DE960023C - Device for stabilizing high voltages with an electron beam tube - Google Patents

Device for stabilizing high voltages with an electron beam tube

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DE960023C
DE960023C DEN10070A DEN0010070A DE960023C DE 960023 C DE960023 C DE 960023C DE N10070 A DEN10070 A DE N10070A DE N0010070 A DEN0010070 A DE N0010070A DE 960023 C DE960023 C DE 960023C
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Simon Van Der Meer
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Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • G05F1/10—Regulating voltage or current
    • G05F1/46—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
    • G05F1/52—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc using discharge tubes in series with the load as final control devices
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    • H01J31/00—Cathode ray tubes; Electron beam tubes
    • H01J31/02—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having one or more output electrodes which may be impacted selectively by the ray or beam, and onto, from, or over which the ray or beam may be deflected or de-focused
    • H01J31/04—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having one or more output electrodes which may be impacted selectively by the ray or beam, and onto, from, or over which the ray or beam may be deflected or de-focused with only one or two output electrodes with only two electrically independant groups or electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/24—Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
    • H01J37/241—High voltage power supply or regulation circuits

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung mit einer Elektronenstrahlröhre zum Stabilisieren hoher Spannungen und auf eine Elektronenstrahlröhre für diese Vorrichtung.The invention relates to a device with a cathode ray tube for stabilization high voltages and a cathode ray tube for this device.

In manchen Fällen ist es erforderlich, daß hohe und sehr hohe Spannungen während längerer Zeit genau auf einen bestimmten Wert stabilisiert werden, wobei die Spannungsänderungen z. B. kleiner als 0,05% bleiben müssen. Dies ist unter anderem der Fall bei Elektronen-Diffraktionsapparaten, Mikro-Analysatoren, Röntgenapparaten u. dgl. Diese Apparate arbeiten im allgemeinen mit Spannungen von 30 kV und höher.In some cases it is necessary to have high and very high voltages for long periods of time be stabilized exactly to a certain value, the voltage changes z. B. must remain smaller than 0.05%. This is the case, among other things, with electron diffraction devices, Micro-analyzers, X-ray devices and the like. These devices generally work with them Voltages of 30 kV and higher.

Es ist bekannt, die Spannung eines Elektronenmikroskops mittels einer Elektronenstrahlröhre zu stabilisieren, deren Strahl sich zwischen zwei parallelen Polschuhen eines Elektromagneten erstreckt und dabei einen Winkel von etwa 900 durchläuft. Die Elektronengeschwindigkeit und daher auch die Krümmung der Elektronenstrecke zwischen den Polschuhen ist von der zu stabilisierenden Spannung abhängig. Nimmt diese Spannung zu, so werden die Elektronen melir beschleunigt und der Krümmungsradius der Strecke zwischen den Polschuhen wird größer. Dadurch, daß die zu stabilisierende Spannung von Han'd oder selbsttätigIt is known to stabilize the voltage of an electron microscope using an electron beam tube, the beam extending between two parallel pole pieces of an electromagnet and thereby passes through an angle of about 90 0th The electron speed and therefore also the curvature of the electron path between the pole pieces depends on the voltage to be stabilized. If this voltage increases, the electrons are accelerated and the radius of curvature of the path between the pole pieces increases. Because the tension to be stabilized is from Han'd or automatically

nachgeregelt wird in der Weise, daß die Krümmung der Strecke konstant gehalten wird, kann der Wert der zu stabilisierenden Spannung z. B. dadurch stabilisiert werden, daß ein durch den Strahl auf einem Leuchtschirm, aufgezeichneter Leuchtpunkt an einer bestimmten' Stelle gehalten wird. Eine solche Vorrichtung ist aber für die obenerwähnten Zwecke oft nicht empfindlich genug. Die selbsttätige Nachregelung der Spannung ίο kann z. B. mittels einer Vorrichtung erfolgen, wie sie in »Physical Review«, Bd. 70, S. 884 und 885, beschrieben wurde, bei der Ablenkungen des Bündels von seiner normalen Lage Änderungen der Stromverteilung über ein Auffangplattenpaar bewirken. Diese Stromänderungen werden nach erfolgter Verstärkung zur Nachregelung der Hochspannung benutzt.is readjusted in such a way that the curvature of the path is kept constant, can the value of the voltage to be stabilized e.g. B. be stabilized in that a through the Beam on a luminescent screen, recorded luminous point held at a certain point will. However, such a device is often not sensitive enough for the purposes mentioned above. The automatic readjustment of the voltage ίο can z. B. be done by means of a device, such as it was described in "Physical Review", vol. 70, pp. 884 and 885, in the deflections of the bundle cause changes in the current distribution via a pair of receiving plates from its normal position. After amplification, these current changes are used to readjust the high voltage used.

