Im Patent &79 729 sind Elektronenstrahlröhrer unter Schutz gestellt
worden, bei denen die Kathode durch gekreuzte Zylinderlinsen auf dem Leuchtschirm
abgebildet wird. Diese Anordnung wird für ,Mehrfachröhren angewendet, wobei die
erste Zylinderlinse den aus dem Strahlerzeugungssystem kegelig austretenden Strahl
in einen Flachstrahl verwandelt, :der das Ablenksystem durchsetzt und dabei in mehrere
Teilstrahlen aufgeteilt wird. Im Patent 905 048 ist im Anschluß an dieses
Mehrfachablenksystem die Anordnung einer weiteren Elektrode unter Schutz gestellt
worden, die sich auf einem von dem Ablenksystem verschiedenen Potential befindet
und mit diesem zusammen eine kombinierte Linse bildet, deren Elementarlinsen die
zweiten senkrecht zur obengenannten, vor dem Ablenksystem liegenden Zylinderlinse
wirkenden Zylinderlinsen darstellen, während der nachfolgende Teil eine Zerstreuungslinse
ergibt. Diese nachfolgende, auf einem von dem Ablenksystem unterschiedlichen Potential
liegende Elektrode soll ringförmig mit großem Durchmesser vorzugsweise als Wandbelag
ausgebildet sein. Durch den großen Durchmesserwird dieFleckschärfeminderung durch
Linsenfehler herabgesetzt, da diese Fehler, wie allgemein bei Linsen, um so kleiner
sind, je kleiner der ausgenutzte Anteil ist. Es ist ferner wichtig, daß bei Mehrfachröhren
äußere und innere Teilstrahlen durch die Linse in gleicher Weise beeinflußtwerden,
denn bei zu kleinem Linsendurchmesser würde sich die Brennweite für äußere und innere
Strahlen unterscheiden. Andererseits kann man aus den gleichen Gründen, nämlichAusnutzung
nur eines kleinen Teiles des Feldes der vorhergehenden Linsen, das Ablenksystem
nicht beliebig groß machen. Dadurch entsteht aber zwischen Abmessung des Ablenksystem:s
und Abmessung der nachfolgenden Elektrode ein großer Unterschied. Hierbei ergeben
sich folgende Schwierigkeiten. Einerseits werden die Fehler verringert, wenn, wie
vorgeschlagen, der Durchmesser der nachfolgenden Elektrode groß gegen den vom Strahl
beanspruchtenDurchmesser wird; da aber aus den geschilderten Gründen das Ablenksystem
nur begrenzte Abmessungen hat, wachsen andere Fehler .an, wenn der Durchmesser der
nachfolgenden Elektrode verschieden ist.In patent & 79 729 cathode ray tubes have been placed under protection, in which the cathode is displayed on the fluorescent screen through crossed cylindrical lenses. This arrangement is used for multiple tubes, whereby the first cylinder lens converts the conical beam emerging from the beam generation system into a flat beam, which passes through the deflection system and is divided into several partial beams. In the patent 905 048, following this multiple deflection system, the arrangement of a further electrode has been placed under protection, which is at a different potential from the deflection system and together with this forms a combined lens, the elementary lenses of which are perpendicular to the above-mentioned, in front of the deflection system represent lying cylinder lens acting cylinder lenses, while the following part results in a diverging lens. This subsequent electrode, which is at a potential different from the deflection system, should be designed in an annular shape with a large diameter, preferably as a wall covering. Due to the large diameter, the reduction in spot sharpness due to lens defects is reduced, since these defects, as is generally the case with lenses, are smaller the smaller the proportion that is used. It is also important that, in the case of multiple tubes, the outer and inner partial beams are influenced by the lens in the same way, because if the lens diameter is too small, the focal length for the outer and inner beams would differ. On the other hand, for the same reasons, namely using only a small part of the field of the preceding lenses, the deflection system cannot be made arbitrarily large. However, this creates a big difference between the dimensions of the deflection system: s and the dimensions of the subsequent electrode. The following difficulties arise here. On the one hand, the errors are reduced if, as proposed, the diameter of the subsequent electrode becomes large compared to the diameter occupied by the beam; but since the deflection system has only limited dimensions for the reasons described, other errors grow when the diameter of the subsequent electrode is different.
