los detalles de los mismos. Todas las partes y porcentajes en los siguientes ejemplos así como a lo largo de la memoria descriptiva son en peso a menos que se indique de otra manera.The following examples are illustrative of the invention, which is not to be considered however limited to details of them. All parts and percentages in following examples as well as throughout the specification They are by weight unless otherwise indicated.

Ejemplos Examples

Los Ejemplos A y B describen la preparación de resinas electodepositables catiónicas, el Ejemplo A contiene también un reticulador poliuretano. Los Ejemplos C y D describen, cada uno de ellos, la preparación de resinas de trituración con pigmento que contienen sal de amonio cuaternario.Examples A and B describe the preparation of cationic electodepositable resins, Example A also contains a polyurethane crosslinker. Examples C and D describe, each of them, the preparation of crushing resins with pigment that they contain quaternary ammonium salt.

Los Ejemplos AA y BB describen la preparación de una pasta de pigmento para su uso en las composiciones del baño de electrodepósito de la invención. Los Ejemplos CC y DD describen la preparación de pre-mezclas de baño de electrodepósito para su utilización en las composiciones de los baños de electrodepósito de los Ejemplos 1 y 2, y Ejemplos 3 y 4, respectivamente. El Ejemplo EE describe la preparación de la solución de itrio soluble para su utilización en las composiciones de baño de los Ejemplos 2 y 4. La Tabla 1 ilustra la mejora en la resistencia a la corrosión de arrastre de punzón observada con la inclusión de solución de itrio soluble en composiciones libres de plomo del baño de electrodepósito de la invención.Examples AA and BB describe the preparation of a pigment paste for use in bath compositions of electrodeposit of the invention. Examples CC and DD describe the preparation of bath pre-mixtures of electrodeposit for use in the compositions of electrodeposition baths of Examples 1 and 2, and Examples 3 and 4, respectively. Example EE describes the preparation of the soluble yttrium solution for use in the compositions of Example 2 and 4. Table 1 illustrates the improvement in corrosion resistance of punch drag observed with the inclusion of soluble yttrium solution in compositions free of lead of the electrodeposition bath of the invention.

Ejemplo AExample A

Se preparó un reticulador poliuretano a partir de una mezcla de los siguientes ingredientesA polyurethane crosslinker was prepared from a mixture of the following ingredients

1one

\begin{minipage}[t]{153mm}^{1} Aducto de bisfenol A y un dialcohol que contiene 6 óxido de etileno, disponible comercialmente como MACOL 98 A MOD1 de BASF Corp.\end{minipage}  \ begin {minipage} [t] {153mm} ^ {1} Bisphenol A adduct and a dialcohol containing 6 ethylene oxide, available commercially as MACOL 98 A MOD1 of BASF Corp. \ end {minipage} \begin{minipage}[t]{153mm}^{2} difenil diisocianato de metileno polimérico de Dow Chemical Co.\end{minipage}  \ begin {minipage} [t] {153mm} ^ {2}    polymeric methylene diphenyl diisocyanate from Dow Chemical Co. \ end {minipage}

Se añadieron a un matraz de fondo redondo de 12 litros, equipado adecuadamente, los ingredientes de la Carga I. Se calentaron estos ingredientes con agitación suave bajo atmósfera de nitrógeno a una temperatura de 50ºC. Se añadió el PAPI 2940 gradualmente a lo largo de un período de aproximadamente 2 horas elevando la temperatura a 110ºC, seguido de un enjuagado de aproximadamente 176,6 gramos de metil isobutil cetona. Se mantuvo la mezcla de reacción a 110ºC a 110ºC hasta que no se detectó isocianato por espectroscopia infrarroja. Los restantes 1072,7 gramos de metil isobutil cetona se añadieron entonces a la mezcla de reacción, que tenía un contenido final de sólidos de aproximadamente 83% (1 hora a 110ºC).They were added to a round bottom flask of 12 liters, properly equipped, the ingredients of Load I. It heated these ingredients with gentle stirring under the atmosphere of nitrogen at a temperature of 50 ° C. PAPI 2940 was added gradually over a period of approximately 2 hours raising the temperature to 110 ° C, followed by a rinse of approximately 176.6 grams of methyl isobutyl ketone. The reaction mixture at 110 ° C to 110 ° C until it was not detected Isocyanate by infrared spectroscopy. The remaining 1072.7 grams of methyl isobutyl ketone were then added to the mixture of reaction, which had a final solids content of approximately 83% (1 hour at 110 ° C).

       \newpage\ newpage
    

Se preparó una resina catiónica a partir de una mezcla de los siguientes ingredientes:A cationic resin was prepared from a mixture of the following ingredients:

22

       \dotable{\tabskip\tabcolsep#\hfil\tabskip0ptplus1fil\dddarstrut\cr}{
  ^{1}    Eter glicidílico de Bisfenol A comercializado por Shell
Oil y Chemical Co.\cr   \begin{minipage}[t]{153mm} ^{2}   
Aducto preparado a partir de una relación molar de 1:2 de Bisfenol A
      etoxilado (9 moles de óxido de etileno por mol de bisfenol A)
y anhidrido      hexahidroftálico mezclados en presencia de
catalizador de trietilamina al      0,05% y mantenido a 100ºC
durante 3,5 horas.\end{minipage} \cr   ^{3}    Agente
tensioactivo comercial de BASF Corp.\cr 
 \begin{minipage}[t]{153mm} ^{4}    Producto de reacción de 2
moles de éter monobutílico de dietilen glicol y 1 mol de
formaldehido, 98% activo, preparado como se describe en la Patente
estadounidense No. 4.891.111 para McCollum y
col.\end{minipage} \cr   ^{5}    Comercializado por Huntsman
Corporation.\cr}\ dotable {\ tabskip \ tabcolsep # \ hfil \ tabskip0ptplus1fil \ dddarstrut \ cr} {
  1 Bisphenol A glycidyl ether marketed by Shell
Oil and Chemical Co. \ cr \ begin {minipage} [t] {153mm} 2
Adduct prepared from a 1: 2 molar ratio of Bisphenol A
      ethoxylated (9 moles of ethylene oxide per mole of bisphenol A)
and hexahydrophthalic anhydride mixed in the presence of
0.05% triethylamine catalyst and maintained at 100 ° C
for 3.5 hours. \ end {minipage} \ cr3 Agent
commercial surfactant from BASF Corp. \ cr
 \ begin {minipage} [t] {153mm} ^ {4} Reaction product of 2
moles of diethylene glycol monobutyl ether and 1 mole of
formaldehyde, 98% active, prepared as described in the Patent
U.S. No. 4,891,111 to McCollum and
col. \ end {minipage} \ cr5 {Marketed by Huntsman
Corporation. \ Cr}
    

