EP1776613A1 - Image wall having a reduced speckle effect - Google Patents

Image wall having a reduced speckle effect

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EP1776613A1
EP1776613A1 EP05781451A EP05781451A EP1776613A1 EP 1776613 A1 EP1776613 A1 EP 1776613A1 EP 05781451 A EP05781451 A EP 05781451A EP 05781451 A EP05781451 A EP 05781451A EP 1776613 A1 EP1776613 A1 EP 1776613A1
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EP
European Patent Office
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layer
screen
screen according
polycrystalline
polycrystalline layer
Prior art date
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Ceased
Application number
EP05781451A
Other languages
German (de)
French (fr)
Inventor
Jan GÄBLER
Christoph Rickers
Frank Neumann
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Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/54Accessories
    • G03B21/56Projection screens
    • G03B21/60Projection screens characterised by the nature of the surface

Definitions

  • holding screen receives next to an amorphous glass content of a polycrystalline portion.
  • the polycrystalline portion in the screen causes an increase in the scattering of the incident light.
  • the increase in the amount of grit should not be so high that a good view through the glasses is prevented.
  • the crystal formation takes place as well as the scattering within the layer material.
  • alignment in different spatial directions and “different angles of inclination” means that the surface topography is such that the cross section or cross section of the incident light beam comprises an environment of different structure, so that the light beam is reflected in different directions becomes.
  • the arrangement and / or size of the facets is selected according to the invention so that within the cross-section of the incident light beam, a reflection mission takes place essentially in all solid angles.
  • Cross section in the sense of the invention is the area per pixel, which is swept by the incident light beam.
  • the growth rate of the crystallites is generally higher, the lower the inclination of the direction of growth of a crystallite to the perpendicular to the substrate surface, d. H. the more parallel the course of the growth direction is to the perpendicular to the surface.
  • Crystallites with a higher inclination to the vertical that is, crystallites with more tilt, grow slower. Due to the slower growth, they are overgrown by the crystallites, which have a lower inclination to the vertical and thus faster growth.
  • the growth of the more highly tilted crystallites comes to a standstill and the faster growing crystallites prevail. This situation is shown in FIG. 1 c), in which schematically overgrown crystallites are discernible.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Overhead Projectors And Projection Screens (AREA)

Abstract

The invention relates to an image wall for projection using narrow-band light sources, especially laser projection. Said image wall comprises a polycrystalline layer that is provided with a surface structure which allows speckle effects to be reduced. Also disclosed are image walls representing a molding of a polycrystalline layer, said molding reproducing the surface structure of the polycrystalline layer.

Description

Bildwand mit reduziertem Speckle-Effekt Screen with reduced speckle effect
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Bildwand mit reduziertem Speckle-Effekt für Projektionsverfahren mit schmalbandigen Lichtquellen, insbesondere für La¬ serlicht.The present invention relates to a screen with reduced speckle effect for projection methods with narrow-band light sources, in particular for laser light.
Unter den Visualisierungsverfahren, zum Beispiel mit Kathodenstrahlröhren (CRT), Flüssigkristall-Display (LCD), Plasma-Bildschirm und Projektionsgeräten kommt den Projektionsverfahren eine besondere Bedeutung zu. Sie ermöglichen eine großflächige Darstellung von Bildern bei gleichzeitig hoher Auflösung.Among the visualization methods, for example with cathode ray tubes (CRT), liquid crystal display (LCD), plasma screen and projection devices, the projection methods are of particular importance. They allow a large-scale display of images with high resolution.
Für die Projektionsverfahren werden Projektoren mit schmalbandigen Lichtquel¬ len eingesetzt. Ein Beispiel sind Laser, mit denen sich monochromatisches Licht erzeugen lässt.Projectors with narrow-band light sources are used for the projection methods. One example is lasers, which can be used to produce monochromatic light.
Ähnlich dem Farbfernsehen werden hierfür Laserlichtquellen der drei Primär¬ valenzen rot, grün und blau verwendet.Similar to color television, laser light sources of the three primary valences red, green and blue are used for this purpose.
Laserprojektionssysteme wie scannende Laserprojektionsverfahren bieten die Möglichkeit aufgrund unbegrenzter Tiefenschärfe auf nahezu beliebig geformten Körpern scharfe Bilder zu projizieren. Sie weisen gegenüber konventionellen Verfahren hervorragende Hell-Dunkel-Kontrastwerte von 1 :50.000 bis 1 :100.000 auf gegenüber 1 :5000 bei herkömmlichen Geräten. Durch einen erheblich größe¬ ren Farbraum lassen sich zudem brillantere Bilder realisieren. So können mit Laserprojektionsverfahren aufgrund des großen Farbraumes und der hohen Kontraste in abgedunkelten Räumen subjektiv 3D-Effekte erzielt werden.Laser projection systems, such as scanning laser projection methods, offer the possibility to project sharp images on almost arbitrarily shaped bodies due to unlimited depth of field. Compared to conventional methods, they have outstanding bright-dark contrast values of 1: 50,000 to 1: 100,000 compared to 1: 5,000 in conventional devices. In addition, a much larger color space makes it possible to realize more brilliant images. Due to the large color space and the high contrasts in darkened rooms, 3D laser effects can be used to achieve subjective 3D effects.
Ein generelles Problem bei der Projektion von Bildern ist der schlechte Kontrast. Dieser wird dadurch bewirkt, dass nicht nur das Projektionslicht sondern auch das Umgebungslicht an der Bildwand reflektiert wird. Durch den Einsatz spektral schmalbandiger Lichtquellen kann der Kontrast erheblich erhöht werden, indem Bildwände eingesetzt werden, die eine spektral selektiv reflektierende Beschich- tung aufweisen. Aufgrund der spektral selektiv reflektierenden Beschichtung wird im Wesentlichen nur Licht des Projektors reflektiert und das Umgebungslicht ab- sorbiert oder transmittiert. Derartige spektral selektive Bildwände sind zum Bei- spiel in dem Deutschen Patent DE 199 01 970 C2 und der Deutschen Patentan¬ meldung DE 19747 597 A1 beschrieben.A general problem with the projection of images is the poor contrast. This is caused by the fact that not only the projection light but also the ambient light is reflected on the screen. By using spectrally narrow-band light sources, the contrast can be increased considerably by using image walls which have a spectrally selective reflective coating. Due to the spectrally selectively reflecting coating, essentially only light of the projector is reflected and the ambient light is absorbed or transmitted. Such spectrally selective image walls are for example Game in German Patent DE 199 01 970 C2 and the German Patent Application DE 19747 597 A1.
Für die Bilderzeugung sind streuende Oberflächen erforderlich, das heißt BiId- wände mit einer rauen Oberflächenstruktur. Aufgrund der rauen Oberflächen¬ struktur wird das Licht in verschiedene Raumrichtungen reflektiert und kann so von verschiedenen Beobachtungspunkten aus gesehen werden.For the image formation, scattering surfaces are required, that is to say wallboards with a rough surface structure. Due to the rough Oberflächen¬ structure, the light is reflected in different spatial directions and can be seen from different observation points.
