DE4423288A1 - Transparent coating thickness measuring device for printed material - Google Patents
Transparent coating thickness measuring device for printed materialInfo
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Abstract
Description
Die Erfindung dient zum Messen der Dicke einer transparenten Beschichtung auf einem Druckerzeugnis, insbesondere zur Messung der Dicke einer Lackschicht auf einem diffus reflektierenden Bedruckstoff.The invention is used to measure the thickness of a transparent Coating on a printed product, in particular for Measurement of the thickness of a lacquer layer on a diffuse reflective substrate.
Bekannte, nach dem optischen Triangulationsverfahren arbeitende Anordnungen für die Messung der Dicke transparenter Schichten enthalten eine opto-elektronische Meßeinrichtung für den Abstand der an der Beschichtung und an der Oberfläche des Meßobjektes reflektierten Meßlichtstrahlen. Die Meßlichtstrahlen gehen von einer Beleuchtungsvorrichtung aus, wobei mit Hilfe eines optischen Systems ein Punkt auf die Oberfläche des Meßobjektes abgebildet wird. Der Meßlichtstrahl wird sowohl an der Oberseite der Beschichtung als auch an der Oberfläche des beschichteten Materials reflektiert bzw. gestreut.Known, after the optical triangulation process working arrangements for measuring the thickness transparent layers contain an opto-electronic Measuring device for the distance to the coating and at reflected the surface of the measurement object Measuring light rays. The measuring light rays go from one Lighting device, with the help of an optical Systems a point on the surface of the target is mapped. The measuring light beam is both at the Top of the coating as well as on the surface of the coated material reflected or scattered.
Ein weiteres optisches System bildet die Reflexe auf einem opto-elektronischen Empfänger ab. Mittels einer Auswerteeinrichtung kann die Lage der Reflexe in der Empfängerebene bestimmt werden und die Dicke der Beschichtung errechnet werden.Another optical system is the reflexes on one opto-electronic receiver. By means of a Evaluation device can the position of the reflections in the Receiver level can be determined and the thickness of the coating can be calculated.
Nachteilig bei den bekannten Anordnungen ist, daß die Reflexe nur einen geringen Abstand in der Empfängerebene aufweisen, so daß die Reflexe nicht oder nur sehr ungenau separiert werden können. Bei Bedruckstoffen mit hoher Rauhigkeit entsteht weiterhin der Nachteil, daß sich in dem auf der Bedruckstoffoberfläche reflektierten Licht eine Vielzahl solcher Reflexe überlagern, die die Auswertung noch erschweren oder unmöglich machen.A disadvantage of the known arrangements is that the reflections only have a small distance in the receiver plane, so that the reflexes are not separated or only separated very imprecisely can be. For substrates with high roughness there is also the disadvantage that in the on Substrate surface light reflected a variety such reflexes are superimposed on the evaluation make it difficult or impossible.
Zur Schichtdickenmessung sind desweiteren interferometrische Verfahren und Einrichtungen bekannt, die polarisiertes Meßlicht verwenden und die die Intensität im an der Oberfläche eines Meßobjektes reflektierten Meßlicht auswerten (DE 31 36 887 A1).Interferometric measurements are also used to measure the layer thickness Methods and devices known to polarize Use measuring light and the intensity in the Evaluate the surface of a measuring object reflected measuring light (DE 31 36 887 A1).
In EP 02 49 235 B1 werden im reflektierten Meßlichtstrahlengang Strahlenteilereinrichtungen verwendet, die genau drei Lichtstrahlen mit derselben räumlichen Verteilung wie der reflektierte Meßlichtstrahl erzeugen. In den drei Lichtstrahlen angeordnete Analysatoren bewirken eine Extrahierung von wenigstens drei linear polarisierten Lichtkomponenten mit jeweils verschiedenen Polarisationswinkeln, deren Intensitäten mit Hilfe von separat angeordneten fotoelektrischen Umwandlungseinrichtungen und einer Recheneinrichtung zur Messung der Schichtdicke ausgewertet werden.In EP 02 49 235 B1 are reflected Measuring light beam path uses beam splitter devices, the exactly three light rays with the same spatial Generate distribution like the reflected measuring light beam. In analyzers arranged on the three light beams cause one Extract at least three linearly polarized ones Light components with different ones Polarization angles, the intensities of which are measured using separately arranged photoelectric Conversion devices and a computing device for Measurement of the layer thickness can be evaluated.