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

A un matraz de fondo redondo de 12 litros, equipado adecuadamente, se añadieron los ingredientes de la Carga 1. La mezcla de reacción se agitó con agitación suave y se calentó bajo capa de nitrógeno a una temperatura de aproximadamente 75ºC, seguido de la adición de Carga II. Se dejó que la mezcla de reacción desarrollase una exoterma y una vez que acabó la exoterma, se ajustó la temperatura de reacción a aproximadamente 120ºC a 123ºC y se mantuvo a esa temperatura durante aproximadamente 2 horas. La mezcla de reacción tenía un peso equivalente de epóxido superior a 20.000 basado en sólidos, un contenido de amina de 0,77 miliequivalentes por gramo basado en sólidos, y una viscosidad de burbujas Gardner-Holdt de S/T (cuando se reducía a 50% de sólidos con 1-metoxi-2-
propanol).
To a 12-liter round bottom flask, properly equipped, the ingredients of Charge 1 were added. The reaction mixture was stirred with gentle stirring and heated under a nitrogen layer at a temperature of approximately 75 ° C, followed by the addition of Load II The reaction mixture was allowed to develop an exotherm and once the exotherm was finished, the reaction temperature was adjusted to approximately 120 ° C to 123 ° C and maintained at that temperature for approximately 2 hours. The reaction mixture had an epoxide equivalent weight greater than 20,000 based on solids, an amine content of 0.77 milliequivalents per gram based on solids, and a Gardner-Holdt bubble viscosity of S / T (when reduced to 50 % solids with 1-methoxy-2-
propanol).

Se preparó una dispersión acuosa de la resina catiónica preparada antes a partir de una mezcla de los siguientes ingredientes:An aqueous dispersion of the resin was prepared cationic prepared before from a mixture of the following ingredients:

33

\begin{minipage}[t]{153mm}^{1} solución al 30% de aguarrás de trementina (comercializada por Aldrich Chemical Company. Inc.) en metil isobutil cetona.\end{minipage}  \ begin {minipage} [t] {153mm} ^ 1 solution at 30% of turpentine turpentine (marketed by Aldrich Chemical Company. Inc.) in methyl isobutyl ketone. \ end {minipage}

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

Se añadió la la Carga 1 a un baño equipado con un agitador y se calentó a temperatura de 50ºC. Se añadió la resina catiónica a esta temperatura y se mezcló durante aproximadamente 30 minutos hasta dispersarla a fondo mientras se añadía gradualmente el aguarrás de trementina (Carga III). Se mezclaron la resina catiónica y el aguarrás de trementina durante 15 minutos, añadiéndose entonces el agua desionizada de la Carga IV. La dispersión se calentó a una temperatura de aproximadamente 60º a 65ºC y se sometió a presión reducida de aproximadamente 20 pulgadas de mercurio (500 mm de mercurio) a lo largo de un período de aproximadamente 2 horas durante las cuales se eliminó la metil isobutil cetona por destilación al vacío. La dispersión resultante tenía un 41,9% de sólidos (1 hora a
110ºC).
Charge 1 was added to a bath equipped with a stirrer and heated to a temperature of 50 ° C. The cationic resin was added at this temperature and mixed for approximately 30 minutes until thoroughly dispersed while turpentine turpentine was gradually added (Charge III). The cationic resin and turpentine turpentine were mixed for 15 minutes, then adding the deionized water of Charge IV. The dispersion was heated to a temperature of approximately 60 ° to 65 ° C and subjected to reduced pressure of approximately 20 inches of mercury (500 mm of mercury) over a period of approximately 2 hours during which the methyl isobutyl ketone was removed by vacuum distillation. The resulting dispersion had 41.9% solids (1 hour at
110 ° C).

Ejemplo BExample B

Se preparó una resina catiónica a partir de una mezcla de los siguientes ingredientesA cationic resin was prepared from a mixture of the following ingredients

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

(Tabla pasa a página siguiente)(Table goes to page next)

44

\begin{minipage}[t]{153mm}^{1} Aducto de Bisfenol A y un dialcohol que contiene 6 óxido de etileno comercializado como MACOL 98 A MOD1 por BASF Corp.\end{minipage}  \ begin {minipage} [t] {153mm} ^ {1} Bisphenol A adduct and a dialcohol containing 6 ethylene oxide marketed as MACOL 98 A MOD1 by BASF Corp. \ end {minipage} \begin{minipage}[t]{153mm}^{2} Producto de reacción de 2 moles de éter monobutílico de dietilen glicol y 1 mol de formaldehido, 98% activo, preparado como está descrito en la Patente estadounidense No. 4.891.111 para McCollum y otros.\end{minipage}  \ begin {minipage} [t] {153mm} ^ {2}   Reaction product of 2 moles of diethylene monobutyl ether glycol and 1 mol of formaldehyde, 98% active, prepared as is described in U.S. Patent No. 4,891,111 to McCollum and others. \ end {minipage} \begin{minipage}[t]{153mm}^{3} Dicetimina derivada de dietilentriamina y metilisobutilcetona (73% de sólidos en metil isobutil cetona) preparada como se describe en la Patente estadounidense No. 3.947.339 para Jerabel y otros.\end{minipage}  \ begin {minipage} [t] {153mm} ^ {3}   Dicetimin derived from diethylenetriamine and methyl isobutyl ketone (73% of solids in methyl isobutyl ketone) prepared as described in U.S. Patent No. 3,947,339 to Jerabel and others. \ end {minipage}

A un matraz de 6 litros, equipado adecuadamente, se añadieron los ingredientes de la Carga I bajo agitación suave y en el orden mostrado antes. La mezcla de reacción se calentó a una temperatura de 125ºC bajo atmósfera de nitrógeno, se dejó luego que se desarrollara la exoterma a una temperatura de aproximadamente 145ºC a 160ºC y a continuación se mantuvo durante una hora a una temperatura de aproximadamente 145ºC. La mezcla de reacción se enfrió entonces a una temperatura de aproximadamente 125ºC añadiéndose entonces los ingredientes de la Carga II y se mantuvo la mezcla de reacción durante dos horas adicionales a esa temperatura. Después del período de mantenimiento, se vertió lentamente aproximadamente el 85% del producto de reacción en una solución de ácido acético (28,9 g (0,481 equivalentes) y 190,0 gramos de agua desionizada y se dejó mezclar durante 30 minutos. Se añadió agua desionizada adicional para reducir los sólidos en dispersión a 36% (1 hora @ 110ºC). Se hizo entonces el arrastre al vacío de la dispersión catiónica para separar la metil isobutil cetona.To a 6-liter flask, properly equipped, the ingredients of Charge I were added under gentle agitation and in the order shown above. The reaction mixture was heated to a temperature of 125 ° C under nitrogen atmosphere, it was left after the exotherm will develop at a temperature of approximately 145 ° C to 160 ° C and then held for one hour at a temperature of approximately 145 ° C. The reaction mixture is then cooled to a temperature of about 125 ° C adding then the ingredients of Charge II and the reaction mixture for an additional two hours at that temperature. After the maintenance period, it was slowly poured approximately 85% of the reaction product in a solution of acetic acid (28.9 g (0.481 equivalents) and 190.0 grams of water deionized and allowed to mix for 30 minutes. Water was added additional deionized to reduce dispersed solids to 36% (1 hour @ 110ºC). The vacuum dragging of the cationic dispersion to separate methyl isobutyl ketone.

