EP0638921A1 - In-line beam system for image tubes - Google Patents

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Publication number
EP0638921A1
EP0638921A1 EP94111104A EP94111104A EP0638921A1 EP 0638921 A1 EP0638921 A1 EP 0638921A1 EP 94111104 A EP94111104 A EP 94111104A EP 94111104 A EP94111104 A EP 94111104A EP 0638921 A1 EP0638921 A1 EP 0638921A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
grid
voltage
distance
convergence
grating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
EP94111104A
Other languages
German (de)
French (fr)
Inventor
Dr. Gerard Hörsch
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nokia Technology GmbH
Original Assignee
Nokia Technology GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE4330370A external-priority patent/DE4330370A1/en
Application filed by Nokia Technology GmbH filed Critical Nokia Technology GmbH
Publication of EP0638921A1 publication Critical patent/EP0638921A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/48Electron guns
    • H01J29/50Electron guns two or more guns in a single vacuum space, e.g. for plural-ray tube
    • H01J29/503Three or more guns, the axes of which lay in a common plane
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/48Electron guns
    • H01J29/488Schematic arrangements of the electrodes for beam forming; Place and form of the elecrodes

Definitions

  • the invention is concerned with an in-line beam system for picture tubes, in particular one which is suitable for eliminating the grid 3 convergence and upon deflection of the electron beams in the 9 ° and 3 ° range of the screen to produce this vertical bar largely homogenized in the stripe width.
  • In-line beam systems are usually formed by a cathode arrangement and a grid arrangement upstream of this cathode arrangement in the direction of the screen.
  • the cathode arrangement comprises three cathodes arranged next to one another and arranged in one plane.
  • the grid arrangement upstream of the cathode arrangement in the direction of the screen is usually formed by four grid electrodes spaced apart from one another.
  • the grid closest to the cathode arrangement is called grid 1 or control grid.
  • the grid 2 which is also called the screen grid, connects to the grid 1 in the direction of the screen.
  • the combination of cathode, control grid and screen grid forms the so-called triode lens.
  • Grid 2 the grid 3 electrode, which consists of four cup-shaped electrodes, two of which are each connected to their free edge and thereby form a cup-shaped electrode.
  • the next electrode to the screen is the 4-electrode grid.
  • the grid 3 and grid 4 electrodes form the focusing lens of the system.
  • each electrode has three openings arranged next to one another, arranged in one plane and aligned with the cathodes, through which the electrons emitted by the cathodes pass in the direction of the screen.
  • the openings in the grids 1 to 4 which are located in front of the central cathode, are aligned centrally to the tube axis.
  • the openings in the grids 1 to 4 through which the electron beams emitted by the respective outer cathode pass, are — as explained in more detail below — also aligned with the central grid openings.
  • the s distances in the grids 1 to 3 are chosen to be the same size.
  • the electron beams, which are emitted by the two outer cathodes have the same distance from the middle one, at least according to theoretical considerations, on their way through the grids 1 to 3 Electron beam.
  • the s-spacing which is predominant between the central opening and the respective outer opening in grating 4, is greater than the s-spacing between the center openings and the outer openings of grating 1 to 3. This causes that at the transition of the two outer rays of grating 3 in grid 4 these are broken.
  • the result is that the two outer beams are brought to convergence with the center beam at a point on the tube axis (Z).
  • the in-line beam system described above is used in the neck of the picture tube.
  • the cathodes and the grids are contacted via contact pins, which are melted through the glass in the neck area of the picture tube.
  • the so-called cone connects to the neck of the picture tube and then the screen.
  • the deflection arrangement is attached to the outside of the picture tube, which causes the three electron beams generated by the beam system to be deflected via the screen.
  • a self-converging deflection system is usually used for this. This is understood to mean an arrangement which ensures that the convergence points are always on the screen both when the electron beams are deflected vertically and horizontally.
  • An ideal system i.e. a system, which has no assembly errors due to manufacturing tolerances, has a focusing voltage (also called grid 3 voltage) at a certain anode voltage, in which the spots on the screen are optimally focused visually.
  • This focus voltage is called the optimal focus voltage and is used for a large number of tubes of this type of tube as a setting voltage for the convergence setting.
  • the optimal focus voltage is approx. 25 to 35% of the anode voltage.
  • the convergence of the picture tube is set by magnetizing internal or external multipoles.
  • the anode voltage is applied to grid 4 and the optimal focus voltage which is decisive for this tube type but is only valid for a system free from structural errors.
  • the two outer beams are bent at the same angle in the direction of the center beam.
  • This weakening of the main lens effect leads to the fact that the external beams are bent less strongly in the direction of the central beam in comparison with the example in the last paragraph and thus show a convergence error in a tube which has already been set.
  • grid 3 convergence running The influence that the increase or decrease in the grid 3 voltage has on the convergence is referred to as grid 3 convergence running.
  • This grid 3 convergence run is extremely disadvantageous because it prevents a tube that is set under the effect of the optimal focus voltage that is only valid for the respective tube type, in terms of sharpness and convergence, from an optimal setting is received if the system has an assembly error. If it turns out after the convergence has been set that the respective tube is afflicted with an assembly error in the system, such an assembly error, which is unavoidable in current production, can only be reduced by modifying the grids with regard to sharpness and convergence 3 Voltage a compromise setting is made.
  • the 9 ° range of the picture tube is the edge of the screen which is closest in the x direction to the electron beam gun which produces the color blue on the screen.
  • the 3 ° -range is the edge of the picture tube which is closest to the color red in the x-direction of the electron beam gun.
  • the respective external beam of an in-line beam system which is spatially closest to the edge of the picture tube to which the horizontal deflection is performed, in comparison to a horizontal one Distraction to the other edge of the picture tube on the screen produces about 20-30% wider vertical bars.
  • registration is assumed that the external rays of the system generate the electron rays for the colors red and blue.
  • the causes of this inhomogeneity in the width of the vertical bars in the colors red and blue are largely known.
  • One cause is that a predominantly pillow-shaped magnetic field for the horizontal deflection of the electron beams increases in strength from the inside, ie from the center of the tube to the outside.
  • the electrons receive horizontal magnetic field components when deflected horizontally by this field.
  • Another reason for the different vertical bar widths of the colors red and blue is the influence of the deflection stray field. The influence of this stray field prevents the electron beams from crossing the main lens (transition from grating 3 to grating 4) in the middle.
  • the red-colored spots are strongly distorted in the horizontal direction and over-focused in the vertical direction.
  • the consequences are the wide vertical bars of the color red that have already been mentioned in this area.
  • the extent of the distortion of the red spot depends on the amount of the additional components of the pillow-shaped deflection field and on the amount of the displacement of the electron beams in the main lens by the deflection stray field.
  • the electron beam of the color blue is less distorted in the horizontal direction when deflected into the 3 ° range of the picture tube and underfocused in the vertical direction. This results in narrow vertical bars of blue in the 3 ° range.
  • the electron beams are deflected into the 9 ° range, they are The proportions of the vertical bar widths are reversed accordingly, i.e. in the 9 ° range the vertical bars of red are narrower and those of blue are wider.
  • the invention is therefore based on the object of specifying an electron gun system for picture tubes which eliminates the 3-convergence grid and produces extensively homogenized Verkialbalken for the colors red and blue in the 3 o'clock and 9 o'clock (deflection) range .
  • the s-spacing in the lower part of grid 3 is greater than the s-spacing of grid 1 and grid 2 and smaller than the s-spacing of grid 4 and that the s-spacing of the upper grid part of grid 3 is equal to the s-spacing of grid 1 and grid 2.
  • the grid 3 convergence running which occurs with the modification of the grid 3 voltage is eliminated. If the grating 3 voltage is increased, the effect of the pre-focusing lens formed between grating 2 and grating 3 lower part increases and the effect of the main lens between grating 3 upper part and grating 4 decreases. This means that compared to an unchanged grid 3 voltage, the outer rays in the area between grid 2 and grid 3 lower part stronger and weaker in the main lens. In contrast, when the grid 3 voltage is reduced, the effect of the pre-focusing lens decreases and the effect of the main lens increases.
  • the width of the vertical bars in the 3 ° and 9 ° range of the colors red and blue is largely homogenized. If the electron beams are deflected into the 3 ° range, the electron beam of the color red becomes effective the pre-focusing lens is "pre-bent" in a direction opposite to the deflection direction. A central crossing of this electron beam through the main lens can thus be achieved by superimposing the deflector stray field. This reduces the spherical aberration of the main lens and reduces the "deflection-related" influences that are otherwise responsible for the wide vertical bars in this deflection area.
  • Advantageous effects of the electron gun system set out in claim 1 can be achieved if, according to claim 2, the s-spacing of the lower part of grid 3 is increased by up to 40 ⁇ m compared to the s-spacing of grid 2.
  • An optimal grid 3 voltage (U G3opt ) is understood to be one in which the electron beams of a system free of defects on the screen are optimally focused visually. This optimal grid 3 voltage or focus voltage depends on the design and is conventionally approx. 25 -35% of the anode voltage (U A ).
  • FIG. 1 shows a picture tube 10.
  • This picture tube 10 is formed by the screen 11, the cone 12 and the neck 13.
  • an in-line beam system 14 shown in broken lines
  • a magnetic deflection system 15 is attached to the transition from the neck 13 to the cone 12. This deflection system 15 deflects the electron beams (R, G, B) over the surface of the screen 11.
  • This deflection system 15 deflects the electron beams (R, G, B) over the surface of the screen 11.
  • R ', G', B ' this is indicated schematically by the broken line. It can be clearly seen from FIG.
  • the deflection system 15 generates over its overall length L a predominantly "barrel-shaped" field line course for the vertical deflection and a predominantly "pillow-shaped" field line course for the horizontal deflection.
  • the deflection system 15 is therefore a self-converging system.
  • FIG. 2 shows a top view of an in-line jet generator system.
  • the in-line jet generator system 14 has a pressed glass plate 16, in which contact pins 17 are melted.
  • the grid electrodes 18, 19, focusing electrodes 20, 21 and the convergence pot 22 adjoin this.
  • the cathodes 23R, 23G, 23B which are shown only schematically and in broken lines, are arranged within the grid electrodes.
  • the control grid electrode 18 is the Grid electrode 1 and the screen grid electrode 19 the grid electrode 2.
  • the focusing electrodes 20, 21 form the focusing lens.
  • the individual parts of the in-line beam generator system 14 are held together by two glass rods 24.
  • the focusing electrode 20, which is also called a grating 3, consists of four cup-shaped electrodes 20.1 to 20.4, of which two electrodes are connected to one another by their free edge and thereby form a cup-shaped electrode.
  • three openings are arranged through which the electron beams (R, G, B) generated by the three cathodes 23 pass and - as shown in FIG. 1 - Impact on the phosphor layer 25 applied to the inside of the screen 11.
  • the tube axis Z is also shown in FIG. 2 by the lines indicated above and below the jet generator system.
  • the dash-dotted arrows indicated above the convergence pot 22 illustrate that the central electron beam G runs on the tube axis Z and the two outer beams R, B run at an angle to the center beam G.
  • the center beam G which excites the green phosphor 25 on the screen 11 in the exemplary embodiments shown here, need not necessarily be used to excite the green phosphor 25. Rather, in another embodiment (not shown), the cathode assignment can be selected as it is in connection with another application filed under an earlier filing date the applicant is described.
  • an in-line jet generator system 14 is shown schematically in plan view.
  • the three cathodes 23R, 23G, 23B are arranged on the left side of FIG. Spaced from the cathodes 23R, 23G, 23B is first the grid 1 (18), then the grid 2 (19), then the focusing electrode 20 and then the grid 4 (21). Of the grid 3 electrode 20, only the grid 3 lower part 20.1 and the grid 3 upper part 20.4 are shown. Openings 27R, 27G, 27B are arranged in the electrodes 18 and 19 centrally to the cathodes 23R, 23G, 23B.
  • the s-distances (A1) of the centers of the openings 27R to the centers of the openings 27G and the centers of the openings 27B to the centers of the openings 27G are the same and are 6.6 mm in the exemplary embodiment shown.
  • the other electrodes 20 (20.1 and 20.4), 21 also have openings, which are designated 28 in FIG.
  • the openings 28G like the openings 27G, are aligned centrally to the cathode 23G or to the tube axis Z. With increasing distance of the openings 28 arranged in the grids 20 (20.1 and 20.4), 21 from the cathodes 23, these openings 28 have increasing cross sections.
  • each individual grating 18 to 21 are of the same size for the different electron beams R, G, B.
  • the opening cross sections per grating for the different electron beams can be of different sizes.
  • FIG. 3 the arrangement of a beam system 14 according to the invention is illustrated only for the external beam R, while the outer beam B shows an arrangement according to the prior art.
  • the grating opening arrangement for the center beam G is the same.
  • the s spacings (A2R, A2B) in the lower part 20.1 of grid 3 (20) for the electron beams R and B are different in size.
  • the s-distance (A2R) is 6.62 mm and the s-distance (A2B) as well as the s-distance (A1) is 6.6 mm.
  • the s-distance (A3) in the upper part 20.4 of grid 3 (20) is the same for both the electron beam (R) and for the electron beam (B) and, like the s-distance (A1), is 6.6 mm.
  • the s-distance in grid 4 (21) is designated. It is 6.785 mm for the electron beam (R) and for the electron beam (B).
  • an electron beam B emitted by the cathode 23B according to the prior art with a given grid 3 and grid 4 voltage in the transition from the upper part 20.4 of the grid 3 (20) to the grid 4 (21) corresponds to the solid line (B) bent towards the center beam (G).
  • the grid 3 voltage is the focus voltage (U G3opt ) that has been visually determined for this system or this tube type and is regarded as optimal.
  • the grating 3 voltage is adjusted accordingly to the end setting of the tube in order to adjust the already mentioned compromise between sharpness and convergence.
  • the course of the blue electron beam according to the prior art is shown, the grating 3 (20) of which is subjected to a higher grating 3 voltage than the optimal focus voltage (U G3opt ) for compromise adjustment.
  • the electron beam (B) is bent less strongly in the transition region between the two grids in the direction of the center beam (G). This is indicated by the dashed line (B '').
  • the electron beam (R) is not only in the transition from grid 3 [20 (20.4)] to grid 4 (21), but also in the transition from grid 2 (19) to grid 3 [20 (20.1 )] bent towards the center beam (G). This is achieved by increasing the s-spacing (A2R) in the lower part of grid 3 [20 (20.1)].
  • the remaining grid parts remain unchanged according to the prior art. This is shown for the course of the red electron beam in the upper part of FIG. 3.
  • the solid course of the electron beam (R) is given when the grating 3 (20) has an optimal blue beam path (lower part of FIG 3) valid focus voltage (U G3opt ) is applied.
  • the effect of the pre-focusing lens 19, 20.1 is increased.
  • the effect of the main lens is weakened by increasing the grating 3 voltage.
  • the latter is expressed in that the beam R ′′ is angled less than the beam R in the direction of the center beam (G).
  • the effect of the pre-focusing lens and the main lens in the beam path (R), despite the increase in the grating 3 voltage, means that the beam (R ′′) at point (F) also converges with the center beam (G).
  • the independence of the grid 3 convergence run from an increase or decrease in the grid 3 voltage is given in a range of ⁇ 800 volts based on the optimal grid 3 voltage (U G3opt ).
  • the optimal focus voltage (U G3opt ) was approximately 8350 volts with an anode voltage (U A ) of 28500 volts.
  • the optimal focus voltage (U G3opt ) was able to influence the convergence within a voltage range of ⁇ 500 volts be modified.

