DE725146C - Arrangement to increase the deflection sensitivity of cathode ray tubes by electron-optical enlargement of the beam deflections - Google Patents

Arrangement to increase the deflection sensitivity of cathode ray tubes by electron-optical enlargement of the beam deflections

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DE725146C
DE725146C DEH155777D DEH0155777D DE725146C DE 725146 C DE725146 C DE 725146C DE H155777 D DEH155777 D DE H155777D DE H0155777 D DEH0155777 D DE H0155777D DE 725146 C DE725146 C DE 725146C
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cathode ray
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Dr-Ing Habil Hans Eri Hollmann
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HOLLMANN HANS E DR ING HABIL
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HOLLMANN HANS E DR ING HABIL
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/46Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
    • H01J29/58Arrangements for focusing or reflecting ray or beam

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  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

Anordnung zur Erhöhung der Ahlenkempfindlichkeit von Kathodenstrahlröhren durch elektronenoptische.Vergrößerung der Strahlausschläge Die Eafindung betrifft eine Anordnung zur Erhöhung der Ablenkempfindlichkeit von Kathodenstrahlröhren durch elektronenoptische Vergrößerung der Strahlausschläge mittels einer magnetischen Zerstreuungslinse, und zwar in einer Koordinate, ohne daß die Empfindlichkeit in anderen, vor allen Dingen in der darauf :senkrecht stehenden Koordinate beeinträchtigt wird.Arrangement to increase the steering sensitivity of cathode ray tubes by electron-optical enlargement of the beam deflections an arrangement for increasing the deflection sensitivity of cathode ray tubes electron-optical enlargement of the beam deflections by means of a magnetic one Diverging lens, in one coordinate without affecting the sensitivity in others, above all in the coordinate on it: perpendicular to it will.

An sich ist es, bekannt, die Ablenkempfindlichkeit von Kathodenstrahlröhren mit Hilfe von elektronenoptisichen Zerstreuungslinsen,, welche zwischen die Ablenksysteunie und den Leuchtschirm geschaltet. werden, zu erhöhen. Die einfachste und zweckmäßigste Anordnung dieser Art, welche den Vorzug besitzt, daß sie sich auch nachträglich bei jeder beliebigen Kathodenstrahlröhre in Anwendung bringen läßt, ist schematisch in der Fig. i dargestellt. Ein Elektronenstrahl i, welcher aus einem beliebigen Strahlerzeugu:ngssystem 2 austritt, wird durch zwei- senkrecht zueinander angeordnete Plattenpaare 3 und q. in zwei senkrechten Koordinaten, beispielsweise mit 9o° Phasenverschiebung, abgelenkt, so daß der Leuchtpunkt auf dem Fluoreszenzschirm5 eine kreisförmige Ablenkfigur 6 beschreibt. Nähert man dem Strahl symmetrisch zur optischen Achse und hinter den beiden Ablenksysroemen zwei Hufeisenma:gnete 7 und 8 mit der aus der Figur ersichtlichen Polung, so wird die A.blenkfigur zu einer Ellipse 7 mit senkrecht stehender großer Achse auseinandergezogen, die gegenüber dem ursprünglichen Kreisdurchmesser vergrößert ist, während die kleine'Achse gegenüber dem ursprünglichen Kreisdurchmesser verkleinert wird. Die Wirkung eines derartigen magnetischen Vierpols entspricht lichtoptisch der in Fig.2 gezeigten Kombination einer zylindrischen Zerstreuungslinse io und einer zylindrischen Sammellinse i i. Die Zerstreuungslinse, wird von den zwischen den einander gegenüberstehenden Polen der beiden Magnete in horizontaler Richtung übergehenden magnetischen Kraftlinien erzeugt, während die in der Senkrechten zwischen den beiden Polen (eines jeden Magneten ver= laufenden Kraftlinien zwangsläufig die Sarnmellin.se ergeben. Daraus geht hervor, daß eine Steigerung der Ablenkempfindlichkeit mittels der gezeigten Anordnung zwangsweise mit einer entsprechenden Empfindlichkeitsverringerung in. der dazu senkrecht liegenden Achse einhergeht.It is known per se, the deflection sensitivity of cathode ray tubes with the help of electron optical diverging lenses, which are placed between the deflection systems and switched the screen. will increase. The simplest and most functional Arrangement of this kind, which has the advantage that it can also be retrofitted can be applied to any cathode ray tube is schematic shown in Fig. i. An electron beam i, which from any Beam generation system 2 exits, is through two - arranged perpendicular to each other Plate pairs 3 and q. in two perpendicular coordinates, for example with a 90 ° phase shift, deflected so that the luminous point on the fluorescent screen5 has a circular deflection figure 6 describes. If you approach the beam symmetrically to the optical axis and behind the both deflection systems two horseshoe dimensions: match 7 and 8 with the one shown in the figure Polarity, then the A.blenkfigur becomes an ellipse 7 with a vertical large Axis pulled apart, which is larger than the original circle diameter while the small axis is reduced compared to the original circle diameter will. The effect of such a magnetic quadrupole corresponds to light-optical the combination shown in Figure 2 of a cylindrical diverging lens io and a cylindrical converging lens i i. The diverging lens is used by the between the opposing poles of the two magnets in horizontal Direction transient magnetic lines of force generated, while those in the vertical between the two poles (of each magnet, lines of force inevitably run the Sarnmellin.se surrender. It can be seen from this that an increase in the deflection sensitivity necessarily with a corresponding reduction in sensitivity by means of the arrangement shown in. the axis lying perpendicular thereto.

