EP3883720B1 - Method for laser processing, and laser machining system for carrying out the method - Google Patents

Method for laser processing, and laser machining system for carrying out the method Download PDF

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EP3883720B1
EP3883720B1 EP19789896.8A EP19789896A EP3883720B1 EP 3883720 B1 EP3883720 B1 EP 3883720B1 EP 19789896 A EP19789896 A EP 19789896A EP 3883720 B1 EP3883720 B1 EP 3883720B1
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EP
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piercing
workpiece
laser
laser machining
depth
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Niklas WECKENMANN
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Precitec GmbH and Co KG
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Precitec GmbH and Co KG
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    • B23K26/046Automatically focusing the laser beam
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    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/38Removing material by boring or cutting

Definitions

  • the present disclosure relates to a method for laser processing a workpiece according to the preamble of claim 1 and a laser processing system according to the preamble of claim 14 for carrying out the method.
  • a device for material processing using a laser for example in a laser processing head for laser cutting, the laser beam emerging from a laser light source or one end of a laser guide fiber is focused or bundled onto the workpiece to be processed using beam guidance and focusing optics.
  • a laser processing head with collimator optics and focusing optics is used as standard, with the laser light being supplied via an optical fiber, also known as a laser source.
  • the laser beam can be inserted into the workpiece.
  • the piercing process precedes the actual cutting process in laser cutting. This process creates an initial hole in the workpiece that serves as the starting point for the cutting process.
  • the duration of the grooving process is a critical factor for the efficiency of the machining process.
  • the method includes a first piercing process to form the puncture as a blind hole extending from an upper surface to a central region of the workpiece, a cooling process for cooling the workpiece, a second piercing process to pierce the puncture to a lower surface of the workpiece, and a cutting process for cutting the workpiece.
  • the process efficiency is not optimal because the duration of the piercing process and thus the process efficiency depend, for example, on the properties of the workpiece. In particular can Workpieces of the same type have manufacturing tolerances that influence the duration of the grooving process and thus the process efficiency.
  • EP 1 977 850 A1 shows a processing device with at least one processing head, which is designed to provide at least one high-energy processing beam, in particular an electron or laser beam.
  • WO 2015/039741 A1 describes a method for measuring the penetration depth of a laser beam into a workpiece, wherein the laser beam is focused in a focal spot using focusing optics arranged in a processing head.
  • EP 2 479 533 A1 shows a laser system to measure the change in laser melting depth in real time.
  • DE 10 2013 225 108 A1 shows a measuring method in which a measuring beam is emitted during machining of a workpiece using a machining beam, directed to a machining location and then evaluated using interferometry.
  • the method includes: piercing a piercing hole into a workpiece using a laser beam, measuring a piercing depth of the piercing hole using at least one optical measuring beam during the piercing process and adjusting at least one process parameter of the laser processing system during the piercing process based on a currently measured piercing depth.
  • the method may implement the aspects of the apparatus for a laser processing system according to the present disclosure.
  • a device for a laser processing system in particular a laser cutting head, comprises an optical measuring device, which is set up to determine a current or instantaneous piercing depth of a piercing hole created with a laser beam in a workpiece during a piercing process using at least one optical measuring beam, and a control device , which is set up to adjust at least one process parameter of the laser processing system during the piercing process based on the current piercing depth.
  • the piercing depth can be known at any time during the piercing process.
  • the at least one process parameter of the laser processing system can be specifically set or regulated based on the current piercing depth. This allows for inline control of the piercing process (and, for example, puncture detection), whereby the duration of the piercing process can be minimized, the quality of the piercing hole can be optimized and/or process stability can be maximized.
  • the quality of the piercing hole can be determined by the amount and extent of the material deposited on the top of the workpiece and/or by the diameter of the piercing hole along the direction of propagation.
  • one or more process parameters can be controlled in this way can be adjusted so that the amount and the extent of the material throw-up and/or the diameter of the piercing hole meet predetermined quality criteria.
  • the optical measuring device is set up to continuously or continuously measure the piercing depth during the piercing process.
  • the control device can be set up to continuously or continuously adjust or regulate the at least one process parameter based on the continuously measured piercing depth during the piercing process.
  • a time-resolved continuous measurement of the piercing depth can take place over a period of time or over the entire duration of the piercing process.
  • the at least one process parameter can be adjusted or regulated accordingly over the period of time or over the entire duration of the piercing process.
  • the device such as the optical measuring device or the control device, is set up to determine a rate of change ds / dt of the piercing depth s (t), i.e. a change in the piercing depth.
  • the control device is set up to set the at least one process parameter based on the rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) . By determining or recording the rate of change ds / dt , the efficiency of the piercing process can be analyzed, for example with regard to the current material output.
  • the duration of the piercing process which may be defined as the time between activation of the laser beam and piercing through the workpiece, may depend on the rate of change ds / dt of the piercing depth.
  • the rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) can decrease as the depth of the piercing hole increases. This can be due to the decreasing intensity of the laser beam that can be coupled to the base of the puncture as the puncture depth s(t) increases.
  • the rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) can directly reflect the process efficiency.
  • the current piercing depth s(t) and also the rate of change ds / dt are known at any time during the piercing process, whereby one or more process parameters of the laser processing system can be adjusted and regulated in a more targeted manner.
  • control device is further set up to compare the rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) with a (for example predetermined) threshold value, and to determine based on the comparison whether piercing the workpiece is possible with the currently set process parameters or not.
  • the threshold value can in particular indicate when material penetration is no longer possible with the current process parameters.
  • control device can be set up to abort the piercing process or to set the at least one process parameter to at least a predefined value if it is determined that piercing the workpiece is not possible with the currently set process parameters. If the rate of change ds / dt reaches the defined threshold value, a control algorithm that is designed for this case can be used, for example.
  • the piercing process can be aborted and/or an error message can be issued to the operator. After the piercing process has been aborted, the piercing process can be automatically restarted at a different position on the workpiece.
  • the device is further set up to detect piercing of the laser beam through the workpiece.
  • piercing can be detected when the optical measuring device no longer receives an optical measuring beam reflected from the bottom of the puncture hole.
  • Piercing can also be determined or detected based on the rate of change ds / dt .
  • the control device is preferably set up to carry out a laser cutting process on the workpiece after the piercing has been detected.
  • the time of piercing can be communicated to the control unit and the subsequent cutting process can be started directly and without delay.
  • the laser cutting head can be moved along the workpiece to form a cutting contour.
  • the control device is set up to determine a thickness or material thickness of the workpiece based on a piercing depth at a time when the laser beam penetrates the workpiece.
  • This information can for example, communicated to the control unit. Based on this, the control unit can automatically select the correct process parameters, which can be dependent on material thickness, for example, for the subsequent cutting process. Additionally or alternatively, the information can be used to carry out a (for example automated) comparison between the target material thickness and the actual material thickness. If there is a deviation, an error message can be sent to the machine operator or the machine control, for example, in order to be able to react to the deviation in material thickness at an early stage.
  • the control device is set up to adjust the at least one process parameter discretely, continuously, or in combination discretely and continuously during the piercing process.
  • the at least one process parameter can be adjusted continuously depending on the current piercing depth or rate of change ds / dt .
  • a combined discrete and continuous adjustment may occur over the duration of the piercing process.
  • a discrete adjustment can be made for at least a first range of values of the penetration depth or rate of change ds / dt and a continuous adjustment can be made for at least a second range of values of the penetration depth or rate of change ds / dt, which is different from the at least one first range of values.
  • the at least one process parameter of the laser processing system is selected from the group that includes at least one pulse parameter, a laser power, a focus position of the laser beam, a focus diameter of the laser beam, a process gas composition, a process gas pressure and a nozzle distance between a nozzle of the laser processing system and a surface of the workpiece .
  • the at least one pulse parameter can be selected from the group that includes a pulse length, a pulse period and a pulse peak power. Further pulse parameters can result from the pulse parameters mentioned.
  • a process gas can usually flow from the cutting head together with the laser beam Workpiece can be aligned.
  • a cutting nozzle can be attached to a laser processing head of the laser processing system, through which laser radiation and process gas are directed onto a workpiece to be processed.
  • the process gas can be an inert medium (eg nitrogen N 2 ) or a reactive gas (eg oxygen Oz).
  • the at least one process parameter can include a composition of the process gas and/or a pressure of the process gas.
  • the optical measuring device preferably comprises or is a coherence interferometer, and in particular a short coherence interferometer.
  • the coherence interferometer optical coherence tomography, OCT
  • OCT optical coherence tomography
  • the device is set up to carry out the piercing process at a substantially constant distance between the laser processing head or a nozzle of the laser processing system and a surface of the workpiece.
  • the nozzle can be a cutting nozzle from which the laser beam and optionally a process gas emerge.
  • the optical measuring device can be set up to determine the current piercing depth based on the distance and a current measured value at the piercing position.
  • the distance can include an initial measurement value determined before the start of the piercing process.
  • the optical measuring device can be set up to determine the initial measured value. For example, before the start of the piercing process, the optical measuring device can carry out a calibration measurement (e.g.
  • the distance between the laser processing head or. the nozzle and the workpiece surface can be known or can be determined based on an actuating signal from the control unit for adjusting the distance.
  • the current measurement signal can, for example, include a reflection of the optical measurement beam at the piercing position.
  • the optical measuring device can be set up to convert the current measurement signal into a current measured value.
  • the current measured value can correspond to a distance at the piercing position.
  • the device is alternatively or additionally set up to carry out the piercing process at a time-changing distance between the laser processing head or the nozzle of the laser processing system and the surface of the workpiece.
  • the distance can be varied during the piercing process, for example dynamically.
  • the current piercing depth can be determined based on a current distance with respect to the workpiece surface and a corresponding current measured value of the optical measuring device at the piercing position.
  • the current distance and the corresponding current measured value can be determined at the same time.
  • the current distance can either be measured or determined based on a current control value for setting the current nozzle distance.
  • the optical measuring device can be set up to determine the current distance.
  • a distance sensor unit in addition to the optical measuring device, which includes, for example, a short coherence interferometer, a distance sensor unit can be used which measures the distance between the nozzle tip and the top of the workpiece, for example capacitively, inductively, optically or in another way. Both measurement signals, i.e. the nozzle distance signal from the distance sensor unit and the corresponding measurement signal from the optical measuring device, are communicated, for example, to the control unit, which in turn can determine the current or momentary penetration depth, for example mathematically.
  • the optical measuring device can be set up to direct a first optical measuring beam to a piercing position and a second optical measuring beam to the surface of the workpiece.
  • the device can then be set up to determine the current puncture depth by means of a first reflection of the first optical measuring beam at a puncture base of the puncture hole and a second reflection of the second optical measuring beam.
  • the optical measuring device include at least one optical element which is set up to divide the optical measuring beam into two partial beams.
  • the first partial beam can be directed at the piercing position or the piercing base.
  • the second partial beam can be directed, for example, onto the top of the workpiece as a further reference value.
  • Both partial beams can be superimposed on each other or with a beam from a reference arm of the optical measuring device in order to determine the absolute current penetration depth. This is applicable for both a constant and a variable nozzle distance to the workpiece surface.
  • the optical measuring device is set up to guide the at least one optical measuring steel over the surface of the workpiece in at least one direction perpendicular to an axis of the optical measuring beam.
  • the optical measuring device can be set up to scan the surface of the workpiece in two mutually perpendicular directions with the at least one optical measuring steel. In other words, dynamic measuring spot positioning can take place.
  • the optical measuring device is set up to carry out a topography measurement of the surface of the workpiece using the at least one optical measuring steel.
  • the optical measuring device can determine measurement data, such as height data or distance data, at the piercing position and an area of the workpiece surface surrounding the piercing position.
  • the device can be set up to carry out a geometric characterization of the puncture hole.
  • the geometric characterization may include two-dimensional or three-dimensional characterization.
  • the two-dimensional characterization can, for example, record a diameter of the piercing hole or an extent of material adhesions and build-ups around the piercing hole.
  • the three-dimensional characterization can also contain height data or height information, for example a height of the material adhesions or throws, a hole depth or topography of the surface around and at the puncture hole.
  • the geometric characterization of the piercing hole can directly reflect the quality (e.g. diameter on the entry side, material adhesions, material build-up, etc.) of the piercing process or the piercing hole.
  • the geometric characterization makes it possible, for example, to make a statement about the diameter of the puncture hole Entry side (top of the workpiece). Knowing the diameter in turn enables a target/actual comparison between the diameter and the expected cutting gap width, which can be determined, for example, through previous tests. A determination of the diameter and/or a comparison of the diameter of the piercing hole with a predetermined value can be carried out between the actual piercing and the contour cut. If the diameter of the piercing hole is smaller than the expected cutting gap width of the contour or is the same size, the piercing process can take place directly on the contour. This means that if the diameter of the piercing hole is smaller than or equal to the expected cutting gap width of the contour, the contour cutting can begin directly at the piercing position.
  • the optical measuring device dynamically guides the at least one optical measuring steel over the surface of the workpiece during the piercing process and/or after the piercing process.
  • the geometric characterization can take place during (in-process/inline) and/or after (post-process) the piercing process into the workpiece.
  • the control device is set up to set at least one process parameter for a subsequent piercing process based on the geometric characterization of the piercing hole.
  • the geometric characterization of the piercing hole enables the optimization of subsequent piercing processes in order to improve the quality of the piercing holes of the subsequent piercing processes by adapting the process parameters, for example based on a self-learning system (machine learning).
  • the quality information can be communicated to the machine operator, for example using an HMI interface. This gives the operator the opportunity to intervene in the ongoing process if necessary and to take corrective measures such as jet centering, checking the nozzle for damage or similar.
  • the device is set up to determine a diameter of the puncture hole.
  • the control device can be set up to compare the diameter with a (eg predetermined) threshold value.
  • the control device can control the laser processing system after piercing the laser beam through the workpiece and before starting a cutting operation such that the laser beam increases the diameter of the piercing hole when it is determined that the diameter is equal to or smaller than the threshold value.
  • the diameter for example, it can be geometrically evaluated whether there is a piercing hole that can be cut or not. If necessary, the piercing hole can be specifically enlarged to a target diameter at the beam entry point and along the piercing hole before the actual cutting process in order to promote the coupling of energy for the cutting process. This can increase process reliability.
  • a laser processing system includes a machining head with a laser device that is set up to direct the laser beam onto a machining area of a workpiece, and the device described above.
  • the laser processing head can have one or more optical elements. All optical elements of the laser processing head can be reflective optics. Alternatively, all optical elements of the laser processing head can be transmissive optics or the optical elements can include both transmissive and reflective optics.
  • the laser processing head preferably comprises at least one optical element which is displaceable with respect to an optical axis in order to adjust a focus position of the laser beam and/or a focus position of the at least one optical measuring beam.
  • the at least one optical element can include transmissive and/or reflective optics, and can include or be, for example, a lens, a lens group, a zoom optics, a mirror optics or the like.
  • the at least one optical element can be selected from the group that includes or consists of a collimator optics for the laser beam, a collimator optics for the at least one optical measuring beam and a focusing optics.
  • the focusing optics can be a common focusing optics for the laser beam and the at least one optical measuring beam. These optics can be or include a lens or a lens group.
  • the laser processing system is set up for processing workpieces with a thickness of at least 10mm, and in particular at least 15mm.
  • the embodiments of the present disclosure can be used for all material thicknesses, and are particularly advantageous for grooving in larger material thicknesses ( ⁇ 10 mm).
  • the piercing process can take several seconds, for example, and can therefore take up a large amount of time in the actual cutting process.
  • the overall duration of the machining process can be reduced and thus the process efficiency can be increased.
