EP4158424A1 - Dämpfungsanordnung zur schwingungsdämpfung eines elements in einem optischen system - Google Patents

Dämpfungsanordnung zur schwingungsdämpfung eines elements in einem optischen system

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Publication number
EP4158424A1
EP4158424A1 EP21709624.7A EP21709624A EP4158424A1 EP 4158424 A1 EP4158424 A1 EP 4158424A1 EP 21709624 A EP21709624 A EP 21709624A EP 4158424 A1 EP4158424 A1 EP 4158424A1
Authority
EP
European Patent Office
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arrangement according
damping
damping arrangement
channel
fluid
Prior art date
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Pending
Application number
EP21709624.7A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Marwene Nefzi
Stefan Hembacher
David SCHOENEN
Jens Kugler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Publication of EP4158424A1 publication Critical patent/EP4158424A1/de
Pending legal-status Critical Current

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Definitions

  • the invention relates to a damping arrangement for damping vibrations of an element in an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure system.
  • Microlithography is used to manufacture microstructured components such as integrated circuits or LCDs.
  • the microlithography process is carried out in what is known as a projection exposure system, which has an illumination device and a projection lens.
  • a projection exposure system designed for EUV ie for electromagnetic radiation with a wavelength below 30 nm, in particular below 15 nm
  • mirrors are used as optical components for the imaging process due to the lack of transparent materials.
  • Weakly damped mechanical resonances in the system lead to a local increase in the interference spectrum in the area of the resonance frequencies and to an associated deterioration in the positional stability of passive components mounted as well as actively controlled components.
  • resonances can lead to instability of the control loop.
  • the object of the present invention is to provide a damping arrangement for damping vibrations of an element in an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure system, which is effective even in the case of higher-frequency vibration excitations Allows damping with a compact design.
  • a damping arrangement for damping vibrations of an element in an optical system comprises
  • an oscillation of the element causes a dissipation of oscillation energy of the element by partially displacing the fluid from the cavity into the at least one channel.
  • the invention is based, in particular, on the concept of realizing an energy dissipation for damping vibrations of an element (such as an EUV mirror, for example) in that a fluid located in a cavity is used in such a way that the vibration of the element to be damped with a partial Displacement of this fluid is associated with a channel connected to the cavity.
  • the liquid displacement taking place in said channel has the particular consequence that - due to the intensification of the energy dissipation due to the friction occurring on the channel wall - efficient damping can also be achieved when the fluid itself has only a low or medium viscosity (see above that e.g. water can also be used as a fluid).
  • the increase in energy dissipation achieved by said channel means that - depending on the size of the (resonance) frequency of the respective element to be damped - the further use of a damper mass or auxiliary mass is either unnecessary or significantly lower masses (in Compare to a fluid-based energy dissipation without the one according to the invention Displacement in a channel) can be limited.
  • the installation space required for the damping arrangement can in turn be significantly reduced and, as a result, a particularly compact system design can be implemented.
  • a “channel” is understood to mean an elongated hollow structure, the length of which is preferably at least five times, in particular at least ten times, the mean diameter.
  • the damping arrangement has at least one auxiliary mass located within the cavity, which when the element vibrates partially displaces the fluid into the at least one channel.
  • this auxiliary mass is mounted in a stable manner with respect to the element.
  • the stable mounting of the auxiliary mass has a resonance frequency which corresponds to a resonance frequency of the element to be damped.
  • the invention is not limited to the use of such an auxiliary mass.
  • it may also be sufficient to use only the fluid itself or its vibrating mass fraction in the cavity for vibration damping. In this case, this oscillating mass fraction of the fluid is then possibly to be matched to the resonance frequency of the optical element to be damped.
  • the damping arrangement is designed for damping a resonance frequency of the element of more than 50 Hz, in particular more than 100 Hz, further in particular more than 500 Hz.
  • the damping arrangement has a plurality of auxiliary masses located within the cavity which, when the element vibrates, partially displace the fluid into the at least one channel.
  • a plurality of “counter-oscillating” auxiliary masses or particles located within the cavity has the particular advantage that a spatial distribution of the damping effect achieved is achieved (compared to punctual damping), which results in particularly effective damping even with comparatively complex ones Geometries of each element to be damped can be achieved.
  • the at least one channel forms a cooling channel for cooling the element when the optical system is in operation.
  • a double functionality of the fluid according to the invention can be implemented by the fluid causing a cooling effect (e.g. to compensate for thermal loads occurring during operation of the element or an optical system having this element) in addition to the energy dissipation described above.
  • a cooling effect e.g. to compensate for thermal loads occurring during operation of the element or an optical system having this element
  • the invention can in particular also make use of the fact already mentioned above that, according to the invention, a fluid with only medium viscosity (e.g. cooling water) can also be used for vibration damping.
  • the at least one channel has, at least in some areas, a meandering geometry.
  • the damping arrangement also has at least one magnet and / or at least one coil that can be charged with electrical current.
  • the element is an optical element, in particular a mirror.
  • the element can also be, for example, an actuator component or a support or measuring frame.
  • the invention also relates to a projection exposure system with at least one damping arrangement according to the invention.
  • the projection exposure system can in particular be designed for operation in the EUV or for operation at an operating wavelength of less than 30 nm, in particular less than 15 nm.
  • the projection exposure system can also be designed for operation in the VUV range, for example for wavelengths less than 200 nm, in particular less than 160 nm.
  • FIG. 1a-1b schematic representations to explain the basic structure and function of a damping arrangement according to the invention according to one embodiment
  • FIG. 3 shows a diagram to explain a vibration suppression which can be achieved by way of example with a damping arrangement according to the invention
  • Figure 4-6 are schematic representations to explain further embodiments of a damping arrangement according to the invention.
  • FIG. 7-10 are schematic representations to explain further embodiments of a damping arrangement for damping comparatively low-frequency vibrations.
  • FIG. 11 shows a schematic illustration to explain the possible
  • FIGS. 1a-1b a damping arrangement according to a first embodiment of the invention will first be explained with reference to FIGS. 1a-1b.