Ejemplo CExample C

Este ejemplo describe la preparación de una resina de trituración con pigmento que contiene sal de amonio cuaternario. El Ejemplo C-1 describe la preparación de un agente cuaternizante sal de amino-ácido y el Ejemplo C-2 describe la preparación de un polímero que contiene grupo epoxi que se cuaterniza subsiguientemente con la sal de amino-ácido del Ejemplo C-1.This example describes the preparation of a crushing resin with pigment containing ammonium salt quaternary. Example C-1 describes the preparation of an amino acid salt quaternizing agent and Example C-2 describes the preparation of a polymer that contains epoxy group that subsequently quaternizes with salt amino acid of Example C-1.

Ejemplo C-1Example C-1

El agente cuaternizante sal de amino-ácido se preparó empleando el siguiente procedimiento.The quaternizing agent amino acid salt is Prepared using the following procedure.

A un matraz de 5 litros equipado adecuadamente se añadieron 445 partes en peso de N,N-dimetiletanolamina. Se añadieron lentamente, con una suave agitación, 660 partes en peso de PAPI 2940 (diisocianato polimérico comercializado por Dow Chemical Co.) a lo largo de un período de 1,5 horas, seguido de enjuagado con 22,1 partes en peso del disolvente antes mencionado para los Ejemplos A y B. Durante esta adición, se dejó desarrollar la exoterma de la mezcla de reacción a una temperatura de aproximadamente 89ºC y se mantuvo a esa temperatura aproximadamente 1 hora hasta completar la reacción del isocianato determinado por espectroscopía infrarroja. Se añadieron entonces 512 partes en peso de una solución acuosa de ácido láctico al 88% a lo largo de un período de 25 minutos, seguido de la adición de aproximadamente 2136,11 partes en peso de agua desionizada. La temperatura de reacción se mantuvo a aproximadamente 80ºC durante aproximadamente 6 horas hasta obtener un valor estable de
ácido.
To a suitably equipped 5 liter flask, 445 parts by weight of N, N-dimethylethanolamine were added. 660 parts by weight of PAPI 2940 (polymeric diisocyanate marketed by Dow Chemical Co.) were added slowly with a gentle stirring over a period of 1.5 hours, followed by rinsing with 22.1 parts by weight of the solvent mentioned above for Examples A and B. During this addition, the exotherm of the reaction mixture was allowed to develop at a temperature of approximately 89 ° C and maintained at that temperature approximately 1 hour until the reaction of the isocyanate determined by infrared spectroscopy was completed. 512 parts by weight of an 88% aqueous solution of lactic acid were then added over a period of 25 minutes, followed by the addition of approximately 2136.11 parts by weight of deionized water. The reaction temperature was maintained at about 80 ° C for about 6 hours until a stable value of
acid.

       \newpage\ newpage
    

Ejemplo C-2Example C-2

Se preparó un polímero que contenía grupo sal de amonio cuaternario utilizando el siguiente procedimiento.A polymer containing salt group of quaternary ammonium using the following procedure.

A un matraz de 5 litros adecuadamente equipado se añadieron, bajo agitación suave, 528,8 partes en peso de EPON 828 (éter poliglicidílico de Bisfenol A comercializado por Shell Oil and Chemical Co); 224,9 partes en peso de Bisfenol A; 83,7 partes en peso del disolvente antes mencionado en los Ejemplos A y B; y 0,5 partes en peso de yoduro de etiltrifenilfosfonio. Se calentó la mezcla de reacción a aproximadamente 140ºC, se dejó desarrollar la exoterma a aproximadamente 180ºC y se enfrió entonces a aproximadamente 160ºC y se mantuvo a esa temperatura durante aproximadamente 1 hora. En ese momento el producto polimérico tenía un peso equivalente de epóxido de 982,9. La mezcla de reacción se enfrió entonces a una temperatura de aproximadamente 130ºC añadiéndose entonces aproximadamente164,9 partes en peso del disolvente de los Ejemplos A y B y la temperatura se rebajó a aproximadamente 95ºC-100ºC, seguido de adición de aproximadamente 418,4 partes en peso del agente de cuaternización amino-ácido del Ejemplo C-1 a lo largo de un período de 15 minutos, y seguido a continuación por la adición de aproximadamente 1428,1 partes en peso de agua desionizada. La temperatura de reacción se mantuvo a aproximadamente 80ºC durante aproximadamente 6 horas hasta que el índice de ácido del producto de reacción quedaba por debajo de 1,0. La resina de trituración con pigmento que contenía grupo de sal de amonio cuaternario resultante se diluyó más con aproximadamente 334,7 partes en peso del disolvente de los Ejemplos A y B.A properly equipped 5-liter flask is added, under gentle agitation, 528.8 parts by weight of EPON 828 (Bisphenol A polyglycidyl ether marketed by Shell Oil and Chemical Co); 224.9 parts by weight of Bisphenol A; 83.7 parts in weight of the solvent mentioned above in Examples A and B; and 0.5 parts by weight of ethyltriphenylphosphonium iodide. It warmed up reaction mixture at about 140 ° C, the exotherm to about 180 ° C and then cooled to approximately 160 ° C and was maintained at that temperature for about 1 hour. At that time the polymer product had an epoxide equivalent weight of 982.9. The reaction mixture is then cooled to a temperature of about 130 ° C then approximately164.9 parts by weight of the solvent of Examples A and B and the temperature was lowered to approximately 95 ° C-100 ° C, followed by the addition of approximately 418.4 parts by weight of the quaternization agent amino acid of Example C-1 over a period 15 minutes, and then followed by the addition of approximately 1428.1 parts by weight of deionized water. The reaction temperature was maintained at about 80 ° C for approximately 6 hours until the acid index of the product of reaction was below 1.0. Crushing resin with pigment containing resulting quaternary ammonium salt group it was further diluted with approximately 334.7 parts by weight of the solvent of Examples A and B.

