DE4421793A1 - Thermionic electron emitter used for electron tubes - Google Patents

Thermionic electron emitter used for electron tubes

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Abstract

Thermionic electron emitter comprises an non-carburised region (5) for electron emission having La2O3-doped coated substrate (1) made of a highly melting metal. Prodn. of the emitter is also claimed.

Description

Die Erfindung betrifft einen thermionischen Elektronenemitter für eine Elektronenröhre, insbesondere Röntgenröhre, welcher ein mit Lanthanoxid (La₂O₃) dotiertes Substrat aus einem hochschmelzenden Material mit einem zur Elektronenemission vorgesehenen Bereich aufweist.The invention relates to a thermionic electron emitter for an electron tube, especially an X-ray tube, which a substrate doped with lanthanum oxide (La₂O₃) refractory material with an electron emission provided intended area.

Derartige beispielsweise in der DE 38 07 324 A1 beschriebene Elektronenemitter machen sich den Umstand zunutze, daß die zur Elektronenemission zu leistende Austrittsarbeit ver­ gleichsweise niedrig ist, wenn Lanthan an der Oberfläche des Elektronenemitters vorhanden ist. Die Elektronenemission bei derartigen Emittern erfolgt also bereits bei relativ niedri­ gen Temperaturen (ca. 1600°C im Vergleich zu ca. 2500°C bei Wolframemittern), was z. B. der mechanischen Haltbarkeit zu­ gute kommt und es ermöglicht, den Elektronenemitter mit ge­ ringeren Stromstärken auf Emissionstemperatur zu bringen. Um stets ausreichend Lanthan an der Oberfläche des Elektronen­ emitters zur Verfügung zu haben, ist das Substrat karburiert. Der im Zuge der Karburierung in das Substrat eingebrachte Kohlenstoff reduziert nämlich das Lanthanoxid, worauf das freie Lanthan an die Oberfläche des Elektronenemitters dif­ fundiert. Von dort dampft es beim Betrieb des Elektronenemit­ ters nach und nach ab. Die Lebensdauer des Elektronenemitters ist dann erschöpft, wenn auch der infolge der Dotierung des Substrats mit Lanthanoxid und die Karburierung des Substrats zugängliche Lanthan-Vorrat erschöpft ist. Es kann dann näm­ lich das von der Oberfläche des Emitters abdampfende Lanthan nicht mehr durch aus dem Inneren des Substrates an die Ober­ fläche diffundierendes Lanthan ersetzt werden.Such described for example in DE 38 07 324 A1 Electron emitters take advantage of the fact that the work function to be performed for electron emission ver is equally low if lanthanum is on the surface of the Electron emitter is present. The electron emission at emitters of this type are therefore already present at relatively low levels temperatures (approx. 1600 ° C compared to approx. 2500 ° C at Tungsten emitters), which, for. B. the mechanical durability good comes and it enables the electron emitter with ge bring lower currents to the emission temperature. Around always enough lanthanum on the surface of the electron To have emitters available, the substrate is carburized. The one introduced into the substrate during the carburization Carbon reduces the lanthanum oxide, whereupon the free lanthanum to the surface of the electron emitter dif well founded. From there it steams during the operation of the electron mite ters gradually. The lifespan of the electron emitter is then exhausted, even if that due to the doping of the Substrate with lanthanum oxide and the carburization of the substrate accessible lanthanum is exhausted. It can then Lich the lanthanum evaporating from the surface of the emitter no longer through from the inside of the substrate to the waiter surface diffusing lanthanum can be replaced.

Nachteilig bei derartigen Elektronenemittern ist, daß das Substrat infolge der Karburierung (Karbidbildung) versprödet. A disadvantage of such electron emitters is that Substrate embrittled due to carburization (carbide formation).  

Dies führt zu einer verringerten mechanischen Festigkeit, so daß u. U. sogar Bruchgefahr besteht.This leads to a reduced mechanical strength, so that u. There may even be a risk of breakage.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Elektronen­ emitter der eingangs genannten Art hinsichtlich seiner mecha­ nischen Festigkeit zu verbessern.The invention has for its object an electron emitter of the type mentioned above with regard to its mecha improve mechanical strength.