Landscapes

  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

In-line beam systems (14) with self-converging deflecting units (deflectors) (15) have the disadvantage that during the deflection of the outer beams (R, B) vertical bars of the colours red are wider in the 3 DEG DEG deflection region than vertical bars of this colour in the 9 DEG DEG deflection region. The conditions, just described, are precisely reversed for the colour blue. In addition, it is found in these systems that, when modifying a grid 3 voltage which has been determined to be optimal, a convergence error occurs which is designated as grid 3 convergence running. According to the invention, a beam-producing system (14) is specified in which the s-distances (spacings) (A1, A3) in grid 1 (18) in grid 2 (19) and in the upper part (20.4) of grid 3 (20) are identical and the s-distance (A2) in the lower part (20.1) of grid 3 (20) is greater than the s-distance (A1) in grid 1 and smaller than the s-distance (A4) in grid 4 (21). In such a system, the vertical bars of the colours blue and red are largely homogenized in the 9 DEG DEG or 3 DEG DEG deflection region of the monitor (11). In addition, such a system (14) is resistant in terms of grid 3 convergence running when the grid 3 voltage is changed. <IMAGE>

Description

Technisches GebietTechnical field

Die Erfindung befaßt sich mit einem In-Line-Strahlsystem für Bildröhren, insbesondere mit einem solchen, welches geeignet ist, das Gitter 3-Konvergenzlaufen zu beseitgen und bei Ablenkung der Elektronenstrahlen in den 9°°- und 3°°-Bereich des Bildschirms auf diesem in der Streifenbreite weitgehend homogenisierte Vertikalbalken zu erzeugen.The invention is concerned with an in-line beam system for picture tubes, in particular one which is suitable for eliminating the grid 3 convergence and upon deflection of the electron beams in the 9 ° and 3 ° range of the screen to produce this vertical bar largely homogenized in the stripe width.

Stand der TechnikState of the art

In-Line-Strahlsysteme für Bildröhren sind seit langem im Stand der Technik bekannt, so daß an dieser Stelle nur auf die für das Verständnis der Erfindung wesentlichen Belange eingegangen zu werden braucht.In-line beam systems for picture tubes have long been known in the prior art, so that only the essentials for understanding the invention need be discussed at this point.