Ejemplo DExample D

Este ejemplo describe la preparación de una segunda resina de trituración con pigmento que contenía grupo de sal de amonio cuaternario. El Ejemplo D-1 describe la preparación de un agente cuaternizante sal de amino-ácido y el Ejemplo D-2 describe la preparación de un polímero que contiene grupo epóxido que se cuaterniza subsiguientemente con la sal de ácido-amina del Ejemplo D-1.This example describes the preparation of a second crushing resin with pigment containing salt group of quaternary ammonium. Example D-1 describes the preparation of a quaternizing agent amino acid salt and the Example D-2 describes the preparation of a polymer containing epoxy group that subsequently quaternizes with the acid-amine salt of the Example D-1

Ejemplo D-1Example D-1

Se preparó el agente cuaternizante de sal de ácido-amina empleando el siguiente procedimiento.The quaternizing salt agent of acid-amine using the following process.

A un matraz de 5 litros, equipado adecuadamente, se añadieron, mientras se agitaba, 267,4 partes en peso de N,N-dimetiletanolamina. A una temperatura de aproximadamente 23ºC, se añadieron lentamente 396 partes en peso de PAPI 2940 a lo largo de 1,0 hora, seguido de un enjuagado con aproximadamente 13,9 partes en peso del disolvente antes mencionado en los Ejemplos A y B. Se dejó desarrollar la temperatura de la exoterma a aproximadamente 90ºC durante la adición y se mantuvo subsiguientemente a esa temperatura durante aproximadamente 45 minutos hasta que desaparecía el isocianato lo que se determinó por espectroscopía infrarroja. Se añadieron entonces 112,8 partes en peso de dimetilcocoamina seguido de la adición de aproximadamente 361,3 partes en peso de solución acuosa de ácido láctico al 88% a lo largo de un período de 15 minutos. Se añadieron entonces aproximadamente 695,0 partes en peso de agua desionizada y la temperatura de reacción se mantuvo a aproximadamente 85ºC durante aproximadamente 3 horas hasta que el índice de ácido obtenido era estable.To a 5-liter flask, properly equipped, 267.4 parts by weight of were added while stirring N, N-dimethylethanolamine. At a temperature of at approximately 23 ° C, 396 parts by weight of PAPI 2940 for 1.0 hour, followed by rinsing with approximately 13.9 parts by weight of the aforementioned solvent in Examples A and B. The temperature of the exotherm at about 90 ° C during the addition and held subsequently at that temperature for about 45 minutes until the isocyanate disappeared which was determined by infrared spectroscopy. 112.8 parts were then added in dimethylcocoamine weight followed by the addition of approximately 361.3 parts by weight of 88% aqueous lactic acid solution at over a period of 15 minutes. Were added then approximately 695.0 parts by weight of deionized water and the reaction temperature was maintained at about 85 ° C for approximately 3 hours until the acid index obtained was stable.

Ejemplo D-2Example D-2

Se preparó un polímero que contenía sal de amonio cuaternario utilizando el siguiente procedimiento.A polymer containing ammonium salt was prepared Quaternary using the following procedure.

A un matraz de 5 litros adecuadamente equipado se añadieron 631,7 partes en peso de EPON; 828; 268,7 partes en peso de Bisfenol A; 10,0 partes en peso del disolvente de los Ejemplos A y B; y 0,6 partes de yoduro de etiltrifenilfosfonio. La mezcla de reacción se calentó a aproximadamente 140ºC y se dejó que se desarrollara la exoterma hasta una temperatura de aproximadamente180ºC. enfriándose entonces la reacción a 160ºC y manteniéndose durante aproximadamente 1 hora a un peso equivalente de epóxido de 991,0. Se enfrió más la reacción a aproximadamente 130ºC y se añadieron 421,2 partes en peso de Bisfenol A etoxilado (6 moles de óxido de etileno por mol de Bisfenol A). Se continuó enfriando hasta alcanzar una temperatura de aproximadamente 80ºC, momento en el cual se añadieron 346,4 partes en peso de agente cuaternizante sal de amino-ácido del Ejemplo D-1 a lo largo de un período de aproximadamente 30 a 35 minutos seguido de la adición de 404,8 partes en peso de agua desionizada. La mezcla de reacción se mantuvo a una temperatura de aproximadamente 80ºC durante aproximadamente 6 horas hasta que el índice de ácido caía por debajo de 1,0. La resina de trituración con pigmento que contenía grupo de sal de amonio cuaternario resultante se diluyó además con 2232,2 partes de agua desionizada.A properly equipped 5-liter flask is added 631.7 parts by weight of EPON; 828; 268.7 parts by weight of Bisphenol A; 10.0 parts by weight of the solvent of Examples A and B; and 0.6 parts of ethyltriphenylphosphonium iodide. The mixture of reaction was heated to about 140 ° C and allowed to develop the exotherm to a temperature of approximately 180 ° C. then the reaction was cooled to 160 ° C and staying for approximately 1 hour at an equivalent weight of 991.0 epoxide. The reaction was cooled further to approximately 130 ° C and 421.2 parts by weight of ethoxylated Bisphenol A (6 moles of ethylene oxide per mole of Bisphenol A). Continued cooling to a temperature of approximately 80 ° C, at which time 346.4 parts by weight of agent were added quaternizing amino acid salt of Example D-1 a over a period of approximately 30 to 35 minutes followed by the addition of 404.8 parts by weight of deionized water. The mixture of reaction was maintained at a temperature of about 80 ° C for about 6 hours until the acid index dropped below 1.0. The crushing resin with pigment that contained resulting quaternary ammonium salt group was diluted also with 2232.2 parts of deionized water.

Ejemplo AAExample AA

Este Ejemplo describe la preparación de una pasta de pigmento adecuada para su uso en las composiciones de baño de electrodepósito de la presente invención. La pasta de pigmento se preparó desde una mezcla de los siguientes ingredientes:This Example describes the preparation of a paste of pigment suitable for use in bath compositions of electrodeposit of the present invention. The pigment paste is Prepared from a mixture of the following ingredients:

55

^{1} Agente tensioactivo no-iónico comercializado por Air Products y Chemicals, Inc.1 Agent non-ionic surfactant marketed by Air Products and Chemicals, Inc. ^{2} Pigmento de dióxido de titanio de E.I. Dupont de Nemours \textamp Co (Inc.)2 E.I. Titanium Dioxide Pigment Dupont de Nemours  \ textamp Co (Inc.) ^{3} Perlas de negro de carbono de Cabot Corp.3 Cabot carbon black pearls Corp. ^{4} Pasta de catalizador preparada a partir de una mezcla de los siguientes ingredientes:4 Catalyst Paste prepared from a mixture of the following ingredients:

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

66

^{1} Catalizador óxido de di-n-butilestaño de Sankyo Organic Chemicals Co, Ltd.1 Oxide catalyst di-n-butyltin from Sankyo Organic Chemicals Co, Ltd.