Derartige Meßvorrichtungen sind nicht ohne weiteres für Schichtdickenmessungen nach dem Triangulationsmeßverfahren anwendbar, wobei keine besonderen Vorkehrungen getroffen sind, die Schichtdicke speziell auf diffus reflektierenden Oberflächen möglichst genau zu messen.Such measuring devices are not readily available for Layer thickness measurements using the triangulation measurement method applicable, with no special precautions taken are, the layer thickness especially on diffusely reflecting Measure surfaces as precisely as possible.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Anordnung zum Messen der Dicke einer transparenten Beschichtung auf einem Druckerzeugnis zu ermitteln, die mit einem einfachen Aufbau eine hohe Meßgenauigkeit ermöglicht.The object of the invention is to provide an arrangement for measuring the Thickness of a transparent coating on one Identify printed matter with a simple structure high measuring accuracy.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß nach den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. The object is achieved according to the features of Claim 1 solved.
Die im reflektierten Meßlichtstrahlengang angeordneten optischen Elemente bewirken eine Unterscheidung und eine Separation der Reflexe von der Oberfläche der Beschichtung und der Oberfläche des Bedruckstoffes. Die Messung der Lage der Reflexe wird nicht mehr durch Nebenreflexe verfälscht, die von der im Vergleich zur Beschichtung rauhen Oberfläche des Bedruckstoffes ausgehen.The arranged in the reflected measuring light beam path optical elements make a distinction and a Separation of the reflections from the surface of the coating and the surface of the substrate. Measuring the location the reflexes are no longer falsified by secondary reflexes, that of the rough surface compared to the coating out of the substrate.
Über eine Auswertung der Intensitäten der Teilstrahlen kann die Auswertung der Lage der Reflexe weitgehend unabhängig von der Größe der Reflexe gemacht werden, indem die Verschiebung der Lage eines Maximums durch einen benachbarten Reflex berechnet und die Position entsprechend korrigiert wird. Die Lage der Reflexe wird für einen definierten Abstand der Meßanordnung von der Oberfläche des Bedruckstoffes ausgewertet. Der Abstand kann angezeigt und/oder bei einer Veränderung selbsttätig nachgestellt werden. Wenn neben dem Auswertung der Intensitäten der reflektierten Meßlichtstrahlen auch die Intensität im einfallenden Meßlichtstrahl ausgewertet wird, dann kann gleichzeitig einen Glanzmessung vorgenommen werden. Die Anordnung kann direkt in einer drucktechnischen Maschine eingesetzt werden, wobei eine örtliche Mittelung in den Schwankungen der Schichtdicke über die Steuerung der Integrationszeit eines CCD-Empfängers erfolgen kann. Bei einer Anordnung, die außerhalb der drucktechnischen Maschine eingesetzt ist, kann besagte Mittelung durch eine scannende Abtastung der Oberfläche des Druckerzeugnisses erreicht werden, wobei Teile der optoelektronischen Empfangseinrichtung eine Abtastbewegung ausführen.By evaluating the intensities of the partial beams the evaluation of the position of the reflexes largely independent of the size of the reflexes can be made by the shift the position of a maximum through an adjacent reflex is calculated and the position is corrected accordingly. The The position of the reflections is for a defined distance Measuring arrangement from the surface of the substrate evaluated. The distance can be displayed and / or at a Change can be adjusted automatically. If next to that Evaluation of the intensities of the reflected Measuring light rays also the intensity in the incident Measuring light beam is evaluated, then a Gloss measurement can be made. The arrangement can be made directly in a printing machine are used, one local averaging in the fluctuations in the layer thickness controlling the integration time of a CCD receiver can be done. If the arrangement is outside the printing machine is used, can said Averaging by scanning the surface of the Printed product can be achieved, with parts of the optoelectronic receiving device a scanning movement To run.
Die Erfindung soll anhand eines Ausführungsbeispieles noch näher erläutert werden:The invention is still based on an embodiment are explained in more detail:
In der Zeichnung ist ein Schema einer Anordnung nach der Erfindung dargestellt. In the drawing is a diagram of an arrangement according to the Invention shown.