Wird Laserlicht an streuenden Flächen reflektiert, können sogenannte Speckle- Effekte auftreten. Ursache für Speckle-Effekte ist eine Reflexion des Lichtstrahls an zwei Punkten der streuenden Fläche, deren lateraler Abstand einerseits klei¬ ner ist als die Auflösung des Auges eines Betrachters, wobei die Punkte aber andererseits unterschiedlich weit weg vom Betrachter sind. Dieser Fall kann zum Beispiel bei streuenden Flächen mit unregelmäßiger Oberfläche auftreten, bei der zwei nahe benachbarte Punkte, an denen der Lichtstrahl gestreut wird, eine unterschiedliche Höhe aufweisen. Die an diesen Punkten reflektierten Wellen¬ züge weisen aufgrund der unterschiedlichen Entfernung vom Betrachter geringe Laufzeitunterschiede auf. Die Wellenzüge werden jedoch auf der Netzhaut nur auf einem Punkt abgebildet und wegen der Laufzeitunterschiede kommt es dort zu Interferenzeffekten. Subjektiv ist der Effekt als ein statistisches Kriseln be¬ ziehungsweise eine Körnigkeit im Bild auszumachen und sollte daher vermieden werden.If laser light is reflected on scattering surfaces, so-called speckle effects can occur. The cause of speckle effects is a reflection of the light beam at two points of the scattering surface whose lateral distance is on the one hand smaller than the resolution of the eye of a viewer, but on the other hand the points are at different distances away from the observer. This case can occur, for example, in scattering surfaces with an irregular surface, in which two closely adjacent points at which the light beam is scattered have a different height. The Wellen¬ trains reflected at these points have due to the different distance from the viewer on low transit time differences. However, the wave trains are imaged on the retina only at one point and because of the differences in transit time there are interference effects. Subjectively, the effect is to be seen as a statistical distress or a graininess in the image and should therefore be avoided.
Zur Vermeidung des Speckle-Effekts wurden zahlreiche Lösungsansätze vorge- schlagen, die prinzipiell in folgende Kategorien unterteilt werden können:In order to avoid the speckle effect, numerous solutions have been proposed, which in principle can be subdivided into the following categories:
Ansätze zur Vermeidung der Interferenz sowieApproaches to avoiding interference as well
Ansätze basierend auf einer Mittelung des Speckle-Effekts, auch „Ver¬ schmierung" genannt.Approaches based on an averaging of the speckle effect, also called "Ver¬ lubrication".
Zur Realisierung dieser Ansätze können Maßnahmen am Projektor, der Bildwand oder an beiden getroffen werden.To implement these approaches, measures can be taken on the projector, the screen or both.
In DE 101 18 662 A1 ist eine Bildwand beschrieben, bei der der Speckle-Effekt reduziert wird, indem die Interferenz vermieden wird. Zur Auflösung der Interfe- renz wird ein Bildwandmaterial vorgeschlagen, das eine Volumenstreuung des Lichtes bewirkt. Hierbei wird der beleuchtete Gegenstand mit einer volumen¬ streuenden Beschichtung beschichtet, zum Beispiel Polytetrafluorethylen. Nach¬ teil dieses Verfahrens ist die Notwendigkeit, die Kohärenzlänge des verwendeten Laserlichts an die Dicke der volumenstreuenden Beschichtung anzupassen, so dass eine Einschränkung hinsichtlich der verwendbaren Projektoren besteht. Auch ist es generell schwierig, eine volumenstreuende Beschichtung mit der ge¬ wünschten spektralselektiven Reflexion zu kombinieren.DE 101 18 662 A1 describes a screen in which the speckle effect is reduced by avoiding the interference. To resolve the interferences Renz an image wall material is proposed, which causes a volume scattering of the light. Here, the illuminated object is coated with a volume-scattering coating, for example polytetrafluoroethylene. Nach¬ part of this method is the need to adjust the coherence length of the laser light used to the thickness of the volume-scattering coating, so that there is a limitation on the usable projectors. Also, it is generally difficult to combine a volume scattering coating with the desired spectrally selective reflection.
Ein Verfahren zum Verschmieren des Speckle-Effekts ist aus US 5,272,473 be¬ kannt. Dort wird vorgeschlagen, an einer Bildwand eine Schallquelle anzuordnen. Die von der Schallquelle erzeugten akustischen Wellen durchlaufen die Bild¬ wand, und regen diese zu Schwingungen an. Aufgrund der schwingenden Bild¬ wand werden je nach Schwingungszustand von den reflektierten Laserlichtstrah- len verschiedene Speckle-Muster erzeugt, die während der Integrationszeit des Detektors (Auge) gemittelt, das heißt verschmiert, werden, so dass sich der Speckle-Kontrast verringert. Je nach Schallfrequenz und Bildwanddimension können jedoch Wellenbäuche und -knoten auftreten, bei denen keine Verschmie¬ rung gegeben ist und somit der Speckle-Effekt wieder voll auftritt.A method for smearing the speckle effect is known from US 5,272,473 be¬. There it is proposed to arrange a sound source on a screen. The acoustic waves generated by the sound source pass through the screen and stimulate them to vibrate. Due to the oscillating Bild¬ wall different speckle patterns are generated depending on the vibration state of the reflected Laserlichtstrah- len, which averaged during the integration time of the detector (eye), that smeared, so that reduces the speckle contrast. Depending on the sound frequency and screen dimension, however, bellies and nodes can occur in which there is no smearing and thus the speckle effect fully reappears.
Alternativ hierzu wird in JP 2000-081602 A eine Bildwand mit Flüssigkristall¬ materialien beschrieben, wobei die Flüssigkristalle durch Anlegen eines hochfrequenten Niederspannungssignals in Vibration versetzt werden. Die vibrierenden Flüssigkristalle bewirken wiederum schnell variierende Speckle- Muster und so ein Mitteln (Verschmieren) des Kontrasts. Auch diese Art von Bildwänden kann nur schlecht mit den an sich gewünschten kontrasterhöhenden spektralselektiv reflektierenden Beschichtungen kombiniert werden und ist zudem hinsichtlich der realisierbaren Abmessungen beschränkt.Alternatively, JP 2000-081602 A describes a screen with Flüssigkristall¬ materials, wherein the liquid crystals are caused by applying a high-frequency low-voltage signal in vibration. The vibrating liquid crystals, in turn, cause rapidly varying speckle patterns and thus averaging (blurring) of the contrast. Also, this type of image walls can only be poorly combined with the desired contrast-enhancing spectrally selective reflective coatings and is also limited in terms of realizable dimensions.
DE 100 26 973 A1 beschreibt eine Bildwand für die Laserprojektionstechnik mit verbessertem Streuvermögen, sodass gute Abbildungen erzielt werden können. Hierfür wird eine Bildwand gewählt, die aus einer Glaskeramik oder einem ent¬ mischten Glas besteht. Durch spezielle Temperatur-Zeit-Behandlung wird der aus der Schmelze hergestellte Formkörper teilweise kristallisiert, sodass die er- - A -DE 100 26 973 A1 describes a screen for the laser projection technique with improved throwing power, so that good images can be achieved. For this purpose, a screen is selected, which consists of a glass ceramic or an ent¬ mixed glass. By special temperature-time treatment, the molded body produced from the melt is partially crystallized, so that the - A -
haltene Bildwand neben einem amorphen Glasanteil einen polykristallinen Anteil erhält.holding screen receives next to an amorphous glass content of a polycrystalline portion.