  • the damping arrangement according to FIG. 1 a is used to dissipate vibration energy of an element in an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure system.
  • the element to be damped with regard to vibrations (not illustrated in FIG. 1 a) is a mirror which forms an oscillating mass-spring system with a predetermined resonance frequency in relation to a support structure.
  • the element to be damped with regard to vibrations can also be, for example, an actuator component of an actuator used to actuate such an optical element, a joint element, a reaction or filter mass or any structural element, for example a support or measuring frame , Act.
  • the damping arrangement according to the invention has, in particular, a fluid 120 located within a cavity and a channel 130 connected to the cavity.
  • the cavity for its part can be provided in the element to be damped or also formed separately from this (for example in a housing enclosing the cavity). Furthermore, according to FIG. 1 a, an auxiliary mass 110 is located within the cavity, the value of the mass of this auxiliary mass being rri2 and a stable mounting of the auxiliary mass 110 being symbolized by a spring labeled “115”.
  • the functional principle of the damping arrangement of Fig. 1a is that an oscillation of the element to be damped with regard to its oscillation energy leads to the fluid 120 being partially displaced into the channel 130 connected to the cavity, which results in energy dissipation and an accompanying damping effect Has.
  • this energy dissipation is amplified by the said fluid displacement in the channel 130, with the result that vibration damping of comparatively high resonance frequencies of the element to be damped, for example of more than 50 Hz (in particular more than 100 Hz, further in particular more than 500 Hz), even below Use of a fluid 120 of only medium or lower viscosity and / or with a comparatively low value of the mass rri2 of the auxiliary mass 110 can be achieved.
  • water can be used as fluid 120, for example.
  • highly viscous liquids such as water silicones, silicone oils, magnetorheological liquids or ferrofluids can also be used as the fluid 120.
  • an auxiliary or damper mass 110 can optionally be dispensed with entirely by only using the fluid 120 itself (which then does not completely fill the cavity) or its oscillating mass Energy dissipation is used.
  • the at least one channel 130 used according to the invention to increase the energy dissipation can in particular, as indicated in FIG. 1a, have a meandering geometry. Such a geometry is advantageous for achieving a high level of friction or energy dissipation on the duct wall with a particularly compact design at the same time.
  • the invention is not restricted to this, so that embodiments with any other channel configuration or geometry are also to be considered as encompassed by the invention.
  • Suitable (joining) technologies for implementing the channel 130 in the damping arrangement according to the invention include, in particular, silicate bonding, fusion bonding and direct bonding.
  • FIG. 1b shows an equivalent circuit diagram for the damping arrangement explained above with reference to FIG. Furthermore, the disturbing force acting on the element 101 to be damped with regard to vibrations is denoted by Fi and the movement of this element 101 or the mass to be damped rrn is denoted by xi.
  • FIG. 2a-2b show schematic representations to explain further embodiments of the invention, with components that are analogous or essentially functionally identical in comparison to FIG. 1 with reference numbers increased by “100”.
  • a plurality of auxiliary compounds 210 can also be provided within the cavity connected to the channel 230.
  • Such a configuration has the particular advantage that instead of punctual damping, a spatial distribution of the damping effect is achieved with the result that an effective damping effect can be achieved even with comparatively complex shapes of the respective element to be damped with regard to vibrations.
  • a further amplification of the energy dissipation he aimed can also be achieved in that a magnetic field (indicated by field lines 240) is generated via permanent magnets or via coils charged with electrical current, with the Viscosity of the fluid 220 can be increased by using, for example, magnetorheological particles or ferrofluids.
  • an increase in the energy dissipation can also be achieved by attaching one or more diaphragms within the flea space and / or within the duct connected to the flea space.
  • the fluid with a suitable dynamic viscosity can be a commercially available water silicone (for example available under the name Wacker® 1000000).
  • FIG. 4 shows a schematic illustration to explain a further possible embodiment of a damping arrangement according to the invention, where in comparison to FIG. 1 analog or essentially functionally identical components are denoted by reference numbers increased by “300”.
  • reference numbers increased by “300”.
  • the element to be damped with regard to vibrations is also shown and labeled “401”.
  • This can be, for example, an EUV mirror with an optical active surface 405.
  • the channels 430 used according to the invention to amplify the energy dissipation form additional cooling channels for the element 401 to be damped or the EUV- Mirrors.
  • the fluid 420 used for energy dissipation e.g. water
  • the fluid 420 used for energy dissipation also takes on the function of a cooling fluid to reduce thermal loads occurring during operation of the element 401 or EUV mirror (for example, as a result of electromagnetic loads hitting the EUV mirror Radiation).
  • FIG. 5-6 show a possible application scenario of a damping arrangement according to the invention, with components that are analogous or essentially functionally identical in comparison to FIG. 1 with reference numbers increased by “400”.
  • the element 501 to be damped with regard to vibrations is shown in FIG.
  • FIG. 5 is shown in a perspective view and in FIG. 6 in a top view.
  • FIG. 6 a mechanical suspension of the element 501 is also indicated and denoted by “502”.
  • auxiliary masses are used in three areas offset azimuthally in the circumferential direction (shown in FIG. 6) in such a way that in each of these three azimuthally offset areas (in which, according to FIG. 6, a damping element 511, 512 and 513 is formed by the mentioned auxiliary masses) each vibrations are damped in two directions of vibration.
  • auxiliary masses for each of the three azimuthally offset areas or for each of the damping elements 511, 512 and 513, two auxiliary masses (labeled “510” in FIG. 5) oscillate in the x direction, and the other two Auxiliary masses (labeled “511” in FIG. 5) in the z-direction.
  • auxiliary masses 510, 511 each have a natural frequency which corresponds to a resonance frequency to be damped of the element or mirror 501.
  • the energy dissipation takes place analogously to the embodiments described above by displacing a respective fluid 520 surrounding the respective auxiliary mass 510, 511 into a channel 530 (also here, for example, with a meandering shape).