Die Figur zeigt einen Bedruckstoff 1, dessen streuende Oberfläche 2 mit einer Lackschicht 3 versehen ist, deren Dicke d ermittelt werden soll. Eine Lichtquelle 4 erzeugt einen Meßlichtstrahl 5 mit Hilfe einer Blende 6, einer Beleuchtungsoptik 7 und einem Polarisator 8. Als Lichtquelle 4 ist eine Weißlichtquelle oder ein Laser im IR-Bereich einsetzbar. Die Lichtquelle 4 kann Licht nur einer oder mehrerer Wellenlängen erzeugen. Am Ausgang des linearen Polarisators 8 entsteht ein Meßlichtstrahl 5 mit einer Polarisationsrichtung 9, die im wesentlichen senkrecht zur Einfallsebene des Meßlichtstrahls 5 auf der Oberfläche 2 der Lackschicht 3 steht. Auf den Polarisator 8 kann verzichtet werden, wenn der Einfallswinkel des Meßlichtstrahles nahe dem Brewster-Winkel liegt. In diesem Fall erfolgt die Polarisation an der Oberfläche 2 der Lackschicht 3. Die Lichtquelle 4 kann mit einer Einrichtung zur Steuerung der Lichtintensität verbunden sein. Ein Teilstrahl 10 des Meßlichtstrahles 5 wird an der Oberfläche der Lackschicht 3 reflektiert und ein weiterer Teilstrahl 11 in die Lackschicht 3 gebrochen.The figure shows a printing material 1 , the scattering surface 2 of which is provided with a lacquer layer 3 , the thickness d of which is to be determined. A light source 4 generates a measuring light beam 5 with the aid of an aperture 6 , an illumination optics 7 and a polarizer 8 . A white light source or a laser in the IR range can be used as the light source 4 . The light source 4 can generate light of only one or more wavelengths. At the output of the linear polarizer 8 there is a measuring light beam 5 with a polarization direction 9 which is essentially perpendicular to the plane of incidence of the measuring light beam 5 on the surface 2 of the lacquer layer 3 . The polarizer 8 can be omitted if the angle of incidence of the measuring light beam is close to the Brewster angle. In this case, the polarization takes place on the surface 2 of the lacquer layer 3 . The light source 4 can be connected to a device for controlling the light intensity. A partial beam 10 of the measuring light beam 5 is reflected on the surface of the lacquer layer 3 and a further partial beam 11 is refracted into the lacquer layer 3 .
Die Polarisationsrichtung 9 der Teilstrahlen 10 und 11 ist gleich der Polarisationsrichtung 9. Der Teilstrahl 11 wird an der Oberfläche 2 des Bedruckstoffes 1 diffus reflektiert. Der reflektierte Teilstrahl 12 und ein aus der Lackschicht 3 austretender Teilstrahl 13 enthalten Licht der Polarisationsrichtung 9 und einer dazu senkrecht stehenden Polarisationsrichtung 14. Die Teilstrahlen 10, 13 werden mit einem optischen System 15 auf einen Strahlenteiler 16 geführt. Als Strahlenteiler 16 ist ein halbdurchlässiger Spiegel vorgesehen, der einen Teil des Teilstrahles 13 hindurchläßt und den Teilstrahl 10 und einen Teil der Teilstrahles 13 reflektiert. Die am Strahlenteiler 16 reflektierten Teilstrahlen 17, 18 werden mittels eines weiteren Spiegels 19 nochmals abgelenkt, so daß die am Spiegel 19 reflektierten Teilstrahlen 20, 21 und der durch den Strahlenteiler 16 hindurchgehende Teilstrahl 22 parallel verlaufen. Im Strahlengang der Teilstrahlen 21, 22 ist optional zur Angleichung der Intensitäten ein Graufilter 23 und ein erster Analysator 24 vorgesehen. Im Strahlengang des Teilstrahls 22 ist ein zweiter Analysator 25 angeordnet, dessen Polarisationsrichtung senkrecht zu der des Analysators 24 steht. Die Polarisationsrichtung des ersten Analysators 24 steht senkrecht zur Einfallsebene des Meßlichtsstrahles 5.The direction of polarization 9 of the partial beams 10 and 11 is equal to the direction of polarization 9 . The partial beam 11 is reflected diffusely on the surface 2 of the printing material 1 . The reflected partial beam 12 and a partial beam 13 emerging from the lacquer layer 3 contain light of the polarization direction 9 and a polarization direction 14 perpendicular thereto. The partial beams 10 , 13 are guided to a beam splitter 16 using an optical system 15 . As a beam splitter 16, a half mirror is provided, which transmits part of the beam portion 13 and the sub-beam 10 and a part of the partial beam 13 reflected. The partial beams 17 , 18 reflected on the beam splitter 16 are deflected again by means of a further mirror 19 , so that the partial beams 20 , 21 reflected on the mirror 19 and the partial beam 22 passing through the beam splitter 16 run parallel. A gray filter 23 and a first analyzer 24 are optionally provided in the beam path of the partial beams 21 , 22 for matching the intensities. A second analyzer 25 is arranged in the beam path of the partial beam 22 , the polarization direction of which is perpendicular to that of the analyzer 24 . The direction of polarization of the first analyzer 24 is perpendicular to the plane of incidence of the measuring light beam 5 .