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

Se añadieron los anteriores ingredientes, en el orden mostrado y bajo agitación de alto efecto de cizalla. Una vez mezclados a fondo los ingredientes, se pasó la pasta de pigmento a un molino de arena vertical y se molió a un valor Hegman de aproximadamente 7,25.The above ingredients were added, in the order shown and under high shear effect agitation. One time thoroughly mixed the ingredients, the pigment paste was passed to a vertical sand mill and was ground to a Hegman value of approximately 7.25.

Ejemplo BBBB example

Este ejemplo describe la preparación de una pasta de pigmento adecuado para el uso en las composiciones de baño de electrodepósito de la presente invención. La pasta de pigmento se preparó a partir de una mezcla de los siguientes ingredientes:This example describes the preparation of a paste of pigment suitable for use in bath compositions of electrodeposit of the present invention. The pigment paste is Prepared from a mixture of the following ingredients:

77

^{1} Agente tensioactivo de Air Products and Chemicals, Inc.1 Agent Air Products and Chemicals surfactant, Inc. ^{2} Pigmento de dióxido de titanio de E.I. Dupont de Nemours \textamp Co. (Inc.)2 Pigment Dioxide E.I. titanium Dupont de Nemours \ textamp Co. (Inc.) ^{3} Perlas de negro de carbono de Cabot corp.3 carbon black pearls of Cabot corp. ^{4} Hidrato de oxalato de calcio comercializado por Aldrich Chemical Company, Inc.4 Oxalate Hydrate of calcium marketed by Aldrich Chemical Company, Inc. ^{5} Pasta de catalizador preparada a partir de una mezcla de los siguientes ingredientes:5 Catalyst Paste prepared from a mixture of the following ingredients:

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

99

       \vskip1.000000\baselineskip\ vskip1.000000 \ baselineskip
    

Se añadieron secuencialmente los anteriores ingredientes empleando agitación de alto efecto de cizalla. Una vez mezclados a fondo los ingredientes, se pasó la pasta de pigmento a un molino de arena vertical y se molió a un valor Hegman de aproximadamente 7,25.The previous ones were added sequentially ingredients using high shear agitation. One time thoroughly mixed the ingredients, the pigment paste was passed to a vertical sand mill and was ground to a Hegman value of approximately 7.25.

Ejemplo CCCC example

Este ejemplo describe la preparación de una pre-mezcla de baño de electrodepósito para su utilización en composiciones de baño de electrodepósito de los Ejemplos 1 y 2 dados después. La pre-mezcla del baño de electrodepósito se preparó a partir de una mezcla de los siguientes ingredientes:This example describes the preparation of a Pre-mix electrodeposit bath for your use in electrodeposition bath compositions of Examples 1 and 2 given below. The pre-mix of the bathroom of electrodeposit was prepared from a mixture of following ingredients:

1010

\begin{minipage}[t]{153mm}^{1} Producto de reacción de JEFFAMINA D400 (polioxipropilen diamina de Huntsman Corporation) y DER-732 (epóxido alifático comercialmente disponible de Dow Chemical Co.), preparado como se describe en la Patente estadounidense No. 4.423.166 para Moriarity y otros.\end{minipage}  \ begin {minipage} [t] {153mm} ^ {1} Reaction product of JEFFAMINA D400 (polyoxypropylene diamine from Huntsman Corporation) and DER-732 (commercially aliphatic epoxide available from Dow Chemical Co.), prepared as described in the U.S. Patent No. 4,423,166 to Moriarity and others. \ end {minipage} \begin{minipage}[t]{153mm}^{2} Producto de reacción de metilamina; óxido de propileno; y toluen diisocianato tal como se describe en la Patente estadounidense No. 5.348.578.\end{minipage}  \ begin {minipage} [t] {153mm} ^ {2}  Methylamine reaction product; propylene's OXID; and toluen diisocyanate as described in US Patent No. 5,348,578. \ End {minipage} ^{3} Ácido fenilfosfónico comercializado por Aldrich Chemical Company, Inc.).3 Acid phenylphosphonic marketed by Aldrich Chemical Company, Inc.).

Ejemplo DDDD example

Este ejemplo describe la preparación de una pre-mezcla de baño de electrodepósito para su utilización en las composiciones de baño de electrodepósito de los Ejemplos 3 y 4 a continuación. La pre-mezcla del baño de electrodepósito se preparó a partir de una mezcla de los siguientes ingredientes:This example describes the preparation of a Pre-mix electrodeposit bath for your use in electrodeposition bath compositions of Examples 3 and 4 below. The pre-mix of electrodeposition bath was prepared from a mixture of the following ingredients:

11eleven

^{1} Ácido fenilfosfónico comercializado por Aldrich Chemical Company, Inc.1 Acid phenylphosphonic marketed by Aldrich Chemical Company, Inc.

Ejemplo EEEE example

Este ejemplo describe la preparación de una solución de itrio soluble para su utilización en las composiciones de baño de electrodepósito del Ejemplo 2 y 4 de después. La solución de itrio soluble se preparó a partir de la mezcla d los siguientes ingredientes:This example describes the preparation of a soluble yttrium solution for use in the compositions electrodeposition bath of Example 2 and 4 below. The solution soluble yttrium was prepared from the mixture of the following ingredients:

1212

^{1} Disponible comercialmente de Aldrich Chemical Company, Inc.1 Available commercially from Aldrich Chemical Company, Inc.