Der polykristalline Anteil in der Bildwand bewirkt eine Erhöhung der Streuung des eingestrahlten Lichtes. Die Erhöhung des Streuanteils sollte jedoch nicht so hoch sein, dass eine gute Durchsicht durch die Gläser verhindert wird. Gemäß DE 100 26 973 A1 erfolgt die Kristallausbildung als auch die Streuung innerhalb des Schichtmaterials. Es findet sich kein Hinweis, die Oberfläche der Bildwand mit der Struktur einer polykristallinen Schicht zu versehen, das heißt eine unre¬ gelmäßige Oberfläche zu schaffen, an der dann das einfallende Licht reflektiert wird.The polycrystalline portion in the screen causes an increase in the scattering of the incident light. However, the increase in the amount of grit should not be so high that a good view through the glasses is prevented. According to DE 100 26 973 A1, the crystal formation takes place as well as the scattering within the layer material. There is no suggestion to provide the surface of the screen with the structure of a polycrystalline layer, that is to say to provide an irregular surface on which the incident light is then reflected.
Im Gegenteil, es wird vorgeschlagen, die Oberfläche zu entspiegeln um Reflektion mit Fremdlichtwellen zu vermeiden. Eine Spiegelung findet jedoch nur an glatten Oberflächen statt, da unregelmäßige Oberflächen das Licht nicht einheitlich wie bei einer Spiegelung, sondern in viele Richtungen reflektieren.On the contrary, it is proposed to reduce the surface to reflect to avoid reflection with extraneous light waves. Reflection, however, occurs only on smooth surfaces, because irregular surfaces reflect the light not uniformly as in a mirror, but in many directions.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Bildwand insbeson¬ dere für Laserprojektion zur Verfügung zu stellen, mit reduziertem Speckle-Effekt, die die vorstehend genannten Nachteile des Standes der Technik nicht aufweist. Insbesondere ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Bildwand mit re- duziertem Speckle-Effekt zur Verfügung zu stellen, die ohne Weiteres mit kon¬ trastverbessernden Beschichtungen kombiniert werden kann sowie hinsichtlich der eingesetzten schmalbandigen Lichtquelle wie Laserquelle keinen Beschrän¬ kungen unterliegt.An object of the present invention is to provide a screen, in particular for laser projection, with a reduced speckle effect, which does not have the aforementioned disadvantages of the prior art. In particular, it is an object of the present invention to provide a screen with reduced speckle effect, which can be readily combined with contrast-enhancing coatings and is not subject to any restrictions with regard to the narrow-band light source used, such as the laser source.
Gelöst wird diese Aufgabe durch eine Bildwand, deren Oberfläche die Struktur einer polykristallinen Schicht aufweist, mit glatten Kristallfacetten, wobei die Kristallfacetten durch unterschiedliche räumliche Ausrichtung eine strukturierte Oberflächentopographie ausbilden.This object is achieved by a screen whose surface has the structure of a polycrystalline layer, with smooth crystal facets, wherein the crystal facets form a structured surface topography by different spatial orientation.
Die Erfindung umfasst damit Bildwände mit polykristallinen Schichten als auch Bildwände mit einer Oberflächenstruktur, die der Oberflächenstruktur von polykri¬ stallinen Schichten entspricht. Dies sind zum Beispiel Abformungen (Replikate) von polykristallinen Oberflächen. Bei der Erfindung fungieren die Kristallfacetten jeweils als Mikrospiegel. Der Begriff des Spiegeins verdeutlicht dabei bereits, dass es sich um eine Reflektion an der Oberfläche handelt und nicht im Inneren der Bildwand. Auch darin liegt ein Unterschied zur DE 100 26 973 A1.The invention thus encompasses image walls with polycrystalline layers as well as image walls with a surface structure which corresponds to the surface structure of polycrystalline layers. These are, for example, impressions (replicas) of polycrystalline surfaces. In the invention, the crystal facets each act as micromirrors. The concept of the mirror is already showing that it is a reflection on the surface and not inside the screen. Also therein lies a difference to DE 100 26 973 A1.
Im Sinne der Erfindung umfasst der Begriff "Bildwand" Projektionsflächen aller Art.For the purposes of the invention, the term "screen" includes projection surfaces of all kinds.
Die vorliegende Erfindung beruht auf dem Grundgedanken, eine Reflexion des eingestrahlten Lichtes an nahe benachbarten Punkten zu vermeiden, die auf ei¬ nem Punkt der Netzhaut abgebildet werden, und die aufgrund ihrer räumlichen Anordnung zu Gangunterschieden des reflektierten Lichtes führen, so dass es auf der Netzhaut zu Interferenzeffekten kommt und damit zur Erzeugung des Speckle-Effekts.The present invention is based on the basic idea of avoiding reflection of the incident light at closely adjacent points which are imaged on a point of the retina, and which due to their spatial arrangement lead to path differences of the reflected light, so that it is on the retina to interference effects and thus to the generation of the speckle effect.
Erfindungsgemäß wird daher für die Bildwand eine Eigenschaft polykristalliner Schichten ausgenutzt, glatte Kristallfacetten auszubilden. Aufgrund der glatten Oberfläche der Facetten wird Licht, das auf eine Facette einfällt, gleichmäßig reflektiert, ohne dass Gangunterschiede auftreten.According to the invention, therefore, a property of polycrystalline layers is exploited for the image wall to form smooth crystal facets. Due to the smooth surface of the facets, light incident on a facet is reflected evenly, with no path differences.
Ein zweites Erfordernis für Bildwände ist, dass das Licht in unterschiedliche Raumwinkel remittiert wird, so dass die Abbildung für den Betrachter von ver¬ schiedenen Standpunkten aus sichtbar ist. Diesem Erfordernis wird erfindungsgemäß Rechnung getragen, indem die Fa- cetten der Kristallspitzen eine strukturierte Oberflächentopographie ausbilden, indem sie in unterschiedliche Raumrichtungen ausgerichtet sind und unter¬ schiedliche Neigungswinkel zur Senkrechten bezogen auf die Bildwand haben.A second requirement for image walls is that the light is remitted into different solid angles, so that the image is visible to the viewer from different points of view. This requirement is taken into account according to the invention in that the facets of the crystal tips form a structured surface topography in that they are oriented in different spatial directions and have different angles of inclination to the vertical with respect to the screen.