  • FIG. 1 shows a schematic representation of a laser processing system 100 according to embodiments of the present invention.
  • the laser processing system 100 may include a laser cutting head 101.
  • the laser processing system 100 includes a laser device 110 for providing a laser beam 10 (also called a “processing beam” or “processing laser beam”) and the device according to the embodiments described here.
  • the device comprises an optical measuring device 200, which is set up to determine a piercing depth of a piercing hole 2 created with the laser beam 10 in a workpiece 1 during a piercing process using at least one optical measuring beam 13.
  • the device further comprises a control device 300, which is set up to adjust at least one process parameter of the laser processing system 100 during the piercing process based on a currently measured piercing depth.
  • the laser device 110 which can be controlled by a laser control device 115, is set up to direct the laser beam 10 onto a processing area of the workpiece 1.
  • the laser device 110 may have a collimator lens 120 for collimating the laser beam 10.
  • the laser beam 10 is deflected by approximately 90° in the direction of the workpiece 1 by suitable optics, such as a beam deflector 130.
  • the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13 can be coaxial at least in some areas, and in particular can be superimposed coaxially at least in some areas.
  • the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13 can be guided essentially coaxially through the cutting optics into the processing zone by the beam deflector 130.
  • the combination of the optical measuring beam 13 and the laser beam 10 can take place after the collimator optics 210 and in front of a focusing optics 220.
  • the beam deflector 130 is preferably reflective for the wavelength of the laser beam 10 and transmitting for the wavelength of the at least one optical measuring beam 13.
  • the optical measuring device 200 can comprise a coherence interferometer or a coherence tomograph or can be a coherence interferometer or a coherence tomograph.
  • the coherence tomograph typically includes a collimator optics 210, which is set up to collimate the at least one optical measuring beam 13, and the focusing optics 220, which is set up to focus the at least one optical measuring beam 13 onto the workpiece 1.
  • the focusing optics 220 can be a common focusing optics, such as a focus lens, for the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13.
  • the collimator optics 210 and the focusing optics 220 are integrated into the cutting head 101.
  • the cutting head 101 may include a collimator module that is integrated into the cutting head 101 or mounted on the cutting head 101.
  • the principle described here for measuring the penetration depth can be based on the principle of optical coherence tomography, which makes use of the coherence properties of light with the aid of an interferometer.
  • the coherence tomograph can include an evaluation unit 240 with a broadband light source (e.g. a superluminescent diode, SLD), which couples the measuring light into an optical waveguide 242.
  • a broadband light source e.g. a superluminescent diode, SLD
  • a beam splitter 244 which preferably has a fiber coupler, the measuring light is split into a reference arm 246 and a measuring arm, which leads into the cutting head 101 via an optical waveguide 248.
  • the collimator optics 210 serves to collimate the measuring light (optical measuring beam 13) emerging from the optical waveguide 248.
  • the at least one optical measuring beam 13 in the cutting head 101 can be coaxially superimposed on the laser beam 10.
  • the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13 can be focused on the workpiece 1 by the focusing optics 220, which can be a common lens or focusing lens.
  • the at least one optical measuring beam 13 can be directed into the piercing hole in the workpiece 1.
  • the measuring light reflected back from the puncture hole, and in particular from the bottom of the puncture hole, is imaged by the focusing optics 220 onto the exit/entrance surface of the optical waveguide 248, superimposed in the fiber coupler 244 with the back-reflected light from the reference arm 246 and then back into the evaluation unit 240 directed.
  • the superimposed light contains information about the path length difference between the reference arm 246 and the measuring arm. This information is evaluated in the evaluation unit 240 based on coherence interferometry or short coherence interferometry, whereby the User receives information about the distance between the bottom of the piercing hole and a reference, for example the cutting head 101.
  • the determination of the penetration depth is later with reference to Figures 6A and B explained in more detail.
  • the measuring range of the interferometer is tracked during the penetration process.
  • the length of the reference arm 246 can be moved or adjusted dynamically.
  • the reference arm 246 may include multiple reference levels corresponding to the different measurement ranges.
  • the laser processing system 100 can comprise at least one optical element for the laser beam 10 and/or for the at least one optical measuring beam 13, which is set up to adjust the focus position of the laser beam 10 or the at least one optical measuring beam 13.
  • the at least one optical element can be displaceable along the optical axes in the diverging region of the respective beam in order to change the focus positions.
  • the collimator lens 120 and the collimator optics 210 are shown as being displaceable along the respective optical axis.
  • the focus positions of the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13 can be changed together or independently of one another.
  • the adjustment/displacement of the optical elements with respect to the optical axis to change the focus position of both beams can be done by motor, manually or by a combination of motor and manual.
  • the focus position of the laser beam 10 can be adjusted by motor and the focus position of the at least one optical measuring beam 13 can be adjusted manually.
  • the control device 300 is set up to adjust at least one process parameter of the laser processing system 100 during the piercing process based on a piercing depth currently measured by the optical measuring device 200.
  • the control device 300 can communicate with at least one of the laser device, the laser optics, the laser source and the measuring system in order to be able to regulate the piercing process.
  • the control device 300 can, for example, with the Laser control device 115 may be connected to set a pulse parameter and / or a laser power of the laser device 110.
  • the control device 300 can be connected to laser optics of the processing head 101, for example to set a focus position and/or a focus diameter of the laser beam 10.
  • the control device 300 can issue control commands for moving the collimator lens 120 and/or the collimator optics 210 along the respective optical axis.
  • the laser processing system 100 or parts thereof, such as the cutting head 101, can be movable along a processing direction 20 according to embodiments.
  • the processing direction 20 can be a cutting direction with respect to the workpiece 1.
  • the processing direction 20 can be a horizontal direction.
  • the processing direction 20 can also be referred to as the “feed direction”.
  • the laser processing system 100 cannot be moved along the processing direction 20 during the piercing process.
  • the laser processing system 100 and in particular the cutting head 101, can remain in the same location in an xy plane.
  • the cutting head 101 can be moved in the (eg vertical) z direction in order to set a nozzle distance between a nozzle of the laser processing system (not shown) and the surface 3 of the workpiece 1.
  • Figure 2 shows a laser processing system according to further embodiments of the present invention.
  • the laser processing system Figure 2 is similar to referring to the Figure 1 Laser processing system described and a description of similar or identical elements will not be repeated.
  • the at least one optical element that is set up to adjust the focus position of the laser beam 10 or the at least one optical measuring beam 13, the focusing optics 220.
  • the at least one optical element can be in the collimated area of the superimposed beams along the optical axis be movable. This means that the focus position of both beams can be changed at the same time.
  • Figure 3 shows a laser processing system according to further embodiments of the present invention.
  • the laser processing system Figure 3 is similar to referring to the Figure 1 Laser processing system described and a description of similar or identical elements will not be repeated.
  • at least one displaceable optical element can be in the diverging area of the at least one measuring beam 13 and at least one further displaceable optical element can be present in the collimated area of both beams. This allows the focus positions of the beams to be changed independently of each other.
  • Figure 4 shows a laser processing system according to further embodiments of the present invention.
  • the laser processing system Figure 4 is similar to referring to the Figure 1 Laser processing system described and a description of similar or identical elements will not be repeated.
  • the laser beam 10 is coaxial to the cutting optics and the at least one optical measuring beam 13 is coupled in laterally.
  • the beam deflector 130 can be transmissive for the laser beam 10 and reflective for the at least one optical measuring beam 13. In this case too, all of the previously described combinations for changing the focus position are possible.
  • FIG. 5 shows a laser processing system according to further embodiments of the present invention.
  • the laser processing system Figure 5 is similar to referring to the Figure 1 Laser processing system described and a description of similar or identical elements will not be repeated.
  • the laser processing system or the device additionally has a deflection system 500 in the measuring beam path, which is set up to scan an area of the workpiece surface with the at least one optical measuring beam 13.
  • the area of the workpiece surface can include the piercing position or the processing position to which the laser beam is directed, as well as an area surrounding this position.
  • the at least one optical measuring beam 13 can thus be dynamic and be positioned on the workpiece 1 independently of the laser beam 10.
  • the deflection system 500 can, for example, have at least one reflecting mirror 510 that is movable about at least one axis.
  • the mirror 510 is preferably movable about two mutually perpendicular axes.
  • the deflection system 500 can in particular be a scanner system.
  • FIG 5 Two movable mirrors 510 are shown, which can be rotated about two different mutually perpendicular axes
  • Figure 9 is shown.
  • further embodiments are possible, which include, for example, transmitting optical elements or involve moving the fiber end of the measuring beam.
  • Figures 6A and B show the determination of a penetration depth s(t) according to an example that is not the subject of the invention.
  • the current penetration depth s(t) can be determined in various ways using the at least one optical measuring beam 13. Three options are discussed below. However, the present disclosure is not limited to this and other suitable methods for determining a penetration depth s(t) may be used.
  • the current piercing depth can be determined based on an initial measurement value determined before the start of the piercing process and a current measurement value. For example, before piercing begins, a calibration measurement is carried out (e.g. a distance measurement with the interferometer). Alternatively, the initial measurement value can be determined based on a control value for the initial position of the laser processing head or transmitted by a control unit.
  • the optical measuring device 200 or the control device 300 can determine a measured value corresponding to a distance between the nozzle 103 and a bottom of the puncture hole. With the initial measurement value and the measurement signal at the position of the piercing hole, the current piercing depth s(t) can be determined during piercing.
  • the nozzle distance d(t) between the nozzle 103 of the laser processing system and the surface 3 of the workpiece changes during the piercing process ( d(t) ⁇ const. ) .
  • the nozzle distance d(t) is variable.
  • a distance sensor unit can be used which measures the distance between the nozzle 103 and the workpiece top 3, for example capacitively, inductively or optically. Both measurement signals, i.e. the nozzle distance signal from the distance sensor unit and the measurement signal from the optical measuring system 200, are communicated to the higher-level control unit 300, which in turn can mathematically determine the current penetration depth.
  • the nozzle distance d(t) between the nozzle 103 of the laser processing system and the surface 3 of the workpiece also changes during the piercing process ( d(t) ⁇ const. ) .
  • the at least one measuring beam includes a first measuring beam 13a and a second measuring beam 13b.
  • an initial measuring beam in the measuring arm can be divided into two partial beams using at least one optical element.
  • the first partial beam 13a is directed onto the puncture base or the bottom of the puncture hole.
  • the second partial beam 13b is directed, for example, at the workpiece surface 3 as a reference value. Both partial beams 13a and 13b are superimposed on each other and/or with a beam from a reference arm.
  • the partial beams 13a and 13b can hit the workpiece at an angle to each other, as in Figure 6B shown, or parallel and spaced apart from each other.
  • the optical measuring beam can have such a large diameter that the measuring beam can be directed both onto the workpiece surface 3 and onto the piercing base.
  • the absolute current piercing depth s(t) can in turn be determined from both measurement signals from the workpiece surface 3 and the piercing base.
  • Figure 7 shows a piercing depth s(t) and rates of change ds / dt of a piercing depth s(t) according to embodiments of the present invention.
  • the penetration depth s(t) is shown as a function of time t .
  • the puncture can be recognized, for example, by the fact that no measurement signal or reflection of the measurement beam is no longer received.
  • From the penetration depth s(t) when piercing can be:
  • the thickness or material thickness of the workpiece can be derived.
  • the piercing depth s(t) can correspond to the thickness or material thickness of the workpiece when piercing.
  • a laser cutting process such as a contour cut, can be carried out on the workpiece.
  • a rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) is shown as a function of time t .
  • the rate of change ds / dt drops to zero or is no longer determinable. This is the case, for example, if the optical measuring device no longer receives a measuring beam reflected from the puncture base, from which the puncture can be recognized.
  • a rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) is shown as a function of time t .
  • a specified threshold value material penetration is not possible with the current process parameters. If this threshold value is reached or fallen short of during piercing, the piercing process can be aborted and/or an error message can be issued to the operator.
  • Figure 8 shows process parameters of the laser processing system according to embodiments of the present invention.
  • the current penetration depth s(t) is known at every time t . Based on the current piercing depth s(t), at least one process parameter of the piercing process is controlled inline. In Figure 8 qualitative curves of different process parameters are shown depending on the current piercing depth s(t) .
  • the at least one process parameter of the laser processing system can, for example, be selected from the group that includes at least one pulse parameter, a laser power, a focus position of the laser beam, a focus diameter of the laser beam, a process gas composition, a process gas pressure and a nozzle distance between a nozzle of the laser processing system and a surface of the Workpiece includes.
  • One, two or more process parameters can be set during the piercing process.
  • the parameter curves can be more discrete, more continuous or be of mixed nature.
  • the parameter curves can increase or decrease as the penetration depth increases.
  • process parameter 1 changes discretely
  • process parameter 2 changes continuously
  • process parameter 3 combines discrete and continuous.
  • the process parameters can also be set discretely, continuously or partly discretely and partly continuously.
  • this is adjusted continuously depending on the current piercing depth and the rate of change.
  • the process parameter can continuously increase or decrease as the penetration depth increases.
  • a combined discrete and continuous setting takes place over the duration of the piercing process.
  • a discrete adjustment can be made for at least a first value range of the penetration depth and the rate of change and a continuous adjustment can be made for at least a second value range of the penetration depth and the rate of change, which is different from the at least one first value range.
  • Figure 9 shows measurement spot positioning for geometric characterization according to embodiments of the present invention.
  • a dynamic 2D measuring spot positioning "in-process” (left) and “post-process” (right) is shown.
  • Figure 9(b) 1D measuring spot positioning (left) and 2D measuring spot positioning/cross scan (right) are shown.
  • Measure spot here refers to the point of the measuring beam on the workpiece 2, at which the measuring beam is reflected in order to obtain a measuring signal.
  • a geometric characterization or topography measurement of the puncture hole is carried out, which, for example, reflects the diameter of the puncture hole and material adhesions or build-ups 5 of the puncture process on the entry side.
  • the optical measuring device Measured values ie height data, are determined at the position of the puncture hole and in an area surrounding it.
  • the geometric characterization can take place during (“in-process” or “inline”) or after (“post-process”) the piercing process, as in the example of Figure 9(a) is shown.
  • dynamic measuring spot positioning for example scanning the workpiece surface 3 using the measuring beam in at least one direction, preferably in two mutually perpendicular directions X and Y, can be used.
  • the measuring spot 13 can be used by a deflection unit, as shown for example in the Figure 5 is shown, can be moved or positioned in-process.
  • the deflection unit can comprise at least one mirror, which is movable or pivotable about at least one axis perpendicular to the beam axis of the measuring beam.
  • the measuring spot 13 can be moved or positioned relative to the workpiece by horizontally moving the laser processing optics in the XY plane and/or by horizontally moving the workpiece in the XY plane relative to the laser processing optics after the piercing process (post-process). .
  • the laser processing optics can be shifted perpendicular to an optical axis of the optics or perpendicular to the beam axis of the measuring beam in order to scan the workpiece surface 3 with the measuring beam or measuring spot 13.
  • collimation optics can be moved in the beam path of the measuring beam in order to move the measuring beam accordingly.
  • the measuring spot 13 is positioned to characterize the puncture hole 2 and optionally the material projection 5 starting from the center of the puncture hole 2 in at least one spatial direction X perpendicular to the beam axis of the measuring beam or parallel to the workpiece surface 3 (left in Figure 9(b) ).
  • Another example is a cross scan in two mutually perpendicular directions (XY direction) starting from the center of the puncture hole 2 (left in Figure 9(b) ).
  • a correspondingly large number of measuring points is preferably used in order to achieve sufficient resolution of the geometric (in particular the three-dimensional) shape of the puncture hole and/or the material adhesions and material build-ups 5.
  • further scanning strategies are available Measuring spot 13 possible, for example spirally around the center of the puncture hole 2, in the shape of an 8, etc.
  • an optical measuring device in particular a short coherence interferometer, is used for the temporal resolution of the piercing depth in the piercing process.
  • the piercing depth can therefore be known at any time during the piercing process.
  • the at least one process parameter of the laser processing system is specifically set or regulated based on the current piercing depth. This results in inline control of the piercing process (and e.g. puncture detection), whereby the duration of the piercing process can be minimized, the quality of the piercing hole can be optimized and/or process stability can be maximized.
  • the quality of the piercing hole can be determined by the amount and extent of the material deposited on the workpiece surface and/or by the diameter of the piercing hole along the direction of propagation.
  • one or more process parameters can be set in such a way that the amount and extent of the material throw-up and/or the diameter of the piercing hole meet predetermined quality criteria.

Description

Die vorliegende Offenbarung betrifft ein Verfahren zur Laserbearbeitung eines Werkstücks nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie ein Laserbearbeitungssystem nach dem Oberbegriff des Anspruchs 14 zur Durchführung des Verfahrens.The present disclosure relates to a method for laser processing a workpiece according to the preamble of claim 1 and a laser processing system according to the preamble of claim 14 for carrying out the method.