Üblicherweise werden In-Line-Strahlsysteme von einer Kathodenanordnung und einer dieser Kathodenanordnung in Richtung zum Bildschirm vorgelagerten Gitteranordnung gebildet. Die Kathodenanordnung umfaßt drei einander nebengeordnete und in einer Ebene angeordnete Kathoden. Die der Kathodenanordnung in Richtung zum Bildschirm vorgelagerte Gitteranordnung wird zumeist von vier voneinander beabstandeten Gitterelektroden gebildet. Das der Kathodenanordnung nächste Gitter wird Gitter 1 oder Steuergitter genannt. An das Gitter 1 schließt in Richtung zum Bildschirm das Gitter 2 an, welches auch Schirmgitter genannt wird. Die Kombination von Kathode, Steuergitter und Schirmgitter bildet die sogenannte Triodenlinse. In Richtung zum Schirm schließt an Gitter 2 die Gitter 3-Elektrode an, welche aus vier becherförmigen Elektroden besteht, von denen jeweils zwei Elektroden mit ihrem freien Rand verbunden sind und dadurch eine topfförmige Elektrode bilden. Die dem Bildschirm nächste Elektrode ist die Gitter 4-Elektrode. Die Gitter 3- und die Gitter 4-Elektrode bilden die Fokussierlinse des Systems. Üblicherweise besitzt jede Elektrode drei einander nebengeordnete, in einer Ebene angeordnete und zu den Kathoden ausgerichtete Öffnungen, durch welche die von den Kathoden emittierten Elektronen in Richtung zum Schirm hin durchtreten. Dabei sind die Öffnungen in den Gittern 1 bis 4, welche der mittleren Kathode vorgelagert sind, zentrisch zur Röhrenachse ausgerichtet. Die Öffnungen in den Gittern 1 bis 4, durch welche die von der jeweiligen Außenkathode emittierte Elektronenstrahlen durchtreten, sind -wie nachfolgend näher ausgeführt- ebenfalls zu den mittleren Gitteröffnungen ausgerichtet.In-line beam systems are usually formed by a cathode arrangement and a grid arrangement upstream of this cathode arrangement in the direction of the screen. The cathode arrangement comprises three cathodes arranged next to one another and arranged in one plane. The grid arrangement upstream of the cathode arrangement in the direction of the screen is usually formed by four grid electrodes spaced apart from one another. The grid closest to the cathode arrangement is called grid 1 or control grid. The grid 2, which is also called the screen grid, connects to the grid 1 in the direction of the screen. The combination of cathode, control grid and screen grid forms the so-called triode lens. Towards the screen connects Grid 2 the grid 3 electrode, which consists of four cup-shaped electrodes, two of which are each connected to their free edge and thereby form a cup-shaped electrode. The next electrode to the screen is the 4-electrode grid. The grid 3 and grid 4 electrodes form the focusing lens of the system. Typically, each electrode has three openings arranged next to one another, arranged in one plane and aligned with the cathodes, through which the electrons emitted by the cathodes pass in the direction of the screen. The openings in the grids 1 to 4, which are located in front of the central cathode, are aligned centrally to the tube axis. The openings in the grids 1 to 4, through which the electron beams emitted by the respective outer cathode pass, are — as explained in more detail below — also aligned with the central grid openings.

Bevor für die verschiedenen Gitter die Ausrichtung der äußeren Gitteröffnungen zur jeweils mittleren Gitteröffnung näher eingegangen wird, sei zum besseren Verständnis der Begriff des s-Abstandes erläutert. Hierunter wird der seitliche Abstand verstanden, den eine durch eine äußere Gitteröffnung gelegte Mittellinie zur Röhrenachse (Z), d.h. zu einer durch die Mittenöffnung dieses Gitters gelegte Mittellinie hat.Before the orientation of the outer lattice openings to the respective middle lattice opening is discussed in more detail for the various lattices, the concept of the s-spacing should be explained for better understanding. This is understood to mean the lateral distance that a center line placed through an outer grid opening to the tube axis (Z), i.e. to a center line through the center opening of this grid.

Gemäß dem Stand der Technik sind die s-Abstände in den Gittern 1 bis 3 gleich groß gewählt. Dadurch haben die Elektronenstrahlen, welche von den beiden Außenkathoden emittiert werden, zumindest nach theoretischer Betrachtung auf ihrem Weg durch die Gitter 1 bis 3 gleichen Abstand zum mittleren Elektronenstrahl. Der s-Abstand, welcher zwischen der mittleren Öffnung und der jeweiligen Außenöffnung in Gitter 4 vorherrschend ist, ist größer als der s-Abstand zwischen den Mittenöffnungen und den Außenöffnungen von Gitter 1 bis 3. Dies bewirkt, daß beim Übergang der beiden Außenstrahlen von Gitter 3 in Gitter 4 diese gebrochen werden. Die Folge ist, daß die beiden Außenstrahlen an einem Punkt auf der Röhrenachse (Z) mit dem Mittenstrahl zur Konvergenz gebracht werden.According to the prior art, the s distances in the grids 1 to 3 are chosen to be the same size. As a result, the electron beams, which are emitted by the two outer cathodes, have the same distance from the middle one, at least according to theoretical considerations, on their way through the grids 1 to 3 Electron beam. The s-spacing, which is predominant between the central opening and the respective outer opening in grating 4, is greater than the s-spacing between the center openings and the outer openings of grating 1 to 3. This causes that at the transition of the two outer rays of grating 3 in grid 4 these are broken. The result is that the two outer beams are brought to convergence with the center beam at a point on the tube axis (Z).

Das zuvor beschriebene In-Line-Strahlsystem ist im Hals der Bildröhre eingesetzt. Die Kontaktierung der Kathoden und der Gitter erfolgt über Kontaktstifte, die durch das Glas im Halsbereich der Bildröhre eingeschmolzen sind. An den Hals der Bildröhre schließt der sogenannte Konus und danach der Bildschirm an. Im Übergangsbereich vom Hals zum Konus ist an der Außenseite der Bildröhre die Ablenkanordnung angesetzt, welche bewirkt, daß die drei von dem Strahlsystem erzeugten Elektronenstrahlen über den Bildschirm abgelenkt werden. Bei In-Line-Strahlsystemen wird dazu überlicherweise ein selbstkonvergierendes Ablenksystem verwendet. Darunter wird eine Anordnung verstanden, die bewirkt, daß die Konvergenzpunkte sowohl bei vertikaler als auch bei horizontaler Ablenkung der Elektronenstrahlen immer auf dem Bildschirm liegen. Allgemein kann gesagt werden, daß die Selbstkonvergenz dadurch erreicht wird, daß die Elektronenstrahlen zur Ablenkung in Vertikalrichtung einem überwiegend tonnenförmigen und zur Ablenkung in Horizontalrichtung einem überwiegend kissenförmigen Ablenkfeld ausgesetzt werden. Weitere Einzelheiten dazu sind in der Schrift R. Mäusl, Fernsehtechnik, Hütig-Verlag, 1991, Seite 173 ff, und der Schrift B. Brown, Die selbstkonvergierende Ablenkserie FTX, Funk-Technik 1976, Seite 764 ff zu entnehmen.The in-line beam system described above is used in the neck of the picture tube. The cathodes and the grids are contacted via contact pins, which are melted through the glass in the neck area of the picture tube. The so-called cone connects to the neck of the picture tube and then the screen. In the transition area from the neck to the cone, the deflection arrangement is attached to the outside of the picture tube, which causes the three electron beams generated by the beam system to be deflected via the screen. For in-line beam systems, a self-converging deflection system is usually used for this. This is understood to mean an arrangement which ensures that the convergence points are always on the screen both when the electron beams are deflected vertically and horizontally. In general, it can be said that self-convergence is achieved by exposing the electron beams to a predominantly barrel-shaped deflection field for the vertical direction and to a predominantly pillow-shaped deflection field for the deflection in the horizontal direction. Further details can be found in R. Mäusl, Fernsehtechnik, Hütig-Verlag, 1991, page 173 et seq., And B. Brown, Die self-converging Deflection series FTX, Funk-Technik 1976, page 764 ff.

Ein ideal aufgebautes System, d.h. ein System, welches keine Aufbaufehler durch Fertigungstoleranzen hat, besitzt bei einer bestimmten Anodenspannung eine Fokussierspannung (auch Gitter 3-Spannung genannt), bei der die Spots auf dem Bildschirm visuell optimal fokussiert werden. Diese Fokusspannung wird als optimale Fokusspannung bezeichnet und dient für eine Vielzahl von Röhren dieses Rohrentyps als Einstellspannung für die Konverenzeinstellung. Je nach Design des Elektronenstrahlsystems beträgt die optimale Fokusspannung ca. 25 bis 35% der Anodenspannung.An ideal system, i.e. a system, which has no assembly errors due to manufacturing tolerances, has a focusing voltage (also called grid 3 voltage) at a certain anode voltage, in which the spots on the screen are optimally focused visually. This focus voltage is called the optimal focus voltage and is used for a large number of tubes of this type of tube as a setting voltage for the convergence setting. Depending on the design of the electron beam system, the optimal focus voltage is approx. 25 to 35% of the anode voltage.

Fertigungstechnisch erfolgt die Einstellung der Konvergenz der Bildröhre durch das Aufmagnetisieren von internen oder externen Multipolen. Entsprechend dem jeweils einzustellenden Röhrentyp ist dabei an Gitter 4 die Anodenspannung und an Gitter 3 die für diesen Röhrentyp maßgebliche, jedoch nur für ein aufbaufehlerfreies System gültige optimale Fokusspannung angelegt. Ist die Einstellung der Konvergenz abgeschlossen, werden die beiden Außenstrahlen mit gleichem Winkel in Richtung zum Mittenstrahl geknickt.In terms of production technology, the convergence of the picture tube is set by magnetizing internal or external multipoles. Corresponding to the tube type to be set in each case, the anode voltage is applied to grid 4 and the optimal focus voltage which is decisive for this tube type but is only valid for a system free from structural errors. When the convergence setting is complete, the two outer beams are bent at the same angle in the direction of the center beam.