Ejemplos 1 a 4Examples 1 to 4

Los Ejemplos 2 y 4 describen la preparación de composiciones de baño de electrodepósito de la invención que contienen 500 ppm de la solución de itrio soluble del Ejemplo EE. Los Ejemplos Comparativos 1 y 3 no contienen solución de itrio soluble. Las composiciones del baño de electrodepósito se prepararon a partir de una mezcla de los siguientes ingredientes:Examples 2 and 4 describe the preparation of electrodeposit bath compositions of the invention which contain 500 ppm of the soluble yttrium solution of Example EE. Comparative Examples 1 and 3 do not contain yttrium solution soluble. The electrodeposition bath compositions were prepared from a mixture of the following ingredients:

1313

1414

Preparación del baño de electrodepósitoPreparation of the electrodeposition bath

Se diluyó, mientras se agitaba, la resina catiónica del Ejemplo B con aproximadamente 15% del total del agua desionizada. Se agitó entonces la resina diluida en la resina catiónica del Ejemplo A. La resina flexibilizante se diluyó aparte mientras se agitaba el disolvente, se diluyó además con aproximadamente el 30% en total de agua desionizada antes de añadirlo a la mezcla de resina catiónica. Se añadió entonces el aditivo de control de flujo. Se diluyó el ácido fenilfosfónico con aproximadamente 5% del agua desionizada total antes de añadir a la mezcla de resina catiónica. La pasta de pigmento se diluyó separadamente con el resto de agua desionizada y se añadió a la anterior mezcla de resina. Los sólidos del baño finales eran de aproximadamente 22,5% con una relación de pigmento a resina de 0,12:1,0. Los baños de ensayo eran de 20% de ultrafiltrados y se rellenaron únicamente con agua deionizada fresca para los Ejemplos Comparativos 1 y 3, y con agua desionizada fresca y la cantidad de solución de itrio soluble prescrita en los Ejemplos 2 y 4 antes del recubrimiento electrolítico.The resin was diluted while stirring cationic of Example B with approximately 15% of the total water deionized The resin diluted in the resin was then stirred cationic of Example A. The flexibilizing resin was diluted separately while stirring the solvent, it was further diluted with approximately 30% total deionized water before add it to the cationic resin mixture. The flow control additive. The phenylphosphonic acid was diluted with approximately 5% of the total deionized water before adding to the cationic resin mixture. The pigment paste was diluted separately with the rest of deionized water and added to the previous resin mixture. The final bath solids were of approximately 22.5% with a pigment to resin ratio of 0.12: 1.0. The test baths were 20% ultrafiltered and were filled only with fresh deionized water for the Examples Comparatives 1 and 3, and with fresh deionized water and the amount of soluble yttrium solution prescribed in Examples 2 and 4 before electrolytic coating

Procedimiento de recubrimiento electrolíticoElectrolytic coating procedure

Cada composición de baño de electrodepósito de los Ejemplos 1 a 4 anteriores se electrodepositó sobre paneles de acero laminado en frío no fosfatado, comercializado por ACT Laboratories. Las condiciones para el electrodepósito de cada uno fueron las siguientes: 2 minutos a 90ºF (36,6ºC) a 160-180 voltios para dar un espesor de película curada de 0,6 a 0,8 mils (1,5 a 2 mm). El substrato recubierto se curó en una estufa eléctrica a 340ºF (171ºC) durante 20 minutos.Each electrodeposition bath composition of Examples 1 to 4 above were electrodeposited on panels of non-phosphated cold rolled steel, marketed by ACT Laboratories The conditions for each electrodeposition were the following: 2 minutes at 90ºF (36.6ºC) at 160-180 volts to give a film thickness cured from 0.6 to 0.8 mils (1.5 to 2 mm). The coated substrate is cured in an electric stove at 340ºF (171ºC) for 20 minutes

Procedimiento de ensayoTest procedure

Se aplicó el punzón a cada uno de los paneles de ensayo de acero sin tratar, haciendo un corte a través del recubrimiento hasta el substrato metálico en un dibujo en "X". Se sometieron entonces los paneles de ensayo a un ensayo de pulverización de sal de acuerdo con ASTM B117. Los paneles de ensayo se evaluaron en cuanto a corrosión de "arrastrado del punzón" y aspecto visual. El arrastrado del punzón se expresa como distancia media (en milímetros) de corrosión desde la marca del punzón Los resultados del ensayo se dan en la siguiente Tabla 1The punch was applied to each of the panels of untreated steel test, making a cut through the coating to the metal substrate in an "X" drawing. The test panels were then subjected to a test of salt spray according to ASTM B117. Test panels were evaluated for corrosion of "punch drag" and visual aspect. The dragging of the punch is expressed as distance average (in millimeters) of corrosion from the punch mark The Test results are given in the following Table 1

15fifteen

Los datos dados en la tabla anterior ilustran la mejora de la resistencia a la corrosión de arrastre de punzón observada con la inclusión de soluciones de itrio soluble en el baño de electrodepósito de la invención.The data given in the table above illustrates the Improved corrosion resistance of punch drag observed with the inclusion of soluble yttrium solutions in the bathroom of electrodeposit of the invention.

Claims (16)