In vielen Fällen, beispielsweise bei der Aufzeichnung elektrischer Vorgänge über einer Zeitachse, die z. B. durch zeitpropor-.tionale Kippschwingungen geschaffen wird, genügt es, wenn man nur die Empfindlichkeit in der eigentlichen Meßachse, d. h. senkrecht zur Zeitachse, vergrößert, doch ist bei der Anordnung nach Fig. i bald eine. Grenze gezogen, weil die parallel gehende Empfindlichkeitsverringerung in der horizontalen Zeitachse praktisch nicht mehr wirtschaftlich aufzubringendeKippspa:nnungen erfordern würde, welche den in der Ordinatenrichtungerzielten Gewinn zunichte machen würden.In many cases, for example when recording electrical Activities over a timeline, e.g. B. by time-proportional .tional tilting vibrations is created, it is enough if you just look at the sensitivity in the actual Measuring axis, d. H. perpendicular to the time axis, enlarged, but is in the arrangement after Fig. i soon one. The limit drawn because of the parallel reduction in sensitivity Tilting voltages that are practically no longer economically viable in the horizontal time axis which would negate the gain achieved in the ordinate direction would.

Hier schafft die Erfindung einfache und wirksame Abhilfe, indem die @elektronenoptische Empfindlichkeätsvergrößerung ausschließlich auf eine Ordinatenrichtung erstreckt wird, ohne daß die in Fig. z gezeigte Sammellinse i i wirksam wird. Zu dlesein. Zweck wird die Anordnung gemäß Üer Erfindung auf die in Fig. 3 schematisch dargestellte Weise so, getroffen, daß zwischen den beiden in Strahlrichtung hintereinander angeordneten Ablenkmitteln ein @elektronenoptisches System, angeordnet ist, welches für die aus dem ersten Ablenksystexn austretenden Strablelektroonen als zerstreuende Zylinderlinse wirkt, deren Zylinderachse parallel zur Ablenkungsrichtung des ersten Ablenksystean.s liegt.Here the invention creates a simple and effective remedy by the @electron-optical sensitivity enlargement exclusively on one ordinate direction is extended without the converging lens i i shown in FIG. z becoming effective. to be it. Purpose is the arrangement according to the invention to that in Fig. 3 schematically The manner shown so hit that between the two in the direction of the beam one behind the other arranged deflection means an @electron optical system is arranged, which for the string electrons emerging from the first deflection system as dispersing ones Cylindrical lens acts, the cylinder axis of which is parallel to the direction of deflection of the first Deflection system is located.

Auf Grund der vorangehenden Erläuterungen erkennt man leicht, daß das Magnetsystem 12 infolgedessen nur auf .die vom Plattenpaar 13 herrührenden Strahlausschläge wirkt und dieselben vergrößert, während die magnetische Sammellinse wirkungslos bleibt, weil die Horizontalablenkung durch die Ablenkplatten 1,4 erst hinter den Magneten, d. h. nachdem die Elektronen das magnetische Linsenfeld durchsetzt haben, erfolgt. Stellt man infolgedessen zunächst wieder ohne Magnete eine kreisförmige Ablenkfigur 15 her, so wird dieselbe beim Anbringen der Magnete wieder zu einer Ellipse 16 auseinandergezogen, deren kleine Achse jedoch im Gegensatz zu der Ellipse 7 in Fig. i gleich dem Durchmesser des ursprünglichen Kreises geblieben ist. Die Empfindlichkeit %n der harizontdlen Achsenrichtung hat sich also nicht verändert.On the basis of the preceding explanations one can easily see that the magnet system 12 consequently only on the beam deflections originating from the pair of plates 13 acts and enlarges the same, while the magnetic converging lens has no effect remains because the horizontal deflection by the baffles 1.4 only behind the Magnets, d. H. after the electrons have penetrated the magnetic lens field, he follows. As a result, if you first create a circular one again without magnets Deflection figure 15, it becomes one again when the magnets are attached Ellipse 16 pulled apart, but its minor axis in contrast to the ellipse 7 in Fig. I has remained the same as the diameter of the original circle. the Sensitivity% n of the horizontal axis direction has not changed.