Besitzt jedoch ein System auf Fertigungstoleranzen beruhende Fehler, indem beispielsweise ein Triodengitter horizontal versetzt ist, treten die Elektronenstrahlen nicht mehr mittig durch die Hauptlinse. Die Folge davon ist, daß die Vertikalbalken als Folge der sphärischen Aberration der Hauptlinse einen einseitigen Haloeinsatz erhalten. Diese Haloeinsätze können dadurch beseitigt werden, daß der im letzten Absatz beschriebene Spannungshub zwischen der optimalen Fokusspannung und der Anodenspannung verändert wird, indem durch Erhöhung der Fokussspannung die Haloeinsätze "weggedreht" werden. Diese -durch Erhöhung der Fokusspannung bewirkte- Schwächung der Hauptlinsenwirkung führt dazu, daß die Außenstrahlen im Vergleich zu dem Beispiel im letzen Absatz weniger stark im Richtung zum Mittenstrahl geknickt werden und somit bei einer bereits fertig eingestellten Röhre sich als Konvergenzfehler zeigen. Auch ist es bekannt, ausgehend von den im letzten Absatz beschriebenen Spannungverhältnissen, die Fokusspannung zu vermindern. Diese Maßnahme wird dann ergriffen, wenn auf Grund von Fertigungstoleranzen die designgemäßen Gitterabstände oder Öffnungsdurchmesser nicht eingehalten sind. Ist beispielsweise der Gitterabstand zwischen Gitter 2 und Gitter 3 zu klein, wird die Wirkung der Gitter 2/3-Linse vergrößert. Um die Wirkung dieser Linse zu normalisieren, muß die Fokusspannung reduziert werden. Dies bewirkt ebenfalls einen Konvergenzfehler, da durch diese Maßnahme die Wirkung der Hauptlinse vergrößert wird und als Folge davon die Außenstrahlen in einem stärkeren Maße als dies bei optimaler Fokusspannung der Fall ist in Richtung zum Mittenstrahl gebogen werden.However, if a system has defects based on manufacturing tolerances, for example, a triode grid is offset horizontally, the electron beams no longer pass through the center of the main lens. The consequence of this is that the vertical beams receive a one-sided halo insert as a result of the spherical aberration of the main lens. These halo inserts can be eliminated that the voltage swing described in the last paragraph between the optimal focus voltage and the anode voltage is changed by "turning" the halo inserts by increasing the focus voltage. This weakening of the main lens effect, which is caused by an increase in the focus voltage, leads to the fact that the external beams are bent less strongly in the direction of the central beam in comparison with the example in the last paragraph and thus show a convergence error in a tube which has already been set. It is also known to reduce the focus voltage based on the voltage conditions described in the last paragraph. This measure is taken if, due to manufacturing tolerances, the design grid spacing or opening diameter is not maintained. For example, if the grating distance between grating 2 and grating 3 is too small, the effect of the grating 2/3 lens is increased. In order to normalize the effect of this lens, the focus voltage must be reduced. This also causes a convergence error, since this measure increases the effect of the main lens and, as a result, the outer beams are bent towards the center beam to a greater extent than is the case with optimum focus voltage.

Der Einfluß, den die Erhöhung oder Erniedrigung der Gitter 3-Spannung auf die Konvergenz hat, wird als Gitter 3-Konvergenzlaufen bezeichnet.The influence that the increase or decrease in the grid 3 voltage has on the convergence is referred to as grid 3 convergence running.

Dieses Gitter 3-Konvergenzlaufen ist außerordentlich nachteilig, weil es verhindert, daß eine unter Wirkung der nur für den jeweiligen Röhrentyp gültigen optimalen Fokusspannung eingestellte Röhre in Bezug auf Schärfe und Konvergenz eine optimale Einstellung erhält, wenn das System mit einem Aufbaufehler behaftet ist. Denn stellt sich nach Einstellung der Konvergenz heraus, daß die jeweilige Röhre mit einem Aufbaufehler im System behaftet ist, kann ein solcher -in der laufenden Produktion unvermeidbarer-Aufbaufehler nur noch dadurch abgemindert werden, daß in Hinblick auf Schärfe und Konvergenz durch Modifizierung der Gitter 3-Spannung eine Kompromißeinstellung vorgenommen wird.This grid 3 convergence run is extremely disadvantageous because it prevents a tube that is set under the effect of the optimal focus voltage that is only valid for the respective tube type, in terms of sharpness and convergence, from an optimal setting is received if the system has an assembly error. If it turns out after the convergence has been set that the respective tube is afflicted with an assembly error in the system, such an assembly error, which is unavoidable in current production, can only be reduced by modifying the grids with regard to sharpness and convergence 3 Voltage a compromise setting is made.

Werden mittels einer vorbeschriebenen Anordnung Vertikalbalken auf dem Bildschirm erzeugt, so ist auffällig, daß die Vertikalbalken der Farbe Rot bei Ablenkung der Elektronenstrahlen in den 3°°-Bereich der Bildröhre gegenüber einer Ablenkung in den 9°°-Bereich der Bildröhre um 20 bis 30 % breiter sind. Für die Farbe Blau sind die Verhältnisse genau umgekehrt, d.h. die Vertikalbalken der Farbe Blau sind im 9°°-Bereich gegenüber dem 3°°-Bereich der Bildröhre ebenfalls um 20 bis 30 % breiter.If vertical bars are generated on the screen by means of a previously described arrangement, it is striking that the vertical bars of the color red are deflected in the 3 ° range of the picture tube when the electron beams are deflected compared to a deflection in the 9 ° range of the picture tube by 20 to 30 % are wider. For the color blue, the relationships are exactly the opposite, i.e. The vertical bars of the color blue are also 20 to 30% wider in the 9 ° range than in the 3 ° range of the picture tube.

Zur Verdeutlichung sei darauf hingewiesen, daß der 9°°-Bereich der Bildröhre der Rand des Bildschirms ist, der in x-Richtung der Elektronenstrahlkanone, welche die Farbe Blau auf dem Schirm erzeugt, am nächsten liegt. Der 3°°-Bereich ist der Rand der Bildröhre, welcher in x-Richtung der Elektronenstrahlkanone der Farbe Rot am nächsten ist. Allgemein kann gesagt werden, daß bei (Horizontal-)Ablenkung der Elektronenstrahlen in x-Richtung der jeweilige Außenstrahl eines In-Line-Strahlsystems, welcher dem Rand der Bildröhre, zu dem horizontal abgelenkt wird, räumlich am nächsten ist, im Vergleich zu einer horizontalen Ablenkung an den anderen Rand der Bildröhre auf dem Bildschirm ca. 20-30% breitere Vertikalbalken erzeugt. Für die Anmeldung wird aber aus Gründen der Übersichtlichkeit davon ausgegangen, daß die Außenstrahlen des Systems die Elektronenstrahlen für die Farben Rot und Blau erzeugen.For the sake of clarity, it should be pointed out that the 9 ° range of the picture tube is the edge of the screen which is closest in the x direction to the electron beam gun which produces the color blue on the screen. The 3 ° -range is the edge of the picture tube which is closest to the color red in the x-direction of the electron beam gun. In general, it can be said that with (horizontal) deflection of the electron beams in the x-direction, the respective external beam of an in-line beam system which is spatially closest to the edge of the picture tube to which the horizontal deflection is performed, in comparison to a horizontal one Distraction to the other edge of the picture tube on the screen produces about 20-30% wider vertical bars. For the For reasons of clarity, however, registration is assumed that the external rays of the system generate the electron rays for the colors red and blue.

Die Ursachen, welche diese Inhomogenität in der Breite der Vertikalbalken bei den Farben Rot und Blau hervorrufen, sind weitgehend bekannt. Eine Ursache ist, daß ein überwiegend kissenförmiges Magnetfeld zur horiziontalen Ablenkung der Elektronenstrahlen in seiner Stärke von innen, d.h. von der Röhrenmitte nach außen zunimmt. Außerdem erhalten die Elektronen bei horizontaler Ablenkung durch dieses Feld zusätzlich horizontale Magnetfeldkomponenten. Als weitere Ursache für die verschiedene Vertikalbalkenbreite der Farben Rot und Blau wird der Einfluß des Ablenkstreufeldes angesehen. Der Einfluß dieses Streufeldes verhindert, daß die Elektronenstrahlen die Hauptlinse (Übergang von Gitter 3 zu Gitter 4) mittig durchqueren. Werden nun die Elektronenstrahlen in den 3°°-Bereich des Schirms abgelenkt, werden die Spots der Farbe Rot in horizontaler Richtung stark verzerrt und in vertikaler Richtung überfokussiert. Die Folgen sind die schon angesprochenen breiten Vertikalbalken der Farbe Rot in diesem Bereich. Das Ausmaß der Verzerrung des roten Spots ist dabei von dem Betrag der Zusatzkomponenten des kissenförmigen Ablenkfeldes und von dem Betrag der Verschiebung der Elektronenstrahlen in der Hauptlinse durch das Ablenkstreufeld abhängig. Der Elektronenstrahl der Farbe Blau wird bei Ablenkung in den 3°°-Bereich der Bildröhre in horizontaler Richtung weniger stark verzerrt und in vertikaler Richtung unterfokussiert. Dies hat schmale Vertikalbalken der Farbe Blau im 3°°-Bereich zur Folge. Bei der Ablenkung der Elektronenstrahlen in den 9°°-Bereich sind die Verhältnisse der vertikalen Balkenbreiten entsprechend umgekehrt, daß heißt im 9°°-Bereich sind die Vertikalbalken der Farbe Rot schmaler und die der Farbe Blau breiter.The causes of this inhomogeneity in the width of the vertical bars in the colors red and blue are largely known. One cause is that a predominantly pillow-shaped magnetic field for the horizontal deflection of the electron beams increases in strength from the inside, ie from the center of the tube to the outside. In addition, the electrons receive horizontal magnetic field components when deflected horizontally by this field. Another reason for the different vertical bar widths of the colors red and blue is the influence of the deflection stray field. The influence of this stray field prevents the electron beams from crossing the main lens (transition from grating 3 to grating 4) in the middle. If the electron beams are now deflected into the 3 ° range of the screen, the red-colored spots are strongly distorted in the horizontal direction and over-focused in the vertical direction. The consequences are the wide vertical bars of the color red that have already been mentioned in this area. The extent of the distortion of the red spot depends on the amount of the additional components of the pillow-shaped deflection field and on the amount of the displacement of the electron beams in the main lens by the deflection stray field. The electron beam of the color blue is less distorted in the horizontal direction when deflected into the 3 ° range of the picture tube and underfocused in the vertical direction. This results in narrow vertical bars of blue in the 3 ° range. When the electron beams are deflected into the 9 ° range, they are The proportions of the vertical bar widths are reversed accordingly, i.e. in the 9 ° range the vertical bars of red are narrower and those of blue are wider.