  • the disturbance excitations to be attenuated can be shock excitations, which can occur e.g. during transport or handling of the element to be damped or the associated system (e.g. a projection lens) or also during an earthquake.
  • the previously described amplification of the energy dissipation by the fluid displacement in at least one channel and / or the use of a highly viscous fluid can be dispensed with.
  • Fig. 7 shows a schematic representation of an embodiment in which a fluid 720 used for energy dissipation is arranged in a cavity located within the element 701 which is to be dampened and which has the mass mi.
  • An interfering force acting on element 701 or its mass mi is denoted by “F”.
  • the natural frequency of element 701 (as a more rigid Body) is in the order of magnitude of 1 Hz.
  • the rigidity of the suspension of the element 701 or the corresponding actuator units is symbolized by a spring 715.
  • a diaphragm 750 serves to intensify the energy dissipation can carry out corresponding counter-vibrations within the flea space when the element 701 is vibrated to realize the energy dissipation.
  • the mass rri2 relevant for vibration damping or energy dissipation is that of the fluid 720 performing the corresponding counter-vibration.
  • FIG. 8 shows a schematic representation of the use of a damping arrangement with the functional principle described above with reference to FIG. 7 in a mirror forming the element 801 to be damped with an optical active surface 805, with a diaphragm used to amplify the energy dissipation denoted by “850” is.
  • “820” denotes the fluid which, upon shock excitation of the element 801 to be damped, is forced through the opening (s) of the said diaphragm 850 with energy dissipation.
  • such a diaphragm 950 which is set to increase the energy dissipation, can also have a plurality of openings or bores, in which case increased energy dissipation is achieved when the fluid 920 passes through said openings or bores.
  • X denotes the loss factor of the diaphragm 950 that is dependent on the diaphragm geometry.
  • G is the acceleration of gravity.
  • F denotes the disturbing force acting on the mass rrn.
  • Table 3 shows quantitative data for a possible embodiment.
  • Table 3 According to FIG. 10, depending on the size of the (resonance) frequency to be damped, only the fluid located within the flea space (labeled “1020” in FIG. 10) can be used for vibration damping, dispensing with a diaphragm. The element to be damped with regard to vibrations is designated here with “1001”. The arrow symbolizes the direction of a possible shock excitation to be dampened.
  • FIG. 11 shows a schematic illustration of an exemplary projection exposure system 1100 designed for operation in the EUV.
  • an illumination device of this projection exposure system 1100 has a field facet mirror 1103 and a pupil facet mirror 1104. All of the mirrors in the projection exposure system 1100 can be freeform surfaces.
  • a first telescope mirror 1105 and a second telescope mirror 1106 are arranged in the light path after the pupil facet mirror 1104.
  • a deflecting mirror 1107 is arranged in the light path, which deflects the radiation striking it onto an object field in the object plane of a projection objective comprising six mirrors 1151-1156.
  • a reflective structure-bearing mask 1121 is arranged on a mask table 1120, which is imaged with the aid of the projection objective in an image plane in which a substrate 1161 coated with a light-sensitive layer (photoresist) is located on a wafer table 1160.
  • a light-sensitive layer photoresist
  • the element to be damped with regard to vibrations according to the present invention can be, for example, any of the mirrors 1151-1156 of the projection lens.

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Dämpfungsanordnung zur Schwingungsdämpfung eines Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage. Eine erfindungsgemäße Dämpfungsanordnung weist ein Element (101, 401, 501), ein in einem Hohlraum befindliches Fluid (120, 220, 420, 520) und wenigstens einen an den Hohlraum angeschlossenen Kanal (130, 230, 430, 530) auf, wobei eine Schwingung des Elements durch teilweise Verdrängung des Fluids aus dem Hohlraum in den wenigstens einen Kanal eine Dissipation von Schwingungsenergie des Elements bewirkt.

Description

Dämpfunqsanordnunq zur Schwinqunqsdämpfunq eines
Elements in einem optischen System
Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität der Deutschen Patent anmeldung DE 10 2020 206 589.6, angemeldet am 27. Mai 2020. Der Inhalt dieser DE-Anmeldung wird durch Bezugnahme („incorporation by reference“) mit in den vorliegenden Anmeldungstext aufgenommen.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Gebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft eine Dämpfungsanordnung zur Schwingungsdämpfung eines Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolitho graphischen Projektionsbelichtungsanlage.
Stand der Technik
Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie bei spielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD’s, angewendet. Der Mikrolitho graphieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durch geführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv auf weist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer licht empfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Pro jektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z.B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. In einer für EUV (d.h. für elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge unterhalb von 30nm, insbesondere unterhalb von 15nm) ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage werden mangels Vorhandenseins lichtdurchlässi ger Materialien Spiegel als optische Komponenten für den Abbildungsprozess verwendet.
Ein im Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage, insbesondere bei EUV-Sys- temen, auftretendes Problem ist, dass sich mechanische Störungen verursacht durch Vibrationen nachteilig auf die Positionsstabilität der Komponenten (wie z.B. EUV-Spiegel) des Systems und die optische Performance des Systems auswirken. Schwach gedämpfte mechanische Resonanzen im System führen im Bereich der Resonanzfrequenzen zu einer lokalen Überhöhung des Störspekt rums und zu einer damit einhergehenden Verschlechterung der Positions stabilität von passiven gelagerten Komponenten wie auch von aktiv geregelten Komponenten. Des Weiteren können Resonanzen im Falle von geregelten Sys temen zur Instabilität der Regelschleife führen.
Da die in EUV-Systemen im Hinblick auf die erforderliche Vakuumbeständigkeit erlaubten (z.B. metallischen oder keramischen) Materialien selbst nur eine ge ringe intrinsische Dämpfung aufweisen, sind zur Überwindung oder Abmilderung der o.g. Probleme weitere Dämpfungsmaßnahmen erforderlich.