Vorteilhaft kann die optische Anordnung für den Tellstrahl 22 nach dem Strahlteiler 16 so gewählt werden, daß die optischen Weglängen der Strahlen 20, 21 und 16 gleich sind, damit eine einheitliche Bildebene für beide optische Wege der Strahlen entsteht. Dies kann z. B. durch zusätzliche Spiegel erfolgen.The optical arrangement for the tell beam 22 after the beam splitter 16 can advantageously be chosen such that the optical path lengths of the beams 20 , 21 and 16 are the same, so that a uniform image plane is created for both optical paths of the beams. This can e.g. B. done by additional mirrors.
Nach Durchgang der Teilstrahlen 20, 21, 22 durch die Analysatoren 24, 25 trifft das Licht auf Fotoempfänger, die in einer Empfängerebene 26 angeordnet sind. Als Fotoempfänger sind alle bekannten Empfänger einsetzbar, die eine Messung des Abstandes der Intensitätsmaxima oder Schwerpunkte der Teilstrahlen 20, 21 und des Teilstrahls 22 in der Empfängerebene 26 gestatten. Als Beispiele seien CCD-Zeilenempfänger oder Quadrantensensoren genannt. Es kann genau ein Empfänger zum Detektieren der Intensitätsmaxima vorgesehen sein oder zwei Empfänger, die einen definierten Abstand zueinander aufweisen und deren Empfindlichkeit an die jeweilige Intensität anpaßbar ist.After the partial beams 20 , 21 , 22 have passed through the analyzers 24 , 25 , the light strikes photo receivers which are arranged in a receiver plane 26 . All known receivers can be used as photo receivers, which allow a measurement of the distance between the intensity maxima or centers of gravity of the partial beams 20 , 21 and the partial beam 22 in the receiver plane 26 . Examples include CCD line receivers or quadrant sensors. Exactly one receiver can be provided for detecting the intensity maxima or two receivers which are at a defined distance from one another and whose sensitivity can be adapted to the respective intensity.
Wie mit einer derartigen Anordnung die Messung der Dicke der Lackschicht 3 vorgenommen werden kann, soll nachstehend beschrieben werden:How the thickness of the lacquer layer 3 can be measured with such an arrangement will be described below:
Mit Hilfe der Blende 6 und der Beleuchtungsoptik 7, die zur Verkleinerung der nötigen Empfängerfläche eine Zylinderlinse enthalten kann, wird der Meßlichtstrahl 5 in Form einer schmalen Linie auf die Oberfläche der Lackschicht 3 projiziert. Die Linie liegt senkrecht zur Einfallsebene des Meßlichtstrahles 5. Die Linie bewirkt eine Mittelung der durch die Rauhigkeit der Oberfläche 2 des Bedruckstoffes 1 bedingten Schwankung der Schichtdicke d und Lage der Reflexe in der Empfängerebene 22, ohne daß senkrecht dazu die Auflösung der Reflexe beeinträchtigt wird. Bei Messung der Schichtdicke d wird die Tatsache ausgenutzt, daß der Meßlichtstrahl 5 von der Oberfläche der Lackschicht 3 und der Oberfläche 2 des Bedruckstoffes 1 in unterschiedlicher Art und Weise gestreut bzw. reflektiert wird. Falls der Meßlichtstrahl 5 unter dem Brewster-Winkel auf die Oberfläche 2 fällt, dann wird von der glatten, reflektierenden Oberfläche der Lackschicht nur ein Teilstrahl 10 mit einer Polarisationsrichtung parallel zur Oberfläche 2 bzw. senkrecht zur Einfallsebene des Meßlichtstrahles 5 reflektiert, während der Teilstrahl 11 bei der Streuung an der Oberfläche 2 des Bedruckstoffes 1 seine Polarisation verliert, so daß in den Teilstrahlen 12 und 13 alle Polarisationsrichtungen enthalten sind. Das auf die Empfänger fallende Licht enthält somit nach Durchtritt durch die Analysatoren 24, 25 in den Teilstrahlen 17, 18 bzw. 20, 21 Licht mit einer Polarisationsrichtung 9 senkrecht zur Einfallsebene des Meßlichtstrahles 5, dessen überwiegender, in Kurve 27 dargestellter Anteil, von der Oberfläche der Lackschicht 3 ausgeht und dessen geringerer, in Kurve 28 dargestellter Anteil, aus dem Streulicht von der rauhen Oberfläche 2 des Bedruckstoffes 1 stammt. Die Kurven 27, 28 zeigen die Lichtintensitäten in den Teilstrahlen 20, 21, wobei die gestrichelt dargestellte Kurve 29 die Summe der Lichtintensitäten aus den