Im Sinne der vorliegenden Erfindung bedeutet „Ausrichtung in unterschiedliche Raumrichtungen" und „unterschiedliche Neigungswinkel", dass die Oberflächen¬ topographie derart ist, dass der Querschnitt oder Wirkungsquerschnitt des auf¬ treffenden Lichtstrahls eine Umgebung unterschiedlicher Struktur umfasst, so dass der Lichtstrahl in verschiedene Richtungen remittiert wird. Die Anordnung und/oder Größe der Facetten wird erfindungsgemäß so gewählt, dass innerhalb des Wirkungsquerschnitts des einfallenden Lichtstrahls eine Re- mission im wesentlichen in alle Raumwinkel erfolgt. Wirkungsquerschnitt im Sinne der Erfindung ist die Fläche pro Pixel, die vom einfallenden Lichtstrahl überstrichen wird.For the purposes of the present invention, "alignment in different spatial directions" and "different angles of inclination" means that the surface topography is such that the cross section or cross section of the incident light beam comprises an environment of different structure, so that the light beam is reflected in different directions becomes. The arrangement and / or size of the facets is selected according to the invention so that within the cross-section of the incident light beam, a reflection mission takes place essentially in all solid angles. Cross section in the sense of the invention is the area per pixel, which is swept by the incident light beam.
So können die Facettenflächen größer als der Strahlquerschnitt des einfallenden Lichtes sein. In diesem Fall sollte ihre räumliche Anordnung innerhalb des Wir¬ kungsquerschnitts eine Remission in die gewünschten Raumwinkel ermöglichen. Vorzugsweise sollte der Strahlquerschnitt des einfallenden Lichtes mindestens so groß oder größer als die Facettenfläche sein.Thus, the facet surfaces can be larger than the beam cross section of the incident light. In this case, their spatial arrangement within the effective cross-section should allow a remission into the desired solid angles. Preferably, the beam cross section of the incident light should be at least as large or larger than the facet surface.
Beispielsweise hat herkömmliches Laserlicht einen Strahlquerschnitt, der im All¬ gemeinen mehrere Facetten einer polykristallinen Schicht abdeckt, so dass es in verschiedene Richtungen remittiert wird, wie es für die Realisierung einer Bild¬ wand erforderlich ist. Aufgrund der Glätte der Facetten wird dennoch gleichzeitig vermieden, dass unterhalb des Auflösungsvermögens des Auges liegende Punkte der Oberfläche, die einen Gangunterschied erzeugen könnten, in die gleiche Richtung remittiert werden.For example, conventional laser light has a beam cross-section, which generally covers several facets of a polycrystalline layer, so that it is remitted in various directions, as is necessary for the realization of an image wall. However, due to the smoothness of the facets, it is also avoided at the same time that points of the surface below the resolution of the eye which could produce a path difference are returned in the same direction.
Erfindungsgemäß wird damit der Speckle-Effekt reduziert durch:According to the invention, the speckle effect is thus reduced by:
1. die Glätte der Kristallfacetten der polykristallinen Schicht, so dass das ein¬ strahlende Licht ohne optische Verzögerung reflektiert wird und damit keine Interferenz und kein Speckle auftreten können, und1. the smoothness of the crystal facets of the polycrystalline layer, so that the ein¬ radiating light is reflected without optical delay and thus no interference and no speckle can occur, and
2. indem durch die Größe und/oder Anordnung der Facetten innerhalb des Wir- kungsquerschnitts des einfallenden Lichtstrahls das Licht in verschiedene2. By the size and / or arrangement of the facets within the effective cross section of the incident light beam, the light in different
Richtungen reflektiert wird und damit von unterschiedlichen Standpunkten aus betrachtbar ist.Directions is reflected and thus viewable from different points of view.
Als Material für die polykristalline Schicht der erfindungsgemäßen Bildwand kön- nen prinzipiell alle Werkstoffe eingesetzt werden, die als polykristalline Schichten abgeschieden werden können.In principle, all materials which can be deposited as polycrystalline layers can be used as material for the polycrystalline layer of the screen according to the invention.
Beispiele für Werkstoffe für polykristalline Schichten sind Diamant, Silizium, In¬ dium, Indiumarsenid, Galliumarsenid, Cadmiumselenid, Perylen-Tetracarboxyl- Dianhydrid, Zinkoxid, Aluminiumoxid, Gallium-Gadoliniumgranat (Ga3Gd5O12, GGG), Yttrium- Gadoliniumgranat (Y3Gd5O12, YGG) und Yttrium-Aluminiumgranat (Y3AI5O12, YAG).Examples of materials for polycrystalline layers are diamond, silicon, indium, indium arsenide, gallium arsenide, cadmium selenide, perylene-tetracarboxylic dianhydride, zinc oxide, aluminum oxide, gallium gadolinium garnet (Ga 3 Gd 5 O 12 , GGG), yttrium gadolinium garnet (Y 3 Gd 5 O 12 , YGG) and yttrium aluminum garnet (Y 3 Al 5 O 12 , YAG).
Die erfindungsgemäßen polykristallinen Schichten können mittels allgemein be- kannter üblicher Abscheidungsverfahren erhalten werden, wie der chemischen Gasphasenabscheidung und der physikalischen Gasphasenabscheidung.The polycrystalline layers of the invention can be obtained by means of commonly known conventional deposition methods, such as chemical vapor deposition and physical vapor deposition.
Ein bevorzugtes Beispiel für die chemische Gasphasenabscheidung ist die akti¬ vierte chemische Gasphasenabscheidung, wobei die Aktivierung zum Beispiel mit Plasma oder mit Heißdrähten geschehen kann. Geeignete Verfahren für die aktivierte chemische Gasphasenabscheidung sind an sich bekannt. Geeignete Verfahren sind unter anderem in DE 196 29 456 C1, DE 198 50 346 und DE 195 30 161 C2 beschrieben, auf die hier vollinhaltlich Bezug genommen wird.A preferred example of the chemical vapor deposition is the akti¬ fourth chemical vapor deposition, the activation can be done for example with plasma or with hot wires. Suitable methods for the activated chemical vapor deposition are known per se. Suitable processes are described, inter alia, in DE 196 29 456 C1, DE 198 50 346 and DE 195 30 161 C2, to which reference is made in full here.
Weiter wird in diesem Zusammenhang auf Wild, C; Koidl, P., Müller-Sebert, W.; Walcher, H.; Kohl, H.; Herres, N.; Locher, R.: "Chemical vapour deposition and characterization of smooth {100}-faceted diamond films" in: Diamond and Related Materials 2 (1993), S. 158 - 168 und Wild, C; Herres, N.; Koidl, P.: "Texture for- mation in polycrystalline diamond films" in: Journal of Applied Physics 68 (1990) 3, 1. August, S. 973 - 978 verwiesen.Further, in this context, Wild, C; Koidl, P., Müller-Sebert, W .; Walcher, H .; Kohl, H .; Herres, N .; Locher, R .: "Chemical vapor deposition and characterization of smooth {100} -faceted diamond films" in: Diamond and Related Materials 2 (1993), pp. 158-168 and Wild, C; Herres, N .; Koidl, P .: "Texture formation in polycrystalline diamond films" in: Journal of Applied Physics 68 (1990) 3, August 1, p. 973-978.
Die aktivierte chemische Gasphasenabscheidung eignet sich insbesondere auch für die Herstellung von polykristallinen Diamantschichten.The activated chemical vapor deposition is particularly suitable for the production of polycrystalline diamond layers.
Geeignete Beispiele für die physikalische Gasphasenabscheidung sind Sputtem und Aufdampfen.Suitable examples of the physical vapor deposition are sputtering and vapor deposition.