Im Stand der Technik sind verschiedene Dämpfungskonzepte bekannt, wobei lediglich beispielhaft auf US 9,593,733 B2 verwiesen wird.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Dämpfungsanordnung zur Schwingungsdämpfung eines Elements in einem optischen System, insbeson dere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage bereitzustel len, welche auch bei höherfrequenten Schwingungsanregungen eine effektive Dämpfung bei kompakter Bauweise ermöglicht.
Diese Aufgabe wird durch die Dämpfungsanordnung gemäß den Merkmalen des unabhängigen Anspruchs 1 gelöst.
Eine Dämpfungsanordnung zur Schwingungsdämpfung eines Elements in einem optischen System umfasst
- ein Element;
- ein in einem Hohlraum befindliches Fluid; und
- wenigstens einen an den Hohlraum angeschlossenen Kanal;
- wobei eine Schwingung des Elements durch teilweise Verdrängung des Fluids aus dem Hohlraum in den wenigstens einen Kanal eine Dissipation von Schwingungsenergie des Elements bewirkt.
Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, eine Energiedissipa tion zur Schwingungsdämpfung eines Elements (wie z.B. eines EUV-Spiegels) dadurch zu realisieren, dass ein in einem Hohlraum befindliches Fluid derart ein gesetzt wird, dass die zu dämpfende Schwingung des Elements mit einer parti ellen Verdrängung dieses Fluids in einen an den Hohlraum angeschlossenen Kanal einhergeht. Die in besagten Kanal erfolgende Flüssigkeitsverdrängung hat dabei insbesondere zur Folge, dass - infolge der Verstärkung der Energie dissipation aufgrund der an der Kanalwandung stattfindenden Reibung - eine effiziente Dämpfung auch dann erzielt werden kann, wenn das Fluid selbst nur eine geringe oder mittlere Viskosität aufweist (so dass z.B. auch Wasser als Fluid genutzt werden kann).
Des Weiteren hat die durch besagten Kanal erzielte Verstärkung der Energie dissipation zur Folge, dass - je nach Größe der zu dämpfenden (Resonanz-) Frequenz des jeweiligen Elements - der weitere Einsatz einer Tilgermasse bzw. Hilfsmasse entweder entbehrlich ist oder auf deutlich geringere Massen (im Ver gleich zu einer fluidbasierten Energiedissipation ohne die erfindungsgemäße Verdrängung in einen Kanal) beschränkt werden kann. Hierdurch kann wiederum u.a. der für die Dämpfungsanordnung benötigte Bauraum signifikant reduziert und im Ergebnis ein besonders kompaktes Systemdesign realisiert werden.
Im Sinne der vorliegenden Anmeldung wird unter einem „Kanal“ eine längliche hohle Struktur verstanden, deren Länge vorzugsweise wenigstens das Fünf fache, insbesondere wenigstens das Zehnfache, des mittleren Durchmessers beträgt.
Gemäß einer Ausführungsform weist die Dämpfungsanordnung wenigstens eine innerhalb des Hohlraums befindliche Hilfsmasse auf, welche bei Schwingung des Elements das Fluid teilweise in den wenigstens einen Kanal verdrängt.
Gemäß einer Ausführungsform ist diese Hilfsmasse in Bezug auf das Element stabil gelagert.
Gemäß einer Ausführungsform weist die stabile Lagerung der Hilfsmasse eine Resonanzfrequenz auf, welche mit einer zu dämpfenden Resonanzfrequenz des Elements übereinstimmt.
Die Erfindung ist jedoch auf den Einsatz einer solchen Hilfsmasse nicht be schränkt. So kann es je nach Größe der zu dämpfenden (Resonanz-) Frequenz des Elements auch ausreichend sein, lediglich das im Hohlraum befindliche Fluid selbst bzw. dessen schwingenden Massenanteil zur Schwingungs dämpfung zu nutzen. In diesem Falle ist dann gegebenenfalls dieser schwin gende Massenanteil des Fluids auf die zu dämpfende Resonanzfrequenz des optischen Elements abzustimmen.
Gemäß einer Ausführungsform ist die Dämpfungsanordnung zur Dämpfung einer Resonanzfrequenz des Elements von mehr als 50Hz, insbesondere von mehr als 100Hz, weiter insbesondere von mehr als 500Hz, ausgelegt. Gemäß einer Ausführungsform weist die Dämpfungsanordnung eine Mehrzahl von innerhalb des Hohlraums befindlichen Hilfsmassen auf, welche bei Schwin gung des Elements das Fluid teilweise in den wenigstens einen Kanal verdrän gen.
Der Einsatz einer Mehrzahl von innerhalb des Hohlraums befindlichen „gegen schwingenden“ Hilfsmassen bzw. Partikeln hat hierbei insbesondere den Vorteil, dass eine räumliche Verteilung der erzielten Dämpfungswirkung (im Vergleich zu einer punktuellen Dämpfung) erzielt wird, womit eine besonders wirksame Dämpfung auch bei vergleichsweise komplexen Geometrien des jeweils zu dämpfenden Elements erzielt werden kann.
Gemäß einer Ausführungsform bildet der wenigstens eine Kanal einen Kühl kanal zur Kühlung des Elements im Betrieb des optischen Systems.
Auf diese Weise kann eine doppelte Funktionalität des erfindungsgemäßen Fluids realisiert werden, indem das Fluid über die vorstehend beschriebene Energiedissipation hinaus eine Kühlwirkung (etwa zur Kompensation von im Be trieb des Elements bzw. eines dieses Element aufweisenden optischen Systems auftretenden thermischen Lasten) bewirkt. Hierbei kann sich die Erfindung ins besondere auch den bereits vorstehend erwähnten Umstand zunutze machen, dass erfindungsgemäß auch ein Fluid mit lediglich mittlerer Viskosität (z.B. Kühl wasser) zur Schwingungsdämpfung nutzbar ist.
Gemäß einer Ausführungsform besitzt der wenigstens eine Kanal zumindest be reichsweise eine mäanderförmige Geometrie.
Gemäß einer Ausführungsform weist die Dämpfungsanordnung ferner wenigs tens einen Magneten und/oder wenigstens eine mit elektrischem Strom beauf schlagbare Spule auf.