Teilstrahlen 20, 21 beeinhaltet.With the aid of the diaphragm 6 and the illumination optics 7 , which can contain a cylindrical lens to reduce the necessary receiver area, the measuring light beam 5 is projected onto the surface of the lacquer layer 3 in the form of a narrow line. The line lies perpendicular to the plane of incidence of the measuring light beam 5 . The line effects an averaging of the fluctuation in the layer thickness d caused by the roughness of the surface 2 of the printing material 1 and the position of the reflections in the receiver plane 22 without the resolution of the reflections being impaired perpendicularly thereto. When measuring the layer thickness d, the fact is used that the measuring light beam 5 is scattered or reflected in different ways from the surface of the lacquer layer 3 and the surface 2 of the printing material 1 . If the measuring light beam 5 falls on the surface 2 at the Brewster angle, then only a partial beam 10 with a polarization direction parallel to the surface 2 or perpendicular to the plane of incidence of the measuring light beam 5 is reflected from the smooth, reflecting surface of the lacquer layer, while the partial beam 11 in the scattering on the surface 2 of the printing material 1 loses its polarization, so that all the polarization directions are contained in the partial beams 12 and 13 . After passing through the analyzers 24 , 25 in the partial beams 17 , 18 and 20 , 21, the light falling on the receiver thus contains light with a polarization direction 9 perpendicular to the plane of incidence of the measuring light beam 5 , the predominant part of which, shown in curve 27 , of the Surface of the lacquer layer 3 goes out and its smaller portion, shown in curve 28 , from which scattered light comes from the rough surface 2 of the printing material 1 . The curves 27 , 28 show the light intensities in the partial beams 20 , 21 , the curve 29 shown in dashed lines containing the sum of the light intensities from the partial beams 20 , 21 .
Die Kalibrierung der Anordnung erfolgt durch Messung auf einer nicht lackierten Fläche des Bedruckstoffes 1. Die Auswertung der Abstände der Intensitätsmaxima in den Teilstrahlen 21, 22 ergibt einen Referenzabstand (X₀). Bei Messung mit einer Lackschicht d verschiebt sich das Intensitätsmaximum im Strahlengang nach dem ersten Analysator 24 so, daß sich ein Abstand (X₀ + K * d) ergibt. Dabei ist k eine Konstante, die aus der Geometrie der optischen Elemente und der Brechzahl der Lackschicht 3 ermittelt werden kann. Aus dem Referenzabstand (X₀) und dem Wert (S : X₀ + K * d) läßt sich mittels einer nicht dargestellten Auswerteeinrichtung die Dicke d bestimmen zu:The arrangement is calibrated by measurement on an unpainted surface of the printing substrate 1 . The evaluation of the distances between the intensity maxima in the partial beams 21 , 22 results in a reference distance (X₀). When measuring with a lacquer layer d, the intensity maximum shifts in the beam path after the first analyzer 24 so that there is a distance (X₀ + K * d). Here, k is a constant that can be determined from the geometry of the optical elements and the refractive index of the lacquer layer 3 . The thickness d can be determined from the reference distance (X₀) and the value (S: X₀ + K * d) using an evaluation device (not shown):
Das Graufilter 23 kann dazu verwendet werden, die starken Intensitätsunterschiede in den Teilstrahlengängen 20, 21 zu dem Licht im Teilstrahlengang 22 auszugleichen, wodurch sich eine verbesserte Meßdynamik ergibt. Auch Einrichtungen zur Beleuchtungsregelung und zur Integrationszeitsteuerung von CCD-Empfängerelementen können zur Verbesserung der Dynamik verwendet werden.The gray filter 23 can be used to compensate for the strong differences in intensity in the partial beam paths 20 , 21 and the light in the partial beam path 22 , which results in improved measurement dynamics. Devices for lighting control and integration time control of CCD receiver elements can also be used to improve the dynamics.