Gemäß der Erfindung wird bei Anordnungen nach Patent 9o5 048 dieses
Anwachsen der anderen Fehler unter Wahrung der Vorteile des großen Durchmessers
der nachfolgenden Elektrode dadurch vermieden, daß das Ablenksystem durch eine weitere
zusätzliche Elektrode ergänzt ist, die im wesentlichen in einer Ebene senkrecht
zur Richtung der unabgelenkten Strahlen außerhalb des Ablenksvstems liegt. Die zusätzliche
Elektrode liegt auf dem Potential des Ablenksystem.s, während die weitere Elektrode
an einer von dieser verschiedenen Spannung liegt. Fig. i zeigt eine erfindungsgemäße
Ausführungsform. i steilt das Strahlerzeugungssystem mit der ersten Zylinderlinse
dar, das im einzelnen nicht näher ausgeführt ist. Das in dem gewählten Beispiel
aus vier unsymmetrischen Ahlenkssteimen bestehende Mehrfaehablenksystem 2 liegt'
reit je einer Platte auf Erdpotential, während an die anderen Platten die Meßspannungen
gelegt werden können. Vor diesem System 2 liegt eine Elektrode 3, die mit Öffnungen
.. für die Ablenksvsteme versehen ist. Sie ist .senkrecht zur Strahlrichtung angeordnet
und geht bis auf den Durchmesser der als Wandbelag ausgebildeten nachfolgenden,
auf veränderlichem Potential 5 liegenden Elektrode 6.According to the invention, in arrangements according to patent 9o5 048 this
Increase in other defects while taking advantage of the large diameter
the subsequent electrode avoided that the deflection system by a further
additional electrode is added, which is essentially perpendicular in a plane
to the direction of the undeflected rays lies outside the deflection system. The additional
The electrode is at the same potential as the deflection system, while the other electrode
is due to one of these different tension. Fig. I shows an inventive
Embodiment. i aligns the beam generation system with the first cylinder lens
represents, which is not detailed in detail. That in the example chosen
multi-fold deflection system 2 consisting of four asymmetrical Ahlenkssteimen lies'
One plate rides to earth potential, while the measuring voltages are applied to the other plates
can be laid. In front of this system 2 there is an electrode 3 with openings
.. is provided for the diversion systems. It is arranged perpendicular to the direction of the beam
and goes up to the diameter of the following, designed as wall covering,
Electrode 6 lying at variable potential 5.
Ein weiteres Ausführungsbeispiel zeigt die Fig.2. Hier sind das Strahlerzeugungssystem
i und das Ablenksystem 2 schematisch dargestellt. Das Ablenksystem -> ist mit einer
abschließende Öffnungen für den Strahldurchtritt enthaltenden Platte ? v ersehen.
Um einen elektrischen Ausgleich für die verschiedenen Durchmesser des Systems 2
und der nachfolgenden Elektrode 6 zu erhalten, wird ein weiterer, gleichzeitig als
Abschirmung und zur Vermeidung von Wandladungen dienender Wandbelag 8 an den Wänden
des Kolbens, der sich unmittelbar nach dem Ablenksvstem stark erweitert, hochgezogen.
Er bildet somit eine elektrische Verlängerung der Platte 7 zum Ausgleich des Durchmessers
des Ablenkst' stems 2 gegen die Elektrode 6.Another embodiment is shown in FIG. Here are the beam generation system
i and the deflection system 2 shown schematically. The deflection system -> is with a
final openings for the plate containing the beam passage? Mistake.
In order to provide electrical compensation for the different diameters of the system 2
and the subsequent electrode 6 will be another, at the same time as
Shielding and wall covering 8 on the walls which serves to avoid wall charges
of the piston, which expands sharply immediately after the deflection system, is pulled up.
It thus forms an electrical extension of the plate 7 to compensate for the diameter
of the deflecting stem 2 against the electrode 6.