Gemäß einer Ausführungsform ist das Element ein optisches Element, ins besondere ein Spiegel. In weiteren Ausführungsformen kann es sich bei dem Element auch z.B. um eine Aktuatorkomponente oder um einen Trag- oder Messrahmen handeln.
Die Erfindung betrifft ferner eine Projektionsbelichtungsanlage mit wenigstens einer erfindungsgemäßen Dämpfungsanordnung. Die Projektionsbelichtungsan lage kann insbesondere für einen Betrieb im EUV bzw. für einen Betrieb bei einer Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm, insbesondere von weniger als 15nm, ausgelegt sein. In weiteren Anwendungen kann die Projektionsbelichtungs anlage auch für einen Betrieb im VUV-Bereich ausgelegt sein, beispielsweise für Wellenlängen kleiner als 200nm, insbesondere kleiner als 160nm.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Unter ansprüchen zu entnehmen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Es zeigen:
Figur 1a-1 b schematische Darstellungen zur Erläuterung des prinzipiellen Aufbaus und der Funktion einer erfindungsgemäßen Dämp fungsanordnung gemäß einer Ausführungsform;
Figur 2a-2b schematische Darstellungen zur Erläuterung weiterer Ausfüh rungsformen einer erfindungsgemäßen Dämpfungsanordnung;
Figur 3 ein Diagramm zur Erläuterung einer mit einer erfindungsgemä ßen Dämpfungsanordnung beispielhaft erzielbaren Vibrations unterdrückung; Figur 4-6 schematische Darstellungen zur Erläuterung weiterer Ausfüh rungsformen einer erfindungsgemäßen Dämpfungsanordnung;
Figur 7-10 schematische Darstellungen zur Erläuterung weiterer Ausfüh rungsformen einer Dämpfungsanordnung zur Dämpfung von vergleichsweise niederfrequenten Schwingungen; und
Figur 11 eine schematische Darstellung zur Erläuterung des möglichen
Aufbaus einer für den Betrieb im EUV ausgelegten mikrolitho graphischen Projektionsbelichtungsanlage.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER AUSFÜHRUNGSFORMEN
Im Weiteren wird unter Bezugnahme auf Fig. 1a-1 b zunächst eine Dämpfungs anordnung gemäß einer ersten Ausführungsform der Erfindung erläutert. Die Dämpfungsanordnung gemäß Fig. 1a dient zur Dissipation von Schwingungs energie eines Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage.
Bei den im Weiteren beschriebenen Anwendungsbeispielen handelt es sich bei dem hinsichtlich Schwingungen zu dämpfenden Element (in Fig. 1a nicht darge stellt) um einen Spiegel, welcher gegenüber einer Tragstruktur ein schwingendes Masse-Feder-System mit einer vorgegebenen Resonanz frequenz bildet. Die Erfindung ist jedoch hierauf nicht beschränkt. In anderen Anwendungen kann es sich bei dem hinsichtlich Schwingungen zu dämpfenden Element auch beispielsweise um eine Aktuatorkomponente eines zur Aktuierung eines solchen optischen Elements dienenden Aktuators, ein Gelenkelement, eine Reaktions- oder Filtermasse oder um ein beliebiges Strukturelement, bei spielsweise einen Trag- oder einen Messrahmen, handeln. Wie aus Fig. 1a ersichtlich, weist die erfindungsgemäße Dämpfungsanordnung insbesondere ein innerhalb eines Hohlraums befindliches Fluid 120 sowie einen an den Hohlraum angeschlossenen Kanal 130 auf. Der Hohlraum seinerseits kann in dem zu dämpfenden Element vorgesehen oderauch separat hierzu (z.B. in einem den Hohlraum umschließenden Gehäuse) ausgebildet sein. Des Wei teren befindet sich gemäß Fig. 1a innerhalb des Hohlraums eine Hilfsmasse 110, wobei der Wert der Masse dieser Hilfsmasse rri2 beträgt und wobei eine stabile Lagerung der Hilfsmasse 110 über eine mit „115“ bezeichnete Feder symboli siert ist.
Funktionsprinzip der Dämpfungsanordnung von Fig. 1a ist, dass eine Schwin gung des hinsichtlich seiner Schwingungsenergie zu dämpfenden Elements dazu führt, dass das Fluid 120 in den an den Hohlraum angeschlossenen Kanal 130 teilweise verdrängt wird, was eine Energiedissipation und eine damit einher gehende Dämpfungswirkung zur Folge hat. Dabei wird erfindungsgemäß eine Verstärkung dieser Energiedissipation durch besagte Fluidverdrängung in den Kanal 130 erzielt mit der Folge, dass eine Schwingungsdämpfung vergleichs weise hoher Resonanzfrequenzen des betreffenden zu dämpfenden Elements z.B. von mehr als 50Hz (insbesondere mehr als 100Hz, weiter insbesondere mehr als 500Hz) auch unter Einsatz eines Fluids 120 von nur mittlerer oder geringerer Viskosität und/oder mit vergleichsweise geringem Wert der Masse rri2 der Hilfsmasse 110 erzielt werden kann.
Insbesondere kann beispielsweise Wasser als Fluid 120 verwendet werden. In weiteren Ausführungsformen können als Fluid 120 jedoch auch hochviskose Flüssigkeiten wie z.B. Wassersilikone, Silikonöle, magnetorheologische Flüssig keiten oder Ferrofluide, eingesetzt werden.
Je nach konkretem Anwendungsfall bzw. Größe der zu dämpfenden Resonanz frequenz kann gegebenenfalls auch auf den Einsatz einer Hilfs- bzw. Tilger masse 110 ganz verzichtet werden, indem lediglich das (den Hohlraum dann nicht komplett ausfüllende) Fluid 120 selbst bzw. dessen schwingende Masse zur Energiedissipation genutzt wird. Der erfindungsgemäß zur Verstärkung der Energiedissipation eingesetzte, we nigstens eine Kanal 130 kann insbesondere, wie in Fig. 1a angedeutet, eine mäanderförmige Geometrie aufweisen. Eine solche Geometrie ist zur Erzielung einer hohen Reibung bzw. Energiedissipation an der Kanalwandung bei zugleich besonders kompakter Bauweise vorteilhaft. Die Erfindung ist jedoch hierauf nicht beschränkt, so dass auch Ausführungsformen mit beliebiger anderer Kanalaus gestaltung bzw. -geometrie als von der Erfindung umfasst gelten sollen.