Nach der Erfindung wird diese Aufgabe gelöst durch einen thermionischen Elektronenemitter für eine Elektronenröhre, insbesondere Röntgenröhre, welcher ein unkarburiertes zumin­ dest in dessen zur Elektronenemission vorgesehenem Bereich, mit La₂O₃ dotiertes und mit einem die Diffusion von La stei­ gernden, dessen Abdampfgeschwindigkeit reduzierenden Metall der Platingruppe beschichtetes Substrat aus einem hochschmel­ zenden Metall aufweist. Das Substrat ist also unkarburiert. Überraschenderweise ist nämlich die Anwesenheit von Kohlen­ stoff zur Reduktion des Lanthanoxids nicht unbedingt erfor­ derlich. Vielmehr genügen die beim Betrieb des Elektronen­ emitters auftretenden Temperaturen, um das Lanthanoxid ther­ misch zu dissoziieren, so daß genügend freies Lanthan vorhan­ den ist, um den ordnungsgemäßen Betrieb des Elektronenemit­ ters zu ermöglichen. Da das Substrat unkarburiert ist, weist der erfindungsgemäße Elektronenemitter eine gegenüber Elek­ tronenemittern mit karburierten Substraten verbesserte mecha­ nische Festigkeit auf.According to the invention, this object is achieved by a thermionic electron emitter for an electron tube, especially x-ray tube, which is an uncarburized one at least in the area intended for electron emission, with La₂O₃ doped and with a diffusion of La stei metal which reduces the rate of evaporation the platinum group coated substrate from a high melt metal. The substrate is therefore uncarburized. Surprisingly, the presence of coals Substance for the reduction of the lanthanum oxide not necessarily required such. Rather, they are sufficient to operate the electron temperatures occurring to the lanthanum oxide ther mix dissociate so that enough free lanthanum is present which is to ensure the proper operation of the electron with to enable ters. Since the substrate is uncarburized, it shows the electron emitter according to the invention compared to elec tron emitters with carburized substrates improved mecha strength.

Als Material für das Substrat eignen sich insbesondere hoch­ schmelzende Metalle, z. B. Wolfram (W), Molybdän (Mo) oder ei­ ne wolfram- oder molybdänhaltige Legierung, obwohl es nicht grundsätzlich ausgeschlossen ist, das Substrat auch aus ande­ ren Materialien, beispielsweise Keramik, zu bilden. Insbeson­ dere bei metallischen Substraten ist es zumindest im Falle von durch direkten Stromdurchgang beheizten Elektronenemit­ tern vorteilhaft, als Substrat ein Blech vorzusehen, da dann, wegen des sich ergebenden relativ hohen elektrischen Wider­ standes des Elektronenemitters bereits relativ geringe Heiz­ ströme ausreichen, um den Elektronenemitter auf Emissionstem­ peratur aufzuheizen. Geeignete mit Lanthanoxid dotierte Wolf­ ram-Halbzeuge sind bei der Firma Plansee, Österreich, erhält­ lich.High materials are particularly suitable as the material for the substrate melting metals, e.g. B. tungsten (W), molybdenum (Mo) or egg an alloy containing tungsten or molybdenum, although not is fundamentally excluded, the substrate from other ren materials, such as ceramics to form. In particular at least in the case of metallic substrates of electrons heated by direct current passage tern advantageous to provide a sheet as a substrate, because then because of the resulting relatively high electrical resistance level of the electron emitter already relatively low heating  currents are sufficient for the electron emitter to emit heat up temperature. Suitable wolf doped with lanthanum oxide ram semi-finished products are available from Plansee, Austria Lich.

Eine vorteilhafte Ausführungsform der Erfindung sieht vor, daß das Substrat wenigstens in seinem zur Elektronenemission vorgesehenen Bereich mit einem Metall der Platingruppe (z. B. Ruthenium (Ru), Rhodium (Rh), Palladium (Pd), Osmium (Os), Iridium (Ir) Platin (Pt)), insbesondere Platin, enthaltenden Schicht versehen ist. Das Platinmetall erfüllt bekanntermaßen zwei Funktionen. Zum einen verringert es die Abdampfgeschwin­ digkeit von Lanthan; zum anderen wirkt es, da es während der Wärmebehandlung des Substrats in dieses eindiffundiert, als "Schmiermittel", das die Diffusion von Lanthan entlang der Korngrenzen des Substrats an die zur Elektronenemission vor­ gesehene Oberfläche erleichtert.An advantageous embodiment of the invention provides that the substrate at least in its electron emission intended area with a platinum group metal (e.g. Ruthenium (Ru), Rhodium (Rh), Palladium (Pd), Osmium (Os), Iridium (Ir) containing platinum (Pt)), in particular platinum Layer is provided. The platinum metal is known to meet two functions. Firstly, it reduces the evaporation rate strength of lanthanum; on the other hand it works because during the Heat treatment of the substrate diffuses into this as "Lubricant" that diffuses lanthanum along the Grain boundaries of the substrate in front of that for electron emission seen surface relieved.