Eine gute Stabilisierung, die wesentliche Vorteile hinsichtlich der Empfindlichkeit und der Bauart bietet, kann bei einer Vorrichtung zum Stabilisieren hoher Spannungen erzielt werden, die mit einer Elektronenstrahlröhre versehen ist, deren Elektronenstrahl in einem konstanten Magnetfeld abgelenkt wird, wobei die Krümmung der as Elektronenstrecke von der zu stabilisierenden Spannung abhängig ist und der Elektronenstrahl bei richtigem Wert der zu stabilisierenden Span-Hung teilweise auf eine Auffangelektrode auftrifft, wobei die Änderungen des Stromes zu dieser Elektrode zur Steuerung der zu stabilisierenden Spannung dienen, wenn nach der Erfindung das Bündel bei richtigem Wert der zu stabilisierenden Spannung sich wenigstens über einen Teil seiner Strecke in der Nähe von und nahezu parallel zur Übergangszone zwischen einem Bereich mit größerer und einem Bereich mit kleinerer Feldstärke erstreckt, während bei einer unerwünschten Zunahme der zu stabilisierenden· Spannung der auf die Auffangelektrode auftreffende Teil des Elektronen-Strahls sich ändert und der Strahl gleichzeitig in einen Bereich mit kleinerer Feldstärke gelangt. Vorzugsweise wird ein Dauermagnet verwendet, dessen Polschuhe halbkreisscheibenförmig sind. Durch das Anbringen von einander gegenüberliegenden Nuten in den einander zugekehrten Polflächen ergeben sich Bereiche mit verschiedener Feldstärke, zwischen denen die Feldstärke einen großen Gradienten besitzt, denn bei den Nuten sind die Polflächen weiter als an den übrigen Stellen voneinander entfernt. Durch das Anbringen verschiedener Nuten, die sich parallel zum letzten Teil einer entsprechenden Elektronenstrecke erstrecken müssen, kann die Vorrichtung für verschiedene Spannungen Anwendung finden. Nach der einfachsten Ausführungsform werden halbkreisscheibenförmige Polschuhe verwendet, zwischen denen der Elektronenstrahl tangential eintritt und dann parallel zum gekrümmten Polrand eine Krümmung von z. B. i8o° beschreibt, um schließßo Hch auf den Rand einer Auffangelektrode aufzutreffen. Infolge der Anordnung nach der Erfindung ergibt sich eine hohe Empfindlichkeit, da bei einer unerwünschten Zunahme der zu stabilisierenden Spannung, wodurch auch die Elektronengeschwindigkeit im Strahl und daher auch der Radius der Elektronenstrecke zwischen den Polschuhen zunimmt, diese Zunahme des Radius noch verstärkt wird, indem der in einer Feldstärke mit großem Gradienten befindliche Elektronenstrahl sich zum angrenzendien Bereich mit niedriger Feldstärke bewegt. Folglich vermögen verhältnismäßig geringe Spannungsabweichungen von der zu stabilisierenden/ Spannung· bereits größere Änderungen der Krümmung der Elektronenstrecke und daher des Stromes zur Auffangelektrode herbeizufühnen. Die Stromänderungen! der Auf fangelektrodie werden nach erfolgter Verstärkung zur Nachregelung der zu stabilisierenden Spannung benutzt, um diese Spannung konstant zu halten. Infolge der Verwendung eines Dauermagneten kann, ein Magnetfeld sehr konstanter Stärke erzielt werden. Abweichungen durch' Temperaturänderungen kann man· mit bekannten Mitteln ausgleichen oder durch das Anbringen, von Temperaturreglern vermeiden.Good stabilization, the main advantages in terms of sensitivity and design offers, can be achieved in a device for stabilizing high voltages with a cathode ray tube whose electron beam is in a constant magnetic field is deflected, the curvature of the as electron path from that to be stabilized Voltage is dependent and the electron beam at the correct value the span to be stabilized partially impinges on a collecting electrode, the changes in the current to this electrode to control the voltage to be stabilized, if according to the invention the bundle with the correct value of the voltage to be stabilized, at least over part of its distance close to and almost parallel to the transition zone between an area with larger and an area of lower field strength, while at an undesirable increase the voltage to be stabilized is the part of the electron beam that hits the collecting electrode changes and the beam simultaneously enters an area with a lower field strength. A permanent magnet is preferably used, the pole shoes of which are in the shape of a semicircular disk. By making opposing grooves in the facing pole faces there are areas with different field strengths, between which the field strength one has a large gradient, because the pole faces of the slots are wider than the others Digits apart. By making different grooves that are parallel to the last one Part of a corresponding electron path must extend, the device can for different Tensions apply. According to the simplest embodiment, they are semicircular disk-shaped Used pole pieces, between which the electron beam enters tangentially and then parallel to the curved pole edge a curvature of z. B. i8o ° describes to close Hitting the edge of a collecting electrode. As a result of the arrangement according to the invention the result is a high sensitivity, since there is an undesirable increase in the amount to be stabilized Voltage, which also increases the speed of electrons in the beam and therefore also the radius of the Electron distance between the pole pieces increases, this increase in the radius is reinforced is by the electron beam located in a field strength with a large gradient to the adjoining the area with low field strength. As a result, relatively small ones are able to do so Voltage deviations from the one to be stabilized / voltage · already major changes the curvature of the electron path and therefore of the current to the collecting electrode. The current changes! Be the collector electrode after amplification has been used to readjust the voltage to be stabilized in order to adjust this Keep tension constant. As a result of the use of a permanent magnet, there can be a magnetic field very constant strength can be achieved. Deviations due to temperature changes can one · compensate with known means or avoid by attaching temperature regulators.