Stand der TechnikState of the art

In einer Vorrichtung zur Materialbearbeitung mittels Laser, z.B. in einem Laserbearbeitungskopf zum Laserschneiden, wird der von einer Laserlichtquelle oder einem Ende einer Laserleitfaser austretende Laserstrahl mit Hilfe einer Strahlführungs- und Fokussierungsoptik auf das zu bearbeitende Werkstück fokussiert oder gebündelt. Standardmäßig wird ein Laserbearbeitungskopf mit einer Kollimatoroptik und einer Fokussierungsoptik verwendet, wobei das Laserlicht über eine Lichtleitfaser, auch als Laserquelle bezeichnet, zugeführt wird.In a device for material processing using a laser, for example in a laser processing head for laser cutting, the laser beam emerging from a laser light source or one end of a laser guide fiber is focused or bundled onto the workpiece to be processed using beam guidance and focusing optics. A laser processing head with collimator optics and focusing optics is used as standard, with the laser light being supplied via an optical fiber, also known as a laser source.

Im Rahmen der Lasermaterialbearbeitung kann ein Einstechprozess des Laserstrahls in das Werkstück erfolgen. Der Einstechprozess ist dem eigentlichen Schneidprozess beim Laserschneiden vorgelagert. Bei diesem Prozess wird ein initiales Loch im Werkstück erzeugt, das als Startpunkt für den Schneidprozess dient. Eine Dauer des Einstechprozesses ist ein kritischer Faktor für die Effizienz des Bearbeitungsprozesses. Um den Einstechprozess zu verbessern, ist beispielweise aus der Druckschrift DE 11 2014 006 885 T5 ein Laserbearbeitungsverfahren zur Ausbildung eines Durchstichs durch Bestrahlen eines Werkstückes mit einem Laserstrahl und Schneiden des Werkstückes ausgehend von dem Durchstich bekannt. Das Verfahren umfasst einen ersten Durchstechvorgang zur Ausbildung des Durchstichs als Sackloch, das sich von einer oberen Oberfläche zu einem zentralen Bereich des Werkstückes erstreckt, einen Kühlvorgang zum Kühlen des Werkstückes, einen zweiten Durchstechvorgang, um den Durchstich bis zu einer unteren Oberfläche des Werkstückes durchzustechen, und einen Schneidvorgang zum Schneiden des Werkstückes. Die Prozesseffizienz ist jedoch nicht optimal, da die Dauer des Einstechvorgangs und damit die Prozesseffizienz zum Beispiel von Eigenschaften des Werkstücks abhängen. Insbesondere können Werkstücke derselben Art Fertigungstoleranzen aufweisen, die die Dauer des Einstechvorgangs und damit die Prozesseffizienz beeinflussen.As part of laser material processing, the laser beam can be inserted into the workpiece. The piercing process precedes the actual cutting process in laser cutting. This process creates an initial hole in the workpiece that serves as the starting point for the cutting process. The duration of the grooving process is a critical factor for the efficiency of the machining process. To improve the piercing process, for example, is from the publication DE 11 2014 006 885 T5 a laser processing method for forming a puncture by irradiating a workpiece with a laser beam and cutting the workpiece starting from the puncture is known. The method includes a first piercing process to form the puncture as a blind hole extending from an upper surface to a central region of the workpiece, a cooling process for cooling the workpiece, a second piercing process to pierce the puncture to a lower surface of the workpiece, and a cutting process for cutting the workpiece. However, the process efficiency is not optimal because the duration of the piercing process and thus the process efficiency depend, for example, on the properties of the workpiece. In particular can Workpieces of the same type have manufacturing tolerances that influence the duration of the grooving process and thus the process efficiency.

EP 1 977 850 A1 zeigt eine Bearbeitungseinrichtung mit wenigstens einem Bearbeitungskopf, der zur Bereitstellung wenigstens eines hochenergetischen Bearbeitungsstrahls, insbesondere eines Elektronen- oder Laserstrahls, ausgebildet ist. EP 1 977 850 A1 shows a processing device with at least one processing head, which is designed to provide at least one high-energy processing beam, in particular an electron or laser beam.

WO 2015/039741 A1 beschreibt ein Verfahren zum Messen der Eindringtiefe eines Laserstrahls in ein Werkstück, wobei der Laserstrahl mit Hilfe einer in einem Bearbeitungskopf angeordneten Fokussieroptik in einem Brennfleck fokussiert wird. WO 2015/039741 A1 describes a method for measuring the penetration depth of a laser beam into a workpiece, wherein the laser beam is focused in a focal spot using focusing optics arranged in a processing head.

EP 2 479 533 A1 zeigt ein Lasersystem, um in Echtzeit die Änderung der Laserschmelztiefe zu messen. EP 2 479 533 A1 shows a laser system to measure the change in laser melting depth in real time.

DE 10 2013 225 108 A1 zeigt ein Messverfahren, bei dem ein Messstrahl während einer mittels eines Bearbeitungsstrahls erfolgenden Bearbeitung eines Werkstücks emittiert, zu einem Bearbeitungsort geleitet und anschließend mittels Interferometrie ausgewertet wird. DE 10 2013 225 108 A1 shows a measuring method in which a measuring beam is emitted during machining of a workpiece using a machining beam, directed to a machining location and then evaluated using interferometry.

Offenbarung der ErfindungDisclosure of the invention

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Offenbarung, ein Verfahren zur Laserbearbeitung und ein Laserbearbeitungssystem zur Durchführung des Verfahrens anzugeben, die eine Effizienz eines Einstechvorgangs verbessern können. Insbesondere ist es eine Aufgabe der vorliegenden Offenbarung, eine Zeit für einen Einstechvorgang in ein Werkstück, der einem Schneidprozess vorgelagert ist, zu verkürzen.It is an object of the present disclosure to provide a method for laser machining and a laser machining system for carrying out the method, which can improve efficiency of a piercing operation. In particular, it is an object of the present disclosure to shorten a time for a piercing process into a workpiece that precedes a cutting process.

Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren nach Anspruch 1 sowie durch ein Laserbearbeitungssystem nach Anspruch 14 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.This object is achieved by a method according to claim 1 and by a laser processing system according to claim 14. Advantageous embodiments of the invention are specified in the subclaims.

Das Verfahren umfasst: Einstechen eines Einstechlochs mittels eines Laserstrahls in ein Werkstück, Messen einer Einstechtiefe des Einstechlochs mittels wenigstens eines optischen Messstrahls während des Einstechvorgangs und Einstellen wenigstens eines Prozessparameters des Laserbearbeitungssystems während des Einstechvorgangs basierend auf einer aktuell gemessenen Einstechtiefe. Das Verfahren kann die Aspekte der Vorrichtung für ein Laserbearbeitungssystem gemäß der vorliegenden Offenbarung implementieren.The method includes: piercing a piercing hole into a workpiece using a laser beam, measuring a piercing depth of the piercing hole using at least one optical measuring beam during the piercing process and adjusting at least one process parameter of the laser processing system during the piercing process based on a currently measured piercing depth. The method may implement the aspects of the apparatus for a laser processing system according to the present disclosure.

Eine Vorrichtung für ein Laserbearbeitungssystem, insbesondere einen Laserschneidkopf, umfasst eine optische Messeinrichtung, die eingerichtet ist, um während eines Einstechvorgangs unter Verwendung wenigstens eines optischen Messstrahls eine aktuelle bzw. momentane Einstechtiefe eines mit einem Laserstrahl in einem Werkstück erzeugten Einstechlochs zu bestimmen, und eine Steuereinrichtung, die eingerichtet ist, um wenigstens einen Prozessparameter des Laserbearbeitungssystems während des Einstechvorgangs basierend auf der aktuellen Einstechtiefe einzustellen.A device for a laser processing system, in particular a laser cutting head, comprises an optical measuring device, which is set up to determine a current or instantaneous piercing depth of a piercing hole created with a laser beam in a workpiece during a piercing process using at least one optical measuring beam, and a control device , which is set up to adjust at least one process parameter of the laser processing system during the piercing process based on the current piercing depth.

Erfindungsgemäß kann die Einstechtiefe zu jedem Zeitpunkt des Einstechvorgangs bekannt sein. Der wenigstens eine Prozessparameter des Laserbearbeitungssystems kann basierend auf der aktuellen Einstechtiefe gezielt eingestellt bzw. geregelt werden. Damit kann eine Inline-Regelung des Einstechprozesses (und z.B. einer Durchsticherkennung) erfolgen, wodurch die Dauer des Einstechprozesses minimiert, die Qualität des Einstechlochs optimiert und/oder die Prozessstabilität maximiert werden kann. Beispielsweise kann die Qualität des Einstechlochs durch die Menge und die Ausprägung des Materialaufwurfs, der sich auf der Werkstückoberseite ablagert, und/oder durch den Durchmesser des Einstechlochs entlang der Ausbreitungsrichtung bestimmt sein. Durch die Inline-Regelung können einer oder mehrere Prozessparameter derart eingestellt werden, dass die Menge und die Ausprägung des Materialaufwurfs und/oder der Durchmesser des Einstechlochs vorbestimmte Qualitätskriterien erfüllen.According to the invention, the piercing depth can be known at any time during the piercing process. The at least one process parameter of the laser processing system can be specifically set or regulated based on the current piercing depth. This allows for inline control of the piercing process (and, for example, puncture detection), whereby the duration of the piercing process can be minimized, the quality of the piercing hole can be optimized and/or process stability can be maximized. For example, the quality of the piercing hole can be determined by the amount and extent of the material deposited on the top of the workpiece and/or by the diameter of the piercing hole along the direction of propagation. Through inline control, one or more process parameters can be controlled in this way can be adjusted so that the amount and the extent of the material throw-up and/or the diameter of the piercing hole meet predetermined quality criteria.

Vorzugsweise ist die optische Messeinrichtung eingerichtet, um während des Einstechvorgangs die Einstechtiefe fortlaufend bzw. kontinuierlich zu messen. Die Steuereinrichtung kann eingerichtet sein, um den wenigstens einen Prozessparameter basierend auf der kontinuierlich gemessenen Einstechtiefe während des Einstechvorgangs fortlaufend bzw. kontinuierlich einzustellen oder zu regeln. Hierbei kann eine zeitlich aufgelöste kontinuierliche Messung der Einstechtiefe über eine Zeitspanne oder über eine gesamte Dauer des Einstechvorgangs erfolgen. Ebenso kann eine Einstellung oder Regelung des wenigstens einen Prozessparameters entsprechend über die Zeitspanne oder über die gesamte Dauer des Einstechvorgangs erfolgen.Preferably, the optical measuring device is set up to continuously or continuously measure the piercing depth during the piercing process. The control device can be set up to continuously or continuously adjust or regulate the at least one process parameter based on the continuously measured piercing depth during the piercing process. Here, a time-resolved continuous measurement of the piercing depth can take place over a period of time or over the entire duration of the piercing process. Likewise, the at least one process parameter can be adjusted or regulated accordingly over the period of time or over the entire duration of the piercing process.

Die Vorrichtung, wie beispielsweise die optische Messeinrichtung oder die Steuereinrichtung, ist eingerichtet, um eine Änderungsrate ds/dt der Einstechtiefe s(t), also eine Einstechtiefenänderung, zu bestimmen. Die Steuereinrichtung ist eingerichtet, um den wenigstens einen Prozessparameter basierend auf der Änderungsrate ds/dt der Einstechtiefe s(t) einzustellen. Durch die Bestimmung oder Aufzeichnung der Änderungsrate ds/dt kann die Effizienz des Einstechprozesses analysiert werden, beispielsweise hinsichtlich des aktuellen Materialaustriebs.The device, such as the optical measuring device or the control device, is set up to determine a rate of change ds / dt of the piercing depth s (t), i.e. a change in the piercing depth. The control device is set up to set the at least one process parameter based on the rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) . By determining or recording the rate of change ds / dt , the efficiency of the piercing process can be analyzed, for example with regard to the current material output.

Die Dauer des Einstechprozesses, die als die Zeitspanne zwischen der Aktivierung des Laserstrahls und dem Durchstich durch das Werkstück definiert sein kann, kann von der Änderungsrate ds/dt der Einstechtiefe abhängen. Beispielsweise kann die Änderungsrate ds/dt der Einstechtiefe s(t) mit zunehmender Tiefe des Einstechlochs abnehmen. Dies kann in der abnehmenden einkoppelbaren Intensität des Laserstrahls am Einstechgrund mit zunehmender Einstechtiefe s(t) begründet sein. Weiterhin kann die Änderungsrate ds/dt der Einstechtiefe s(t) direkt die Prozesseffizienz widerspiegeln. Gemäß der vorliegenden Erfindung sind die aktuelle Einstechtiefe s(t) und auch die Änderungsrate ds/dt zu jedem Zeitpunkt während des Einstechvorgangs bekannt, wodurch ein oder mehrere Prozessparameter des Laserbearbeitungssystems gezielter angepasst und geregelt werden können.The duration of the piercing process, which may be defined as the time between activation of the laser beam and piercing through the workpiece, may depend on the rate of change ds / dt of the piercing depth. For example, the rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) can decrease as the depth of the piercing hole increases. This can be due to the decreasing intensity of the laser beam that can be coupled to the base of the puncture as the puncture depth s(t) increases. Furthermore, the rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) can directly reflect the process efficiency. According to the present invention, the current piercing depth s(t) and also the rate of change ds / dt are known at any time during the piercing process, whereby one or more process parameters of the laser processing system can be adjusted and regulated in a more targeted manner.

Vorzugsweise ist die Steuereinrichtung weiter eingerichtet, um die Änderungsrate ds/dt der Einstechtiefe s(t) mit einem (z.B. vorbestimmten) Schwellwert zu vergleichen, und um basierend auf dem Vergleich zu bestimmen, ob ein Durchstechen des Werkstücks mit den aktuell eingestellten Prozessparametern möglich ist oder nicht. Der Schwellwert kann insbesondere angeben, ab wann eine Materialdurchdringung mit den aktuellen Prozessparametern nicht mehr möglich ist.Preferably, the control device is further set up to compare the rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) with a (for example predetermined) threshold value, and to determine based on the comparison whether piercing the workpiece is possible with the currently set process parameters or not. The threshold value can in particular indicate when material penetration is no longer possible with the current process parameters.

In einigen Ausführungsformen kann die Steuereinrichtung eingerichtet sein, um den Einstechvorgang abzubrechen oder den wenigstens einen Prozessparameter auf wenigstens einen vordefinierten Wert einzustellen, wenn bestimmt wird, dass ein Durchstechen des Werkstücks mit den aktuell eingestellten Prozessparametern nicht möglich ist. Erreicht die Änderungsrate ds/dt den definierten Schwellwert, kann zum Beispiel auf einen Regelalgorithmus, der auf diesen Fall ausgelegt ist, zurückgegriffen werden. Alternativ kann der Einstechprozess abgebrochen und/oder eine Fehlermeldung an den Bediener ausgegeben werden. Nach dem Abbruch des Einstechprozesses kann der Einstechprozess automatisch an einer anderen Position auf dem Werkstück erneut gestartet werden.In some embodiments, the control device can be set up to abort the piercing process or to set the at least one process parameter to at least a predefined value if it is determined that piercing the workpiece is not possible with the currently set process parameters. If the rate of change ds / dt reaches the defined threshold value, a control algorithm that is designed for this case can be used, for example. Alternatively, the piercing process can be aborted and/or an error message can be issued to the operator. After the piercing process has been aborted, the piercing process can be automatically restarted at a different position on the workpiece.

Vorzugsweise ist die Vorrichtung weiter eingerichtet, um ein Durchstechen des Laserstrahls durch das Werkstück zu erkennen. Beispielsweise kann das Durchstechen erkannt werden, wenn die optische Messeinrichtung keinen vom Grund bzw. Boden des Einstechlochs reflektierten optischen Messstrahl mehr empfängt. Das Durchstechen kann auch basierend auf der Änderungsrate ds/dt bestimmt bzw. erkannt werden.Preferably, the device is further set up to detect piercing of the laser beam through the workpiece. For example, piercing can be detected when the optical measuring device no longer receives an optical measuring beam reflected from the bottom of the puncture hole. Piercing can also be determined or detected based on the rate of change ds / dt .