Daher liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Elektronenstrahlerzeugersystem für Bildröhren anzugeben, welches das Gitter 3-Konvergenzlaufen beseitigt und in der Breite weitgehend homogenisierte Verkialbalken für die Farben Rot und Blau im 3°°- und 9°°-(Ablenk)-Bereich erzeugt.The invention is therefore based on the object of specifying an electron gun system for picture tubes which eliminates the 3-convergence grid and produces extensively homogenized Verkialbalken for the colors red and blue in the 3 o'clock and 9 o'clock (deflection) range .

Darstellung der ErfindungPresentation of the invention

Diese Aufgabe wird gemäß Anspruch 1 dadurch gelöst, daß der s-Abstand im Unterteil von Gitter 3 größer als der s-Abstand von Gitter 1 und Gitter 2 sowie kleiner als der s-Abstand von Gitter 4 ist und daß der s-Abstand des Gitteroberteils von Gitter 3 gleich dem s-Abstand von Gitter 1 und Gitter 2 ist. Durch die Vergrößerung des s-Abstandes im Unterteil von Gitter 3 wird erreicht, daß die Elektronenstrahlen der Farben Rot und Blau beim Übergang von Gitter 2 in das Unterteil von Gitter 3 zusätzlich auf den Mittenstrahl zugebogen werden.This object is achieved according to claim 1 in that the s-spacing in the lower part of grid 3 is greater than the s-spacing of grid 1 and grid 2 and smaller than the s-spacing of grid 4 and that the s-spacing of the upper grid part of grid 3 is equal to the s-spacing of grid 1 and grid 2. By increasing the s-distance in the lower part of grid 3 it is achieved that the electron beams of the colors red and blue are additionally bent towards the center beam when grid 2 passes into the lower part of grid 3.

Durch die Vergrößerung des s-Abstandes im Gitter 3-Unterteil wird das mit der Modifizierung der Gitter 3-Spannung eintretende Gitter 3-Konvergenzlaufen beseitigt. Wird nämlich die Gitter 3-Spannung erhöht, nimmt die Wirkung der zwischen Gitter 2 und Gitter 3-Unterteil gebildeten Vorfokussierlinse zu und die Wirkung der Hauptlinse zwischen Gitter 3-Oberteil und Gitter 4 ab. Dies bedeutet, daß gegenüber einer unveränderten Gitter 3-Spannung die Außenstrahlen im Bereich zwischen Gitter 2 und Gitter 3-Unterteil stärker und in der Hauptlinse schwächer gebrochen werden. Dagegen nimmt bei Verminderung der Gitter 3-Spannung die Wirkung der Vorfokussierlinse ab und die Wirkung der Hauptlinse zu. Dies bedeutet, daß gegenüber einer unveränderten Gitter 3-Spannung die Außenstrahlen im Bereich zwischen Gitter 2 und Gitter 3-Unterteil schwächer und in der Hauptlinse stärker gebrochen werden. Eine Verschiebung des Konvergenzpunktes auf der Röhenachse (Z) ist mit einer Modifikation der Gitter 3-Spannung nicht verbunden, wenn sich die Veränderung der Gitter 3-Spannung in den Grenzen gemäß Anspruch 3 bewegt. Zurückzuführen ist dies darauf, daß die durch eine veränderte Gitter 3-Spannung bewirkte Modifikation der Brechung in der Vorfokussierlinse durch eine schwächere bzw. stärkere Brechung in der Hauptlinse bezogen auf den Konverenzpunkt quasi zurückgestellt wird. Diese -in den Grenzen von Anspruch 3 gegebene- Unabhängigkeit der Konvergenz von einer Modifizierung der Gitter 3-Spannung ist insbesondere in Hinblick auf Röhren von Interesse, die bei Wirkung einer für den jeweiligen Röhrentyp gültigen optimalen Fokusspannung in Bezug auf die Konvergenz eingestellt werden und die einen fertigungsbedingten Aufbaufehler im Strahlsystem haben. Sind derartige Röhren erfindungsgemäß ausgebildet, lassen sich die durch die Aufbaufehler bedingten Schärfeeinbußen durch Modfizierung der Gitter 3-Spannung beseitigen, ohne daß durch diese Maßnahme die Konvergenzeinstellung verändert wird.By increasing the s-spacing in the lower part of the grid 3, the grid 3 convergence running which occurs with the modification of the grid 3 voltage is eliminated. If the grating 3 voltage is increased, the effect of the pre-focusing lens formed between grating 2 and grating 3 lower part increases and the effect of the main lens between grating 3 upper part and grating 4 decreases. This means that compared to an unchanged grid 3 voltage, the outer rays in the area between grid 2 and grid 3 lower part stronger and weaker in the main lens. In contrast, when the grid 3 voltage is reduced, the effect of the pre-focusing lens decreases and the effect of the main lens increases. This means that compared to an unchanged grating 3 voltage, the outer rays in the area between grating 2 and grating 3 lower part are weaker and broken more in the main lens. A shift of the convergence point on the tube axis (Z) is not associated with a modification of the grid 3 voltage if the change in the grid 3 voltage is within the limits according to claim 3. This is due to the fact that the modification of the refraction in the pre-focusing lens caused by a changed grating 3 voltage is quasi reset by a weaker or stronger refraction in the main lens with respect to the convergence point. This independence of the convergence, given the limits of claim 3, from a modification of the grid 3 voltage is of particular interest with regard to tubes which are set in relation to the convergence when an optimal focus voltage which is valid for the respective tube type is effective and which have a manufacturing-related assembly error in the blasting system. If tubes of this type are designed in accordance with the invention, the loss of sharpness caused by the construction errors can be eliminated by modifying the grid 3 voltage, without the convergence setting being changed by this measure.

Zusätzlich zur Beseitigung des Gitter 3-Konvergenzlaufens wird die Breite der Vertikalbalken im 3°°- und 9°°-Bereich der Farben Rot und Blau weitgehend homogenisiert. Werden die Elektronenstrahlen in den 3°°-Bereich abgelenkt, wird der Elektronenstrahl der Farbe Rot durch die Wirkung der Vorfokussierlinse in einer zu Ablenkrichtung entgegengesetzten Richtung "vorgeknickt". Damit kann durch die Überlagerung des Ablenkerstreufeldes ein mittiges Durchqueren dieses Elektronenstrahls durch die Hauptlinse erreicht werden. Dadurch wird die sphärische Aberration der Hauptlinse kleiner und die "ablenkerbedingten" Einflüsse, welche für die breiten Vertikalbalken in diesem Ablenkbereich sonst verantwortlich sind, werden reduziert. Bei der Ablenkung der Elektronenstrahlen der Farbe Blau in den 3°°-Bereich tritt eine positive Überlagerung der Wirkung des Ablenkerstreufeldes und der Wirkung durch die Vorfokussierlinse auf. Zusammenfassend kann gesagt werden, daß bei Ablenkung der Elektronenstrahlen in den 3°°-Bereich die Breite (gesehen in x-Richtung) des roten Strahls vermindert und diejenige des blauen Strahls leicht vergrößert wird.In addition to eliminating grid 3 convergence running, the width of the vertical bars in the 3 ° and 9 ° range of the colors red and blue is largely homogenized. If the electron beams are deflected into the 3 ° range, the electron beam of the color red becomes effective the pre-focusing lens is "pre-bent" in a direction opposite to the deflection direction. A central crossing of this electron beam through the main lens can thus be achieved by superimposing the deflector stray field. This reduces the spherical aberration of the main lens and reduces the "deflection-related" influences that are otherwise responsible for the wide vertical bars in this deflection area. When the electron beams of the color blue are deflected into the 3 ° range, there is a positive superimposition of the effect of the deflecting stray field and the effect by the pre-focusing lens. In summary, it can be said that when the electron beams are deflected into the 3 ° range, the width (seen in the x direction) of the red beam is reduced and that of the blue beam is slightly increased.