Die Erfindung wird an Hand der Zeichnungen näher erläutert, in denen dieThe invention is explained in more detail with reference to the drawings, in which the

Fig. ι und 2 eine bestimmte Ausführungsform einer Röhre für eine Vorrichtung nach der Erfindung darstellen,Fig. Ι and 2 a specific embodiment of a tube for a device according to the invention represent,

Fig. 3 eine Kurve darstellt, dieFig. 3 is a graph showing

Fig. 4 und 5 Einzelheiten einer weiteren Ausführungsform darstellen undFigs. 4 and 5 illustrate details of a further embodiment and

Fig. 6 eine der Ausführung nach den Fig. 4 und 5 entsprechende Kurve darstellt.6 shows a curve corresponding to the embodiment according to FIGS. 4 and 5.

In Fig. ι bezeichnet 1 den Kolben einer Röhre, 9S der an den beiden Enden, durch einen Boden 2 bzw. 3 verschlossen ist, in den Kontaktstifte 4 eingeschmolzen sind.In Fig. Ι 1 denotes the piston of a tube, 9 S which is closed at the two ends by a base 2 and 3, in which the contact pins 4 are melted.

Die Röhre enthält ein Elektronenstrahlsystem 5, das seinerseits eine Kathode 6 enthält. Der Aufbau ist derart, daß die zu stabilisierende Spannung von 30 bis 50 kV und höher direkt zwischen der Kathode 6 und der Anode 7 angeschlossen werden kann. Die Geschwindigkeit der das Elektronenstrahlsystem in Form eines dünnen Strahls ver- ll>5 lassenden Elektronen steht daher in direktem Verhältnis zu der zu stabilisierenden Spannung. Der Elektronenstrahl erstreckt sich durch eine öffnung in dfer Anode 7 und gelangt dann tangential zwischen die Magnetpole 8 und 9. Die Pole 8 und 9 sind auf Eisenplatten 10 und 11 (Fig. 2) befestigt, die einen Dauermagnet 12 festklemmen. Die Platten 10 und 11 sind durch eine Halterungsplatte mit der Anode 7 verbunden.The tube contains an electron beam system 5, which in turn contains a cathode 6. The structure is such that the voltage to be stabilized of 30 to 50 kV and higher can be connected directly between the cathode 6 and the anode 7. Therefore, the speed of the electron system in the form of a thin beam comparable ll> 5 transmitting electrons in direct proportion to the voltage to be stabilized. The electron beam extends through an opening in the anode 7 and then arrives tangentially between the magnetic poles 8 and 9. The poles 8 and 9 are attached to iron plates 10 and 11 (FIG. 2) which clamp a permanent magnet 12. The plates 10 and 11 are connected to the anode 7 by a mounting plate.

