EP0087469B1 - Substrat lithographique et son procede de fabrication - Google Patents

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EP0087469B1
EP0087469B1 EP82902955A EP82902955A EP0087469B1 EP 0087469 B1 EP0087469 B1 EP 0087469B1 EP 82902955 A EP82902955 A EP 82902955A EP 82902955 A EP82902955 A EP 82902955A EP 0087469 B1 EP0087469 B1 EP 0087469B1
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EP
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aluminum
coating
phosphate
substrate
alumina
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EP82902955A
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Larry A. Brey
Donald E. Cadwell
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3M Co
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Minnesota Mining and Manufacturing Co
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    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/006—Printing plates or foils; Materials therefor made entirely of inorganic materials other than natural stone or metals, e.g. ceramics, carbide materials, ferroelectric materials

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  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
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Claims (20)

1. Procédé de préparation d'un substrat photosensible comprenant les phases suivantes:
(A) l'application d'une couche céramique sur un substrat en aluminium ou la surface aluminisée d'un substrat, comprenant l'application d'une pâte d'au moins un phosphate monobasique et de particules non métalliques inorganiques sur au moins une surface du substrat en aluminium ou aluminisé et la cuisson de la pâte à une température d'au moins 230°C pour former un revêtement céramique sur cette surface d'aluminium ou aluminisée;
(B) l'application sur cette couche céramique, d'un revêtement formé par une couche lithographique photosensible organique.
2. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce que les particules susdites consistent en particules d'oxyde métallique ayant des tailles moyennes de 1×10-3 à 45 microns, et en ce que cet oxyde métallique consiste en particules d'alumine réactive.
3. Procédé suivant la revendication 2, caractérisé en ce que les particules d'oxyde métallique comprennent en outre des particules d'alpha- alumine.
4. Procédé suivant la revendication 2, caractérisé en ce que les particules d'oxyde métallique comprennent une alumine réactive et un oxyde de métal dont l'orthophosphate est insoluble dans une solution aqueuse d'un pH de 6 à 12.
5. Procédé suivant la revendication 4, caractérisé en ce que la pâte comprend environ 5 à environ 15% en volume de matières qui ne sont pas volatiles à la cuisson, au moins 35% en volume de ces matières non volatiles étant formés par une matrice comprenant des phosphates et des oxydes métalliques réactifs et/ou des hydroxydes métalliques réactifs.
6. Procédé suivant l'une quelconque des revendications 1, 2, 3 et 4, caractérisé en ce que le revêtement céramique a une épaisseur comprise entre 0,2 et 15 microns.
7. Procédé suivant la revendication 5, caractérisé en ce que le phosphate monobasique susdit est formé in situ durant la cuisson par la réaction d'acide phosphorique avec un phosphate tribasique.
8. Procédé suivant la revendication 2, caractérisé en ce que le phosphate monobasique susdit est formé in situ durant la cuisson par la réaction d'acide phosphorique avec de l'alumine et/ou de l'hydroxyde d'aluminium.
9. Procédé suivant la revendication 2, caractérisé en ce que le phosphate monobasique susdit est formé in situ durant la cuisson par la réaction d'alumine avec un phosphate monobasique ne consistant pas essentiellement en phosphate monoaluminique.
10. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce qu'un composé contenant du calcium est inclus dans la pâte.
11. Article photosensible comprenant:
(A) un substrat en aluminium ou aluminisé portant, sur au moins une surface en aluminium ou aluminisée, une couche céramique comprenant (1) des particules inorganiques non métalliques, et (2) une ou des phases, résistantes à l'eau, d'un produit de déshydratation d'au moins un phosphate monobasique; et
(B) un revêtement lithographique photosensible prévu par-dessus cette couche céramique.
12. Article photosensible suivant la revendication 11, caractérisé en ce que les particules susdites consistent en particules d'oxyde métallique ayant une taille moyenne de 1x10-3 à 45 microns.
13. Article photosensible suivant la revendication 12, caractérisé en ce que les particules d'oxyde métallique consistent en particules d'alumine.
14. Article photosensible suivant la revendication 12, caractérisé en ce que la couche céramique a une épaisseur comprise entre 0,2 et 15 microns, le substrat susdit est en aluminium sous forme d'une pellicule ou d'une feuille, et le revêtement lithographique est constitué soit par une composition polymérisable, soit par un o-quinone diazide à action positive dans un liant polymère.
15. Article photosensible suivant la revendication 12, caractérisé en ce que la couche céramique contient un produit de réaction d'alumine avec un phosphate monobasique et un produit de réaction d'au moins un oxyde métallique autre que l'alumine avec un phosphate monobasique, l'orthophosphate de cet oxyde métallique étant insoluble dans une solution aqueuse d'un pH de 6 à 12.
16. Procédé de revêtement d'un substrat en aluminium ou aluminisé, caractérisé en ce qu'une couche comprenant un phosphate monobasique est appliquée sur au moins une surface d'aluminium du substrat en aluminium ou aluminisé, le phosphate monobasique est ensuite cuit à une température d'au moins 230°C pour former un revêtement céramique sur cet aluminium, et une couche lithographique photosensible organique est appliquée sur ce revêtement céramique.
17. Procédé suivant la revendication 16, caractérisé en ce que la surface susdite du substrat en aluminium ou aluminisé présente une texture d'aluminium microscopique, intéressante du point de vue lithographique, et en ce que le revêtement susdit a une épaisseur comprise entre 0,2 et 15 microns.
18. Procédé suivant la revendication 16 ou 17, caractérisé en ce que le phosphate monobasique consiste en phosphate monoaluminique et en ce que la cuisson se fait à une température d'au moins 260°C pour former un revêtement déshydraté.
19. Article comprenant un substrat en aluminium ou aluminisé portant sur au moins une surface en aluminium ou aluminisée, un revêtement céramique comprenant au moins une forme de phosphate d'aluminium et une couche lithographique photosensible organique par-dessus ce revêtement céramique.
EP82902955A 1981-09-08 1982-09-08 Substrat lithographique et son procede de fabrication Expired EP0087469B1 (fr)

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US299720 1994-09-01
US299721 1994-09-01

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EP0087469A1 EP0087469A1 (fr) 1983-09-07
EP0087469A4 EP0087469A4 (fr) 1983-12-01
EP0087469B1 true EP0087469B1 (fr) 1986-02-05

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EP0087469A4 (fr) 1983-12-01
EP0087469A1 (fr) 1983-09-07
AU553537B2 (en) 1986-07-17
AU8959982A (en) 1983-03-28
DE3268962D1 (en) 1986-03-20
WO1983000844A1 (fr) 1983-03-17
BR8207853A (pt) 1983-08-30

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