EA201400421A1 - Система охлаждения магнетронно-распылительного устройства цилиндрического типа - Google Patents
Система охлаждения магнетронно-распылительного устройства цилиндрического типаInfo
- Publication number
- EA201400421A1 EA201400421A1 EA201400421A EA201400421A EA201400421A1 EA 201400421 A1 EA201400421 A1 EA 201400421A1 EA 201400421 A EA201400421 A EA 201400421A EA 201400421 A EA201400421 A EA 201400421A EA 201400421 A1 EA201400421 A1 EA 201400421A1
- Authority
- EA
- Eurasian Patent Office
- Prior art keywords
- target
- control system
- belt
- magnetron
- fixed support
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Изобретение относится к плазменной технике и предназначено для вакуумного ионно-плазменного нанесения тонких пленок металлов, полупроводников, диэлектриков и их соединений на поверхность твердых тел. Технический результат - повышение производительности магнетронной распылительной системы цилиндрического типа процесса, обеспечение полного удаления охлаждающего хладагента и упрощение конструкции магнетрона. Система содержит узел крепления 1 к вакуумной камере, в корпусе которого выполнены каналы подвода 2 и отвода 3 охлаждающей жидкости и сжатого воздуха, мотор 4, ременной привод вращения 15 распылительного блока 7, цилиндрическую мишень 5, систему управления приводом вращения 6 с датчиком наличия ремня 17, неподвижную опорную трубу 8 с магнитной системой, передний 10 и задний фланец 11 присоединения мишени с уплотнительными средствами 12. Задний фланец 11 содержит радиальное отверстие 13, соединенное с неподвижной опорной трубой 8. Передний фланец 10 присоединения мишени 5 дополнительно содержит радиальные отверстия 14, при этом радиальные отверстия переднего 10 и заднего фланцев 11 присоединения мишени выполнены сквозными в направлении от образующей фланцев к их центральной оси и соединены с каналами подвода 2 и отвода 3 охлаждающей жидкости. Система управления с приводом вращения 6 включает систему контроля 16 скорости вращения и фиксации распылительного блока 7 с цилиндрической мишенью 5 в любом наперед заданном положении. Датчик наличия ремня 17 системы контроля 16 содержит кинематически связанную с ним контрольную звезду 19 с ведомой шестерней 18 привода вращения распылительного блока 7, а один из зубьев 20 контрольной звезды 19 выполнен по ширине
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EA201400421A EA028887B1 (ru) | 2014-02-28 | 2014-02-28 | Система охлаждения мишени магнетронно-распылительного устройства цилиндрического типа |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EA201400421A EA028887B1 (ru) | 2014-02-28 | 2014-02-28 | Система охлаждения мишени магнетронно-распылительного устройства цилиндрического типа |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EA201400421A1 true EA201400421A1 (ru) | 2015-08-31 |
EA028887B1 EA028887B1 (ru) | 2018-01-31 |
Family
ID=53969024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EA201400421A EA028887B1 (ru) | 2014-02-28 | 2014-02-28 | Система охлаждения мишени магнетронно-распылительного устройства цилиндрического типа |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
EA (1) | EA028887B1 (ru) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU198710U1 (ru) * | 2020-02-10 | 2020-07-23 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки "Дагестанский федеральный исследовательский центр Российской академии наук" | Распылительный магнетрон |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5200049A (en) * | 1990-08-10 | 1993-04-06 | Viratec Thin Films, Inc. | Cantilever mount for rotating cylindrical magnetrons |
RU2220226C1 (ru) * | 2002-04-12 | 2003-12-27 | Научно-исследовательский институт ядерной физики при Томском политехническом университете | Магнетронная распылительная система |
RU2362838C2 (ru) * | 2007-10-09 | 2009-07-27 | Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина) (СПбГЭТУ) | Устройство для нанесения нанокластерного покрытия |
RU71315U1 (ru) * | 2007-10-31 | 2008-03-10 | Общество с ограниченной ответственностью "ТехноМастер" | Цепной редуктор |
US8182662B2 (en) * | 2009-03-27 | 2012-05-22 | Sputtering Components, Inc. | Rotary cathode for magnetron sputtering apparatus |
-
2014
- 2014-02-28 EA EA201400421A patent/EA028887B1/ru not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EA028887B1 (ru) | 2018-01-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
MX2017000398A (es) | Aparato para distribuir aire a traves de montajes de ejes motorizados. | |
MX2016015976A (es) | Bomba de liquido accionada por motor electrico. | |
WO2015018878A3 (en) | Centrifuge and method for centrifuging a reaction vessel unit | |
WO2017120449A3 (en) | Heart pump | |
EP3653060A3 (en) | Chocolate processing system and method | |
MX2019002569A (es) | Sistema para inflado de neumáticos. | |
WO2006044001A1 (en) | Method for magnetron sputter deposition | |
GB201021910D0 (en) | A fan | |
EA201400421A1 (ru) | Система охлаждения магнетронно-распылительного устройства цилиндрического типа | |
WO2013109333A3 (en) | Linear scanning sputtering system and method | |
US7560011B2 (en) | Sputtering target and method/apparatus for cooling the target | |
JP2015072066A5 (ru) | ||
WO2014118284A3 (de) | Vorrichtung zur elektromechanischen erzeugung von rotation - elektrischer umlaufräderantrieb | |
WO2016198962A3 (en) | Boundary layer turbomachine, corresponding rotor assembly and partition | |
JP2019167618A5 (ru) | ||
WO2015169508A3 (de) | Baueinheit für ein kraftfahrzeug mit einer elektrische maschine und einer kupplungsbetätigungseinrichtung | |
RU175205U1 (ru) | Магнетронная распылительная система цилиндрического типа | |
GEP20197026B (en) | Method for nanomaterial production in vacuum and magnetron spray device for execution thereof | |
CN107699862B (zh) | 一种旋转体镀膜夹具 | |
US9422619B2 (en) | Processing apparatus and shield | |
TWM483280U (zh) | 真空鍍膜設備的旋轉靶材裝置 | |
MX2017009226A (es) | Turbina de atomizador giratorio. | |
US20100140375A1 (en) | Rotary atomizer | |
US20170213708A1 (en) | Method and apparatus for saving energy while increasing the conveying speed in vacuum coating plants | |
US9558921B2 (en) | Magnetron sputtering apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): AM AZ KZ KG TJ TM |