Der Elektronenstrahl durchläuft zwischen den 11S Polen 8 und 9 eine gekrümmte Strecke, die nach der Erfindung sich gerade längs des Außenrandes der Magnetpole erstreckt, wo der Gradient der Feldstärke groß ist, wenn die zu stabilisierende Spannung den gewünschten Wert Vs hat. Der "o Strahl trifft nach dem Verlassen des Raumes zwischen den Polschuhen teilweise auf den Rand einer Auffangelektrode 13 und gelangt teilweise längs dieser Elektrode auf einen mit der Anode 7 verbundenen Schirm 14, der verhütet, daß das Glas «5 des Kolbens 1 von Elektronen getroffen wird.The electron beam passes through a curved path between the 11 S poles 8 and 9 which, according to the invention, extends straight along the outer edge of the magnetic poles, where the gradient of the field strength is large when the voltage to be stabilized has the desired value V s . After leaving the space between the pole pieces, the beam partially hits the edge of a collecting electrode 13 and partially passes along this electrode to a screen 14 connected to the anode 7, which prevents the glass 5 of the bulb 1 from being hit by electrons will.

Nimmt die zu stabilisierende Spannung Fs etwas zu, so vergrößert sich der Radius der Elektronenstrecke. Diese Vergrößerung wird noch dadurch begünstigt, daß die Elektronen in einen Bereich mit geringerer Feldstärke gelangen, nämlich außerhalb des Randes der Polschuhe. Da der Rand der Auffangelektrode 13 · dem Rand der Polschuhe 8 und 9 gerade gegenübersteht, erstreckt sich ein größerer Teil des Elektronenstrahls längs dieser ίο Elektrode.If the voltage F s to be stabilized increases somewhat, the radius of the electron path increases. This enlargement is further promoted by the fact that the electrons reach an area with a lower field strength, namely outside the edge of the pole pieces. Since the edge of the collecting electrode 13 is just opposite the edge of the pole shoes 8 and 9, a larger part of the electron beam extends along this electrode.

Die Wirkungsweise der Röhre folgt aus Fig. 3, in der -der Spannungsunterschied am Widerstand R, durch den die Auffangelektrode 13 mit der positiven Klemme (Erde) verbunden ist, senkrecht aufgetragen und die Spannung F1 zwischen der Kathode 6 und der Anode 7 des Elektronenstrahlsystems waagerecht aufgetragen ist.The operation of the tube follows from Fig. 3, in which the voltage difference across the resistor R, through which the collecting electrode 13 is connected to the positive terminal (earth), plotted vertically and the voltage F 1 between the cathode 6 and the anode 7 of the Electron beam system is applied horizontally.