Die Oberflächentopographie lässt sich durch einfache Variation der Verfahrens¬ parameter einstellen. Beispiele sind die Gasphasenzusammensetzung oder Temperatur. Weitere Maßnahmen können die Variation der Substrattemperatur durch Kühl- beziehungsweise Heiztische sein.The surface topography can be adjusted by simple variation of the process parameters. Examples are the gas phase composition or temperature. Further measures may be the variation of the substrate temperature by cooling or heating tables.
Variation der Substrattemperatur unterstützt zum Beispiel die Ausbildung von orientierten polykristallinen Diamantschichten. Die Charakterisierung der Facettengeometrie wie Glätte, Größe und Raumwinkel kann mit kontaktlosen optischen Verfahren erfolgen. So kann für die Messung ein Konfokalmikroskop oder andere Verfahren unter Verwendung zum Beispiel eines Rasterelektronenmikroskops (REM) oder eines Rasterkraftmikroskops (AFM) eingesetzt werden.Variation of the substrate temperature, for example, supports the formation of oriented polycrystalline diamond films. The characterization of the facet geometry such as smoothness, size and solid angle can be done with contactless optical methods. Thus, a confocal microscope or other methods using, for example, a scanning electron microscope (SEM) or an atomic force microscope (AFM) can be used for the measurement.
Die Abscheidung polykristalliner Schichten erfolgt üblicherweise auf einem Sub¬ strat. Für die erfindungsgemäße Bildwand kann die Schicht einschließlich Sub¬ strat eingesetzt werden. Beispiele für geeignete Substrate sind Silizium, Kerami- ken, wie sie unter anderem auch für Diamantschichten eingesetzt werden, Hart¬ metalle, Niob, Titan, Stahl oder Graphit.The deposition of polycrystalline layers usually takes place on a substrate. For the screen according to the invention, the layer including Sub¬ strat can be used. Examples of suitable substrates are silicon, ceramics, as used inter alia for diamond layers, hard metals, niobium, titanium, steel or graphite.
Gemäß einer Ausführungsform kann die Schicht von dem Substrat gelöst werden und lediglich die Schicht für die Bildwand eingesetzt werden.According to one embodiment, the layer may be detached from the substrate and only the layer used for the screen.
Die erfindungsgemäße Bildwand mit reduziertem Speckle-Effekt kann prinzipiell für alle Projektionsverfahren eingesetzt werden, bei denen es zu Speckle-Effek- ten kommen kann.The screen according to the invention with reduced speckle effect can in principle be used for all projection methods in which speckle effects can occur.
Insbesondere ist sie für die Anwendung in Verfahren mit schmalbandigen Licht¬ quellen vorgesehen. Dies sind heutzutage üblicherweise Laserlichtquellen. Es versteht sich, dass die vorliegende Erfindung jedoch nicht auf Laserlichtquel¬ len beschränkt ist, sondern auch Lichtquellen umfasst, die vergleichbare Eigen¬ schaften aufweisen. In particular, it is intended for use in processes with narrow-band light sources. These are usually laser light sources today. It is understood, however, that the present invention is not limited to laser light sources, but also includes light sources having comparable properties.
Nachstehend wird die vorliegende Erfindung unter Verweis auf die anliegenden Figuren und bevorzugte Ausführungsformen im Einzelnen erläutert.Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the attached figures and preferred embodiments.
Es zeigen:Show it:
Figur 1 a), b) und c) schematisch das Wachstum einer polykristallinen Schicht nach van der Drift;Figure 1 a), b) and c) schematically shows the growth of a polycrystalline layer after van der Drift;
Figur 2 eine REM-Aufnahme einer polykristallinen Diamantschicht in Schrägansicht;FIG. 2 an oblique view of a polycrystalline diamond layer in an oblique view;
Figur 3 a), b) und c) polykristalline Diamantschichten mit unterschiedlicherFigure 3 a), b) and c) polycrystalline diamond layers with different
Kristallitgröße;crystallite;
Figur 4a) und b) orientierte polykristalline Diamantschichten; undFigure 4a) and b) oriented polycrystalline diamond layers; and
Figur 5a) und b) ein Replikat aus Polyacrylat in unterschiedlicher Vergrößerung.Figure 5a) and b) a replica of polyacrylate in different magnifications.
Das Wachstum von polykristallinen Schichten wie sie erfindungsgemäß einge¬ setzt werden, ist in Figuren 1a) bis c) schematisch dargestellt. Die gewünschten polykristallinen Schichten werden gebildet, indem - wie in Figur 1a) gezeigt - ein¬ zelne separate Kristallite, die zum Beispiel durch eine vorherige Bekeimung auf dem gewünschten Substrat aufgebracht werden, zunächst unbehindert in alle Richtungen des freien Halbraumes wachsen. Die Richtungen sind durch Pfeile angedeutet. Eine Vergrößerung findet sich in dem Kreis.The growth of polycrystalline layers as used according to the invention is shown schematically in FIGS. 1a) to c). The desired polycrystalline layers are formed by - as shown in Figure 1a) - ein¬ individual separate crystallites, which are applied for example by a previous seeding on the desired substrate, initially grow unhindered in all directions of the free half-space. The directions are indicated by arrows. An enlargement can be found in the circle.
Das Wachstum in alle freien Richtungen setzt sich fort, bis die Kristallite seitlich aneinander stoßen. Wachstum kann dann nur noch von der Substratoberfläche weg erfolgen, wie in Figur 1b) durch Pfeile angedeutet. Im Ergebnis wird eine polykristalline, „stängeiförmige" Struktur erhalten, wie sie in Figur 1 c) dargestellt ist.The growth in all free directions continues until the crystallites collide laterally. Growth can then take place only from the substrate surface, as indicated in Figure 1b) by arrows. As a result, a polycrystalline "rod-shaped" structure is obtained, as shown in FIG. 1 c).
An der Oberseite der Schicht können die Kristaliite frei wachsen und nehmen die für das jeweilige Material charakteristische Kristallform an. So zeigt Figur 2 eine REM-Aufnahme einer polykristallinen Diamantschicht in Schrägansicht, die die für Diamantschichten typische Pyramiden- oder Tetra¬ ederform erkennen lässt.At the top of the layer, the crystallites can grow freely and assume the crystal shape characteristic of the respective material. Thus, FIG. 2 shows an SEM image of a polycrystalline diamond layer in an oblique view, which reveals the pyramidal or tetrahedral shape typical of diamond layers.