BezugszeichenlisteReference list
1 Bedruckstoff
2 Oberfläche
3 Lackschicht
d Dicke
4 Lichtquelle
5 Meßlichtstrahl
6 Blende
7 Beleuchtungsoptik
8 Polarisator
9 Polarisationsrichtung
10 Teilstrahl
11, 12, 13 Teilstrahl
14 Polarisationsrichtung
15 optisches System
16 Strahlenteiler
17, 18 Teilstrahlen
19 Spiegel
20, 21, 22 Teilstrahlen
23 Graufilter
24, 25 Analysator
26 Empfängerebene
27, 28, 29 Kurven 1 substrate
2 surface
3 lacquer layer
d thickness
4 light source
5 measuring light beam
6 aperture
7 lighting optics
8 polarizer
9 direction of polarization
10 partial beam
11 , 12 , 13 partial beam
14 direction of polarization
15 optical system
16 beam splitters
17 , 18 partial beams
19 mirrors
20 , 21 , 22 partial beams
23 gray filter
24 , 25 analyzer
26 Receiver level
27 , 28 , 29 curves
Claims (5)
- - bestehend aus einer Beleuchtungsvorrichtung, die einen schräg einfallenden Meßlichtstrahl an einem definierten Meßort auf der Oberfläche des Druckerzeugnisses erzeugt,
- - und bestehend aus einer opto-elektronischen Meßeinrichtung für den Abstand der an der Beschichtung und an der Oberfläche des Druckerzeugnisses reflektierten Meßlichtstrahlen,
- consisting of an illumination device which generates an obliquely incident measuring light beam at a defined measuring location on the surface of the printed product,
- and consisting of an opto-electronic measuring device for the distance of the measuring light rays reflected on the coating and on the surface of the printed product,
- - daß im einfallenden Meßlichtstrahlengang (5) ein linearer Polarisator (8) vorgesehen ist, dessen Polarisationsrichtung (9) im wesentlichen senkrecht zur Einfallsebene steht,- That a linear polarizer ( 8 ) is provided in the incident measuring light beam path ( 5 ), the polarization direction ( 9 ) of which is essentially perpendicular to the plane of incidence,
- - und daß im reflektierten Meßlichtstrahlengang (10, 13) ein Strahlenteiler (16) vorgesehen ist, wobei in einem ersten, am Strahlenteiler (16) reflektierten Teilstrahlengang (17, 18, 20, 21) ein Ablenkspiegel (19) und ein erster Analysator (24) und in einem zweiten, durch den Strahlenteiler (16) hindurchgehenden Teilstrahlengang (22) ein zweiter Analysator (25) installiert sind, wobei die optischen Achsen des am Ablenkspiegel umgelenkten Teilstrahlenganges (20, 21) und des zweiten Teilstrahlenganges (22) parallel zueinander verlaufen, die Polarisationsrichtungen der Analysatoren (24, 25) senkrecht aufeinander stehen und die Polarisationsrichtung des ersten Analysators (24) senkrecht zur Einfallsebene des Meßlichtstrahles (5) liegen.- and that in the reflected Meßlichtstrahlengang (10, 13) a beam splitter (16) is provided, wherein in a first, reflected at the beam splitter (16) partial beam path (17, 18, 20, 21) is a deflecting mirror (19) and a first analyzer ( 24) and in a second, passing through the beam splitter (16) partial beam path (22), a second analyzer (25) are installed, wherein the optical axes of the deflected at the deflecting mirror portion of the beam path (20, 21) and the second partial optical beam path (22) parallel to each other run, the polarization directions of the analyzers ( 24 , 25 ) are perpendicular to each other and the polarization direction of the first analyzer ( 24 ) is perpendicular to the plane of incidence of the measuring light beam ( 5 ).