Bei niedrigem Wert der Spannung F1 ist der Radius der Elektronenstrecke zwischen den PoI-ao schuhen und daher auch der Abstand X klein. Bei Zunahme der Spannung nimmt X immer mehr zu, wobei der Strahl in einem bestimmten Augenblick die Auffangelektrode 13 erreicht und diese stromführend wird, so daß am Widerstand R eine Spannung auftritt, die bei Zunahme von V1 der in Fig. 3 dargestellten Kurve folgt. Die Breite des Scheitels der Kurve ist von der Breite der Elektrode 13 abhängig, während die Steilheit der Flanken der Kurve von dem Querschnitt des Elektronen-Strahls "und der Geschwindigkeit, mit der X mit der Spannung V1 zunimmt, abhängig ist. Infolge der Anordnung nach der Erfindung wird erreicht, daß die fallende Flanke einen äußerst steilen Verlauf hat, da der Strahl beim Verlassen der Auffangelektrode gleichzeitig in einen Bereich, mit kleinerer Feldstärke gelangt und die Zunahme von X somit erhöht wird. Folglich tritt bei einer geringen Änderung von V1 in diesem Bereich eine größere Änderung von V0 auf. Von diesem Umstand kann man Gebrauch machen durch Vergleich der Spannung V0 mit einer Spannung Vc und durch Erhöhung von V1 um den Unterschied1 zwischendiesen Spannungen nach erfolgter Verstärkung, so daß bei hinreichender Verstärkung die Spannung V1 auf einen Wert Vs stabilisiert werden kann. Da der Punkt P auf einem sehr steilen Teil der Kurve liegt, hat der Wert der Vergleichsspannung Vc einen geringen Einfluß auf die Spannung F8. Die Vergleichsspannung Vc braucht daher nicht sehr genau konstant zu sein. Daraus ergibt sich der wesentliche Vorteil, daß Vc von einer durch eine Neonröhre stabilisierten Spannung unter Verwendung eines Potentiometers abgelteiltet werden kann.When the voltage F 1 is low, the radius of the electron path between the poles and therefore the distance X is small. As the voltage increases, X increases more and more, the beam reaching the collecting electrode 13 at a certain instant and this becomes live, so that a voltage occurs across the resistor R which, as V 1 increases, follows the curve shown in FIG. The width of the apex of the curve is dependent on the width of the electrode 13, while the steepness of the flanks of the curve is dependent on the cross-section of the electron beam "and the speed with which X increases with the voltage V 1. As a result of the arrangement according to the invention it is achieved that the falling edge has a very steep course, since the beam as it leaves the collecting electrode passes simultaneously into a region with a smaller field strength and the increase of X is thus increased. as a result, occurs in a small change in V 1 in this area there is a larger change in V 0. Use can be made of this fact by comparing the voltage V 0 with a voltage V c and by increasing V 1 by the difference 1 between these voltages after amplification, so that with sufficient amplification the voltage V 1 can be stabilized at a value V S. Since the point P lies on a very steep part of the curve, the value of the Comparison voltage Vc has little influence on the voltage F 8 . The comparison voltage V c therefore does not need to be very precisely constant. This has the essential advantage that V c can be divided from a voltage stabilized by a neon tube using a potentiometer.

Bei einer besonderen Ausführungsform haben die Magnetpole eine Basis von 2 cm und einen gegenseitigen Abstand von 0,75 mm. Die Feldstärke zwischen den Polen beträgt 800 Gauß und wird von einem Dauermagnet 12 erzeugt. Der Strom des Elektronenstrahls zur Elektrode 13 beträgt höchstens 15 mA und R=X Megohm. Die Höchstspannung V0 beträgt daher 15 Volt und im Punkt P etwa 7,5 Volt. Die Vergleichsspannung Vc muß daher ebenfalls etwa 7,5 Volt betragen. Die Spannung V8 ist dann auf etwa 56 kV stabilisiert mit einer Genauigkeit bis auf 0,05% während längerer Zeit und kann kurzzeitig (ζ. Β. ι Minute) bis auf etwa 0,005% konstant sein. Die Spannung von 56 kV kann daher während längerer Zeit auf 28 Volt und während einer bestimmten Messung sogar auf 2,8 Volt konstant gehalten werden.In a particular embodiment, the magnetic poles have a base of 2 cm and a mutual distance of 0.75 mm. The field strength between the poles is 800 Gauss and is generated by a permanent magnet 12. The current of the electron beam to the electrode 13 is at most 15 mA and R = X megohms. The maximum voltage V 0 is therefore 15 volts and at point P about 7.5 volts. The comparison voltage V c must therefore also be approximately 7.5 volts. The voltage V 8 is then stabilized to about 56 kV with an accuracy of up to 0.05% for a long time and can be constant for a short time (ζ. Β. Ι minute) up to about 0.005%. The voltage of 56 kV can therefore be kept constant at 28 volts for a longer period of time and even at 2.8 volts during a certain measurement.

Bei der Ausführungsform nach den Fig. 4 und 5 kann eine Stabilisierung einer Spannung auf verschiedene Werte erzielt werden. Die Magnetpole 15, 16 sind dabei mit solchen Nuten oder Sägeschnitten 20, 21 versehen, daß angrenzende Bereiche mit größerer und kleinerer Feldstärke entstehen, zwischen denen die Feldstärke einen großen Gradienten besitzt, denn zwischen den einander gegenüberliegenden Spalten ist die Feldstärke geringer als zwischen den übrigen Teilen der Polschuhe. Die Polschuhe 15 und 16 sind an Eisenplatten 17 und 18 befestigt, die den Dauermagnet 19 einklemmen.In the embodiment according to FIGS. 4 and 5, a stabilization of a voltage to different Values are achieved. The magnetic poles 15, 16 are with such grooves or saw cuts 20, 21 provided that adjacent areas with greater and lesser field strength arise, between which the field strength has a large gradient, because between each other opposite columns, the field strength is lower than between the remaining parts of the pole pieces. The pole pieces 15 and 16 are attached to iron plates 17 and 18, the permanent magnet Pinch 19.