Die Wachstumsgeschwindigkeit der Kristallite ist im Allgemeinen um so höher, je geringer die Neigung der Wachstumsrichtung eines Kristallits zur Senkrechten zur Substratoberfläche ist, d. h. je paralleler der Verlauf der Wachstumsrichtung zur Senkrechten zur Oberfläche ist. Kristallite mit einer stärkeren Neigung zur Senkrechten, das heißt Kristallite mit stärkerer Verkippung, wachsen dagegen langsamer. Durch das langsamere Wachstum werden sie von den Kristalliten, die eine geringere Neigung zur Senkrechten und damit schnelleres Wachstum auf¬ weisen, überwachsen. Das Wachstum der stärker verkippten Kistallite kommt so zum Stillstand und die schneller wachsenden Kristallite setzen sich durch. Diese Situation ist in Figur 1 c) dargestellt, in der schematisch überwachsene Kristallite erkennbar sind.The growth rate of the crystallites is generally higher, the lower the inclination of the direction of growth of a crystallite to the perpendicular to the substrate surface, d. H. the more parallel the course of the growth direction is to the perpendicular to the surface. Crystallites with a higher inclination to the vertical, that is, crystallites with more tilt, grow slower. Due to the slower growth, they are overgrown by the crystallites, which have a lower inclination to the vertical and thus faster growth. The growth of the more highly tilted crystallites comes to a standstill and the faster growing crystallites prevail. This situation is shown in FIG. 1 c), in which schematically overgrown crystallites are discernible.
Indem langsamer wachsende Kristallite überwachsen werden, nimmt die Größe der Kristallspitzen der sich durchsetzenden Kristallite mit der Schichtdicke zu. Auf diese Weise kann daher die Kristallitgröße beliebig eingestellt werden. Sie kann weniger als 100 nm aber auch mehrere 100 μm und mehr betragen.By overgrowing slower growing crystallites, the size of the crystal tips of the intersecting crystallites increases with the layer thickness. In this way, therefore, the crystallite size can be set arbitrarily. It can be less than 100 nm but also several 100 microns and more.
So zeigt Figur 3 a) eine polykristalline Diamantschicht mit einer kleinen Kristallit¬ größe von ca. 1 μm in der Aufsicht, Figur 3 b) eine polykristalline Diamantschicht mittlerer Kristallitgröße mit ca. 6 μm in der Aufsicht, wobei der unten rechts dar¬ gestellte Strich jeweils 5 μm hat. Ein Querschnitt durch eine polykristalline Dia- mantschicht mit sehr großen Kristallitgrößen von ca. 150 μm ist dagegen in Figur 3 c) gezeigt, wobei der dunkel unterlegte Strich links oben in der Abbildung 100 μm darstellt.Thus, FIG. 3 a) shows a polycrystalline diamond layer with a small crystallite size of approximately 1 μm in plan view, FIG. 3 b) shows a polycrystalline diamond layer of average crystallite size with approximately 6 μm in plan view, with the line shown at the bottom right each 5 microns. A cross-section through a polycrystalline diamond layer with very large crystallite sizes of about 150 μm, on the other hand, is shown in FIG. 3 c), the darkly shaded line at the top left in the figure representing 100 μm.
Wie vorstehend bereits erwähnt, kann die Form der Kristallspitzen durch Varia- tion der Beschichtungsparameter eingestellt werden. So sind in Figuren 1 bis 3 statistisch orientierte Schichten gezeigt. Ebenso können orientierte polykristalline Schichten eingesetzt werden. Die Schichten können gleichförmige Topographien aufweisen. Diese können zum Beispiel aus pyramiden- oder plateauförmigen Spitzen gebildet sein, wie sie in Figuren 4 a) und b) dargestellt sind. In Figuren 4 a) und b) sind beispielhaft orientierte polykristalline Diamantschich¬ ten gezeigt, die eine pyramidenförmige Topographie (Figur 4a) beziehungsweise eine Topographie mit Plateaus (Figur b) aufweisen.As already mentioned above, the shape of the crystal tips can be adjusted by varying the coating parameters. Thus, in Figures 1 to 3 statistically oriented layers are shown. Likewise, oriented polycrystalline layers can be used. The layers can have uniform topographies. These may be formed, for example, from pyramidal or plateau-shaped tips, as shown in Figures 4 a) and b). FIGS. 4 a) and b) show exemplary oriented polycrystalline diamond layers which have a pyramidal topography (FIG. 4 a) or a topography with plateaus (FIG.
Gemäß einem weiteren Aspekt umfasst die vorliegende Erfindung Bildwände, deren Oberflächentopographie der Oberflächentopographie der vorstehend ge¬ nannten erfindungsgemäßen polykristallinen Schichten entspricht. Diese lassen sich durch Abformung, auch Replikation genannt, der erfindungsgemäßen poly¬ kristallinen Schichten erhalten. Die polykristalline Schicht wirkt als Master, von dem eine Abformung gemacht wird.According to a further aspect, the present invention comprises image walls whose surface topography corresponds to the surface topography of the above-mentioned polycrystalline layers according to the invention. These can be obtained by molding, also called replication, of the polycrystalline layers according to the invention. The polycrystalline layer acts as a master, from which an impression is made.
Das erhaltene Replikat kann selbst für die Bildwand eingesetzt werden, die dann eine Negativabbildung des Masters darstellt.The resulting replica can be used even for the screen, which then represents a negative image of the master.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform kann von dem Replikat eine weitere Replikation gemacht werden. Das hierbei erhaltene Replikat zeigt dann die ur- sprüngliche positive Oberflächenstruktur der als Master eingesetzten polykristal¬ linen Schicht.In accordance with another embodiment, replication may be further replicated. The replicate obtained here then shows the original positive surface structure of the polycrystalline layer used as the master.
Wie die polykristalline Schicht kann das Replikat als solches oder zusammen mit einem Substrat für die Bildwand eingesetzt werden.Like the polycrystalline layer, the replicate may be used as such or together with a substrate for the screen.
Im Allgemeinen wird für die Replikation die Struktur der Masteroberfläche auf ein polymeres Material übertragen. Geeignete Techniken sind a) Aufpressen von thermoplastischem Polymer wie Polypropylen und Polya¬ mid auf die Masteroberfläche, b) Übertragung der Masterstruktur auf ein kaltes Polymer mittels Prägung oder Walzen, c) Verfüllen der Masteroberfläche mit einer härtbaren Monomer-Oligomerfor- mulierung, die härtet oder vernetzt während sie in Kontakt mit dem Master ist, und d) Spritzgießen, wobei zum Beispiel der Master in eine geeignete Form eingebracht wird, und das Polymer gegebenenfalls unter Druck einge¬ spritzt wird. Für die Replikation wird ein Material auf die Schicht aufgetragen, dass die Topo¬ graphie in geeigneter Replikationsgüte übernimmt. Beispiele sind Metalle, Poly¬ mere oder andere Materialien wie Glas.Generally, for replication, the structure of the master surface is transferred to a polymeric material. Suitable techniques are a) pressing thermoplastic polymer such as polypropylene and polyamide onto the master surface, b) transferring the master structure to a cold polymer by means of embossing or rolling, c) filling the master surface with a curable monomer oligomer formulation which hardens or crosslinked while in contact with the master, and d) injection molding, wherein, for example, the master is introduced into a suitable mold, and the polymer is optionally injected under pressure. For the replication, a material is applied to the layer that takes over the topography in a suitable replication quality. Examples are metals, polymers or other materials such as glass.
So können Metalle mittels galvanischer Verfahren abgeschieden werden.Thus, metals can be deposited by means of galvanic processes.