Vorzugsweise ist die Steuereinrichtung eingerichtet, um nach dem Erkennen des Durchstechens einen Laserschneidvorgang am Werkstück durchzuführen. Beispielsweise kann der Zeitpunkt des Durchstechens an die Steuerungseinheit kommuniziert und der anschließende Schneidprozess direkt und ohne Verzögerung gestartet werden. Für den Schneidprozess kann der Laserschneidkopf entlang des Werkstücks bewegt werden, um eine Schneidkontur zu bilden.The control device is preferably set up to carry out a laser cutting process on the workpiece after the piercing has been detected. For example, the time of piercing can be communicated to the control unit and the subsequent cutting process can be started directly and without delay. For the cutting process, the laser cutting head can be moved along the workpiece to form a cutting contour.

Vorzugsweise ist die Steuereinrichtung eingerichtet, um basierend auf einer Einstechtiefe zu einem Zeitpunkt eines Durchstechens des Laserstrahls durch das Werkstück eine Dicke bzw. Materialstärke des Werkstücks zu bestimmen. Diese Information kann beispielsweise an die Steuerungseinheit kommuniziert werden. Die Steuerungseinheit kann darauf basierend die korrekten Prozessparameter, die zum Beispiel materialstärkenabhängig sein können, für den anschließenden Schneidprozess automatisiert auswählen. Ergänzend oder alternativ kann die Information verwendet werden, um einen (z.B. automatisierten) Abgleich zwischen der Soll-Materialstärke und der Ist-Materialstärke durchzuführen. Falls eine Abweichung besteht, kann zum Beispiel eine Fehlermeldung an den Maschinenbediener bzw. an die Maschinensteuerung ausgegeben werden, um frühzeitig auf die Abweichung in der Materialstärke reagieren zu können.Preferably, the control device is set up to determine a thickness or material thickness of the workpiece based on a piercing depth at a time when the laser beam penetrates the workpiece. This information can for example, communicated to the control unit. Based on this, the control unit can automatically select the correct process parameters, which can be dependent on material thickness, for example, for the subsequent cutting process. Additionally or alternatively, the information can be used to carry out a (for example automated) comparison between the target material thickness and the actual material thickness. If there is a deviation, an error message can be sent to the machine operator or the machine control, for example, in order to be able to react to the deviation in material thickness at an early stage.

Vorzugsweise ist die Steuereinrichtung eingerichtet, um den wenigstens einen Prozessparameter während des Einstechprozesses diskret, kontinuierlich, oder kombiniert diskret und kontinuierlich einzustellen. Beispielsweise können für die Einstechtiefe oder Änderungsrate ds/dt mehrere Wertebereiche festgelegt werden, wobei jedem der mehreren Wertebereiche ein jeweiliger diskreter Prozessparameter zugeordnet ist. In einem weiteren Beispiel kann der wenigstens eine Prozessparameter kontinuierlich in Abhängigkeit der aktuellen Einstechtiefe oder Änderungsrate ds/dt eingestellt werden. In einem noch weiteren Beispiel kann über die Dauer des Einstechprozesses eine kombinierte diskrete und kontinuierliche Einstellung erfolgen. Zum Beispiel kann für wenigstens einen ersten Wertebereich der Einstechtiefe oder Änderungsrate ds/dt eine diskrete Einstellung und für wenigstens einen zweiten Wertebereich der Einstechtiefe oder Änderungsrate ds/dt, der vom wenigstens einen ersten Wertebereich verschieden ist, eine kontinuierliche Einstellung erfolgen.Preferably, the control device is set up to adjust the at least one process parameter discretely, continuously, or in combination discretely and continuously during the piercing process. For example, several value ranges can be defined for the piercing depth or rate of change ds / dt , with each of the several value ranges being assigned a respective discrete process parameter. In a further example, the at least one process parameter can be adjusted continuously depending on the current piercing depth or rate of change ds / dt . In yet another example, a combined discrete and continuous adjustment may occur over the duration of the piercing process. For example, a discrete adjustment can be made for at least a first range of values of the penetration depth or rate of change ds / dt and a continuous adjustment can be made for at least a second range of values of the penetration depth or rate of change ds / dt, which is different from the at least one first range of values.

Vorzugsweise ist der wenigstens eine Prozessparameter des Laserbearbeitungssystems aus der Gruppe ausgewählt, die wenigstens einen Pulsparameter, eine Laserleistung, eine Fokuslage des Laserstrahls, einen Fokusdurchmesser des Laserstrahls, eine Prozessgaszusammensetzung, einen Prozessgasdruck und einen Düsenabstand zwischen einer Düse des Laserbearbeitungssystems und einer Oberfläche des Werkstücks umfasst. Der wenigstens eine Pulsparameter kann aus der Gruppe ausgewählt sein, die eine Pulslänge, eine Pulsperiodendauer und eine Pulsspitzenleistung umfasst. Weitere Pulsparameter können sich aus den genannten Pulsparametern ergeben.Preferably, the at least one process parameter of the laser processing system is selected from the group that includes at least one pulse parameter, a laser power, a focus position of the laser beam, a focus diameter of the laser beam, a process gas composition, a process gas pressure and a nozzle distance between a nozzle of the laser processing system and a surface of the workpiece . The at least one pulse parameter can be selected from the group that includes a pulse length, a pulse period and a pulse peak power. Further pulse parameters can result from the pulse parameters mentioned.

Beim Schneiden metallischer Materialien mittels Laserstrahlung kann üblicherweise gemeinsam mit dem Laserstrahl ein Prozessgas aus dem Schneidkopf auf das Werkstück gerichtet werden. Zu diesem Zweck kann an einem Laserbearbeitungskopf des Laserbearbeitungssystems eine Schneiddüse angebracht sein, durch die Laserstrahlung und Prozessgas auf ein zu bearbeitendes Werkstück gerichtet werden. Das Prozessgas kann ein inertes Medium (z.B. Stickstoff N2) oder ein reaktives Gas (z.B. Sauerstoff Oz) sein. Der wenigstens eine Prozessparameter kann eine Zusammensetzung des Prozessgases und/oder einen Druck des Prozessgases umfassen. Durch das gezielte Einstellen der Zusammensetzung und/oder des Drucks des Prozessgases kann eine Qualität des Einstechvorgangs verbessert und eine Dauer des Einstechvorgangs reduziert werden.When cutting metallic materials using laser radiation, a process gas can usually flow from the cutting head together with the laser beam Workpiece can be aligned. For this purpose, a cutting nozzle can be attached to a laser processing head of the laser processing system, through which laser radiation and process gas are directed onto a workpiece to be processed. The process gas can be an inert medium (eg nitrogen N 2 ) or a reactive gas (eg oxygen Oz). The at least one process parameter can include a composition of the process gas and/or a pressure of the process gas. By specifically adjusting the composition and/or the pressure of the process gas, the quality of the piercing process can be improved and the duration of the piercing process can be reduced.

Vorzugsweise umfasst oder ist die optische Messeinrichtung ein Kohärenz-Interferometer, und insbesondere ein Kurzkohärenz-Interferometer. Das Kohärenz-Interferometer (optischer Kohärenztomograph, OCT) kann verwendet werden, um verschiedene Prozessparameter zu messen, wie beispielsweise die Einstechtiefe beim Einstechvorgang, den Abstand zum Werkstück beim Laserschneiden und/oder eine Oberflächentopographie.The optical measuring device preferably comprises or is a coherence interferometer, and in particular a short coherence interferometer. The coherence interferometer (optical coherence tomography, OCT) can be used to measure various process parameters, such as the penetration depth during the piercing process, the distance to the workpiece during laser cutting and/or a surface topography.

Vorzugsweise ist die Vorrichtung eingerichtet, um den Einstechvorgang bei einem im Wesentlichen konstanten Abstand zwischen dem Laserbearbeitungskopf bzw. einer Düse des Laserbearbeitungssystems und einer Oberfläche des Werkstücks durchzuführen. Die Düse kann eine Schneiddüse sein, aus der der Laserstrahl und optional ein Prozessgas austritt. Die optische Messeinrichtung kann eingerichtet sein, um die aktuelle Einstechtiefe basierend auf dem Abstand und einem aktuellen Messwert an der Einstechposition zu bestimmen. Der Abstand kann einen vor Beginn des Einstechvorgangs ermittelten Anfangsmesswert umfassen. Die optische Messeinrichtung kann eingerichtet sein, den Anfangsmesswert zu ermitteln. Beispielsweise kann die optische Messeinrichtung vor dem Beginn des Einstechvorgangs zum Ermitteln des Anfangsmesswerts eine Kalibriermessung (z.B. eine Abstandsmessung mit dem Kohärenz-Interferometer) durchführen, sobald die Schneidoptik ihre X-Y-Z-Endposition für den Einstechprozess erreicht hat. Alternativ kann der Abstand zwischen dem Laserbearbeitungskopfbzw. der Düse und der Werkstückoberfläche bekannt sein oder basierend auf einem Stellsignal der Steuereinheit zum Einstellen des Abstands ermittelt werden. Unter Verwendung des Abstands und des aktuellen Messsignals während des Einstechens kann die aktuelle Einstechtiefe s(t) ermittelt werden. Das aktuelle Messsignal kann beispielsweise einen Reflex des optischen Messstrahls an der Einstechposition umfassen. Die optische Messeinrichtung kann eingerichtet sein, das aktuelle Messsignal in einen aktuellen Messwert umzuwandeln. Der aktuelle Messwert kann einem Abstand an der Einstechposition entsprechen.Preferably, the device is set up to carry out the piercing process at a substantially constant distance between the laser processing head or a nozzle of the laser processing system and a surface of the workpiece. The nozzle can be a cutting nozzle from which the laser beam and optionally a process gas emerge. The optical measuring device can be set up to determine the current piercing depth based on the distance and a current measured value at the piercing position. The distance can include an initial measurement value determined before the start of the piercing process. The optical measuring device can be set up to determine the initial measured value. For example, before the start of the piercing process, the optical measuring device can carry out a calibration measurement (e.g. a distance measurement with the coherence interferometer) to determine the initial measurement value, as soon as the cutting optics have reached their XYZ end position for the piercing process. Alternatively, the distance between the laser processing head or. the nozzle and the workpiece surface can be known or can be determined based on an actuating signal from the control unit for adjusting the distance. Using the distance and the current measurement signal during the The current piercing depth s(t) can be determined. The current measurement signal can, for example, include a reflection of the optical measurement beam at the piercing position. The optical measuring device can be set up to convert the current measurement signal into a current measured value. The current measured value can correspond to a distance at the piercing position.

Vorzugsweise ist die Vorrichtung alternativ oder zusätzlich eingerichtet, um den Einstechvorgang bei einem sich zeitlich ändernden Abstand zwischen dem Laserbearbeitungskopf bzw. der Düse des Laserbearbeitungssystems und der Oberfläche des Werkstücks durchzuführen. Anders gesagt kann der Abstand während des Einstechprozesses, z.B. dynamisch, variiert werden. Die aktuelle Einstechtiefe kann basierend auf einem aktuellen Abstand bezüglich der Werkstückoberfläche und einem entsprechenden aktuellen Messwert der optischen Messeinrichtung an der Einstechposition bestimmt werden. Mit anderen Worten kann der aktuelle Abstand und der entsprechende aktuelle Messwert gleichzeitig bestimmt werden. Der aktuelle Abstand kann dabei entweder gemessen werden, oder basierend auf einem aktuellen Stellwert zum Einstellen des aktuellen Düsenabstands bestimmt werden. Beispielsweise kann die optische Messeinrichtung eingerichtet sein, den aktuellen Abstand zu ermitteln.Preferably, the device is alternatively or additionally set up to carry out the piercing process at a time-changing distance between the laser processing head or the nozzle of the laser processing system and the surface of the workpiece. In other words, the distance can be varied during the piercing process, for example dynamically. The current piercing depth can be determined based on a current distance with respect to the workpiece surface and a corresponding current measured value of the optical measuring device at the piercing position. In other words, the current distance and the corresponding current measured value can be determined at the same time. The current distance can either be measured or determined based on a current control value for setting the current nozzle distance. For example, the optical measuring device can be set up to determine the current distance.

In einer Ausführungsform kann zusätzlich zur optischen Messeinrichtung, die beispielsweise ein Kurzkohärenz-Interferometer umfasst, eine Abstandssensoreinheit verwendet werden, die den Abstand zwischen der Düsenspitze und der Werkstückoberseite z.B. kapazitiv, induktiv, optisch oder auf andere Weise misst. Beide Messsignale, d.h. das Düsenabstandssignal der Abstandssensoreinheit und das entsprechende Messsignal der optischen Messeinrichtung, werden z.B. an die Steuereinheit kommuniziert, die wiederum die aktuelle bzw. momentane Einstechtiefe, z.B. mathematisch, ermitteln kann.In one embodiment, in addition to the optical measuring device, which includes, for example, a short coherence interferometer, a distance sensor unit can be used which measures the distance between the nozzle tip and the top of the workpiece, for example capacitively, inductively, optically or in another way. Both measurement signals, i.e. the nozzle distance signal from the distance sensor unit and the corresponding measurement signal from the optical measuring device, are communicated, for example, to the control unit, which in turn can determine the current or momentary penetration depth, for example mathematically.

Alternativ oder zusätzlich kann die optische Messeinrichtung eingerichtet sein, einen ersten optischen Messstrahl auf eine Einstechposition und einen zweiten optischen Messstrahl auf die Oberfläche des Werkstücks zu richten. Die Vorrichtung kann dann eingerichtet sein, die aktuelle Einstechtiefe mittels eines ersten Reflexes des ersten optischen Messstrahls an einem Einstechgrund des Einstechlochs und eines zweiten Reflexes des zweiten optischen Messstrahls zu bestimmen. Beispielsweise kann die optische Messeinrichtung zumindest ein optisches Element umfassen, das eingerichtet ist, den optischen Messstrahl in zwei Teilstrahlen zu teilen. Der erste Teilstrahl kann auf die Einstechposition bzw. den Einstechgrund gerichtet werden. Der zweite Teilstrahl kann als weiterer Referenzwert beispielsweise auf die Werkstückoberseite gerichtet werden. Beide Teilstrahlen können miteinander oder mit einem Strahl aus einem Referenzarm der optischen Messeinrichtung überlagert werden, um die absolute aktuelle Einstechtiefe zu ermitteln. Dies ist sowohl für einen konstanten als auch für einen variablen Düsenabstand zur Werkstückoberfläche anwendbar.Alternatively or additionally, the optical measuring device can be set up to direct a first optical measuring beam to a piercing position and a second optical measuring beam to the surface of the workpiece. The device can then be set up to determine the current puncture depth by means of a first reflection of the first optical measuring beam at a puncture base of the puncture hole and a second reflection of the second optical measuring beam. For example, the optical measuring device include at least one optical element which is set up to divide the optical measuring beam into two partial beams. The first partial beam can be directed at the piercing position or the piercing base. The second partial beam can be directed, for example, onto the top of the workpiece as a further reference value. Both partial beams can be superimposed on each other or with a beam from a reference arm of the optical measuring device in order to determine the absolute current penetration depth. This is applicable for both a constant and a variable nozzle distance to the workpiece surface.

Vorzugsweise ist die optische Messeinrichtung eingerichtet, um den wenigstens einen optischen Messstahl in mindestens einer Richtung senkrecht zu einer Achse des optischen Messstrahls über die Oberfläche des Werkstücks zu führen. Die optische Messeinrichtung kann eingerichtet sein, um mit dem wenigstens einen optischen Messstahl die Oberfläche des Werkstücks in zwei aufeinander senkrecht stehenden Richtungen abzutasten. Anders gesagt kann eine dynamische Messfleckpositionierung erfolgen. Vorzugsweise ist die optische Messeinrichtung eingerichtet, um mit dem wenigstens einen optischen Messstahl eine Topographiemessung der Oberfläche des Werkstücks durchzuführen. Hierfür kann die optische Messeinrichtung Messdaten, wie beispielsweise Höhendaten bzw. Abstandsdaten, an der Einstechposition und einem die Einstechposition umgebenden Bereich der Werkstückoberfläche ermitteln.Preferably, the optical measuring device is set up to guide the at least one optical measuring steel over the surface of the workpiece in at least one direction perpendicular to an axis of the optical measuring beam. The optical measuring device can be set up to scan the surface of the workpiece in two mutually perpendicular directions with the at least one optical measuring steel. In other words, dynamic measuring spot positioning can take place. Preferably, the optical measuring device is set up to carry out a topography measurement of the surface of the workpiece using the at least one optical measuring steel. For this purpose, the optical measuring device can determine measurement data, such as height data or distance data, at the piercing position and an area of the workpiece surface surrounding the piercing position.