Bei der Ablenkung der Elektronenstrahlen in den 9°°-Bereich der Bildröhre sind die Verhältnisse entsprechend umgekehrt.When the electron beams are deflected into the 9 ° range of the picture tube, the situation is reversed accordingly.

Vorteilhafte Wirkungen des mit Anspruch 1 dargelegten Elektronenstrahlerzeugersystems lassen sich dann erreichen, wenn gemäß Anspruch 2 der s-Abstand des Unterteils von Gitter 3 gegenüber dem s-Abstand von Gitter 2 bis zu 40 µm vergrößert wird.Advantageous effects of the electron gun system set out in claim 1 can be achieved if, according to claim 2, the s-spacing of the lower part of grid 3 is increased by up to 40 µm compared to the s-spacing of grid 2.

Ein gemäß der Erfindung gebildetes Elektronenstrahlerzeugersystem ist bezogen auf eine optimale Gitter 3-Spannung [ U G3opt = (0,30 ± 0,05) U A)

Figure imgb0001
] im Spannungsbereich zwischen ± 800 V gegen ein Gitter 3-Konvergenzlaufen resistent. Unter einer optimalen Gitter 3-Spannung (UG3opt) wird eine solche verstanden, bei der die Elektronenstrahlen eines aufbaufehlerfreien System auf dem Bildschirm visuell optimal fokussiert sind. Diese optimale Gitter 3-Spannung oder Fokusspannung ist designabhängig und beträgt herkömmlich ca. 25 -35% der Anodenspannung (UA).An electron gun system according to the invention is based on an optimal 3-voltage grid [ U G3opt = (0.30 ± 0.05) U A)
Figure imgb0001
] resistant to a grid 3 convergence in the voltage range between ± 800 V. An optimal grid 3 voltage (U G3opt ) is understood to be one in which the electron beams of a system free of defects on the screen are optimally focused visually. This optimal grid 3 voltage or focus voltage depends on the design and is conventionally approx. 25 -35% of the anode voltage (U A ).

Kurze Darstellung der FigurenBrief presentation of the figures

Es zeigen:

Figur 1
eine Draufsicht auf eine Bildröhre;
Figur 2
ein Elektronenstrahlerzeugersystem; und
Figur 3
eine schematische Darstellung eines Elektronenstrahlerzeugersystems.
Show it:
Figure 1
a plan view of a picture tube;
Figure 2
an electron gun system; and
Figure 3
is a schematic representation of an electron gun system.

Wege zum Ausführen der ErfindungWays of Carrying Out the Invention

Die Erfindung soll nun anhand der Figuren näher erläutert werden.The invention will now be explained in more detail with reference to the figures.

Mit Figur 1 ist eine Bildröhre 10 gezeigt. Diese Bildröhre 10 wird von dem Bildschirm 11, dem Konus 12 und dem Hals 13 gebildet. Im Hals 13 ist ein In-Line-Strahlsystem 14 angeordnet (gestrichelt dargestellt), das drei Elektronenstrahlen (R, G, B) erzeugt. Am Übergang vom Hals 13 zum Konus 12 ist ein magnetisches Ablenksystem 15 angebracht. Dieses Ablenksystem 15 lenkt die Elektronenstrahlen (R, G, B) über die Fläche des Bildschirms 11 ab. Für die Horizontalablenkung der Elektronenstrahlen (R', G', B') ist dies schematisch durch die gestrichelte Darstellung angedeutet. Deutlich ist aus Figur 1 entnehmbar, daß die äußeren Elektronenstrahlen (B, B' sowie R, R') nicht parallel zu dem Mittenstrahl (G, G') verlaufen, sondern zu den Mittenstrahlen (G, G') einen Winkel einnehmen. Mit den Linien Z, die rechts und links der Bildröhre gemäß Figur 1 gezeigt sind, wird die Röhrenachse veranschaulicht. Wird der mittlere Elektronenstrahl (G) nicht durch das Ablenksystem 15 beeinflußt, verläuft dieser Elektronenstrahl (G) auf der Röhrenachse (Z). Die links von der Bildröhre gemäß Figur 1 dargestellte und mit x bezeichnete Linie ist die sogenannte x-Achse der Bildröhre, entlang der die Elektronenstrahlen bei der Horizontalablenkung durch das Ablenksystem 15 abgelenkt werden.1 shows a picture tube 10. This picture tube 10 is formed by the screen 11, the cone 12 and the neck 13. In the neck 13 there is an in-line beam system 14 (shown in broken lines) which generates three electron beams (R, G, B). A magnetic deflection system 15 is attached to the transition from the neck 13 to the cone 12. This deflection system 15 deflects the electron beams (R, G, B) over the surface of the screen 11. For the horizontal deflection of the electron beams (R ', G', B ') this is indicated schematically by the broken line. It can be clearly seen from FIG. 1 that the outer electron beams (B, B 'and R, R') do not run parallel to the center beam (G, G '), but instead take an angle with the center beams (G, G'). With the lines Z, which are shown on the right and left of the picture tube according to FIG. 1, the tube axis is illustrated. If the middle electron beam (G) is not influenced by the deflection system 15, this electron beam (G) runs on the tube axis (Z). The line shown to the left of the picture tube according to FIG. 1 and designated x is the so-called x-axis of the picture tube, along which the electron beams are deflected by the deflection system 15 during horizontal deflection.

Der Vollständigkeit halber sei darauf hingewiesen, daß die Vertikalablenkung der Elektronenstrahlen (R, G, B) senkrecht zur Papierebene erfolgt. Das Ablenksystem 15 erzeugt über seine Baulänge L für die Vertikalablenkung einen überwiegend "tonnenförmigen" Feldlinienverlauf und für die Horizontalablenkung einen überwiegend "kissenförmigen" Feldlinienverlauf. Mithin handelt es sich bei dem Ablenksystem 15 um ein selbstkonvergierendes System.For the sake of completeness, it should be pointed out that the vertical deflection of the electron beams (R, G, B) takes place perpendicular to the plane of the paper. The deflection system 15 generates over its overall length L a predominantly "barrel-shaped" field line course for the vertical deflection and a predominantly "pillow-shaped" field line course for the horizontal deflection. The deflection system 15 is therefore a self-converging system.

Die Figur 2 zeigt ein In-Line-Strahlerzeugersystem in Draufsicht. Das In-Line-Strahlerzeugersystem 14 weist einen Preßglasteller 16 auf, in den Kontaktstifte 17 eingeschmolzen sind. Darüber schließen sich die Gitterelektroden 18, 19, Fokussierelektroden 20, 21 und der Konvergenztopf 22 an. Innerhalb der Gitterelektroden sind die Kathoden 23R, 23G, 23B angeordnet, die nur schematisch und gestrichelt dargestellt sind. Die Steuergitterelektrode 18 ist die Gitterelektrode 1 und die Schirmgitterelektrode 19 die Gitterelektrode 2. Die Fokussierelektroden 20, 21 bilden die Fokussierlinse. Die Einzelteile des In-Line-Strahlerzeugersystems 14 sind durch zwei Glasstäbe 24 zusammengehalten.FIG. 2 shows a top view of an in-line jet generator system. The in-line jet generator system 14 has a pressed glass plate 16, in which contact pins 17 are melted. The grid electrodes 18, 19, focusing electrodes 20, 21 and the convergence pot 22 adjoin this. The cathodes 23R, 23G, 23B, which are shown only schematically and in broken lines, are arranged within the grid electrodes. The control grid electrode 18 is the Grid electrode 1 and the screen grid electrode 19 the grid electrode 2. The focusing electrodes 20, 21 form the focusing lens. The individual parts of the in-line beam generator system 14 are held together by two glass rods 24.

Die Fokussierelektrode 20, welche auch Gitter 3 genannt wird, besteht aus vier becherförmigen Elektroden 20.1 bis 20.4, von denen zwei Elektroden mit ihrem freien Rand miteinander verbunden sind und dadurch eine topfförmige Elektrode bilden. In allen Elektroden des In-Line-Strahlerzeugersystems 14 sind drei in Reihe liegende Öffnungen (näher dargestellt mit Figur 3) angeordnet, durch die die von den drei Kathoden 23 erzeugten Elektronenstrahlen (R, G, B) hindurchtreten und - wie mit Figur 1 gezeigt - auf der an der Innenseite des Bildschirms 11 aufgebrachten Leuchtstoffschicht 25 auftreffen. Auch ist in Figur 2 durch die oberhalb und unterhalb des Strahlerzeugersystems angedeuteten Striche die Röhrenachse Z gezeigt. Durch die oberhalb des Konvergenztopfes 22 angedeuteten strichpunktierten Pfeile wird veranschaulicht, daß der mittlere Elektronenstrahl G auf der Röhrenachse Z verläuft und die beiden Außenstrahlen R, B zu dem Mittenstrahl G abgewinkelt verlaufen.The focusing electrode 20, which is also called a grating 3, consists of four cup-shaped electrodes 20.1 to 20.4, of which two electrodes are connected to one another by their free edge and thereby form a cup-shaped electrode. In all electrodes of the in-line beam generator system 14, three openings (arranged in greater detail with FIG. 3) are arranged through which the electron beams (R, G, B) generated by the three cathodes 23 pass and - as shown in FIG. 1 - Impact on the phosphor layer 25 applied to the inside of the screen 11. The tube axis Z is also shown in FIG. 2 by the lines indicated above and below the jet generator system. The dash-dotted arrows indicated above the convergence pot 22 illustrate that the central electron beam G runs on the tube axis Z and the two outer beams R, B run at an angle to the center beam G.