1. Una composición de recubrimiento electrodepositable que comprende una fase resinosa dispersa en un medio acuoso, comprendiendo la citada fase resinosa:1. A coating composition electrodepositable comprising a resinous phase dispersed in a aqueous medium, said resinous phase comprising:
(a)(to)
una resina iónica electrodepositable que contiene grupo de hidrógeno activo, y  an electrodepositable ionic resin containing hydrogen group active, and
(b)(b)
un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos de hidrógeno activo de (a)  a curing agent that has reactive functional groups with the active hydrogen groups of (a)
donde la composición comprende al menos un compuesto de itrio que es soluble en medio acuoso y está presente en una cantidad de aproximadamente 0,005 por ciento en peso a aproximadamente 5 por ciento en peso de itrio basado en el peso del total de sólidos de resina de la composición de recubrimiento electrodepositable.where the composition comprises less a yttrium compound that is soluble in aqueous medium and is present in an amount of about 0.005 percent by weight at about 5 weight percent yttrium based on weight of the total resin solids of the coating composition electrodepositable
2. La composición de recubrimiento electrodepositable según la reivindicación 1 donde la cantidad de itrio presente no es superior a aproximadamente 1,0 por ciento en peso basado en el peso del total de sólidos de resina en la composición de recubrimiento electrodepositable.2. The coating composition electrodepositable according to claim 1 wherein the amount of Yttrium present is not more than approximately 1.0 percent in weight based on the weight of the total resin solids in the electrodepositable coating composition. 3. La composición de recubrimiento electrodepositable según la reivindicación 1 donde la citada composición está substancialmente libre de plomo.3. The coating composition electrodepositable according to claim 1 wherein said Composition is substantially lead free. 4. La composición de recubrimiento electrodepositable según la reivindicación 1 donde la citada fase resinosa comprende además al menos un pigmento sin plomo.4. The coating composition electrodepositable according to claim 1 wherein said phase Resinosa also comprises at least one lead-free pigment. 5. La composición de recubrimiento electrodepositable según la reivindicación 1 donde el citado compuesto de itrio se selecciona del grupo que consiste en nitrato de itrio, acetato de itrio, cloruro de itrio, sulfamato de itrio, lactato de itrio, formiato de itrio y mezclas de ellos.5. The coating composition electrodepositable according to claim 1 wherein said Yttrium compound is selected from the group consisting of nitrate of yttrium, yttrium acetate, yttrium chloride, yttrium sulfamate, Yttrium lactate, yttrium formate and mixtures thereof. 6. La composición de recubrimiento electrodepositable según la reivindicación 1 donde el citado compuesto de itrio es una sal soluble de itrio seleccionada del grupo que consiste en sulfamato de itrio, acetato de itrio, lactato de itrio, formiato de itrio y nitrato de itrio.6. The coating composition electrodepositable according to claim 1 wherein said yttrium compound is a soluble salt of yttrium selected from group consisting of yttrium sulfamate, yttrium acetate, lactate of yttrium, yttrium formate and yttrium nitrate. 7. La composición de recubrimiento de la reivindicación 1 donde la resina iónica que contiene hidrógeno activo es catiónica.7. The coating composition of the claim 1 wherein the ionic resin containing hydrogen Active is cationic. 8. Una composición de recubrimiento electrodepositable que comprende una fase resinosa dispersa en un medio acuoso, comprendiendo la citada fase resinosa:8. A coating composition electrodepositable comprising a resinous phase dispersed in a aqueous medium, said resinous phase comprising:
(a)(to)
un grupo de hidrógeno activo que contiene resina iónica electrodepositable, y  a active hydrogen group containing ionic resin electrodepositable, and
(b)(b)
un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos de hidrógeno activo de (a)  a curing agent that has reactive functional groups with the active hydrogen groups of (a)
donde la composición comprende al menos un compuesto de itrio que es soluble en medio acuoso y está presente en una cantidad de aproximadamente 10 partes por millón a aproximadamente 10.000 partes por millón de itrio, basado en el peso del baño de electrodepósito.where the composition comprises less a yttrium compound that is soluble in aqueous medium and is present in an amount of approximately 10 parts per million to approximately 10,000 parts per million yttrium, based on weight from the bathroom of electrodeposit.
9. El baño de electrodepósito según la reivindicación 8 donde la cantidad de itrio total no es superior a aproximadamente 1.000 partes por millón basado en el peso del baño de electrodepósito.9. The electrodeposition bath according to the claim 8 wherein the amount of total yttrium is not greater than approximately 1,000 parts per million based on bathroom weight of electrodeposit. 10. El baño de electrodepósito según la reivindicación 8 donde la cantidad de itrio total no es superior a aproximadamente 500 partes por millón basado en el peso del baño de electrodepósito.10. The electrodeposition bath according to the claim 8 wherein the amount of total yttrium is not greater than approximately 500 parts per million based on the weight of the bathroom electrodeposit. 11. El baño de electrodepósito según la reivindicación 8 donde el citado baño está substancialmente libre de plomo.11. The electrodeposition bath according to the claim 8 wherein said bath is substantially free of lead. 12. Una composición de recubrimiento que contiene los siguientes componentes:12. A coating composition that It contains the following components:
(a)(to)
una resina que contiene grupo de hidrógeno activo; y  a resin containing active hydrogen group; Y
(b)(b)
un agente de curado que tiene grupos funcionales reactivos con los grupos de hidrógeno activo de (a)  a curing agent that has reactive functional groups with the         active hydrogen groups of (a)
donde la composición de recubrimiento comprende aproximadamente 0,005 por ciento en peso a aproximadamente 5,0 por ciento en peso de itrio basado en el peso de total de sólidos de resina en la composición de recubrimiento.where the composition of coating comprises approximately 0.005 percent by weight at approximately 5.0 percent by weight of yttrium based on the weight of total resin solids in the composition of covering.
13. Un método de recubrimiento electrolítico de un substrato conductor que sirve como electrodo cargado en un circuito eléctrico que comprende el citado electrodo y un contra-electrodo cargado con carga opuesta, estando sumergidos los citados electrodos en un baño de electrodepósito acuoso según cualquiera de las reivindicaciones 8-11, que comprende el paso de la corriente eléctrica entre los citados electrodos para que se deposite la composición de recubrimiento electrolítico sobre el substrato como película substancialmente continua.13. An electrolytic coating method of a conductive substrate that serves as an electrode charged in a electrical circuit comprising said electrode and a counter-electrode charged with opposite charge, being the electrodes submerged in an electrodeposition bath aqueous according to any of the claims 8-11, which includes the flow of current electrical between the aforementioned electrodes to deposit the electrolytic coating composition on the substrate as substantially continuous film. 14. El método según la reivindicación 13 donde el substrato es el cátodo.14. The method according to claim 13 where the substrate is the cathode. 15. El método según la reivindicación 13 donde el citado substrato consiste en acero sin tratar.15. The method according to claim 13 where said substrate consists of untreated steel. 16. El método según la reivindicación 13 donde el citado substrato consiste en acero galvanizado.16. The method according to claim 13 where said substrate consists of galvanized steel.
ES00921937T 1999-04-22 2000-04-07 ELECTRODEPOSITE BATHROOMS CONTAINING ITRIUM. Expired - Lifetime ES2232441T3 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US298104 1999-04-22
US09/298,104 US6190525B1 (en) 1999-04-22 1999-04-22 Electrodeposition baths containing yttrium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ES2232441T3 true ES2232441T3 (en) 2005-06-01

Family

ID=23149047

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
ES00921937T Expired - Lifetime ES2232441T3 (en) 1999-04-22 2000-04-07 ELECTRODEPOSITE BATHROOMS CONTAINING ITRIUM.

Country Status (15)