Geeignete (Füge-)Technologien zur Implementierung des Kanals 130 in der erfindungsgemäßen Dämpfungsanordnung (z.B. innerhalb des zu dämpfenden Elements oder einer Rahmenstruktur) umfassen insbesondere silikatisches Bonden, Fusionsbonden sowie direktes Bonden.
Fig. 1 b zeigt zur weiteren Erläuterung der Funktion ein Ersatzschaltbild für die vorstehend anhand von Fig. 1a erläuterte Dämpfungsanordnung, wobei das hier zusätzlich eingezeichnete, hinsichtlich seiner Schwingung zu dämpfende Element 101 eine Masse mi und die Flilfsmasse 110 eine Masse rri2 besitzt. Des Weiteren ist die auf das hinsichtlich Schwingungen zu dämpfende Element 101 einwirkende Störkraft mit Fi und die Bewegung dieses Elements 101 bzw. der zu dämpfenden Masse rrn mit xi bezeichnet.
Die Übertragungsfunktion von der Störkraft, Fi, auf die Bewegung, xi, der zu dämpfenden Masse lautet
(1 )
Ausgehend von Gleichung (1 ) kann gemäß nachfolgender Tabelle 1 der zur Er zielung einer optimalen Dämpfung der Masse mi erforderliche Dämpfungsgrad C2 bestimmt werden. Tabelle 1:
Fig. 2a-2b zeigen schematische Darstellungen zur Erläuterung weiterer Ausfüh- rungsformen der Erfindung, wobei im Vergleich zu Fig. 1 analoge bzw. im Wesentlichen funktionsgleiche Komponenten mit um „100“ erhöhten Bezugszif fern bezeichnet sind. Gemäß Fig. 2a kann anstelle nur einer einzigen Flilfsmasse 110 innerhalb des an den Kanal 230 angeschlossenen Hohlraums auch eine Mehrzahl von Hilfsmassen 210 vorgesehen sein. Eine solche Ausgestaltung hat insbesondere den Vorteil, dass anstelle einer punktuellen Dämpfung eine räum liche Verteilung der Dämpfungswirkung erreicht wird mit der Folge, dass auch bei vergleichsweise komplexen Formen des jeweiligen, hinsichtlich Schwingun gen zu dämpfenden Elements eine effektive Dämpfungswirkung erzielt werden kann.
Des Weiteren kann, wie in Fig. 2b angedeutet, eine weitere Verstärkung der er zielten Energiedissipation auch dadurch erzielt werden, dass ein (durch Feld linien 240 angedeutetes) magnetisches Feld über Permanentmagnete oder über mit elektrischen Strom beaufschlagte Spulen erzeugt wird, wobei zugleich die Viskosität des Fluids 220 durch Einsatz von z.B. magnetorheologischen Parti keln oder Ferrofluiden gesteigert werden kann.
Zusätzlich oder alternativ kann eine Erhöhung der Energiedissipation auch durch Anbringung von einer oder mehreren Blenden innerhalb des Flohlraums und/oder innerhalb des an den Flohlraum angeschlossenen Kanals erreicht wer den.
Fig. 3 zeigt zur Erläuterung einer beispielhaft möglichen, mit der erfindungsge- mäßen Dämpfungsanordnung erzielten Dämpfungswirkung ein Diagramm für die Übertragungsfunktion. Im gezeigten Ausführungsbeispiel weist das hinsicht lich Schwingungen zu dämpfende Element eine unerwünschte Resonanz bei einer Frequenz von etwa 1000Flz (= Kurve „A“) auf, wobei für diese Resonanz frequenz erfindungsgemäß eine signifikante Unterdrückung (= Kurve „B“) erzielt wird.
Tabelle 2 zeigt quantitative Daten für ein mögliches Ausführungsbeispiel. Dabei kann es sich bei dem Fluid mit geeigneter dynamischer Viskosität um ein handelsübliches (z.B. unter dem Namen Wacker® 1000000 erhältliches) Wassersilikon handeln.
Tabelle 2:
Fig. 4 zeigt eine schematische Darstellung zur Erläuterung einer weiteren mög lichen Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Dämpfungsanordnung, wo bei im Vergleich zu Fig. 1 analoge bzw. im Wesentlichen funktionsgleiche Kom ponenten mit um „300“ erhöhten Bezugsziffern bezeichnet sind. Dabei ist in Fig.
4 zusätzlich das hinsichtlich Schwingungen zu dämpfende Element eingezeich net und mit „401“ bezeichnet. H ierbei kann es sich z.B. um einen EUV-Spiegel mit einer optischen Wirkfläche 405 handeln.
Bei der Ausführungsform von Fig. 4 bilden die erfindungsgemäß zur Verstärkung der Energiedissipation eingesetzten (und analog zu den vorstehend beschriebe nen Ausführungsformen jeweils an einen ein Fluid 420 aufnehmenden Flohlraum angeschlossenen) Kanäle 430 zusätzlich Kühlkanäle für das zu dämpfende Ele ment 401 bzw. den EUV-Spiegel. Mit anderen Worten übernimmt das zur Ener giedissipation eingesetzte Fluid 420 (z.B. Wasser) bei dieser Ausführungsform zugleich die Funktion eines Kühlfluids, um etwa im Betrieb des Elements 401 bzw. EUV-Spiegels auftretende thermische Lasten (etwa infolge von auf den EUV-Spiegel auftreffender elektromagnetischer Strahlung) zu kompensieren.