Praktisch muß dafür gesorgt werden, daß die magnetischen Streukraftlinien nach Möglichkeit nicht über die Platten 14 hinausgreifen, damit die von 14 herrührenden, Strahlausschläge auch wirklich der Verkleinerung durch die magnetische Sammellinse entzogen sind. Unter Umständen ist es daher zweckmäßig, die Streukraftlinien durch eine zwischen das Magnetsystem 12 und das Plattenpaar 1,4 zwischengeschobenle Lochplatte aus ferromagnetischem Material ,abzuschirmen.In practice it must be ensured that the magnetic stray lines of force if possible do not reach beyond the plates 14, so that the originating from 14, Beam deflections are actually reduced by the magnetic converging lens are withdrawn. Under certain circumstances it is therefore useful to read the scattering force lines through a perforated plate inserted between the magnet system 12 and the pair of plates 1, 4 made of ferromagnetic material.

Grundsätzlich besteht noch die Möglichkeit, die Platten des Systems 14 selbst als kleine permanente Flachmagnete auszubilden, welche die elektronenoptische Zerstreuungslinse für die vom. System 13 herrührenden Strahlausschläge liefern.Basically, there is still the option of using the disks of the system 14 themselves to be designed as small permanent flat magnets, which the electron-optical Diverging lens for the dated. System 13 deliver resulting beam deflections.

Claims (1)

PATENTANSPRÜCHE 1. Anordnung zur Erhöhung der Ablenkempfindlichkeit von Kathodenstrahlröhren durch :elektronenoptische Vergrößerung der Strahlausschläge, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den beiden in Strahlrichtung hintereinander angeordneten Ablenkmitteln ein elektronenoptisches System angeordnet ist, welches für die aus dem ersten Ablenksystem austretenden Strahleltektronen als zerstreuende Zylinderlinse wirkt, deren Zylinderachse parallel zur Ablenkungsrichtung des ersten Ablenksystems, liegt. z. Anordnung nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die zwischen den Ablenksystemen liegende elektronenoptische, zerstreuende Zylinderlinse via einem innerhalb oder außerhalb der Röhre befindlichen magnetischen Vierpol gebildet ist, der aus zwei einander gegenüberstehenden Flach- oder Hufeisenm:agneten besteht, deren ungleichnamige Pole einander gegenüberstehen und deren Magnetfelder senkrecht zur Röhrenachse wirken. 3. Anordnung nach Anspruch z, dadurchgekennzeichnet, daß die zerstreuende Zylinderlinse gegen das in Strahlrichtung hinter ihm liegende Ablenksystem magnetisch abgeschirmt ist. q.. Anordnung .nach Anspruch z, da-,durch gekennzeichnet, daß die Flachmagnete des magnetischen Vierpols zugleich die Ablenkplatten des zweiten Ab- lenksystems bilden. 1. An arrangement for increasing the deflection of cathode ray tubes by: electron-optical magnification of the beam deflections, characterized in that an electron optical system is arranged between the two in the beam direction successively arranged deflection which acts on the emerging from the first deflection Strahleltektronen as dispersive cylindrical lens whose The cylinder axis is parallel to the direction of deflection of the first deflection system. z. Arrangement according to claim i, characterized in that the electron-optical, dispersing cylinder lens located between the deflection systems is formed via a magnetic quadrupole located inside or outside the tube, which consists of two opposing flat or horseshoe magnets, the opposite poles of which are opposite each other and whose magnetic fields act perpendicular to the tube axis. 3. Arrangement according to claim z, characterized in that the divergent cylindrical lens is magnetically shielded from the deflection system located behind it in the beam direction. q .. arrangement for .After claim, DA, by in that the flat magnets of the magnetic quadripole steering system at the same time form the baffles of the second exhaust.
DEH155777D 1938-05-12 1938-05-12 Arrangement to increase the deflection sensitivity of cathode ray tubes by electron-optical enlargement of the beam deflections Expired DE725146C (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1154881B (en) * 1959-07-24 1963-09-26 Bbc Brown Boveri & Cie Device for deep irradiation with fast electrons

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