Insbesondere kann die Vorrichtung eingerichtet sein, um eine geometrische Charakterisierung des Einstechlochs durchzuführen. Die geometrische Charakterisierung kann eine zweidimensionale oder eine dreidimensionale Charakterisierung umfassen. Die zweidimensionale Charakterisierung kann z.B. ein Durchmesser des Einstechlochs oder eine Ausdehnung von Materialanhaftungen und -aufwürfen um das Einstechloch erfassen. Die dreidimensionale Charakterisierung kann auch Höhendaten oder Höheninformationen enthalten, z.B. eine Höhe der Materialanhaftungen oder -aufwürfe, eine Lochtiefe oder Topographie der Oberfläche um und am Einstechloch. Die geometrische Charakterisierung des Einstechlochs kann direkt die Qualität (z.B. Durchmesser auf der Eintrittsseite, Materialanhaftungen, Materialaufwürfe, etc.) des Einstechprozesses bzw. des Einstechlochs widerspiegeln. Die geometrische Charakterisierung ermöglicht zum Beispiel eine Aussage über den Durchmesser des Einstechlochs an der Eintrittsseite (Werkstückoberseite). Die Kenntnis des Durchmessers ermöglicht wiederum einen Soll-Ist-Abgleich zwischen dem Durchmesser und der zu erwartenden Schnittspaltbreite, die z.B. durch vorherige Versuche ermittelt werden kann. Eine Bestimmung des Durchmessers und/oder ein Vergleich des Durchmessers des Einstechlochs mit einem vorgegebenen Wert kann zwischen dem eigentlichen Einstechen und dem Konturschnitt erfolgen. Ist der Durchmesser des Einstechlochs kleiner als die zu erwartende Schnittspaltbreite der Kontur oder ist gleich groß, kann der Einstechprozess direkt auf der Kontur erfolgen. Das heißt, wenn der Durchmesser des Einstechlochs kleiner als die zu erwartende Schnittspaltbreite der Kontur oder gleich groß ist, kann der Konturschnitt direkt auf der Einstechposition beginnen.In particular, the device can be set up to carry out a geometric characterization of the puncture hole. The geometric characterization may include two-dimensional or three-dimensional characterization. The two-dimensional characterization can, for example, record a diameter of the piercing hole or an extent of material adhesions and build-ups around the piercing hole. The three-dimensional characterization can also contain height data or height information, for example a height of the material adhesions or throws, a hole depth or topography of the surface around and at the puncture hole. The geometric characterization of the piercing hole can directly reflect the quality (e.g. diameter on the entry side, material adhesions, material build-up, etc.) of the piercing process or the piercing hole. The geometric characterization makes it possible, for example, to make a statement about the diameter of the puncture hole Entry side (top of the workpiece). Knowing the diameter in turn enables a target/actual comparison between the diameter and the expected cutting gap width, which can be determined, for example, through previous tests. A determination of the diameter and/or a comparison of the diameter of the piercing hole with a predetermined value can be carried out between the actual piercing and the contour cut. If the diameter of the piercing hole is smaller than the expected cutting gap width of the contour or is the same size, the piercing process can take place directly on the contour. This means that if the diameter of the piercing hole is smaller than or equal to the expected cutting gap width of the contour, the contour cutting can begin directly at the piercing position.

Vorzugsweise führt die optische Messeinrichtung den wenigstens einen optischen Messstahl während des Einstechvorgangs und/oder nach dem Einstechvorgang dynamisch über die Oberfläche des Werkstücks. Anders gesagt kann die geometrische Charakterisierung während (In-Prozess/Inline) und/oder nach (Post-Prozess) dem Einstechprozess in das Werkstück erfolgen.Preferably, the optical measuring device dynamically guides the at least one optical measuring steel over the surface of the workpiece during the piercing process and/or after the piercing process. In other words, the geometric characterization can take place during (in-process/inline) and/or after (post-process) the piercing process into the workpiece.

Vorzugsweise ist die Steuervorrichtung eingerichtet, um basierend auf der geometrischen Charakterisierung des Einstechlochs wenigstens einen Prozessparameter für einen nachfolgenden Einstechvorgang einzustellen. Insbesondere ermöglicht die geometrische Charakterisierung des Einstechlochs die Optimierung von nachfolgenden Einstechprozessen, um die Einstechlöcher der nachfolgenden Einstechprozesse durch Anpassung der Prozessparameter beispielsweise basierend auf einem selbstlernenden System (Machine Learning) qualitativ zu verbessern. Ergänzend oder alternativ kann die Qualitätsinformation an den Maschinenbediener z.B. mittels einer HMI-Schnittstelle mitgeteilt werden. Dem Bediener wird somit die Möglichkeit gegeben, bei Bedarf in den laufenden Prozess einzugreifen und Korrekturmaßnahmen wie beispielsweise eine Strahlzentrierung, Überprüfung der Düse auf Beschädigungen oder Ähnliches vorzunehmen.Preferably, the control device is set up to set at least one process parameter for a subsequent piercing process based on the geometric characterization of the piercing hole. In particular, the geometric characterization of the piercing hole enables the optimization of subsequent piercing processes in order to improve the quality of the piercing holes of the subsequent piercing processes by adapting the process parameters, for example based on a self-learning system (machine learning). Additionally or alternatively, the quality information can be communicated to the machine operator, for example using an HMI interface. This gives the operator the opportunity to intervene in the ongoing process if necessary and to take corrective measures such as jet centering, checking the nozzle for damage or similar.

Vorzugsweise ist die Vorrichtung, und insbesondere die optische Messeinrichtung oder die Steuereinrichtung, eingerichtet, um einen Durchmesser des Einstechlochs zu bestimmen. Die Steuereinrichtung kann eingerichtet sein, um den Durchmesser mit einem (z.B. vorbestimmten) Schwellwert zu vergleichen. Die Steuereinrichtung kann das Laserbearbeitungssystem nach einem Durchstechen des Laserstrahls durch das Werkstück und vor dem Beginn eines Schneidvorgangs derart an steuern, dass der Laserstrahl den Durchmesser des Einstechlochs vergrößert, wenn bestimmt wird, dass der Durchmesser gleich oder kleiner als der Schwellwert ist. Durch Kenntnis des Durchmessers kann zum Beispiel geometrisch bewertet werden, ob ein schneidfähiges Einstechloch vorliegt oder nicht. Falls erforderlich, kann das Einstechloch vor dem eigentlichen Schneidprozess gezielt auf einen Soll-Durchmesser an der Strahleintrittsstelle und entlang des Einstechlochs vergrößert werden, um die Energieeinkopplung für den Schneidprozess zu begünstigen. Damit kann die Prozesssicherheit erhöht werden.Preferably, the device, and in particular the optical measuring device or the control device, is set up to determine a diameter of the puncture hole. The control device can be set up to compare the diameter with a (eg predetermined) threshold value. The control device can control the laser processing system after piercing the laser beam through the workpiece and before starting a cutting operation such that the laser beam increases the diameter of the piercing hole when it is determined that the diameter is equal to or smaller than the threshold value. By knowing the diameter, for example, it can be geometrically evaluated whether there is a piercing hole that can be cut or not. If necessary, the piercing hole can be specifically enlarged to a target diameter at the beam entry point and along the piercing hole before the actual cutting process in order to promote the coupling of energy for the cutting process. This can increase process reliability.

Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Laserbearbeitungssystem nach Anspruch 14 angegeben. Das Laserbearbeitungssystem umfasst einen Bearbeitungskopf mit einer Laservorrichtung, die eingerichtet ist, um den Laserstrahl auf einen Bearbeitungsbereich eines Werkstücks zu lenken, und die zuvor beschriebene Vorrichtung.According to a further aspect of the present invention, a laser processing system according to claim 14 is specified. The laser machining system includes a machining head with a laser device that is set up to direct the laser beam onto a machining area of a workpiece, and the device described above.

Der Laserbearbeitungskopf kann ein oder mehrere optische Elemente aufweisen. Hierbei können alle optischen Elemente des Laserbearbeitungskopfes reflektive Optiken sein. Alternativ können alle optischen Elemente des Laserbearbeitungskopfes transmissive Optiken sein oder die optischen Elemente können sowohl transmissive als auch reflektive Optiken umfassen. Vorzugsweise umfasst der Laserbearbeitungskopf zumindest ein optisches Element, das bezüglich einer optischen Achse verschiebbar ist, um eine Fokuslage des Laserstrahls und/oder eine Fokuslage des wenigstens einen optischen Messstrahls einzustellen. Das zumindest eine optische Element kann transmissive und/oder reflektive Optiken umfassen, und kann beispielsweise eine Linse, eine Linsengruppe, eine Zoomoptik, eine Spiegeloptik oder ähnliches umfassen oder sein. Das zumindest eine optische Element kann aus der Gruppe ausgewählt sein, die eine Kollimator-Optik für den Laserstrahl, eine Kollimator-Optik für den wenigstens einen optischen Messstrahl und eine Fokussier-Optik umfasst oder daraus besteht. Die Fokussier-Optik kann eine gemeinsame Fokussieroptik für den Laserstrahl und den wenigstens einen optischen Messtrahl sein. Diese Optiken können eine Linse oder eine Linsengruppe sein oder umfassen.The laser processing head can have one or more optical elements. All optical elements of the laser processing head can be reflective optics. Alternatively, all optical elements of the laser processing head can be transmissive optics or the optical elements can include both transmissive and reflective optics. The laser processing head preferably comprises at least one optical element which is displaceable with respect to an optical axis in order to adjust a focus position of the laser beam and/or a focus position of the at least one optical measuring beam. The at least one optical element can include transmissive and/or reflective optics, and can include or be, for example, a lens, a lens group, a zoom optics, a mirror optics or the like. The at least one optical element can be selected from the group that includes or consists of a collimator optics for the laser beam, a collimator optics for the at least one optical measuring beam and a focusing optics. The focusing optics can be a common focusing optics for the laser beam and the at least one optical measuring beam. These optics can be or include a lens or a lens group.

Vorzugsweise ist das Laserbearbeitungssystem für die Bearbeitung von Werkstücken mit einer Dicke von wenigstens 10mm, und insbesondere von wenigstens 15mm eingerichtet. Die Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können für alle Materialstärken verwendet werden, und sind insbesondere für das Einstechen in größeren Materialstärken (≥ 10 mm) vorteilhaft. Bei größeren Materialstärken kann der Einstechprozess z.B. mehrere Sekunden dauern und somit einen großen zeitlichen Anteil am eigentlichen Schneidprozesses aufweisen. Durch das Verkürzen der Dauer des Einstechvorgangs kann die Gesamtdauer des Bearbeitungsprozesses reduziert und damit die Prozesseffizienz erhöht werden.Preferably, the laser processing system is set up for processing workpieces with a thickness of at least 10mm, and in particular at least 15mm. The embodiments of the present disclosure can be used for all material thicknesses, and are particularly advantageous for grooving in larger material thicknesses (≥ 10 mm). For larger material thicknesses, the piercing process can take several seconds, for example, and can therefore take up a large amount of time in the actual cutting process. By shortening the duration of the grooving process, the overall duration of the machining process can be reduced and thus the process efficiency can be increased.

Kurze Beschreibung der ZeichnungenBrief description of the drawings

Ausführungsbeispiele der Offenbarung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher beschrieben. Es zeigen:

  • Figur 1 ein Laserbearbeitungssystem gemäß Ausführungsformen der vorliegender Erfindung,
  • Figur 2 ein Laserbearbeitungssystem gemäß weiteren Ausführungsformen der vorliegender Erfindung,
  • Figur 3 ein Laserbearbeitungssystem gemäß weiteren Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung,
  • Figur 4 ein Laserbearbeitungssystem gemäß weiteren Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung,
  • Figur 5 ein Laserbearbeitungssystem gemäß weiteren Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung,
  • Figuren 6A und B schematische Darstellung des Einstechprozesses und der Bestimmung einer Einstechtiefe gemäß Beispielen, die nicht Gegenstand der Erfindung sind,
  • Figur 7(a) bis 7(c) qualitative Verläufe einer Einstechtiefe und von Änderungsraten einer Einstechtiefe gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung,
  • Figur 8 qualitative Verläufe von Prozessparametern des Laserbearbeitungssystems gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung, und
  • Figur 9(a) und 9(b) Messfleckpositionierungen für eine geometrische Charakterisierung gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung.
Embodiments of the disclosure are shown in the figures and are described in more detail below. Show it:
  • Figure 1 a laser processing system according to embodiments of the present invention,
  • Figure 2 a laser processing system according to further embodiments of the present invention,
  • Figure 3 a laser processing system according to further embodiments of the present invention,
  • Figure 4 a laser processing system according to further embodiments of the present invention,
  • Figure 5 a laser processing system according to further embodiments of the present invention,
  • Figures 6A and B schematic representation of the piercing process and the determination of a piercing depth according to examples that are not the subject of the invention,
  • Figures 7(a) to 7(c) qualitative curves of a puncture depth and of rates of change of a puncture depth according to embodiments of the present invention,
  • Figure 8 qualitative curves of process parameters of the laser processing system according to embodiments of the present invention, and
  • Figures 9(a) and 9(b) Measuring spot positioning for geometric characterization according to embodiments of the present invention.

Ausführungsformen der Erfindung Embodiments of the invention

Im Folgenden werden, sofern nicht anders vermerkt, für gleiche und gleichwirkende Elemente gleiche Bezugszeichen verwendet.In the following, unless otherwise noted, the same reference numerals are used for elements that are the same and have the same effect.

Figur 1 zeigt eine schematische Darstellung eines Laserbearbeitungssystems 100 gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. Das Laserbearbeitungssystem 100 kann einen Laserschneidkopf 101 umfassen. Figure 1 shows a schematic representation of a laser processing system 100 according to embodiments of the present invention. The laser processing system 100 may include a laser cutting head 101.

Das Laserbearbeitungssystem 100 umfasst eine Laservorrichtung 110 zum Bereitstellen eines Laserstrahls 10 (auch als "Bearbeitungsstrahl" oder "Bearbeitungslaserstrahl" bezeichnet) und die Vorrichtung gemäß den hier beschriebenen Ausführungsformen. Die Vorrichtung umfasst eine optische Messeinrichtung 200, die eingerichtet ist, um während eines Einstechvorgangs unter Verwendung wenigstens eines optischen Messstrahls 13 eine Einstechtiefe eines mit dem Laserstrahl 10 in einem Werkstück 1 erzeugten Einstechlochs 2 zu bestimmen. Die Vorrichtung umfasst weiter eine Steuereinrichtung 300, die eingerichtet ist, um wenigstens einen Prozessparameter des Laserbearbeitungssystems 100 während des Einstechvorgangs basierend auf einer aktuell gemessenen Einstechtiefe einzustellen.The laser processing system 100 includes a laser device 110 for providing a laser beam 10 (also called a “processing beam” or “processing laser beam”) and the device according to the embodiments described here. The device comprises an optical measuring device 200, which is set up to determine a piercing depth of a piercing hole 2 created with the laser beam 10 in a workpiece 1 during a piercing process using at least one optical measuring beam 13. The device further comprises a control device 300, which is set up to adjust at least one process parameter of the laser processing system 100 during the piercing process based on a currently measured piercing depth.