Als Materialien für die Replikation können Polymere verwendet werden, wie thermoplastische oder aushärtende Polymere. Die Aushärtung kann mittels übli¬ cher Methoden erfolgen zum Beispiel durch Bestrahlung wie mit UV-Licht, Be¬ strahlung mit Elektronen (EB) oder einer anderen geeigneten Quelle oder durch Verwendung einer flüssigen Härterkomponente.As materials for replication, polymers such as thermoplastic or thermosetting polymers can be used. The curing can take place by means of conventional methods, for example by irradiation, such as UV light, irradiation with electrons (EB) or another suitable source, or by using a liquid hardener component.
Vorzugsweise erfolgt die Replikation nach Verfahren c). Verfahren c) ist ein drei¬ stufiger Prozess, wobei der Master mit einer Polymerfomulierung ausreichend niedriger Viskosität verfüllt, das Polymer gehärtet und die Abformung vom Master abgelöst wird.Preferably, the replication is carried out according to method c). Process c) is a three-stage process in which the master is filled with a polymer formulation of sufficiently low viscosity, the polymer is cured and the impression is removed from the master.
Beispiele für besonders geeignete Polymere sind Acrylate und Epoxide, insbe¬ sondere Acrylate niedriger Viskosität, die mittels UV/EB ausgehärtet werden können.Examples of particularly suitable polymers are acrylates and epoxides, in particular acrylates of low viscosity, which can be cured by means of UV / EB.
Figur 5a und b (eine Abbildung des Leibnitz-Instituts für Oberflächenmodifizie¬ rung e. V. (IOM)) zeigt eine nach Verfahren c) erhaltene Abformung aus Polyac- rylat, wobei Figur 5b eine Vergrößerung von Figur 5a darstellt, und in Figur 5a der rechts unten dargestellte Strich 10 μm und in Figur 5b 3 μm entspricht. Diese Figuren belegen deutlich die außerordentliche Abbildungsgenauigkeit, die mit dem vorstehend beschriebenen Replikationsverfahren erhalten werden kön¬ nen. Insbesondere mit dem letztgenannten Verfahren c) können Replikate von Mikrostrukturen in hoher Qualität erhalten werden, die eine geometrische Ge¬ nauigkeit innerhalb der Größenordndung von 10 nm aufweisen.FIGS. 5a and b (an illustration of the Leibnitz Institute for Surface Modification eV (IOM)) show an impression of polyacrylate obtained according to method c), wherein FIG. 5b shows an enlargement of FIG. 5a, and FIG. 5a the line shown at the bottom right corresponds to 10 μm and in FIG. 5b to 3 μm. These figures clearly demonstrate the extraordinary imaging accuracy that can be obtained with the replication method described above. In particular, with the latter method c) replicas of microstructures can be obtained in high quality, which have a geometric Ge accuracy within the order of magnitude of 10 nm.
Für die Replikation kann die als Master eingesetzte polykristalline Schicht geeig¬ neten Vorbehandlungsprozessen unterzogen werden. So können die Antihaftei- genschaften mit einer Antihaftbeschichtung oder durch elektrochemische Be¬ handlung verbessert werden. Auch können die polykristallinen Schichten mit einer Dotierung elektrisch leitfähig abgeschieden werden, so dass an der polykristallinen Schicht elektrochemische Prozesse durchgeführt werden können. Wird beispielsweise Diamant als Schichtmaterial eingesetzt, kann eine Dotierung mit Bor durchgeführt werden, um die Schicht elektrisch leitfähig zu machen.For replication, the polycrystalline layer used as the master can be subjected to suitable pretreatment processes. Thus, the non-stick properties can be improved with a non-stick coating or by electrochemical treatment. Also, the polycrystalline layers can be deposited with a doping electrically conductive, so that electrochemical at the polycrystalline layer Processes can be performed. If, for example, diamond is used as the layer material, doping with boron can be carried out in order to make the layer electrically conductive.
Beide Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Bildwand, die polykristalline Schicht sowie die Abformung (Replikation) der poiykristallinen Schicht können je nach Bedarf zusätzlich mit weiteren, für Bildwände bekannten Schichtsystemen versehen werden. Beispielsweise können sie mit optisch wirksamen Schichtsystemen ausgestattet werden. Ein Beispiel für optisch wirksame Schichtsysteme sind Schichtsysteme, die als Filter wirken. So können zum Beispiel Schichtsysteme verwendet werden, die die Wellenlängen des eingesetzten Projektors, wie die drei verwendeten Wellenlängen eines Laserprojektors, bevorzugt hindurchlassen, während sie die anderen Wellenlängen möglichst vollständig absorbieren. Wie eingangs erwähnt, kann mit derartigen Schichten der Kontrast erhöht werden.Both embodiments of the screen according to the invention, the polycrystalline layer and the impression (replication) of the polycrystalline layer can be additionally provided, as required, with further layer systems known for image walls. For example, they can be equipped with optically effective layer systems. An example of optically effective layer systems are layer systems which act as filters. For example, layer systems may be used that preferentially transmit the wavelengths of the deployed projector, such as the three wavelengths of a laser projector used, while fully absorbing the other wavelengths. As mentioned above, the contrast can be increased with such layers.
Auch können Reflexionsschichten eingesetzt werden, mit denen transparente Schichten oder transparent abgeformte Bildwände reflektierend gemacht werden können. It is also possible to use reflection layers with which transparent layers or transparently molded image walls can be made reflective.

Claims

Patentansprüche claims
1. Bildwand mit reduziertem Speckle-Effekt für ein Projektionsverfahren, wobei die Oberfläche der Bildwand die Struktur einer polykristallinen Schicht aufweist, mit glatten Kristallfacetten, wobei die Facetten durch unterschiedli¬ che räumliche Ausrichtung eine strukturierte Oberfläche ausbilden.1. Screen with reduced speckle effect for a projection method, wherein the surface of the screen has the structure of a polycrystalline layer, with smooth crystal facets, wherein the facets form a structured surface by unterschiedli¬ ge spatial orientation.
2. Bildwand nach Anspruch 1 , wobei die Bildwand eine polykristalline Schicht ist.The screen according to claim 1, wherein the screen is a polycrystalline layer.
3. Bildwand nach Anspruch 1 , wobei die Bildwand eine positive oder negative Abformung einer polykristalli¬ nen Schicht gemäß Anspruch 2 ist.3. Screen according to claim 1, wherein the screen is a positive or negative impression of a polykristalli¬ NEN layer according to claim 2.
4. Bildwand nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die polykristalline Schicht oder die Abformung auf einem Substrat auf¬ gebracht oder freitragend ausgebildet ist.4. Screen according to one of the preceding claims, wherein the polycrystalline layer or the impression auf¬ brought on a substrate or cantilever is formed.
5. Bildwand nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei eine polykristalline Schicht eingesetzt wird, die ausgewählt ist unter einer statistisch orientierten Schicht und einer orientierten Schicht.A display panel according to any one of the preceding claims, wherein a polycrystalline layer selected from a randomly oriented layer and an oriented layer is used.