Um sicherzustellen, daß von Anfang an ausreichend freies Lanthan vorhanden ist, sieht ein Verfahren zur Herstellung eine erfindungsgemäßen Elektronenemitters vor, daß zur zumin­ dest teilweisen Dissoziation des Lanthanoxides eine Temperung zumindest des Substrates erfolgt.To ensure that there is enough free from the start Lanthanum is present, provides a manufacturing process an electron emitter according to the invention that at least partial dissociation of the lanthanum oxide an annealing at least of the substrate.

Gemäß einem wegen seiner Einfachheit besonders bevorzugten Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Elektro­ nenemitters ist vorgesehen, daß die Temperung nach der Be­ schichtung des Substrates mit dem Metall der Platingruppe bei einer Temperatur erfolgt, da dann im Zuge des Temperns zu­ gleich die Diffusion des Metalls der Platingruppe in das Substrat erfolgen kann. Auf diese Weise ist keine besondere Temperaturanwendung erforderlich, um das Eindiffundieren des Metalls der Platingruppe in das Substrat zu ermöglichen. Die Temperung kann in vorteilhafter Weise im Zuge des Ausheizens der Elektronenröhre erfolgen.According to one particularly preferred for its simplicity Process for producing an electric according to the invention it is envisaged that the tempering after loading Layering of the substrate with the metal of the platinum group a temperature occurs because then in the course of the annealing the diffusion of the platinum group metal into the Substrate can be made. This way is not a special one Temperature application required to diffuse the Allow metal of the platinum group in the substrate. The Annealing can advantageously in the course of baking out the electron tube.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in den beigefügten Zeichnungen dargestellt. Es zeigen:An embodiment of the invention is in the accompanying Drawings shown. Show it:

Fig. 1 in perspektivischer Darstellung einen erfindungsge­ mäßen Elektronenemitter, Fig. 1 is a perspective view of a erfindungsge MAESSEN electron emitter,

Fig. 2 einen Schnitt gemäß Linie II-II, Fig. 2 shows a section according to line II-II,

Fig. 3 in schematischer Darstellung eine Röntgenröhre mit einem erfindungsgemäßen Elektronenemitter während des Herstellungsprozesses, und Fig. 3 shows a schematic representation of an x-ray tube comprising an electron emitter according to the invention during the manufacturing process, and

Fig. 4 einen weiteren erfindungsgemäßen Elektronenemitter in perspektivischer Darstellung. Fig. 4 shows another electron emitter according to the invention in a perspective view.

Der Elektronenemitter gemäß Fig. 1 ist aus einem als Substrat vorgesehenen Blechstreifen 1 U-förmig gebogen. Über die bei­ den Schenkel 2 und 3 wird der zum Betrieb des Elektronenemit­ ters erforderliche Heizstrom zu- und abgeführt. Das zwischen den Schenkeln 2 und 3 befindliche Mittelteil 4 trägt den zur Elektronenemission vorgesehenen Bereich 5, der von rechtecki­ ger Gestalt ist. Die Breite B des zur Elektronenemission vor­ gesehenen Bereiches 5 entspricht der Breite des Blechstrei­ fens 1. Die Längserstreckung L des zur Elektronenemission vorgesehenen Bereiches 5 ist in Fig. 1 durch zwei strichlierte Linien angedeutet, deren eine dem Schenkel 2 und deren andere dem Schenkel 3 benachbart ist. Die den zur Elek­ tronenemission vorgesehenen Bereich 5 tragende Fläche des Blechstreifens 1 und damit auch der zur Elektronenemission vorgesehene Bereiche 5 selbst sind wenigstens im wesentlichen eben.The electron emitter shown in FIG. 1, 1 is a U-shape bent from a sheet metal strip provided as the substrate. About the at the legs 2 and 3 , the heating current required to operate the electron emitter is supplied and discharged. The middle part 4 located between the legs 2 and 3 carries the area 5 intended for electron emission, which is of rectangular shape. The width B of the area 5 seen for electron emission corresponds to the width of the sheet metal strip 1 . The longitudinal extent L of the area 5 intended for electron emission is indicated in FIG. 1 by two dashed lines, one of which is adjacent to the leg 2 and the other of which is adjacent to the leg 3 . The area 5 of the sheet metal strip 1 intended for the electron emission area and thus also the areas 5 provided for the electron emission itself are at least essentially flat.