Die Laservorrichtung 110, die durch eine Lasersteuervorrichtung 115 gesteuert werden kann, ist eingerichtet, um den Laserstrahl 10 auf einen Bearbeitungsbereich des Werkstücks 1 zu lenken. Die Laservorrichtung 110 kann eine Kollimatorlinse 120 zur Kollimation des Laserstrahls 10 aufweisen. Innerhalb des Laserschweißkopfes 101 wird der Laserstrahl 10 durch eine geeignete Optik, wie zum Beispiel ein Strahlumlenker 130, um etwa 90° in Richtung des Werkstücks 1 abgelenkt.The laser device 110, which can be controlled by a laser control device 115, is set up to direct the laser beam 10 onto a processing area of the workpiece 1. The laser device 110 may have a collimator lens 120 for collimating the laser beam 10. Within the laser welding head 101, the laser beam 10 is deflected by approximately 90° in the direction of the workpiece 1 by suitable optics, such as a beam deflector 130.

In einigen Ausführungsformen können der Laserstrahl 10 und der wenigstens eine optische Messstrahl 13 zumindest streckenweise koaxial sein, und können insbesondere zumindest streckenweise koaxial überlagert sein. Zum Beispiel können der Laserstrahl 10 und der wenigstens eine optische Messstrahl 13 durch den Strahlumlenker 130 im Wesentlichen koaxial durch die Schneidoptik in die Bearbeitungszone geführt werden. Die Zusammenführung des optischen Messstrahls 13 und des Laserstrahls 10 kann nach der Kollimator-Optik 210 und vor einer Fokussier-Optik 220 erfolgen. Vorzugsweise ist der Strahlumlenker 130 reflektierend für die Wellenlänge des Laserstrahls 10 und transmittierend für die Wellenlänge des wenigstens einen optischen Messstrahls 13.In some embodiments, the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13 can be coaxial at least in some areas, and in particular can be superimposed coaxially at least in some areas. For example, the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13 can be guided essentially coaxially through the cutting optics into the processing zone by the beam deflector 130. The combination of the optical measuring beam 13 and the laser beam 10 can take place after the collimator optics 210 and in front of a focusing optics 220. The beam deflector 130 is preferably reflective for the wavelength of the laser beam 10 and transmitting for the wavelength of the at least one optical measuring beam 13.

Die optische Messeinrichtung 200 kann ein Kohärenz-Interferometer bzw. einen Kohärenztomograph umfassen oder kann ein Kohärenz-Interferometer bzw. Kohärenztomograph sein. Der Kohärenztomograph umfasst typischerweise eine Kollimator-Optik 210, die eingerichtet ist, um den wenigsten einen optischen Messstrahl 13 zu kollimieren, und die Fokussier-Optik 220, die eingerichtet ist, um den wenigstens einen optischen Messstrahl 13 auf das Werkstück 1 zu fokussieren. Die Fokussier-Optik 220 kann eine gemeinsame Fokussier-Optik, wie beispielsweise eine Fokuslinse, für den Laserstrahl 10 und den wenigstens einen optischen Messstrahl 13 sein.The optical measuring device 200 can comprise a coherence interferometer or a coherence tomograph or can be a coherence interferometer or a coherence tomograph. The coherence tomograph typically includes a collimator optics 210, which is set up to collimate the at least one optical measuring beam 13, and the focusing optics 220, which is set up to focus the at least one optical measuring beam 13 onto the workpiece 1. The focusing optics 220 can be a common focusing optics, such as a focus lens, for the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13.

In typischen Ausführungsformen sind die Kollimator-Optik 210 und die Fokussier-Optik 220 in den Schneidkopf 101 integriert. Beispielsweise kann der Schneidkopf 101 ein Kollimatormodul umfassen, das in den Schneidkopf 101 integriert oder am Schneidkopf 101 montiert ist.In typical embodiments, the collimator optics 210 and the focusing optics 220 are integrated into the cutting head 101. For example, the cutting head 101 may include a collimator module that is integrated into the cutting head 101 or mounted on the cutting head 101.

Das hier beschriebene Prinzip zur Messung der Einstechtiefe kann auf dem Prinzip der optischen Kohärenztomographie basieren, die sich unter Zuhilfenahme eines Interferometers die Kohärenzeigenschaften von Licht zunutze macht. Der Kohärenztomograph kann eine Auswerteeinheit 240 mit einer breitbandigen Lichtquelle (z.B. einer Superlumineszenzdiode, SLD) umfassen, die das Messlicht in einen Lichtwellenleiter 242 koppelt. In einem Strahlteiler 244, der vorzugsweise einen Faserkoppler aufweist, wird das Messlicht in einen Referenzarm 246 und einen Messarm aufgespalten, der über einen Lichtwellenleiter 248 in den Schneidkopf 101 führt.The principle described here for measuring the penetration depth can be based on the principle of optical coherence tomography, which makes use of the coherence properties of light with the aid of an interferometer. The coherence tomograph can include an evaluation unit 240 with a broadband light source (e.g. a superluminescent diode, SLD), which couples the measuring light into an optical waveguide 242. In a beam splitter 244, which preferably has a fiber coupler, the measuring light is split into a reference arm 246 and a measuring arm, which leads into the cutting head 101 via an optical waveguide 248.

Die Kollimator-Optik 210 dient dazu, das aus dem Lichtwellenleiter 248 austretende Messlicht (optischer Messstrahl 13) zu kollimieren. Gemäß einigen Ausführungsformen kann der wenigstens eine optische Messstrahl 13 im Schneidkopf 101 mit dem Laserstrahl 10 koaxial überlagert werden kann. Anschließend können der Laserstrahl 10 und der wenigstens eine optische Messstrahl 13 durch die Fokussier-Optik 220, die eine gemeinsame Linse oder Fokussierlinse sein kann, auf das Werkstück 1 fokussiert werden.The collimator optics 210 serves to collimate the measuring light (optical measuring beam 13) emerging from the optical waveguide 248. According to some embodiments, the at least one optical measuring beam 13 in the cutting head 101 can be coaxially superimposed on the laser beam 10. Subsequently, the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13 can be focused on the workpiece 1 by the focusing optics 220, which can be a common lens or focusing lens.

Der wenigstens eine optische Messstrahl 13 kann in das Einstechloch im Werkstück 1 gelenkt werden. Das aus dem Einstechloch, und insbesondere vom Boden des Einstechlochs zurückreflektierte Messlicht wird durch die Fokussier-Optik 220 auf die Austritts-/Eintrittsfläche des Lichtwellenleiters 248 abgebildet, im Faserkoppler 244 mit dem zurückreflektierten Licht aus dem Referenzarm 246 überlagert und anschließend zurück in die Auswerteeinheit 240 gelenkt. Das überlagerte Licht enthält Informationen über den Weglängenunterschied zwischen dem Referenzarm 246 und dem Messarm. Diese Informationen werden in der Auswerteeinheit 240 basierend auf Kohärenz-Interferometrie bzw. Kurzkohärenz-Interferometrie ausgewertet, wodurch der Benutzer Informationen über den Abstand zwischen dem Boden des Einstechlochs und einer Referenz, beispielsweise dem Schneidkopf 101, erhält. Die Bestimmung der Einstechtiefe ist später unter Bezugnahme auf die Figuren 6A und B näher erläutert.The at least one optical measuring beam 13 can be directed into the piercing hole in the workpiece 1. The measuring light reflected back from the puncture hole, and in particular from the bottom of the puncture hole, is imaged by the focusing optics 220 onto the exit/entrance surface of the optical waveguide 248, superimposed in the fiber coupler 244 with the back-reflected light from the reference arm 246 and then back into the evaluation unit 240 directed. The superimposed light contains information about the path length difference between the reference arm 246 and the measuring arm. This information is evaluated in the evaluation unit 240 based on coherence interferometry or short coherence interferometry, whereby the User receives information about the distance between the bottom of the piercing hole and a reference, for example the cutting head 101. The determination of the penetration depth is later with reference to Figures 6A and B explained in more detail.

Um die gesamte Einstechtiefe, insbesondere im dicken Materialbereich, inline, d.h. in Echtzeit, messen zu können, ist in einigen Ausführungsformen ein Nachführen des Messbereichs des Interferometers während des Einstechprozesses vorgesehen. Hierfür kann beispielsweise die Länge des Referenzarms 246 dynamisch verfahren bzw. verstellt werden. Alternativ kann der Referenzarm 246 mehrere Referenzstufen umfassen, die den verschiedenen Messbereichen entsprechen.In order to be able to measure the entire penetration depth, especially in the thick material area, inline, i.e. in real time, in some embodiments the measuring range of the interferometer is tracked during the penetration process. For this purpose, for example, the length of the reference arm 246 can be moved or adjusted dynamically. Alternatively, the reference arm 246 may include multiple reference levels corresponding to the different measurement ranges.

Das Laserbearbeitungssystem 100 kann für den Laserstrahl 10 und/oder für den wenigstens einen optischen Messstrahl 13 zumindest ein optisches Element umfassen, das eingerichtet ist, um die Fokuslage des Laserstrahls 10 bzw. des wenigstens einen optischen Messstrahls 13 einzustellen. Das zumindest eine optische Element kann im divergierenden Bereich des jeweiligen Strahls entlang der optischen Achsen verschiebbar sein, um die Fokuslagen zu verändern. In der Figur 1 sind beispielhaft die Kollimatorlinse 120 und die Kollimator-Optik 210 entlang der jeweiligen optischen Achse verschiebbar dargestellt. Hier können die Fokuslagen des Laserstrahls 10 und des wenigstens einen optischen Messstrahls 13 gemeinsam oder unabhängig voneinander verändert werden.The laser processing system 100 can comprise at least one optical element for the laser beam 10 and/or for the at least one optical measuring beam 13, which is set up to adjust the focus position of the laser beam 10 or the at least one optical measuring beam 13. The at least one optical element can be displaceable along the optical axes in the diverging region of the respective beam in order to change the focus positions. In the Figure 1 For example, the collimator lens 120 and the collimator optics 210 are shown as being displaceable along the respective optical axis. Here, the focus positions of the laser beam 10 and the at least one optical measuring beam 13 can be changed together or independently of one another.

Die Verstellung/Verschiebung der optischen Elemente bezüglich der optischen Achse zur Fokuslagenänderung beider Strahlen kann motorisch, manuell oder durch eine Kombination aus motorisch und manuell erfolgen. Beispielsweise kann die Fokuslage des Laserstrahls 10 motorisch verstellbar und die Fokuslage des wenigstens einen optischen Messstrahls 13 manuell verstellbar sein.The adjustment/displacement of the optical elements with respect to the optical axis to change the focus position of both beams can be done by motor, manually or by a combination of motor and manual. For example, the focus position of the laser beam 10 can be adjusted by motor and the focus position of the at least one optical measuring beam 13 can be adjusted manually.

Die Steuereinrichtung 300 ist eingerichtet, um wenigstens einen Prozessparameter des Laserbearbeitungssystems 100 während des Einstechvorgangs basierend auf einer durch die optische Messeinrichtung 200 aktuell gemessenen Einstechtiefe einzustellen. Die Steuereinrichtung 300 kann mit zumindest einem von der Laservorrichtung, der Laseroptik, der Laserquelle und dem Messsystem kommunizieren, um den Einstechprozess Regeln zu können. Die Steuereinrichtung 300 kann zum Beispiel mit der Lasersteuervorrichtung 115 verbunden sein, um einen Pulsparameter und/oder eine Laserleistung der Laservorrichtung 110 einzustellen. Ergänzend oder alternativ kann die Steuereinrichtung 300 mit einer Laseroptik des Bearbeitungskopfs 101 verbunden sein, um beispielsweise eine Fokuslage und/oder einen Fokusdurchmesser des Laserstrahls 10 einzustellen. Insbesondere kann die Steuereinrichtung 300 Steuerbefehle für ein Verschieben der Kollimatorlinse 120 und/oder der Kollimator-Optik 210 entlang der jeweiligen optischen Achse ausgeben.The control device 300 is set up to adjust at least one process parameter of the laser processing system 100 during the piercing process based on a piercing depth currently measured by the optical measuring device 200. The control device 300 can communicate with at least one of the laser device, the laser optics, the laser source and the measuring system in order to be able to regulate the piercing process. The control device 300 can, for example, with the Laser control device 115 may be connected to set a pulse parameter and / or a laser power of the laser device 110. Additionally or alternatively, the control device 300 can be connected to laser optics of the processing head 101, for example to set a focus position and/or a focus diameter of the laser beam 10. In particular, the control device 300 can issue control commands for moving the collimator lens 120 and/or the collimator optics 210 along the respective optical axis.

Das Laserbearbeitungssystem 100 oder Teile davon, wie beispielsweise der Schneidkopf 101, kann gemäß Ausführungsformen entlang einer Bearbeitungsrichtung 20 bewegbar sein. Die Bearbeitungsrichtung 20 kann eine Schneidrichtung bezüglich des Werkstücks 1 sein. Insbesondere kann die Bearbeitungsrichtung 20 eine horizontale Richtung sein. Die Bearbeitungsrichtung 20 kann auch als "Vorschubrichtung" bezeichnet werden.The laser processing system 100 or parts thereof, such as the cutting head 101, can be movable along a processing direction 20 according to embodiments. The processing direction 20 can be a cutting direction with respect to the workpiece 1. In particular, the processing direction 20 can be a horizontal direction. The processing direction 20 can also be referred to as the “feed direction”.

Das Laserbearbeitungssystem 100, und insbesondere der Schneidkopf 101, kann während des Einstechprozesses nicht entlang der Bearbeitungsrichtung 20 bewegt werden. Anders gesagt kann das Laserbearbeitungssystem 100, und insbesondere der Schneidkopf 101, in einer x-y-Ebene am selben Ort verbleiben. Es kann jedoch während des Einstechprozesses eine Bewegung des Schneidkopfes 101 in die (z.B. vertikale) z-Richtung erfolgen, um einen Düsenabstand zwischen einer Düse des Laserbearbeitungssystems (nicht gezeigt) und der Oberfläche 3 des Werkstücks 1 einzustellen. Figur 2 zeigt ein Laserbearbeitungssystem gemäß weiteren Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. Das Laserbearbeitungssystem der Figur 2 ist ähnlich zum unter Bezugnahme auf die Figur 1 beschriebenen Laserbearbeitungssystem und eine Beschreibung von ähnlichen oder identischen Elementen wird nicht wiederholt. Im Beispiel der Figur 2 ist das zumindest eine optisches Element, das eingerichtet ist, um die Fokuslage des Laserstrahls 10 bzw. des wenigstens einen optischen Messstrahls 13 einzustellen, die Fokussier-Optik 220. Insbesondere kann das zumindest eine optische Element im kollimierten Bereich der überlagerten Strahlen entlang der optischen Achse verschiebbar sein. Somit kann die Fokuslage beider Strahlen gleichzeitig verändert werden.The laser processing system 100, and in particular the cutting head 101, cannot be moved along the processing direction 20 during the piercing process. In other words, the laser processing system 100, and in particular the cutting head 101, can remain in the same location in an xy plane. However, during the piercing process, the cutting head 101 can be moved in the (eg vertical) z direction in order to set a nozzle distance between a nozzle of the laser processing system (not shown) and the surface 3 of the workpiece 1. Figure 2 shows a laser processing system according to further embodiments of the present invention. The laser processing system Figure 2 is similar to referring to the Figure 1 Laser processing system described and a description of similar or identical elements will not be repeated. In the example of Figure 2 is the at least one optical element that is set up to adjust the focus position of the laser beam 10 or the at least one optical measuring beam 13, the focusing optics 220. In particular, the at least one optical element can be in the collimated area of the superimposed beams along the optical axis be movable. This means that the focus position of both beams can be changed at the same time.