Country Link
US (1) US6190525B1 (en)
EP (1) EP1177263B1 (en)
JP (3) JP2002543234A (en)
KR (1) KR100457897B1 (en)
CN (1) CN1198890C (en)
AT (1) ATE280811T1 (en)
AU (1) AU755593B2 (en)
BR (1) BR0011148B1 (en)
CA (1) CA2370362C (en)
DE (1) DE60015322T2 (en)
ES (1) ES2232441T3 (en)
MY (1) MY120610A (en)
PT (1) PT1177263E (en)
TW (1) TWI230189B (en)
WO (1) WO2000064991A1 (en)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7000313B2 (en) * 2001-03-08 2006-02-21 Ppg Industries Ohio, Inc. Process for fabricating circuit assemblies using electrodepositable dielectric coating compositions
US6841199B2 (en) * 2002-04-26 2005-01-11 Ppg Industries Ohio, Inc. Method for inhibiting corrosion by post-dip of coated parts
EP1539889B1 (en) * 2002-06-21 2008-02-20 PPG Industries Ohio, Inc. Electrodeposition baths containing metal salts and methods related thereto
DE60312082T2 (en) * 2002-07-22 2007-11-08 E.I. Dupont De Nemours And Co., Wilmington Bismuth salts containing cationic electrodeposition paints together with yttrium and / or neodymium compounds, their method of preparation and their use
US7374650B2 (en) 2002-08-22 2008-05-20 E.I. Du Pont De Nemours & Company Cathodic electrodeposition coating agents containing bismuth salts together with yttrium and/or neodymium compounds, production and use thereof
FR2857672B1 (en) * 2003-07-15 2005-09-16 Dacral USE OF YTTRIUM, ZIRCONIUM, LANTHAN, CERIUM, PRASEODYM OR NEODYME AS A REINFORCING ELEMENT OF THE ANTI-CORROSION PROPERTIES OF ANTI-CORROSION COATING COMPOSITION.
US7749368B2 (en) * 2006-12-13 2010-07-06 Ppg Industries Ohio, Inc. Methods for coating a metal substrate and related coated substrates
US9574093B2 (en) * 2007-09-28 2017-02-21 Ppg Industries Ohio, Inc. Methods for coating a metal substrate and related coated metal substrates
US8574414B2 (en) * 2010-07-14 2013-11-05 Ppg Industries Ohio, Inc Copper prerinse for electrodepositable coating composition comprising yttrium
US20130081950A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Ppg Industries Ohio, Inc. Acid cleaners for metal substrates and associated methods for cleaning and coating metal substrates
CN111663156A (en) * 2020-07-09 2020-09-15 惠州市腾达宇科技有限公司 Brightener for VCP electroplating and preparation method thereof

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8324717D0 (en) * 1983-09-15 1983-10-19 British Petroleum Co Plc Inhibiting corrosion in aqueous systems
CA1268139A (en) 1984-10-05 1990-04-24 John Foster Composite electrodeposition including particles of craim.sub.2 where m.sub.2is y, si, ti or rare earth
JPH02508A (en) 1987-11-27 1990-01-05 Canon Inc Ink jet recorder
GB9101468D0 (en) * 1991-01-23 1991-03-06 Ciba Geigy Coating compositions
JP3124088B2 (en) * 1991-11-15 2001-01-15 関西ペイント株式会社 Electrodeposition coating composition
GB9201642D0 (en) * 1992-01-25 1992-03-11 Ciba Geigy Corrosion inhibitors
US5298148A (en) 1993-02-23 1994-03-29 Kansai Paint Co., Ltd. Electrodeposition paint compositions
EP0619290B1 (en) * 1993-04-07 1996-10-09 Ciba-Geigy Ag Salts of alkaline earth metals and transition metals as well as complexes of transition metals of ketocarboxylic acids and their use as corrosion inhibitors
US5582704A (en) * 1994-11-04 1996-12-10 Ppg Industries, Inc. Cationic resin and capped polyisocyanate curing agent suitable for use in electrodeposition
JPH09249990A (en) * 1996-01-09 1997-09-22 Nippon Paint Co Ltd Surface treatment of metal
US6017432A (en) * 1997-07-03 2000-01-25 Ppg Industries Ohio, Inc. Electrodepositable coating compositions and their use in a method of cationic electrodeposition
JP2000063710A (en) * 1998-08-17 2000-02-29 Nippon Paint Co Ltd Cathodic electrodeposition coating composition

Also Published As

Publication number Publication date
PT1177263E (en) 2005-02-28
EP1177263B1 (en) 2004-10-27
EP1177263A1 (en) 2002-02-06
CN1198890C (en) 2005-04-27
CA2370362C (en) 2005-09-13
US6190525B1 (en) 2001-02-20
JP2002543234A (en) 2002-12-17
ATE280811T1 (en) 2004-11-15
CN1357028A (en) 2002-07-03
JP2007291406A (en) 2007-11-08
BR0011148B1 (en) 2010-04-06
MY120610A (en) 2005-11-30
AU4219400A (en) 2000-11-10
DE60015322T2 (en) 2005-10-27
DE60015322D1 (en) 2004-12-02
KR100457897B1 (en) 2004-11-18
TWI230189B (en) 2005-04-01
BR0011148A (en) 2002-02-19
AU755593B2 (en) 2002-12-19
JP2011132607A (en) 2011-07-07
KR20020025864A (en) 2002-04-04
WO2000064991A1 (en) 2000-11-02
CA2370362A1 (en) 2000-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4933056A (en) Cationic electrodepositable compositions through the use of sulfamic acid and derivatives thereof
DE60017441T2 (en) CATHODIC ELECTRODEAL PAINTING COMPOSITIONS WITH IMPROVED APPEARANCE, IMPROVED EDGE COVERING AND REDUCED CRATES
JP2007291406A (en) Electrodeposition bath containing yttrium
US20090042060A1 (en) Electrodepositable coating composition containing a cyclic guanidine
JP2002531677A (en) Bismuth oxide catalyst for cathodic electrocoating composition
US6110341A (en) Electrodeposition baths containing organic phosphorous-based compounds
KR960008479B1 (en) Aqueous electro-dipcoat baths containing cathodically depositable synthetic resins and process for coating electrocally conductive substrates
US5070149A (en) Cationic resin composition with reduced emissions during baking
ES2301821T3 (en) ELECTRODEPOSITION BATHROOMS CONTAINING METAL SALTS AND RELATED PROCEDURES.
ES2882809T3 (en) Aqueous resinous dispersions including a zinc (ii) amidine complex and methods for their manufacture
WO1996000755A1 (en) Cathodic electrocoating compositions containing branched epoxy amine resins
DE69911311T2 (en) Cathodic electrocoating composition containing a primary amine chain extended epoxy
JP3370075B2 (en) Electrodeposition bath containing calcium salt
ES2266786T3 (en) COATING AGENTS FOR CATHODIC ELECTRODEPOSITION.
JP7333198B2 (en) Method for preparing cationic electrodeposition coating composition
MXPA01000039A (en) Electrodeposition baths containing calcium salts
KR100576404B1 (en) β-Hydroxyalkyl carbamate-modified pigment grinding vehicle and said vehicle-containing cationic electro-deposition paint composition
US5292832A (en) Controlled film build epoxy coatings using glycidyl ethers of oxyalkylated aromatic and cycloaliphatic diols
MXPA01010562A (en) Electrodeposition baths containing yttrium
ES2227152T3 (en) POLYESTER RESINS CATIONIC ALIFATICS AND ITS USE IN THE ELECTRODEPOSITION.
KR20000046300A (en) Cationic electro-deposition paint composition containing alkyl glycidyl ether- or ester-amine coating layer forming additive