Der Blechstreifen 1 ist aus einem hochschmelzenden Metall, beispielsweise Molybdän, Wolfram oder einer wolfram- oder molybdänhaltigen Legierung, gebildet. Der Blechstreifen 1 ist vollständig mit Lanthanoxid dotiert, was in Fig. 2 dadurch veranschaulicht ist, daß der Blechstreifen 1 schraffiert und zusätzlich punktiert ist.The sheet metal strip 1 is formed from a high-melting metal, for example molybdenum, tungsten or an alloy containing tungsten or molybdenum. The sheet metal strip 1 is completely doped with lanthanum oxide, which is illustrated in FIG. 2 in that the sheet metal strip 1 is hatched and additionally dotted.

Der Blechstreifen 1, dessen Dicke D, beispielsweise 50 µm, in der Fig. 1, insbesondere aber auch in der Fig. 2, aus Gründen der Übersichtlichkeit übertrieben dargestellt ist, ist außer­ dem mit einer Schicht 7 eines Metalls der Platingruppe, ins­ besondere Platin, versehen. Die Beschichtung beschränkt sich auf den zur Elektronenemission vorgesehenen Bereich 5. Sie ist vorzugsweise durch Sputtern oder durch ein anderes Ver­ fahren durch Abscheidung aus der Dampfphase aufgebracht. Wenn sich die Schicht 7 wie in Fig. 2 dargestellt, auf den zur Elektronenemission vorgesehenen Bereich 5 beschränken soll, ist es erforderlich die übrigen Bereiches des Blechstreifens 1 während der Beschichtung in geeigneter Weise zu maskieren.The sheet metal strip 1 , whose thickness D, for example 50 μm, is exaggerated in FIG. 1, but in particular also in FIG. 2, for reasons of clarity, in addition to that with a layer 7 of a platinum group metal, especially platinum , Mistake. The coating is limited to the area 5 intended for electron emission. It is preferably applied by sputtering or by another process by deposition from the vapor phase. If the layer 7 is to be limited to the area 5 intended for electron emission, as shown in FIG. 2, it is necessary to mask the remaining area of the sheet metal strip 1 in a suitable manner during the coating.

Um sicherzustellen, daß eine ausreichende Menge freien Lanthans vorhanden ist wird der dotierte Blechstreifen 1 zu­ mindest in dem zur Elektronenemission vorgesehenen Bereich 5 in einer kohlenstofffreien Schutzgasatmosphäre oder unter Va­ kuum zur Dissoziation des Lanthanoxids getempert, indem er auf eine Temperatur von ca. 1500 bis 1600°C erwärmt wird.In order to ensure that a sufficient amount of free lanthanum is present, the doped metal strip 1 is annealed at least in the area 5 intended for electron emission in a carbon-free protective gas atmosphere or under vacuum to dissociate the lanthanum oxide by heating it to a temperature of approx. 1500 to 1600 ° C is heated.

Bei der Herstellung des Elektronenemitters wird vorteilhaf­ terweise so vorgegangen, daß das Tempern erst nach der Erzeu­ gung der Schicht 7 erfolgt. Es ist dann kein zusätzlicher Er­ wärmungsvorgang erforderlich, um die Diffusion des Metalls der Platingruppe in den Blechstreifen 1 zu ermögliche. Viel­ mehr erfolgt die Diffusion während des Temperns. Die Dicke der Schicht 7 ist übrigens so bemessen, daß nach Abschluß des Temperns wird, während des Temperns diffundiert das Metall der Platingruppe in der zur Erfüllung seiner Funktion als "Schmiermittel" für das Lanthan erforderlichen Weise entlang der Korngrenzen des Materials des Blechstreifens 1 in diesen ein, noch eine geschlossene Schicht des Metalls der Platin­ gruppe in dem zur Elektronenemission vorgesehenen Bereich 5 bestehen bleibt, um in der gewünschten Weise die Abdampfge­ schwindigkeit des Lanthans wirksam zu verringern.In the manufacture of the electron emitter, the procedure is advantageously such that the annealing takes place only after the generation of the layer 7 . It is then no additional He heating process required to enable the diffusion of the metal of the platinum group in the sheet metal strip 1 . Diffusion occurs much more during tempering. By the way, the thickness of the layer 7 is such that after the tempering is completed, during the tempering the metal of the platinum group diffuses in the manner necessary to fulfill its function as a "lubricant" for the lanthanum along the grain boundaries of the material of the sheet metal strip 1 a, still a closed layer of the metal of the platinum group remains in the area 5 provided for electron emission, in order to effectively reduce the speed of lanthanum in the desired manner.