Figur 3 zeigt ein Laserbearbeitungssystem gemäß weiteren Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. Das Laserbearbeitungssystem der Figur 3 ist ähnlich zum unter Bezugnahme auf die Figur 1 beschriebenen Laserbearbeitungssystem und eine Beschreibung von ähnlichen oder identischen Elementen wird nicht wiederholt. Im Beispiel der Figur 3 umfasst das zumindest eine optisches Element, das eingerichtet ist, um die Fokuslage des Laserstrahls 10 bzw. des wenigstens einen optischen Messstrahls 13 einzustellen, die Kollimator-Optik 210 und die Fokussier-Optik 220. Insbesondere kann zumindest ein verschiebbares optisches Element im divergierenden Bereich des wenigstens einen Messstrahls 13 und zumindest ein weiteres verschiebbares optisches Element im kollimierten Bereich beider Strahlen vorhanden sein. Dadurch können die Fokuslagen der Strahlen unabhängig voneinander verändert werden. Figur 4 zeigt ein Laserbearbeitungssystem gemäß weiteren Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. Das Laserbearbeitungssystem der Figur 4 ist ähnlich zum unter Bezugnahme auf die Figur 1 beschriebenen Laserbearbeitungssystem und eine Beschreibung von ähnlichen oder identischen Elementen wird nicht wiederholt. Figure 3 shows a laser processing system according to further embodiments of the present invention. The laser processing system Figure 3 is similar to referring to the Figure 1 Laser processing system described and a description of similar or identical elements will not be repeated. In the example of Figure 3 This includes at least one optical element, which is set up to adjust the focus position of the laser beam 10 or the at least one optical measuring beam 13, the collimator optics 210 and the focusing optics 220. In particular, at least one displaceable optical element can be in the diverging area of the at least one measuring beam 13 and at least one further displaceable optical element can be present in the collimated area of both beams. This allows the focus positions of the beams to be changed independently of each other. Figure 4 shows a laser processing system according to further embodiments of the present invention. The laser processing system Figure 4 is similar to referring to the Figure 1 Laser processing system described and a description of similar or identical elements will not be repeated.

In Beispiel der Figur 4 ist der Laserstrahl 10 koaxial zur Schneidoptik und der wenigstens eine optische Messstrahl 13 wird seitlich eingekoppelt. Zum Beispiel kann der Strahlumlenker 130 transmittierend für den Laserstrahl 10 und reflektierend für den wenigstens einen optischen Messstrahl 13 sein. Auch in diesem Fall sind alle vorher beschriebenen Kombinationen zur Fokuslagenänderung möglich.In example the Figure 4 the laser beam 10 is coaxial to the cutting optics and the at least one optical measuring beam 13 is coupled in laterally. For example, the beam deflector 130 can be transmissive for the laser beam 10 and reflective for the at least one optical measuring beam 13. In this case too, all of the previously described combinations for changing the focus position are possible.

Figur 5 zeigt ein Laserbearbeitungssystem gemäß weiteren Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. Das Laserbearbeitungssystem der Figur 5 ist ähnlich zum unter Bezugnahme auf die Figur 1 beschriebenen Laserbearbeitungssystem und eine Beschreibung von ähnlichen oder identischen Elementen wird nicht wiederholt. Figure 5 shows a laser processing system according to further embodiments of the present invention. The laser processing system Figure 5 is similar to referring to the Figure 1 Laser processing system described and a description of similar or identical elements will not be repeated.

Das Laserbearbeitungssystem bzw. die Vorrichtung weist zusätzlich ein Ablenksystem 500 im Messstrahlengang auf, das eingerichtet ist, um mit dem wenigstens einen optischen Messstrahl 13 einen Bereich der Werkstückoberfläche abzutasten. Der Bereich der Werkstückoberfläche kann die Einstechposition bzw. die Bearbeitungsposition, auf die der Laserstrahl gerichtet ist, sowie einen diese Position umgebenden Bereich umfassen. Somit kann der wenigstens eine optische Messstrahl 13 dynamisch und unabhängig vom Laserstrahl 10 auf dem Werkstück 1 positioniert werden. Das Ablenksystem 500 kann beispielsweise zumindest einen reflektierenden, um mindestens eine Achse beweglichen Spiegel 510 aufweisen. Der Spiegel 510 ist vorzugsweise um zwei aufeinander senkrecht stehende Achsen beweglich. Das Ablenksystem 500 kann insbesondere ein Scanner-System sein. In Figur 5 sind zwei bewegliche Spiegel 510 dargestellt, die um zwei verschiedene aufeinander senkrecht stehende Achsen X, Y drehbar sind, um den Messfleck beliebig in einer Ebene (X-Y) zu positionieren, wie es beispielsweise in Figur 9 dargestellt ist. Für die dynamische Messfleckpositionierung sind weitere Ausführungsformen, die beispielsweise transmittierende optische Elemente umfassen oder ein Verschieben des Faserendes des Messstrahls beinhalten, möglich.The laser processing system or the device additionally has a deflection system 500 in the measuring beam path, which is set up to scan an area of the workpiece surface with the at least one optical measuring beam 13. The area of the workpiece surface can include the piercing position or the processing position to which the laser beam is directed, as well as an area surrounding this position. The at least one optical measuring beam 13 can thus be dynamic and be positioned on the workpiece 1 independently of the laser beam 10. The deflection system 500 can, for example, have at least one reflecting mirror 510 that is movable about at least one axis. The mirror 510 is preferably movable about two mutually perpendicular axes. The deflection system 500 can in particular be a scanner system. In Figure 5 Two movable mirrors 510 are shown, which can be rotated about two different mutually perpendicular axes Figure 9 is shown. For dynamic measuring spot positioning, further embodiments are possible, which include, for example, transmitting optical elements or involve moving the fiber end of the measuring beam.

Figuren 6A und B zeigen die Bestimmung einer Einstechtiefe s(t) gemäß einem Beispiel, das nicht Gegenstand der Erfindung ist. Figures 6A and B show the determination of a penetration depth s(t) according to an example that is not the subject of the invention.

Die aktuelle Einstechtiefe s(t) kann unter Verwendung des wenigstens einen optischen Messstrahls 13 auf verschiedene Weisen bestimmt werden. Im Folgenden werden drei Optionen diskutiert. Die vorliegende Offenbarung ist jedoch nicht hierauf begrenzt und es können andere geeignete Methoden zur Bestimmung einer Einstechtiefe s(t) verwendet werden.The current penetration depth s(t) can be determined in various ways using the at least one optical measuring beam 13. Three options are discussed below. However, the present disclosure is not limited to this and other suitable methods for determining a penetration depth s(t) may be used.

In einer ersten Option, unter Bezugnahme auf die Figur 6A, ist der Düsenabstand d(t) zwischen einer Düse 103 des Laserbearbeitungssystems und einer Oberfläche 3 des Werkstücks im Wesentlichen konstant (d(t)=const.). Die aktuelle Einstechtiefe kann basierend auf einem vor dem Beginn des Einstechvorgangs ermittelten Anfangsmesswert und einem aktuellen Messwert bestimmt werden. Zum Beispiel erfolgt vor dem Beginn des Einstechens eine Kalibriermessung (z.B. eine Abstandsmessung mit dem Interferometer). Alternativ kann der Anfangsmesswert basierend auf einem Stellwert für die Anfangsposition des Laserbearbeitungskopfes ermittelt oder von einer Steuereinheit übermittelt werden. Aus dem Messsignal, das auf einem Reflex des optischen Messstrahls basieren kann, kann die optische Messeinrichtung 200 oder die Steuereinrichtung 300 einen Messwert entsprechend einem Abstand der Düse 103 zu einem Boden des Einstechlochs ermitteln. Mit dem Anfangsmesswert und dem Messsignal an der Position des Einstechlochs kann daher die aktuelle Einstechtiefe s(t) während des Einstechens ermittelt werden.In a first option, with reference to the Figure 6A , the nozzle distance d(t) between a nozzle 103 of the laser processing system and a surface 3 of the workpiece is essentially constant ( d(t) = const .). The current piercing depth can be determined based on an initial measurement value determined before the start of the piercing process and a current measurement value. For example, before piercing begins, a calibration measurement is carried out (e.g. a distance measurement with the interferometer). Alternatively, the initial measurement value can be determined based on a control value for the initial position of the laser processing head or transmitted by a control unit. From the measurement signal, which can be based on a reflection of the optical measuring beam, the optical measuring device 200 or the control device 300 can determine a measured value corresponding to a distance between the nozzle 103 and a bottom of the puncture hole. With the initial measurement value and the measurement signal at the position of the piercing hole, the current piercing depth s(t) can be determined during piercing.

In einer zweiten Option, wieder unter Bezugnahme auf die Figur 6A, ändert sich der Düsenabstand d(t) zwischen der Düse 103 des Laserbearbeitungssystems und der Oberfläche 3 des Werkstücks während des Einstechprozesses (d(t)≠const.). Anders gesagt ist der Düsenabstand d(t) variabel. Zusätzlich zum optischen Messsystem kann eine Abstandssensoreinheit verwendet werden, die den Abstand zwischen der Düse 103 und der Werkstückoberseite 3, z.B. kapazitiv, induktiv oder optisch, misst. Beide Messsignale, also das Düsenabstandsignal der Abstandssensoreinheit und das Messsignal des optischen Messsystems 200, werden an die übergeordnete Steuereinheit 300 kommuniziert, die wiederum die aktuelle Einstechtiefe mathematisch ermitteln kann. In einer dritten Option, unter Bezugnahme auf die Figur 6B, ändert sich ebenfalls der Düsenabstand d(t) zwischen der Düse 103 des Laserbearbeitungssystems und der Oberfläche 3 des Werkstücks während des Einstechprozesses (d(t)≠const.). Der wenigstens eine Messstrahl umfasst einen ersten Messstrahl 13a und einen zweiten Messstrahl 13b. Zum Beispiel kann ein anfänglicher Messstrahl im Messarm mit Hilfe zumindest eines optischen Elements in zwei Teilstrahlen geteilt werden. Der erste Teilstrahl 13a wird auf den Einstechgrund bzw. den Boden des Einstechlochs gerichtet. Der zweite Teilstrahl 13b ist als Referenzwert beispielsweise auf die Werkstückoberfläche 3 gerichtet. Beide Teilstrahlen 13a und 13b werden miteinander und/oder mit einem Strahl aus einem Referenzarm überlagert. Die Teilstrahlen 13a und 13b können geneigt zueinander auf das Werkstück treffen, wie in Figur 6B gezeigt, oder parallel und beabstandet zueinander. Alternativ kann der optische Messstrahl einen so großen Durchmesser aufweisen, dass der Messstrahl sowohl auf die Werkstückoberfläche 3 als auch auf den Einstechgrund gerichtet werden kann. Aus beiden Messsignalen von der Werkstückoberfläche 3 und dem Einstechgrund kann wiederum die absolute aktuelle Einstechtiefe s(t) ermittelt werden.In a second option, again referring to the Figure 6A , the nozzle distance d(t) between the nozzle 103 of the laser processing system and the surface 3 of the workpiece changes during the piercing process ( d(t)≠const. ) . In other words, the nozzle distance d(t) is variable. In addition to the optical measuring system, a distance sensor unit can be used which measures the distance between the nozzle 103 and the workpiece top 3, for example capacitively, inductively or optically. Both measurement signals, i.e. the nozzle distance signal from the distance sensor unit and the measurement signal from the optical measuring system 200, are communicated to the higher-level control unit 300, which in turn can mathematically determine the current penetration depth. In a third option, with reference to the Figure 6B , the nozzle distance d(t) between the nozzle 103 of the laser processing system and the surface 3 of the workpiece also changes during the piercing process ( d(t)≠const. ) . The at least one measuring beam includes a first measuring beam 13a and a second measuring beam 13b. For example, an initial measuring beam in the measuring arm can be divided into two partial beams using at least one optical element. The first partial beam 13a is directed onto the puncture base or the bottom of the puncture hole. The second partial beam 13b is directed, for example, at the workpiece surface 3 as a reference value. Both partial beams 13a and 13b are superimposed on each other and/or with a beam from a reference arm. The partial beams 13a and 13b can hit the workpiece at an angle to each other, as in Figure 6B shown, or parallel and spaced apart from each other. Alternatively, the optical measuring beam can have such a large diameter that the measuring beam can be directed both onto the workpiece surface 3 and onto the piercing base. The absolute current piercing depth s(t) can in turn be determined from both measurement signals from the workpiece surface 3 and the piercing base.

Figur 7 zeigt eine Einstechtiefe s(t) und Änderungsraten ds/dt einer Einstechtiefe s(t) gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. Figure 7 shows a piercing depth s(t) and rates of change ds / dt of a piercing depth s(t) according to embodiments of the present invention.

In Figur 7(a) ist die Einstechtiefe s(t) als Funktion der Zeit t dargestellt. Beim Erreichen einer bestimmten Einstechtiefe s(t) erfolgt der Durchstich. Der Durchstich kann beispielsweise daran erkannt werden, dass kein Messsignal bzw. kein Reflex des Messstrahls mehr erhalten wird. Aus der Einstechtiefe s(t) beim Durchstich kann zum Beispiel die Dicke bzw. Materialstärke des Werkstücks abgeleitet werden. Insbesondere kann die Einstechtiefe s(t) beim Durchstich der Dicke bzw. Materialstärke des Werkstücks entsprechen. Nach dem Erkennen des Durchstechens kann ein Laserschneidvorgang, etwa ein Konturschnitt, am Werkstück durchgeführt werden.In Figure 7(a) the penetration depth s(t) is shown as a function of time t . When a certain penetration depth s(t) is reached, the piercing takes place. The puncture can be recognized, for example, by the fact that no measurement signal or reflection of the measurement beam is no longer received. From the penetration depth s(t) when piercing can be: For example, the thickness or material thickness of the workpiece can be derived. In particular, the piercing depth s(t) can correspond to the thickness or material thickness of the workpiece when piercing. After the piercing has been detected, a laser cutting process, such as a contour cut, can be carried out on the workpiece.

In Figur 7(b) ist eine Änderungsrate ds/dt der Einstechtiefe s(t) als Funktion der Zeit t dargestellt. Wenn der Durchstich erfolgt, fällt die Änderungsrate ds/dt auf Null ab oder ist nicht mehr bestimmbar. Dies ist beispielsweise der Fall, wenn die optische Messeinrichtung keinen vom Einstechgrund reflektierten Messtrahl mehr empfängt, woraus der Durchstich erkannt werden kann.In Figure 7(b) a rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) is shown as a function of time t . When the puncture occurs, the rate of change ds / dt drops to zero or is no longer determinable. This is the case, for example, if the optical measuring device no longer receives a measuring beam reflected from the puncture base, from which the puncture can be recognized.

In Figur 7(c) ist eine Änderungsrate ds/dt der Einstechtiefe s(t) als Funktion der Zeit t dargestellt. Ab einem vorgegebenen Schwellwert ist eine Materialdurchdringung mit den aktuellen Prozessparametern nicht möglich. Wird dieser Schwellwert während des Einstechens erreicht oder unterschritten, kann der Einstechprozess abgebrochen und/oder eine Fehlermeldung an den Bediener ausgegeben werden.In Figure 7(c) a rate of change ds / dt of the piercing depth s(t) is shown as a function of time t . Above a specified threshold value, material penetration is not possible with the current process parameters. If this threshold value is reached or fallen short of during piercing, the piercing process can be aborted and/or an error message can be issued to the operator.

Figur 8 zeigt Prozessparameter des Laserbearbeitungssystems gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. Figure 8 shows process parameters of the laser processing system according to embodiments of the present invention.

Gemäß der vorliegenden Offenbarung ist zu jedem Zeitpunkt t die aktuelle Einstechtiefe s(t) bekannt. Basierend auf der aktuellen Einstechtiefe s(t) wird wenigstens ein Prozessparameter des Einstechvorgangs inline geregelt. In Figur 8 sind qualitative Verläufe unterschiedlicher Prozessparameter in Abhängigkeit der aktuellen Einstechtiefe s(t) dargestellt.According to the present disclosure, the current penetration depth s(t) is known at every time t . Based on the current piercing depth s(t), at least one process parameter of the piercing process is controlled inline. In Figure 8 qualitative curves of different process parameters are shown depending on the current piercing depth s(t) .

Der wenigstens eine Prozessparameter des Laserbearbeitungssystems kann zum Beispiel aus der Gruppe ausgewählt sein, die wenigstens einen Pulsparameter, eine Laserleistung, eine Fokuslage des Laserstrahls, einen Fokusdurchmesser des Laserstrahls, eine Prozessgaszusammensetzung, einen Prozessgasdruck und einen Düsenabstand zwischen einer Düse des Laserbearbeitungssystems und einer Oberfläche des Werkstücks umfasst.The at least one process parameter of the laser processing system can, for example, be selected from the group that includes at least one pulse parameter, a laser power, a focus position of the laser beam, a focus diameter of the laser beam, a process gas composition, a process gas pressure and a nozzle distance between a nozzle of the laser processing system and a surface of the Workpiece includes.