Fig. 5-6 zeigen ein mögliches Einsatzszenario einer erfindungsgemäßen Dämp fungsanordnung, wobei im Vergleich zu Fig. 1 analoge bzw. im Wesentlichen funktionsgleiche Komponenten mit um „400“ erhöhten Bezugsziffern bezeichnet sind. Dabei ist das hinsichtlich Schwingungen zu dämpfende Element 501 in Fig.
5 in perspektivischer Ansicht und in Fig. 6 in Draufsicht dargestellt. In Fig. 6 ist ferner eine mechanische Aufhängung des Elements 501 angedeutet und mit „502“ bezeichnet.
Gemäß Fig. 5-6 erfolgt in drei zueinander azimutal in Umfangsrichtung versetz ten (aus Fig. 6 ersichtlichen) Bereichen der Einsatz von jeweils vier Hilfsmassen in solcher Weise, dass in jedem dieser drei azimutal versetzten Bereiche (in welchen gemäß Fig. 6 durch die genannten Hilfsmassen jeweils ein Dämpfungs element 511 , 512 bzw. 513 gebildet wird) jeweils Schwingungen in zwei Schwin gungsrichtungen gedämpft werden. Dabei schwingen von den genannten Hilfs massen für jeden der drei azimutal versetzten Bereiche bzw. für jedes der Dämp fungselemente 511 , 512 bzw. 513 zwei (in Fig. 5 mit „510“ bezeichnete) Hilfs massen in x-Richtung, und die anderen zwei (in Fig. 5 mit „511“ bezeichneten) Hilfsmassen in z-Richtung. Insgesamt wird auf diese Weise eine Schwingungs dämpfung in sechs Freiheitsgraden erzielt. Dabei besitzen die Hilfsmassen 510, 511 jeweils eine Eigenfrequenz, welche mit einer zu dämpfenden Resonanz frequenz des Elements bzw. Spiegels 501 übereinstimmt. Des Weiteren erfolgt die Energiedissipation analog zu den bevorstehend beschriebenen Ausfüh rungsformen durch Verdrängung jeweils eines die jeweilige Hilfsmasse 510, 511 umgebenden Fluids 520 in einen (auch hier beispielhaft mäanderförmig ausge bildeten) Kanal 530.
Im Weiteren werden unter Bezugnahme auf Fig. 7-10 Ausführungsformen be schrieben, bei denen eine Dämpfung niederfrequenter Schwingungen (typi scherweise mit einer Frequenz von weniger als 10Hz) realisiert werden soll. Ins besondere kann es sich bei den gemäß diesen Ausführungsformen zu dämpfen den Störanregungen um Schockanregungen handeln, welche z.B. während des Transports oder der Handhabung des zu dämpfenden Elements bzw. des zuge hörigen Systems (z.B. eines Projektionsobjektivs) oder auch während eines Erd bebens auftreten können. Bei solchen niederfrequenten Störanregungen kann entsprechend den Ausführungsformen von Fig. 7-10 gegebenenfalls auf die zu vor beschriebene Verstärkung der Energiedissipation durch die Fluidverdrän gung in wenigstens einen Kanal und/oder den Einsatz eines hochviskosen Fluids verzichtet werden.
Fig. 7 zeigt in schematischer Darstellung eine Ausführungsform, bei welcher ein zur Energiedissipation eingesetztes Fluid 720 in einem innerhalb des zu dämp fenden, die Masse mi aufweisenden Elements 701 befindlichen Hohlraum an geordnet ist. Eine auf das Element 701 bzw. dessen Masse mi wirkende Stör kraft ist mit „F“ bezeichnet. Die Eigenfrequenz des Elements 701 (als starrer Körper) liegt hier größenordnungsmäßig bei 1 Hz. Die Steifigkeit der Aufhängung des Elements 701 bzw. der entsprechenden Aktuatoreinheiten ist über eine Feder 715 symbolisiert. Zur Verstärkung der Energiedissipation dient bei der Ausführungsform von Fig. 7 anstelle des in den vorstehend beschriebenen Aus führungsformen jeweils vorhandenen Kanals lediglich eine Blende 750, wobei die Energiedissipation im Übrigen durch das Fluid 720 selbst, welches zu diesem Zweck den Flohlraum nicht komplett ausfüllt und somit innerhalb des Flohlraums bei einer Schwingungsanregung des Elements 701 zur Realisierung der Ener giedissipation entsprechende Gegenschwingungen durchführen kann, erreicht wird.
Da somit gemäß der Ausführungsform von Fig. 7 auf den Einsatz einer zusätzli chen Tilgermasse in Form eines starren Körpers verzichtet wird, ist hier die zur Schwingungsdämpfung bzw. Energiedissipation relevante Masse rri2 diejenige des die entsprechende Gegenschwingung durchführenden Fluids 720.
Fig. 8 zeigt in schematischer Darstellung den Einsatz einer Dämpfungsanord nung mit dem vorstehend anhand von Fig. 7 beschriebenen Funktionsprinzip in einem das zu dämpfende Element 801 bildenden Spiegel mit optischer Wirk fläche 805, wobei eine zur Verstärkung der Energiedissipation eingesetzte Blende mit „850“ bezeichnet ist. Mit „820“ ist das Fluid bezeichnet, welches bei Schockanregung des zu dämpfenden Elements 801 durch die Öffnung(en) der besagten Blende 850 unter Energiedissipation gedrängt wird.
Gemäß Fig. 9 kann eine solche, zur Verstärkung der Energiedissipation ein gesetzte Blende 950 auch eine Mehrzahl von Öffnungen bzw. Bohrungen auf weisen, wobei in diesem Falle eine verstärkte Energiedissipation bei Durchtritt des Fluids 920 durch besagte Öffnungen bzw. Bohrungen erzielt wird.
Die Flüssigkeitsbewegung innerhalb des optischen Elements lässt sich durch die folgende Differentialgleichung beschreiben wobei xr die Laufkoordinate entlang der Flüssigkeitslinie, p die Dichte der Flüs sigkeit und A = c d die gesamte Querschnittsfläche des Kanals sind. Die Be deutung der Parameter c und d ist aus Fig. 9 ersichtlich x bezeichnet den von der Blendengeometrie abhängigen Verlustfaktor der Blende 950. g ist die Gra vitationsbeschleunigung. Die Bewegung der Masse mt lässt sich beschreiben durch wobei F die auf die Masse rrn wirkende Störkraft bezeichnet.