Vollständigkeitshalber sei darauf hingewiesen, daß der Mittenstrahl G, welcher in den hier dargestellten Ausführungsbeispielen den grünen Leuchtstoff 25 auf dem Bildschirm 11 anregt, nicht notwendig zur Anregung des grünen Leuchtstoffs 25 verwendet werden muß. Vielmehr kann in einem anderen - nicht dargestellten - Ausführungsbeispiel die Kathodenbelegung so gewählt sein, wie es in Zusammenhang mit einer anderen und unter einem früheren Anmeldetag hinterlegten Anmeldung der Anmelderin beschrieben ist.For the sake of completeness, it should be pointed out that the center beam G, which excites the green phosphor 25 on the screen 11 in the exemplary embodiments shown here, need not necessarily be used to excite the green phosphor 25. Rather, in another embodiment (not shown), the cathode assignment can be selected as it is in connection with another application filed under an earlier filing date the applicant is described.

In Figur 3 ist ein In-Line-Strahlerzeugersystem 14 in Draufsicht schematisch dargestellt. Auf der linken Seite von Figur 3 sind die drei Kathoden 23R, 23G, 23B angeordnet. Beabstandet von den Kathoden 23R, 23G, 23B befindet sich zunächst das Gitter 1 (18), dann das Gitter 2 (19), dann die Fokussierelektrode 20 und dann das Gitter 4 (21). Von der Gitter 3-Elektrode 20 ist nur das Gitter 3-Unterteil 20.1 und das Gitter 3-Oberteil 20.4 gezeigt. In den Elektroden 18 und 19 sind zentrisch zu den Kathoden 23R, 23G, 23B Öffnungen 27R, 27G, 27B angeordnet. Die s-Abstände (A1) der Zentren der Öffnungen 27R zu den Zentren der Öffnungen 27G sowie die Zentren der Öffnungen 27B zu den Zentren der Öffnungen 27G sind gleich groß und betragen im dargestellten Ausführungsbeispiel 6,6 mm. Die übrigen Elektroden 20 (20.1 und 20.4), 21 weisen ebenfalls Öffnungen auf, die in Figur 3 mit 28 bezeichnet sind. Die Öffnungen 28G sind ebenso wie die Öffnungen 27G zentrisch zur Kathode 23G bzw. zur Röhrenachse Z ausgerichtet. Mit zunehmender Entfernung der in den Gittern 20 (20.1 und 20.4), 21 angeordneten Öffnungen 28 von den Kathoden 23 weisen diese Öffnungen 28 größer werdende Querschnitte auf. Die Öffnungsquerschnitte in jedem einzelnen Gitter 18 bis 21 ist für die verschiedenen Elektronenstrahlen R, G, B gleich groß. In diesem Zusammenhang wird darauf hingewiesen, daß in einem anderen -nicht dargestellten- Ausführungsbeispiel die Öffnungsquerschnitte je Gitter für die verschiedenen Elektronenstrahlen unterschiedlich groß sein können.In Figure 3, an in-line jet generator system 14 is shown schematically in plan view. The three cathodes 23R, 23G, 23B are arranged on the left side of FIG. Spaced from the cathodes 23R, 23G, 23B is first the grid 1 (18), then the grid 2 (19), then the focusing electrode 20 and then the grid 4 (21). Of the grid 3 electrode 20, only the grid 3 lower part 20.1 and the grid 3 upper part 20.4 are shown. Openings 27R, 27G, 27B are arranged in the electrodes 18 and 19 centrally to the cathodes 23R, 23G, 23B. The s-distances (A1) of the centers of the openings 27R to the centers of the openings 27G and the centers of the openings 27B to the centers of the openings 27G are the same and are 6.6 mm in the exemplary embodiment shown. The other electrodes 20 (20.1 and 20.4), 21 also have openings, which are designated 28 in FIG. The openings 28G, like the openings 27G, are aligned centrally to the cathode 23G or to the tube axis Z. With increasing distance of the openings 28 arranged in the grids 20 (20.1 and 20.4), 21 from the cathodes 23, these openings 28 have increasing cross sections. The opening cross sections in each individual grating 18 to 21 are of the same size for the different electron beams R, G, B. In this context, it is pointed out that in another embodiment (not shown), the opening cross sections per grating for the different electron beams can be of different sizes.

Zur besseren Herausstellung der Erfindung in Figur 3 ist die erfindungsgemäße Anordnung eines Strahlsystems 14 nur für den Außenstrahl R veranschaulicht, während der Außenstrahl B eine Anordnung gemäß dem Stand der Technik zeigt. Beim erfindungsgemäßen wie auch beim System gemäß dem Stand der Technik ist die Gitter-Öffnungs-Anordnung für den Mittenstrahl G gleich.To better emphasize the invention in FIG. 3, the arrangement of a beam system 14 according to the invention is illustrated only for the external beam R, while the outer beam B shows an arrangement according to the prior art. In the inventive as well as in the system according to the prior art, the grating opening arrangement for the center beam G is the same.

Wie die Figur 3 weiter verdeutlicht sind die s-Abstände (A2R, A2B)im Unterteil 20.1 von Gitter 3 (20) für die Elektronenstrahlen R und B verschieden groß. Im hier dargestellten Ausführungsbeispiel beträgt der s-Abstand (A2R) 6,62 mm und der s-Abstand (A2B) ebenso wie der s-Abstand (A1) 6,6 mm. Der s-Abstand (A3) im Oberteil 20.4 von Gitter 3 (20) ist sowohl für den Elektronenstrahl (R) als auch für den Elektronenstrahl (B) gleich groß und beträgt ebenso wie der s-Abstand (A1) 6,6 mm. Mit (A4) ist der s-Abstand in Gitter 4 (21) bezeichnet. Er beträgt für den Elektronenstrahl (R) als auch für den Elektronenstrahl (B) 6,785 mm.As FIG. 3 further clarifies, the s spacings (A2R, A2B) in the lower part 20.1 of grid 3 (20) for the electron beams R and B are different in size. In the exemplary embodiment shown here, the s-distance (A2R) is 6.62 mm and the s-distance (A2B) as well as the s-distance (A1) is 6.6 mm. The s-distance (A3) in the upper part 20.4 of grid 3 (20) is the same for both the electron beam (R) and for the electron beam (B) and, like the s-distance (A1), is 6.6 mm. With (A4) the s-distance in grid 4 (21) is designated. It is 6.785 mm for the electron beam (R) and for the electron beam (B).

Durch diese geometrischen Gegebenheiten in den Gitteröffnungen wird ein von der Kathode 23B emittierter Elektronenstrahl B nach dem Stand der Technik bei vorgegebener Gitter 3- und Gitter 4-Spannung im Übergang vom Oberteil 20.4 des Gitters 3 (20) zum Gitter 4 (21) entsprechend der durchgezogenen Linie (B) in Richtung auf den Mittenstrahl (G) gebogen. Die Gitter 3-Spannung ist in diesem Falle die für dieses System bzw. diesen Röhrentyp visuell ermittelte und als optimal angesehene Fokusspannung (UG3opt).Due to these geometric conditions in the grid openings, an electron beam B emitted by the cathode 23B according to the prior art with a given grid 3 and grid 4 voltage in the transition from the upper part 20.4 of the grid 3 (20) to the grid 4 (21) corresponds to the solid line (B) bent towards the center beam (G). In this case, the grid 3 voltage is the focus voltage (U G3opt ) that has been visually determined for this system or this tube type and is regarded as optimal.

Sind individuelle Aufbaufehler des Systems auf Grund von Fertigungstoleranzen oder nicht designgemäße Gitterabstände oder Lochdurchdurchmesser im Triodenbereich gegeben (nicht dargestellt), so muß bei der Endeinstellung der Röhre die Gitter 3-Spannung entsprechend angepaßt werden, um den schon erwähnten Kompromiß zwischen Schärfe und Konvergenz einzustellen. Im unteren Teil von Figur 3 ist der Verlauf des blauen Elektronenstrahls nach dem Stand der Technik gezeigt, dessen Gitter 3 (20) zur Kompromißeinstellung mit einer gegenüber der optimalen Fokusspannung (UG3opt) erhöhten Gitter 3-Spannung beaufschlagt wird. Wegen des dann geringeren Potentialunterschiedes zwischen Gitter 3 (20) und Gitter 4 (21) wird der Elektronenstrahl (B) im Übergangsbereich zwischen beiden Gittern weniger stark in Richtung auf den Mittenstrahl (G) gebogen. Dies ist durch die gestrichelte Linie (B'') angedeutet. Durch die Erhöhung der Gitter 3-Spannung kann die Konvergenz des Strahls (R) mit dem Strahl (G) nicht mehr am Punkt (F), sondern nur noch am Punkt (F') erreicht werden. Eine Konvergenz am Punkt (F') ist die maßgebliche Folge des schon weiter oben erörterten Gitter 3-Konvergenzlaufens.If there are individual assembly errors in the system due to manufacturing tolerances or grid spacings or hole diameters not in accordance with the design in the triode area (not shown), then the grating 3 voltage is adjusted accordingly to the end setting of the tube in order to adjust the already mentioned compromise between sharpness and convergence. In the lower part of FIG. 3, the course of the blue electron beam according to the prior art is shown, the grating 3 (20) of which is subjected to a higher grating 3 voltage than the optimal focus voltage (U G3opt ) for compromise adjustment. Because of the then smaller potential difference between grid 3 (20) and grid 4 (21), the electron beam (B) is bent less strongly in the transition region between the two grids in the direction of the center beam (G). This is indicated by the dashed line (B ''). By increasing the grid 3 voltage, the convergence of the beam (R) with the beam (G) can no longer be achieved at point (F), but only at point (F '). Convergence at point (F ') is the significant consequence of the grid 3 convergence run discussed earlier.