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|---|---|
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10206944A1 (en) * | 2002-02-19 | 2003-09-04 | Oce Printing Systems Gmbh | Method and device for printing, the thickness of the dampening solution layer being measured and reduced |
| DE10325942B4 (en) * | 2003-06-07 | 2010-09-16 | Jurca Optoelektronik Gmbh & Co. Kg | Device and method for non-contact thickness measurement of transparent bodies |
| DE102010002249A1 (en) | 2010-02-23 | 2011-08-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 | Method and device for controlling the application of a liquid containing a volatile compound to a surface |
| DE102015103706A1 (en) | 2015-03-13 | 2016-09-15 | CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH | Optical sensor arrangement for determining the properties of a thin layer |
| DE102006011692B4 (en) * | 2005-03-15 | 2016-12-01 | Omron Corp. | Distance sensor with an automatic setting unit for one measuring range |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007049381A1 (en) | 2007-10-15 | 2009-04-16 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Device for controlling and regulating an applied adhesive layer in the production of printed products |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1566398A (en) * | 1975-11-07 | 1980-04-30 | Planer Ltd G | Thickness measurements |
| DE3136887A1 (en) * | 1981-09-17 | 1983-03-31 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Method and device for interferometric thickness measurement |
| EP0248552A1 (en) * | 1986-05-14 | 1987-12-09 | Walter Roland Tole | Apparatus for determining the thickness of material |
| EP0249235A2 (en) * | 1986-06-13 | 1987-12-16 | Nippon Kokan Kabushiki Kaisha | Film thickness-measuring apparatus using linearly polarized light |
| EP0452665A2 (en) * | 1990-04-20 | 1991-10-23 | Electronic Systems S.P.A. | Device and scanning method for measuring the thickness of opaque or transparent coatings of any type using a laser |
| EP0467763A2 (en) * | 1990-07-17 | 1992-01-22 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Sensor for water film on a plate in printing machine |
-
1994
- 1994-07-02 DE DE19944423288 patent/DE4423288B4/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1566398A (en) * | 1975-11-07 | 1980-04-30 | Planer Ltd G | Thickness measurements |
| DE3136887A1 (en) * | 1981-09-17 | 1983-03-31 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Method and device for interferometric thickness measurement |
| EP0248552A1 (en) * | 1986-05-14 | 1987-12-09 | Walter Roland Tole | Apparatus for determining the thickness of material |
| EP0249235A2 (en) * | 1986-06-13 | 1987-12-16 | Nippon Kokan Kabushiki Kaisha | Film thickness-measuring apparatus using linearly polarized light |
| EP0452665A2 (en) * | 1990-04-20 | 1991-10-23 | Electronic Systems S.P.A. | Device and scanning method for measuring the thickness of opaque or transparent coatings of any type using a laser |
| EP0467763A2 (en) * | 1990-07-17 | 1992-01-22 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Sensor for water film on a plate in printing machine |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JP Patents Abstracts of Japan & JP 01270603 A., P-994,Jan.23,1990,Vol.14,No.35 * |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10206944A1 (en) * | 2002-02-19 | 2003-09-04 | Oce Printing Systems Gmbh | Method and device for printing, the thickness of the dampening solution layer being measured and reduced |
| DE10325942B4 (en) * | 2003-06-07 | 2010-09-16 | Jurca Optoelektronik Gmbh & Co. Kg | Device and method for non-contact thickness measurement of transparent bodies |
| DE102006011692B4 (en) * | 2005-03-15 | 2016-12-01 | Omron Corp. | Distance sensor with an automatic setting unit for one measuring range |
| DE102010002249A1 (en) | 2010-02-23 | 2011-08-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 | Method and device for controlling the application of a liquid containing a volatile compound to a surface |
| WO2011104271A1 (en) | 2010-02-23 | 2011-09-01 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Method and device for controlling the application of a liquid containing a volatile compound to a surface |
| DE102015103706A1 (en) | 2015-03-13 | 2016-09-15 | CiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik GmbH | Optical sensor arrangement for determining the properties of a thin layer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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