Tabelle 3 zeigt quantitative Daten für ein mögliches Ausführungsbeispiel. Tabelle 3: Gemäß Fig. 10 kann auch - je nach Größe der zu dämpfenden (Resonanz-) Fre quenz - unter Verzicht auf eine Blende lediglich das innerhalb des Flohlraums befindliche (in Fig. 10 mit „1020“ bezeichnete) Fluid zur Schwingungsdämpfung benutzt werden. Das hinsichtlich Schwingungen zu dämpfende Element ist hier mit „1001“ bezeichnet. Der Pfeil symbolisiert die Richtung einer möglichen, zu dämpfenden Schockanregung.
Fig. 11 zeigt eine schematische Darstellung einer beispielhaften für den Betrieb im EUV ausgelegten Projektionsbelichtungsanlage 1100.
Gemäß Fig. 11 weist eine Beleuchtungseinrichtung dieser Projektionsbelich tungsanlage 1100 einen Feldfacettenspiegel 1103 und einen Pupillen facettenspiegel 1104 auf. Sämtliche Spiegel in der Projektionsbelichtungsanlage 1100 können Freiformflächen sein. Auf den Feldfacettenspiegel 1103 wird das Licht einer Lichtquelleneinheit, welche eine Plasmalichtquelle 1101 und einen Kollektorspiegel 1102 umfasst, gelenkt. Im Lichtweg nach dem Pupillen facettenspiegel 1104 sind ein erster Teleskopspiegel 1105 und ein zweiter Teleskopspiegel 1106 angeordnet. Im Lichtweg nachfolgend ist ein Umlenkspie- gel 1107 angeordnet, der die auf ihn treffende Strahlung auf ein Objektfeld in der Objektebene eines sechs Spiegel 1151-1156 umfassenden Projektionsobjektivs lenkt. Am Ort des Objektfeldes ist eine reflektive strukturtragende Maske 1121 auf einem Maskentisch 1120 angeordnet, die mit Hilfe des Projektionsobjektivs in eine Bildebene abgebildet wird, in welcher sich ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes Substrat 1161 auf einem Wafertisch 1160 befindet.
Bei dem gemäß der vorliegenden Erfindung hinsichtlich Schwingungen zu dämpfenden Element kann es sich beispielsweise um einen beliebigen der Spie gel 1151-1156 des Projektionsobjektivs handeln.
Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alterna tive Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merkmalen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungs formen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente beschränkt ist.

Claims

Patentansprüche
1. Dämpfungsanordnung zur Schwingungsdämpfung eines Elements in einem optischen System, mit
• einem Element (101, 401, 501);
• einem in einem Hohlraum befindlichen Fluid (120, 220, 420, 520); und
• wenigstens einem an den Hohlraum angeschlossenen Kanal (130, 230, 430, 530);
• wobei eine Schwingung des Elements (101, 401 , 501 ) durch teilweise Verdrängung des Fluids (120, 220, 420, 520) aus dem Hohlraum in den wenigstens einen Kanal (130, 230, 430, 530) eine Dissipation von Schwingungsenergie des Elements (101, 401, 501) bewirkt.
2. Dämpfungsanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass diese wenigstens eine innerhalb des Hohlraums befindliche Hilfsmasse (110, 210, 410, 510, 511) aufweist, welche bei Schwingung des Elements (101, 401, 501) das Fluid (120, 220, 420, 520) teilweise in den wenigstens einen Kanal (130, 230, 430, 530) verdrängt.
3. Dämpfungsanordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass diese Hilfsmasse (110, 210) in Bezug auf das Element (101 , 401 , 501) stabil gelagert ist.
4. Dämpfungsanordnung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die stabile Lagerung der Hilfsmasse (110, 210) eine Resonanzfrequenz aufweist, welche mit einer zu dämpfenden Resonanzfrequenz des Elements (101, 401, 501) übereinstimmt.
5. Dämpfungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass diese zur Dämpfung einer Resonanzfrequenz des Ele ments (101, 401 , 501 ) von mehr als 50Hz, insbesondere von mehr als 100Hz, weiter insbesondere von mehr als 500Hz, ausgelegt ist.
6. Dämpfungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass diese eine Mehrzahl von innerhalb des Hohlraums befindlichen Hilfsmassen (210, 410) aufweist, welche bei Schwingung des Elements (101, 401) das Fluid (220, 420) teilweise in den wenigstens einen Kanal (230, 430) verdrängen.
7. Dämpfungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der wenigstens eine Kanal (430) einen Kühlkanal zur Kühlung des Elements (401) im Betrieb des optischen Systems bildet.
8. Dämpfungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der wenigstens eine Kanal (130, 230, 530) zumindest bereichsweise eine mäanderförmige Geometrie besitzt.
9. Dämpfungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass diese ferner wenigstens einen Magneten und/oder wenigstens eine mit elektrischem Strom beaufschlagbare Spule aufweist.
10. Dämpfungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekenn zeichnet, dass das Element (101, 401, 501) ein optisches Element, insbe sondere ein Spiegel, ist.
11. Dämpfungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekenn zeichnet, dass das Element eine Aktuatorkomponente ist.
12. Dämpfungsanordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekenn zeichnet, dass das Element ein Trag- oder ein Messrahmen ist.
13. Dämpfungsanordnung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das optische System eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage ist.
14. Dämpfungsanordnung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die Projektionsbelichtungsanlage für einen Betrieb bei einer Arbeitswellenlänge von weniger als 30nm, insbesondere von weniger als 15nm, ausgelegt ist.
15. Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, dadurch gekennzeich net, dass diese wenigstens eine Dämpfungsanordnung nach einem der vor hergehenden Ansprüche aufweist.
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