Die Spalten 20 und 21 sind derart gestaltet, daß der Elektronenstrahl sich gerade längs deren. Rand erstrecken kann. Bei Zunahme der Spannung des Elektronenstrahlsystems weist die am Widerstand R1 auftretende Spannung die Kurve nach Fig. 6 auf. Eine Stabilisierung nach der Erfindung wird dann bei" Spannungen F81, F52 und Fss erzielt. Hierbei kann immer dieselbe Vergleichsspannung Vc' verwendet werden, aber es ist auch möglich, bei jeder stabilisierten Spannung F8 einen abweichenden Wert für Vc zu wählen. Die Punkte P, P' und P" können dann in der Mitte am steil herabgehenden Zweig der Kurve gelegt werden. Die Auffangelektroden 23, 24, 25 können die Form einer mit-Spalten versehenen Platte haben. Ein Rand einer Platte oder eines Spaltes muß aber immer mit dem betreffenden Rand der Polschuhe oder den Spalten in ihnen zusammenfallen, in Richtung der Elektronenstrecken gesehen.The columns 20 and 21 are designed so that the electron beam is straight along them. Edge can extend. When the voltage of the electron beam system increases, the voltage appearing at resistor R 1 has the curve according to FIG. 6. Stabilization according to the invention is then achieved with voltages F 81 , F 52 and F ss . The same comparison voltage V c ' can always be used here, but it is also possible to assign a different value for V c for each stabilized voltage F 8 The points P, P ' and P " can then be placed in the middle on the steeply descending branch of the curve. The collecting electrodes 23, 24, 25 may be in the form of a plate provided with slits. However, an edge of a plate or a gap must always coincide with the relevant edge of the pole shoes or the gaps in them, viewed in the direction of the electron paths.

Die Nuten stellen je einen Teil eines Halbkreises mit verschiedenem Durchmesser und mit dem «05 Punkt der Basis, wo der Elektronenstrahl zwischen die Polschuhe tritt, als gemeinsamen Berührungspunkt dar.The grooves each represent part of a semicircle with different diameters and with the «05 Point of the base, where the electron beam enters between the pole pieces, as a common point of contact represent.

In den Spalten der Polschuhe muß im allgemeinen ein nicht magnetischer Materialstreifen 26 bzw. 27, z. B. aus Kupfer, eingeklemmt werden, damit die Elektronenstrecken in den verschiedenen stabilen Lägen getrennt bleiben. Ist dies nicht der Fall, so können die Kurven nach Fig. 6 mehr oder weniger ineinander übergehen. Die Spalten können «5 · eine Tiefe von 1,5 mm und eine Breite von 1 mm haben, und. die Polschuhe können, wie im ersteren-Ausführungsbeispiel, in einem gegenseitigen Abstand von 0,75 mm liegen.In the gaps in the pole pieces, a non-magnetic strip of material must generally be used 26 and 27, e.g. B. made of copper, so that the electron paths in the different remain separated in stable positions. If this is not the case, the curves according to FIG. 6 can be more or less merge. The columns can be «5 · a depth of 1.5 mm and a width of 1 mm have and. the pole shoes can, as in the first embodiment, are at a mutual distance of 0.75 mm.

Es ist einleuchtend, daß nach der Erfindung noch weitere Ausführungsformen möglich sind. So kann eine größere Nutenzahl in den Magnetpolen angebracht werden, und die Auffangelektroden können auch mit getrennten Widerständen verbunden werden. Sogar lassen sich die Auffangelektroden derart anordnen, daß bei einer ZunahmeIt is evident that other embodiments are possible according to the invention. So a larger number of slots can be placed in the magnetic poles, and the collecting electrodes can also be connected to separate resistors. The collecting electrodes can even be removed arrange so that when there is an increase

der zu stabilisierenden Spannung der Strom dieser Elektroden zunimmt, so daß bei den Kurven nach den Fig. 3 und 6 die Punkte P auf einem steil aufsteigenden Zweig zu liegen kommen.the voltage to be stabilized, the current of these electrodes increases, so that in the curves according to FIGS. 3 and 6, the points P come to lie on a steeply ascending branch.