Die für den jeweils gewünschte Dissoziationsgrad des Lanthan­ oxid bzw. Diffusionstiefe des Metalls der Platingruppe geeig­ nete Dauer der Erwärmung kann leicht experimentell ermittelt werden.The one for the desired degree of dissociation of lanthanum oxide or diffusion depth of the platinum group metal is suitable The duration of the heating can easily be determined experimentally will.

Das vorhandene Lanthanoxid muß während des Temperns übrigens nicht vollständig dissoziiert werden, da sich die Disso­ ziation während des Betriebs des Elektronenemitters fort­ setzt, wenn dieser auf Emissionstemperatur aufgeheizt wird.The lanthanum oxide present must, by the way, during the tempering cannot be completely dissociated because the disso tion continues during the operation of the electron emitter sets when it is heated to emission temperature.

In der Fig. 3 ist eine Röntgenröhre dargestellt, die eine insgesamt mit 14 bezeichnete Drehanodenanordnung aufweist, die in einem Vakuumkolben 15 untergebracht ist. Der Vakuum­ kolben 15 enthält außerdem noch in an sich bekannter Weise eine Kathodenanordnung 16, in deren Kathodenbecher 17 eine in Fig. 3 nicht sichtbare Glühkathode aufgenommen ist, die einen erfindungsgemäßen Elektronenemitter enthält. FIG. 3 shows an X-ray tube which has a rotary anode arrangement, designated overall by 14 , which is accommodated in a vacuum piston 15 . The vacuum piston 15 also contains, in a manner known per se, a cathode arrangement 16 , in the cathode cup 17 of which a hot cathode (not visible in FIG. 3) is accommodated, which contains an electron emitter according to the invention.

Die Drehanodenanordnung 14 weist einen Anodenteller 18 auf, der an dem einen Ende einer Lagerungswelle 19 fest angebracht ist. Um die drehbare Lagerung der Drehanodenanordnung 14 zu gewährleisten, sind als Lager zwei Wälzlager 20, 21 vorge­ sehen.The rotating anode arrangement 14 has an anode plate 18 which is fixedly attached to one end of a bearing shaft 19 . In order to ensure the rotatable mounting of the rotating anode arrangement 14 , two roller bearings 20 , 21 are provided as bearings.

Um die Drehanodenanordnung 14 in Rotation versetzen zu kön­ nen, ist ein Elektromotor vorgesehen, dessen fest mit der La­ gerungswelle verbundener Rotor mit 22 bezeichnet ist. Der schematisch angedeutete Stator 23 ist im Bereich des Rotors 22 auf die Außenwand des Vakuumkolbens 15 aufgesetzt und bil­ det mit dem Rotor 22 einen elektrischen Kurzschlußläufer­ motor, der bei Versorgung mit dem entsprechenden Strom die Drehanodenanordnung 14 rotieren läßt. In order to be able to set the rotating anode arrangement 14 in rotation, an electric motor is provided, the rotor of which is permanently connected to the bearing shaft and is designated by 22 . The schematically indicated stator 23 is placed in the region of the rotor 22 on the outer wall of the vacuum piston 15 and bil det with the rotor 22 an electric squirrel-cage motor, which can rotate the rotating anode assembly 14 when supplied with the appropriate current.

Werden in üblicher, nicht dargestellter Weise die Heizspan­ nung für die Glühkathode der Kathodenanordnung 16 und die Röntgenröhrenspannung, die zwischen Kathodenanordnung 16 und Drehanodenanordnung 14 liegt, angelegt, geht von der Glüh­ kathode der Kathodenanordnung 16 ein Elektronenstrahl aus, der im sogenannten Brennfleck oder Fokus auf den Anodenteller 18 auftrifft und dort Röntgenstrahlen auslöst, die durch den Vakuumkolben 15 aus der Röntgenröhre austreten. Infolge der Rotation der Drehanodenanordnung 14 bildet sich auf dem Anodenteller 18 eine sogenannte Brennfleckbahn von ringför­ miger Gestalt aus, da ständig eine andere Stelle des Anoden­ tellers 18 mit dem Elektronenstrahl beaufschlagt wird.If the Heizspan voltage for the hot cathode of the cathode arrangement 16 and the X-ray tube voltage, which lies between the cathode arrangement 16 and the rotating anode arrangement 14 , are applied in a conventional manner, not shown, an electron beam emanates from the hot cathode of the cathode arrangement 16 , the so-called focal spot or focus strikes the anode plate 18 and releases X-rays there, which emerge from the X-ray tube through the vacuum piston 15 . Due to the rotation of the rotating anode assembly 14 a so-called focal path of ringför miger shape forms on the anode plate 18, since constantly a different location of the anode is applied to the plate 18 with the electron beam.