Es können ein, zwei oder mehr Prozessparameter während des Einstechvorgangs eingestellt werden. Die Parameterverläufe können diskreter, kontinuierlicher oder gemischter Art sein. Die Parameterverläufe können mit zunehmender Einstechtiefe steigen oder sinken. Im Beispiel der Figur 8 ändert sich der Prozessparameter 1 diskret, der Prozessparameter 2 kontinuierlich und der Prozessparameter 3 kombiniert diskret und kontinuierlich. Das Einstellen der Prozessparameter kann ebenfalls diskret, kontinuierlich oder teils diskret und teils kontinuierlich erfolgen.One, two or more process parameters can be set during the piercing process. The parameter curves can be more discrete, more continuous or be of mixed nature. The parameter curves can increase or decrease as the penetration depth increases. In the example of Figure 8 process parameter 1 changes discretely, process parameter 2 changes continuously and process parameter 3 combines discrete and continuous. The process parameters can also be set discretely, continuously or partly discretely and partly continuously.

Bezüglich des beispielhaften Prozessparameters 1 können für die Einstechtiefe s(t) und die Änderungsrate mehrere Wertebereiche festgelegt werden, wobei jedem der mehreren Wertebereiche ein jeweiliger diskreter Prozessparameter zugeordnet ist.With regard to the exemplary process parameter 1, several value ranges can be defined for the piercing depth s(t) and the rate of change, with each of the several value ranges being assigned a respective discrete process parameter.

Bezüglich des beispielhaften Prozessparameters 2 wird dieser kontinuierlich in Abhängigkeit der aktuellen Einstechtiefe und der Änderungsrate eingestellt. Beispielsweise kann der Prozessparameter mit zunehmender Einstechtiefe kontinuierlich steigen oder sinken.Regarding the exemplary process parameter 2, this is adjusted continuously depending on the current piercing depth and the rate of change. For example, the process parameter can continuously increase or decrease as the penetration depth increases.

Bezüglich des beispielhaften Prozessparameters 3 erfolgt über die Dauer des Einstechprozesses eine kombinierte diskrete und kontinuierliche Einstellung. Zum Beispiel kann für wenigstens einen ersten Wertebereich der Einstechtiefe und der Änderungsrate eine diskrete Einstellung und für wenigstens einen zweiten Wertebereich der Einstechtiefe und der Änderungsrate, der vom wenigstens einen ersten Wertebereich verschieden ist, eine kontinuierliche Einstellung erfolgen.With regard to the exemplary process parameter 3, a combined discrete and continuous setting takes place over the duration of the piercing process. For example, a discrete adjustment can be made for at least a first value range of the penetration depth and the rate of change and a continuous adjustment can be made for at least a second value range of the penetration depth and the rate of change, which is different from the at least one first value range.

Figur 9 zeigt Messfleckpositionierungen für eine geometrische Charakterisierung gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung. In Figur 9(a) ist eine dynamische 2D-Messfleckpositionierung "In-Prozess" (links) und "Post-Prozess" (rechts) gezeigt. In Figur 9(b) ist eine 1D-Messfleckpositionierung (links) und 2D-Messfleckpositionierung/Kreuzscan (rechts) gezeigt. "Messfleck" bezeichnet hier den Punkt des Messstrahls auf dem Werkstück 2, an der der Messstrahl reflektiert wird, um ein Messsignal zu erhalten. Figure 9 shows measurement spot positioning for geometric characterization according to embodiments of the present invention. In Figure 9(a) A dynamic 2D measuring spot positioning "in-process" (left) and "post-process" (right) is shown. In Figure 9(b) 1D measuring spot positioning (left) and 2D measuring spot positioning/cross scan (right) are shown. “Measuring spot” here refers to the point of the measuring beam on the workpiece 2, at which the measuring beam is reflected in order to obtain a measuring signal.

In einigen Ausführungsformen erfolgt eine geometrische Charakterisierung oder Topographiemessung des Einstechlochs, die zum Beispiel den Durchmesser des Einstechlochs und Materialanhaftungen bzw. -aufwürfe 5 des Einstechprozesses auf der Eintrittsseite widerspiegelt. Hierfür werden von der optischen Messeinrichtung Messwerte, d.h. Höhendaten, an der Position des Einstechlochs und in einem dieses umgebenden Bereich ermittelt. Die geometrische Charakterisierung kann während ("In-Prozess" oder "Inline") oder nach ("Post-Prozess") dem Einstechprozess erfolgen, wie es im Beispiel der Figur 9(a) dargestellt ist. Hierfür kann eine dynamische Messfleckpositionierung, z.B. ein Abtasten der Werkstückoberfläche 3 mittels des Messstrahls in mindestens einer Richtung, vorzugsweise in zwei aufeinander senkrecht stehende Richtungen X und Y, verwendet werden.In some embodiments, a geometric characterization or topography measurement of the puncture hole is carried out, which, for example, reflects the diameter of the puncture hole and material adhesions or build-ups 5 of the puncture process on the entry side. For this purpose, the optical measuring device Measured values, ie height data, are determined at the position of the puncture hole and in an area surrounding it. The geometric characterization can take place during (“in-process” or “inline”) or after (“post-process”) the piercing process, as in the example of Figure 9(a) is shown. For this purpose, dynamic measuring spot positioning, for example scanning the workpiece surface 3 using the measuring beam in at least one direction, preferably in two mutually perpendicular directions X and Y, can be used.

Für die Messfleckpositionierung kann der Messfleck 13 durch eine Ablenkeinheit, wie sie beispielhaft in der Figur 5 gezeigt ist, In-Prozess verschoben bzw. positioniert werden. Die Ablenkeinheit kann hierfür mindestens einen Spiegel umfassen, der um mindestens eine Achse senkrecht zur Strahlachse des Messstrahls beweglich bzw. schwenkbar ist. In einem anderen Beispiel kann der Messfleck 13 durch horizontales Verfahren der Laserbearbeitungsoptik in der X-Y-Ebene relativ zum Werkstück und/oder durch horizontales Verfahren des Werkstücks in der X-Y-Ebene relativ zur Laserbearbeitungsoptik nach dem Einstechprozess (Post-Prozess) verschoben bzw. positioniert werden. Mit anderen Worten kann die Laserbearbeitungsoptik senkrecht zu einer optischen Achse der Optik bzw. senkrecht zur Strahlachse des Messstrahls verschoben werden, um mit dem Messstrahl bzw. Messfleck 13 die Werkstückoberfläche 3 abzutasten. Beispielsweise kann eine Kollimationsoptik im Strahlengang des Messstrahls verfahren werden, um den Messstrahl entsprechend zu verschieben.For the measuring spot positioning, the measuring spot 13 can be used by a deflection unit, as shown for example in the Figure 5 is shown, can be moved or positioned in-process. For this purpose, the deflection unit can comprise at least one mirror, which is movable or pivotable about at least one axis perpendicular to the beam axis of the measuring beam. In another example, the measuring spot 13 can be moved or positioned relative to the workpiece by horizontally moving the laser processing optics in the XY plane and/or by horizontally moving the workpiece in the XY plane relative to the laser processing optics after the piercing process (post-process). . In other words, the laser processing optics can be shifted perpendicular to an optical axis of the optics or perpendicular to the beam axis of the measuring beam in order to scan the workpiece surface 3 with the measuring beam or measuring spot 13. For example, collimation optics can be moved in the beam path of the measuring beam in order to move the measuring beam accordingly.

Bezugnehmend auf die Figur 9(b) wird der Messfleck 13 zur Charakterisierung des Einstechlochs 2 und optional des Materialaufwurfs 5 ausgehend von der Mitte des Einstechlochs 2 in zumindest einer Raumrichtung X senkrecht zur Strahlachse des Messstrahls oder parallel zur Werkstückoberfläche 3 positioniert (links in Figur 9(b)). Ein weiteres Beispiel ist ein Kreuzscan in zwei aufeinander senkrecht stehende Richtungen (X-Y-Richtung) ausgehend von der Mitte des Einstechlochs 2 (links in Figur 9(b)).Referring to the Figure 9(b) the measuring spot 13 is positioned to characterize the puncture hole 2 and optionally the material projection 5 starting from the center of the puncture hole 2 in at least one spatial direction X perpendicular to the beam axis of the measuring beam or parallel to the workpiece surface 3 (left in Figure 9(b) ). Another example is a cross scan in two mutually perpendicular directions (XY direction) starting from the center of the puncture hole 2 (left in Figure 9(b) ).

Bei beiden Optionen wird vorzugsweise eine entsprechend große Anzahl an Messpunkten verwendet, um eine ausreichende Auflösung der geometrischen (insbesondere der dreidimensionalen) Form des Einstechlochs und/oder der Materialanhaftungen und Materialaufwürfe 5 zu erzielen. Darüber hinaus sind weitere Abtaststrategien des Messflecks 13 möglich, wie zum Beispiel spiralförmig um den Mittelpunkt des Einstechlochs 2, in Form einer 8, etc.In both options, a correspondingly large number of measuring points is preferably used in order to achieve sufficient resolution of the geometric (in particular the three-dimensional) shape of the puncture hole and/or the material adhesions and material build-ups 5. In addition, further scanning strategies are available Measuring spot 13 possible, for example spirally around the center of the puncture hole 2, in the shape of an 8, etc.

Erfindungsgemäß wird eine optische Messeinrichtung, insbesondere ein Kurzkohärenz-Interferometer, zur zeitlichen Auflösung der Einstechtiefe beim Einstechprozess eingesetzt. Somit kann die Einstechtiefe zu jedem Zeitpunkt des Einstechvorgangs bekannt sein. Der wenigstens eine Prozessparameter des Laserbearbeitungssystems wird basierend auf der aktuellen Einstechtiefe gezielt eingestellt bzw. geregelt. Damit erfolgt eine Inline-Regelung des Einstechprozesses (und z.B. einer Durchsticherkennung), wodurch die Dauer des Einstechprozesses minimiert, die Qualität des Einstechlochs optimiert und/oder die Prozessstabilität maximiert werden kann. Beispielsweise kann die Qualität des Einstechlochs durch die Menge und die Ausprägung des Materialaufwurfs, der sich auf der Werkstückoberfläche ablagert, und/oder durch den Durchmesser des Einstechlochs entlang der Ausbreitungsrichtung bestimmt sein. Durch die Inline-Regelung können einer oder mehrere Prozessparameter derart eingestellt werden, dass die Menge und die Ausprägung des Materialaufwurfs und/oder der Durchmesser des Einstechlochs vorbestimmte Qualitätskriterien erfüllen.According to the invention, an optical measuring device, in particular a short coherence interferometer, is used for the temporal resolution of the piercing depth in the piercing process. The piercing depth can therefore be known at any time during the piercing process. The at least one process parameter of the laser processing system is specifically set or regulated based on the current piercing depth. This results in inline control of the piercing process (and e.g. puncture detection), whereby the duration of the piercing process can be minimized, the quality of the piercing hole can be optimized and/or process stability can be maximized. For example, the quality of the piercing hole can be determined by the amount and extent of the material deposited on the workpiece surface and/or by the diameter of the piercing hole along the direction of propagation. Through the inline control, one or more process parameters can be set in such a way that the amount and extent of the material throw-up and/or the diameter of the piercing hole meet predetermined quality criteria.

Claims (15)

  1. A method for laser machining a workpiece (1), in particular for laser cutting a workpiece (1), with a laser machining system (100), comprising:
    piercing a piercing hole (2) into the workpiece (1) with a laser beam (10);
    measuring a current piercing depth of the piercing hole (2) by at least one optical measuring beam (13) during the piercing operation; and
    adjusting at least one process parameter of the laser machining system (100) during the piercing operation based on the current piercing depth to control and/or regulate the piercing operation,
    characterised in that a rate of change of the piercing depth is determined and the at least one process parameter is adjusted based on the rate of change.
  2. The method according to claim 1, wherein the rate of change of the piercing depth is compared with a threshold value and, based on the comparison, it is determined whether piercing through the workpiece (1) is possible or not; and/or
    wherein the at least one process parameter is adjusted discretely, continuously, or combined discretely and continuously during the piercing operation.
  3. The method according to any one of the preceding claims, wherein the at least one process parameter of the laser machining system (100) comprises at least one of or is one of the following parameters:
    a pulse parameter, a pulse length, a pulse period duration, a pulse peak power, a laser power, a focus position of the laser beam (10), a focus diameter of the laser beam (10), a process gas composition, a process gas pressure, and a distance between a laser machining head (101) and a surface (3) of the workpiece (1).
  4. The method according to any one of the preceding claims, wherein the piercing depth is determined based on a reflection of the optical measuring beam (13) from a piercing bottom of the piercing hole (2), and wherein a piercing through of the laser beam (10) through the workpiece (1) is detected based on that no reflection from the piercing bottom is obtained any longer, and wherein after detecting the piercing through, a laser machining operation is carried out on the workpiece (1); and/or
    wherein a thickness of the workpiece (1) is determined based on a most recent detected piercing depth before piercing through of the laser beam (10) through the workpiece (1).
  5. The method according to any one of the preceding claims, wherein, with a substantially constant given distance between the laser machining system (100), in particular a laser machining head (101) of the laser machining system (100), and a surface (3) of the workpiece (1) during the piercing operation, the current piercing depth is determined based on the given distance and a current measured value.
  6. The method according to any one of the preceding claims, in which, with a time-varying distance between the laser machining system (100), in particular a laser machining head (101) of the laser machining system (100), and a surface (3) of the workpiece (1) during the piercing operation, the current piercing depth is determined based on a current distance and a current measured value of the optical measuring device (200) from a piercing bottom of the piercing hole (2).
  7. The method according to claim 6, wherein the current distance between the laser machining system (100), in particular a laser machining head (101) of the laser machining system (100), and the surface (3) of the workpiece (1) is measured capacitively, inductively and/or optically by means of a distance sensor unit.
  8. The method according to any one of the preceding claims, wherein a first optical measuring beam (13a) is directed onto a piercing bottom of the piercing hole (2) and a second optical measuring beam (13b) is directed onto a surface (3) of the workpiece (1) and the current piercing depth is determined by means of the first optical measuring beam (13a) and the second optical measuring beam (13b).
  9. The method according to any one of the preceding claims, wherein during the piercing operation and/or after the piercing operation a surface (3) of the workpiece (1) is scanned with the at least one optical measuring beam (13) in at least one direction perpendicular to the beam axis of the laser beam (10) in order to carry out a geometric characterisation of the piercing hole (2).
  10. The method according to claim 9, wherein, based on the geometric characterisation of the piercing hole (2), at least one process parameter of the laser machining system (100) is adjusted or stored for the subsequent machining operation or for a subsequent piercing operation.
  11. The method according to one of the preceding claims 9 or 10, wherein, based on the geometric characterisation of the piercing hole (2), a diameter of the piercing hole (2) at the workpiece surface (3) and/or along an expansion direction of the piercing hole (2) is determined.
  12. The method according to claim 11, wherein the laser machining system (100) is driven in order to enlarge the diameter of the piercing hole (2) with the laser beam (10) when the diameter is equal to or smaller than a threshold value.
  13. The method according to any one of the preceding claims, wherein workpieces having a thickness of at least 10 mm, or of at least 15 mm are machined.
  14. A laser machining system (100) for machining, in particular for cutting, a workpiece (1) by means of a laser beam (10), comprising:
    a laser machining head (101) having a laser device (110) configured to direct the laser beam (10) onto the workpiece (1) for piercing a piercing hole (2) for a subsequent machining operation; and
    an optical measuring device (200) configured to determine a current piercing depth of the piercing hole (2) during the piercing operation using at least an optical measuring beam (13); and
    a control device (300) configured to adjust at least one process parameter of the laser machining system (100) during the piercing operation based on the current piercing depth to control and/or regulate the piercing operation,
    characterised in that
    the laser machining system (100) is configured to carry out a method according to any one of the previous claims, wherein the control device (300) is configured to determine the rate of change of the piercing depth and to adjust the at least one process parameter based on the rate of change of the piercing depth.
  15. The laser machining system (100) according to claim 14, wherein the optical measuring device (200) comprises or is a coherence interferometer or a short coherence interferometer.
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