Claims (4)

Patentansprüche·.Claims ·. i. Vorrichtung zum Stabilisieren hoher ίο Spannungen mit einer Elektronenstrahlröhre,i. Device for stabilizing high ίο voltages with a cathode ray tube, bei der ein Elektronenstrahl in ,einem konstanten Magnetfeld abgelenkt wird, wobei die Krümmung der Elektronenstrecke von der zu stabilisierenden Spannung abhängig ist, und der Elektronenstrahl bei richtigem Wert der zuin which an electron beam is deflected in, a constant magnetic field, the The curvature of the electron path depends on the voltage to be stabilized, and the electron beam at the correct value of the to stabilisierenden Spannung teilweise auf eine Auffangelektrode auftrifft, wobei die Änderungen des Stromes zu dieser Elektrode zum Regeln der zu stabilisierenden Spannung dieso nen, dadurch gekennzeichnet, daß das Bündel bei richtigem Wert der zu stabilisierenden Spannung sich wenigstens über einen Teil seiner Strecke in der Nähe von und nahezu parallel zur Übergangszone zwischen einem »5 Bereich mit größerer und einem Bereich] mit kleinerer Feldstärke erstreckt, während bei einer unerwünschten Zunahme der zu stabilisierenden Spannung der auf die Auffangelektrode auftreffende Teil des Elektronenstrahlte sich ändert und der Strahl gleichzeitig in einen Bereich mit kleinerer Feldstärke gelangt. stabilizing voltage partially impinges on a collecting electrode, whereby the changes of the current to this electrode to regulate the voltage to be stabilized nen, characterized in that the bundle at the correct value of the to be stabilized Tension is near and nearly over at least part of its route parallel to the transition zone between a »5 area with a larger area and an area] with smaller field strength extends, while with an undesirable increase in the to be stabilized The voltage of the part of the electron beam impinging on the collecting electrode changes and the beam changes at the same time enters an area with a lower field strength. 2. Elektrische Entladungsröhre für eine Vorrichtung nach Anspruch 1, die ein Elektronenstrahlsystem enthält, von dem ein Elektronenstrahl erzeugt wird, der in einem Magnetfeld zwischen zwei Polschuhen abgelenkt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Polschuhe einen oder mehrere Ränder bzw. Nuten besitzen, so daß angrenzende Bereiche mit größerer und kleinerer Feldstärke entstehen, und derart angeordnet sind, daß der Strahl wenigstens über einen Teil seiner Strecke in kurzem Abstand längs eines der gekrümmten Ränder verläuft.2. An electric discharge tube for a device according to claim 1, which has an electron beam system contains, from which an electron beam is generated, which is deflected in a magnetic field between two pole pieces, thereby characterized in that the pole pieces have one or more edges or grooves, so that adjacent areas with larger and smaller field strength arise, and so arranged are that the beam is at least over part of its distance at a short distance runs along one of the curved edges. 3. Elektrische Entladungsröhre nach An-Spruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Polschuhe halbkreisscheibenförmig sind und der Elektronenstrahl senkrecht zu und- in der Nähe eines Endes der Basis zwischen die Polschuhe tritt und in kurzem Abstand längs deren gekrümmtem Außenrand zum anderen Ende der Baisis. läuft undi dort auf eine Auffangdektrodje auftrifft, von der ein äußerster Rand sich diesem Ende der Basis der Polschuhe gerade gegenüber befindet.3. Electrical discharge tube according to claim 2, characterized in that the pole pieces are semicircular disk-shaped and the electron beam is perpendicular to and in the vicinity one end of the base occurs between the pole pieces and a short distance along the curved one Outer edge to the other end of the baisis. runs undi there on a collecting electrode meets an outermost edge of this end of the base of the pole pieces straight opposite is located. 4. Elektrische Entladungsröhre nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Polschuhe an den einander gegenüberliegenden Seiten mit einander gegenüberliegenden Nuten versehen sind, die je einen Teil eines Halbkreises mit verschiedenem Durchmesser und mit dem Punkt der Basis, wo der Elektronenstrahl zwischen die Polschuhe tritt, als gemeinsamen Berührungspunkt darstellen.4. Electrical discharge tube according to claim 2, characterized in that the pole pieces on the opposite sides with opposite grooves are provided, each part of a semicircle with a different diameter and with the point of the base where the electron beam enters between the pole pieces as common Represent point of contact. Hierzu 1 Blatt Zeichnungen,1 sheet of drawings,
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