Im erfindungsgemäßen Aufbau des Elektronenstrahlsystems 14 wird der Elektronenstrahl (R) nicht erst im Übergang von Gitter 3 [20(20.4)] zu Gitter 4 (21), sondern auch schon im Übergang von Gitter 2 (19) zu Gitter 3 [20 (20.1)] in Richtung zum Mittenstrahl (G) gebogen. Dies wird durch die Vergrößerung des s-Abstandes (A2R) im Unterteil des Gitter 3 [20 (20.1)] erreicht. Die übrigen Gitterteile bleiben entsprechend dem Stand der Technik unverändert. Dargestellt ist dies für den Verlauf des roten Elektronenstrahls im oberen Teil von Figur 3. Der durchgezogene Verlauf des Elektronenstrahls (R) ist dann geben, wenn das Gitter 3 (20) mit einer optimalen, für den Strahlengang der Farbe Blau (unterer Teil von Figur 3) gültigen Fokusspannung (UG3opt) beaufschlagt wird. Wird ausgehend vom diesem Fall die für dieses System optimale Gitter 3-Spannung (UG3opt) erhöht, so wird die Wirkung der Vorfokussierlinse 19, 20.1 vergrößert. Dies äußert sich in einer stärkeren Abwinklung des Strahls (R) im Übergangsbereich von Gitter 2 (19) auf Gitter 3 [20 (20.1)] und ist in Figur 3 durch die gestrichelte Linie (R'') angedeutet. Gleichzeitig wird mit der Erhöhung der Gitter 3-Spannung die Wirkung der Hauptlinse (Übergangsbereich von Gitter 3 20 (20.4) zu Gitter 4 (21)) geschwächt. Letzteres äußert sich darin, daß der Strahl R'' gegenüber dem Strahl R weniger stark in Richtung auf den Mittenstrahl (G) abgewinkelt wird. Die Wirkung der Vorfokussierlinse und der Hauptlinse im Strahlengang (R) führen trotz der Erhöhung der Gitter 3-Spannung dazu, daß auch der Strahl (R'') am Punkt (F) mit dem Mittenstrahl (G) konvergiert.In the construction of the electron beam system 14 according to the invention, the electron beam (R) is not only in the transition from grid 3 [20 (20.4)] to grid 4 (21), but also in the transition from grid 2 (19) to grid 3 [20 (20.1 )] bent towards the center beam (G). This is achieved by increasing the s-spacing (A2R) in the lower part of grid 3 [20 (20.1)]. The remaining grid parts remain unchanged according to the prior art. This is shown for the course of the red electron beam in the upper part of FIG. 3. The solid course of the electron beam (R) is given when the grating 3 (20) has an optimal blue beam path (lower part of FIG 3) valid focus voltage (U G3opt ) is applied. If the grid 3 voltage (U G3opt ) which is optimal for this system is increased on the basis of this case, the effect of the pre-focusing lens 19, 20.1 is increased. This manifests itself in a stronger angling of the beam (R) in the transition area from grating 2 (19) to grating 3 [20 (20.1)] and is indicated in FIG. 3 by the dashed line (R ″). At the same time, the effect of the main lens (transition area from grating 3 20 (20.4) to grating 4 (21)) is weakened by increasing the grating 3 voltage. The latter is expressed in that the beam R ″ is angled less than the beam R in the direction of the center beam (G). The effect of the pre-focusing lens and the main lens in the beam path (R), despite the increase in the grating 3 voltage, means that the beam (R ″) at point (F) also converges with the center beam (G).

Die im oberen Teil von Figur 3 für die Erhöhung der Gitter 3-Spannung gezeigten Verhältnisse gelten für die Eriedrigung der Gitter 3-Spannung genau umgekehrt. In diesem Fall wird die Wirkung der Vorfokussierlinse geschwächt und die Wirkung der Hauptlinse gestärkt, ohne daß eine Verschiebung des Konvergenzpunktes (F) eintritt.The relationships shown in the upper part of FIG. 3 for the increase in the grid 3 voltage apply in reverse for the decrease in the grid 3 voltage. In this case, the effect of the pre-focusing lens is weakened and the effect of the main lens is strengthened without a shift in the convergence point (F).

Die Unabhängigkeit des Gitter 3-Konvergenzlaufens von einer Erhöhung bzw. Erniedrigung der Gitter 3-Spannung ist in einem Bereich von ± 800 Volt ausgehend von der optimalen Gitter 3-Spannung (UG3opt) gegeben. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel betrug die optimale Fokusspannung (UG3opt) etwa 8350 Volt bei einer Anodenspannung (UA) von 28500 Volt. Ohne Einfluß auf die Konvergenz konnte die optimale Fokusspannung (UG3opt) in einem Spannungsbereich von ± 500 Volt modifiziert werden.The independence of the grid 3 convergence run from an increase or decrease in the grid 3 voltage is given in a range of ± 800 volts based on the optimal grid 3 voltage (U G3opt ). In the present exemplary embodiment, the optimal focus voltage (U G3opt ) was approximately 8350 volts with an anode voltage (U A ) of 28500 volts. The optimal focus voltage (U G3opt ) was able to influence the convergence within a voltage range of ± 500 volts be modified.

Die in diesem Ausführungsbeispiel erläuterte Anordnung zeigte außerdem für die Farben Blau und Rot im 3°°-bzw. 9°°-Ablenkbereich in der Breite weitgehend homogenisierte Vertikalbalken.The arrangement explained in this exemplary embodiment also showed for the colors blue and red in the 3 o'clock or. 9 o'clock deflection area, largely homogenized vertical beams.

Claims (3)

In-Line-Strahlsystem (14) für Bildröhren (10), - mit einer Kathodenanordnung, die drei einander nebengeordnete und in einer Ebene liegende Kathoden (23R, 23G, 23B) umfaßt, - mit Elektrodengittern (18 - 21), die jeweils mit Abstand von der Kathodenanordnung angeordnet sind und die jeweils drei einander nebengeordnete, in einer Ebene angeordnete und zu den Kathoden (23R, 23G, 23B) ausgerichtete Öffnungen (27, 28) aufweisen, wobei zumindest die s-Abstände (A 1) von Gitter 1 (18) und Gitter 2 (19) gleich groß sind und der s-Abstand (A 4) von Gitter 4 (21) größer ist als der s-Abstand (A 1) in Gitter 1 (18), und - mit einem selbstkonvergierenden Ablenksystem (15), dadurch gekennzeichnet,
daß der s-Abstand (A 2) im Unterteil (20.1) von Gitter 3 (20) größer als der s-Abstand (A 1) in Gitter 1 (18) und kleiner als der s-Abstand (A 4) in Gitter 4 (21) ist und
daß der s-Abstand (A 3) im Oberteil (20.4) von Gitter 3 (20) gleich dem s-Abstand (A 1) in Gitter 1 (18) ist.
In-line beam system (14) for picture tubes (10), with a cathode arrangement which comprises three cathodes (23R, 23G, 23B) which are adjacent to one another and lie in one plane, - With electrode grids (18 - 21), which are each arranged at a distance from the cathode arrangement and which each have three mutually adjacent, arranged in one plane and aligned with the cathodes (23R, 23G, 23B), wherein at least the s distances (A 1) of grid 1 (18) and grid 2 (19) are the same size and the s distance (A 4) of grid 4 (21) is greater than the s distance (A 1) in grid 1 (18), and - With a self-converging deflection system (15), characterized by
that the s-distance (A 2) in the lower part (20.1) of grid 3 (20) is greater than the s-distance (A 1) in grid 1 (18) and smaller than the s-distance (A 4) in grid 4 (21) is and
that the s-distance (A 3) in the upper part (20.4) of grid 3 (20) is equal to the s-distance (A 1) in grid 1 (18).
In-Line-Strahlsystem gemäß Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß der s-Abstand (A 2) im Unterteil (20.1) von Gitter 3 (20) gegenüber dem s-Abstand (A 1) in Gitter 2 (19) bis zu 40 µm vergrößert ist.
In-line blasting system according to claim 1,
characterized,
that the s-spacing (A 2) in the lower part (20.1) of grating 3 (20) is increased up to 40 µm compared to the s-spacing (A 1) in grating 2 (19).
In-Line-Strahlsystem nach Anspruch 1 oder Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Gitter 3-Spannung (UG3) einen Wert hat, der der Formel

U G3 = U A (0,30 ± 0,05) ± 800 Volt
Figure imgb0002


folgt und UA die Anodenspannung ist.
In-line blasting system according to claim 1 or claim 2,
characterized by
that the grid 3 voltage (U G3 ) has a value that the formula

U G3 = U A (0.30 ± 0.05) ± 800 volts
Figure imgb0002


follows and U A is the anode voltage.
EP94111104A 1993-08-12 1994-07-16 In-line beam system for image tubes Withdrawn EP0638921A1 (en)

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