6. Bildwand nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die polykristalline Schicht erhalten worden ist aus einem Schichtmate¬ rial ausgewählt unter Diamant, Silizium, Indium, Indiumarsenid, Galliumarse- nid, Cadmiumselenid, Perylen-Tetracarboxyl-Dianhydrid, Zink-oxid, Alumini¬ umoxid, Gallium-Gadoliniumgranat, Yttrium-Gadoliniumgranat, und Yttrium- Aluminiumgranat. 6. Screen according to one of the preceding claims, wherein the polycrystalline layer has been obtained from a Schichtmate¬ material selected from diamond, silicon, indium, indium arsenide, Galliumarse- nid, cadmium selenide, perylene-tetracarboxylic dianhydride, zinc oxide, Alumini¬ oxide , Gallium gadolinium garnet, yttrium gadolinium garnet, and yttrium aluminum garnet.
7. Bildwand nach Anspruch 6, wobei das Schichtmaterial ein dotiertes Material ist.The screen according to claim 6, wherein the layer material is a doped material.
8. Bildwand nach Anspruch 3, wobei das Material für die Abformung ein Material ist, das die Topographie der polykristallinen Schicht übernimmt.The screen according to claim 3, wherein the material for the impression is a material which takes over the topography of the polycrystalline layer.
9. Bildwand nach Anspruch 8, wobei das Material ausgewählt ist unter einem Metall, Glas oder Polymer.A display panel according to claim 8, wherein the material is selected from a metal, glass or polymer.
10. Bildwand nach einem der Ansprüche 8 oder 9, wobei das Material ein Polymer ist, ausgewählt unter thermoplastischen und aushärtenden Polymeren.The display panel of any of claims 8 or 9, wherein the material is a polymer selected from thermoplastic and thermosetting polymers.
11. Bildwand nach einem der Ansprüche 8 bis 10, wobei das Material ein Polymer ist, ausgewählt unter einer härtenden Mo- nomer-/Oligomerformulierung, die mit Ultraviolett- oder Elektronenstrahl aus¬ gehärtet ist.11. A display panel according to any one of claims 8 to 10, wherein the material is a polymer selected from a curing monomer / oligomer formulation cured with ultraviolet or electron beam.
12. Bildwand nach Anspruch 11 , wobei das Polymer ausgewählt ist unter Acrylaten und Epoxiden.12. The screen according to claim 11, wherein the polymer is selected from acrylates and epoxides.
13. Bildwand nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die polykristalline Schicht eine Diamantschicht ist.The screen according to any one of the preceding claims, wherein the polycrystalline layer is a diamond layer.
14. Bildwand nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Bildwand zusätzlich eine oder mehrere weitere Schichtsysteme enthält, ausgewählt unter optisch wirksamen Schichtsystemen und Refle¬ xionsschichten. 14. Screen according to one of the preceding claims, wherein the screen additionally contains one or more further layer systems selected from optically active layer systems and reflection layers.
15. Verfahren zur Herstellung einer Bildwand nach einem der Ansprüche 1 bis 14, wobei die Abscheidung der polykristallinen Schicht mittels chemischer Gas- phasenabscheidung, aktivierter chemischer Gasphasenabscheidung, physi- kalischer Gasphasenabscheidung oder galvanischer Verfahren erfolgt.15. A method for producing a screen according to any one of claims 1 to 14, wherein the deposition of the polycrystalline layer by means of chemical vapor deposition, activated chemical vapor deposition, physical vapor deposition or galvanic process takes place.
16. Verfahren nach Anspruch 15, wobei die Aktivierung in der aktivierten chemischen Gasphasenabscheidung mit Plasma oder mit Heißdrähten erfolgt.16. The method of claim 15, wherein the activation in the activated chemical vapor deposition takes place with plasma or with hot wires.
17. Verfahren zur Herstellung einer Bildwand nach einem der Ansprüche 15 oder 16, wobei als Schichtmaterial ein Material ausgewählt unter Diamant, Silizium, Indium, Indiumarsenid, Galliumarsenid, Cadmiumselenid, Perylen-Tetracar- boxyl-Dianhydrid, Zinkoxid, Aluminiumoxid, Gallium-Gadoliniumgranat,17. A method for producing a screen according to claim 15 or 16, wherein as a layer material selected from diamond, silicon, indium, indium arsenide, gallium arsenide, cadmium selenide, perylene-tetracarboxylic dianhydride, zinc oxide, aluminum oxide, gallium-gadolinium garnet,
Yttrium-Gadoliniumgranat, und Yttrium-Aluminiumgranat verwendet wird.Yttrium gadolinium garnet, and yttrium aluminum garnet is used.
18. Verfahren zur Herstellung einer Bildwand nach Anspruch 17, wobei als Schichtmaterial ein dotiertes Material eingesetzt wird.18. A method for producing a screen according to claim 17, wherein a doped material is used as the layer material.
19. Verfahren nach Anspruch 17 oder 18, wobei als Schichtmaterial Diamant eingesetzt wird.19. The method according to claim 17 or 18, wherein diamond is used as layer material.
20. Verfahren zur Herstellung einer Bildwand nach einem der Ansprüche 3 bis 14, wobei als Material für die Replikation ein Material eingesetzt wird, das die20. A method for producing a screen according to any one of claims 3 to 14, wherein as material for the replication, a material is used, the
Topographie der polykristallinen Schicht übernimmt.Topography of the polycrystalline layer takes over.
21. Verfahren nach Anspruch 20, wobei das Material ausgewählt wird unter einem Metall, einem Glas oder einem Polymer. 21. The method of claim 20, wherein the material is selected from a metal, a glass or a polymer.
22. Verfahren zur Herstellung einer Bildwand nach Anspruch 21 , wobei eine polykristalline Schicht repliziert wird, indem 1) mit einer niedrig¬ viskosen aushärtenden Polymerformulierung verfüllt, die 2) Polymerformulie¬ rung gehärtet und 3) das erhaltene Replikat von der Vorlage gelöst wird.22. A method for producing a screen according to claim 21, wherein a polycrystalline layer is replicated by 1) filled with a low viscous curing polymer formulation, the cured 2) Polymerformulie¬ tion and 3) the resulting replica is released from the template.
23. Verfahren nach Anspruch 22, wobei als härtbare Polymerformulierung ein Acrylat oder Epoxid verwendet wird, das mit Ultraviolettbestrahlung oder Elektronenstrahlbestrahlung ge¬ härtet werden.23. The method according to claim 22, wherein the curable polymer formulation used is an acrylate or epoxide which is cured by ultraviolet irradiation or electron beam irradiation.
24. Verfahren nach Anspruch 23, wobei als härtbares Polymer ein Acrylat eingesetzt wird.24. The method of claim 23, wherein as the curable polymer, an acrylate is used.
25. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 24, wobei die Bildwand zusätzlich mit einer oder mehren Schichtsystemen kom¬ biniert wird, ausgewählt unter optisch wirksamen Schichtsystemen und Re- flektionsschichten.25. The method according to any one of claims 15 to 24, wherein the screen is combined in addition with one or more layer systems combined under optically effective layer systems and reflection layers.
26. Verwendung einer Bildwand nach einem der Ansprüche 1 bis 14 für ein Laserprojektionsverfahren. 26. Use of a screen according to one of claims 1 to 14 for a laser projection method.
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