Der Vakuumkolben 15 weist einen Pumpstutzen 24 auf, der dazu dient, während des Herstellungsprozesses der Röntgenröhre ei­ ne Vakuumpumpe anschließen zu können, die der Evakuierung des Inneren des Vakuumkolbens dient. Nach erfolgter Evakuierung wird der Pumpstutzen 24 vakuumdicht verschlossen.The vacuum piston 15 has a pump nozzle 24 , which serves to be able to connect a vacuum pump during the manufacturing process of the X-ray tube, which serves to evacuate the interior of the vacuum piston. After the evacuation, the pump nozzle 24 is closed in a vacuum-tight manner.

Im Zuge des Evakuierens des Vakuumkolbens 15 erfolgt das so­ genannte Ausheizen der Röntgenröhre. Hierbei wird die Rönt­ genröhre bei bereits evakuiertem Vakuumkolben 15 und noch an den noch nicht verschlossenen Pumpstutzen 24 angeschlossener Vakuumpumpe in Betrieb genommen. Infolge der dann starken Aufheizung der Röntgenröhre treten gasförmige Verunreinigun­ gen aus den Bauelementen der Röntgenröhre aus bzw. verdampfen niedrig schmelzende Verunreinigungen und werden mittels der Vakuumpumpe 25, die in Fig. 3 schematisch angedeutet und über eine Leitung 26 mit dem Pumpstutzen 24 verbunden ist, aus dem Inneren des Vakuumkolbens 15 abgesaugt.In the course of the evacuation of the vacuum piston 15 , the so-called heating of the X-ray tube takes place. Here, the roentgen tube is put into operation with the vacuum piston 15 already evacuated and the vacuum pump still connected to the not yet closed pump nozzle 24 . As a result of the then strong heating of the x-ray tube, gaseous impurities emerge from the components of the x-ray tube or evaporate low-melting impurities and are removed by means of the vacuum pump 25 , which is indicated schematically in FIG. 3 and is connected to the pump nozzle 24 via a line 26 sucked the inside of the vacuum piston 15 .

Da im Zuge des Ausheizens die Glühkathode auf Temperaturen aufgeheizt wird, die ausreichen, um zumindest einen Teil des Lanthanoxids zu dissoziieren und einen Teil des Metalls der Platingruppe in das Blechteil 1 eindiffundieren zu lassen, besteht die Möglichkeit, abweichend von dem zuvor Beschriebe­ nen nach dem Aufbringen der Schicht 7 auf das Blechteil 1 auf eine gesonderte Temperung zu verzichten und die Temperung statt dessen im Zuge des Ausheizens der Röntgenröhre vorzu­ nehmen.Since, in the course of the baking out, the hot cathode is heated to temperatures sufficient to dissociate at least part of the lanthanum oxide and to allow part of the metal of the platinum group to diffuse into the sheet metal part 1 , there is a possibility of deviating from the previously described after Applying the layer 7 to the sheet metal part 1 to dispense with a separate tempering and instead to carry out the tempering in the course of heating the X-ray tube.

Ein weiterer erfindungsgemäßer Elektronenemitter ist in Fig. 4 dargestellt. Hierbei handelt es sich nicht um einen Flach-, sondern einen Formemitter, weil die den zur Elektro­ nenemission vorgesehenen Bereich 5 tragende Fläche des Mit­ telteils 4 des Blechteils 1 nicht eben, sondern gekrümmt ist. Im Falle der Fig. 7 ist die den zur Elektronenemission vorge­ sehenen Bereich 5 tragende Fläche zylindrisch-konkav ge­ krümmt. Hierdurch wird eine gewisse Fokussierung des von dem zur Elektronenemission vorgesehenen Bereich 5 ausgehenden Elektronenstrahles bewirkt. Außerdem sind die Schenkel 2 und 3 des Blechteils 1 schmaler als dessen Mittelteil 4.Another electron emitter according to the invention is shown in FIG. 4. This is not a flat, but a shape emitter, because the area provided for the electrical nenemission 5 bearing surface of the middle part 4 of the sheet metal part 1 is not flat, but curved. In the case of Fig. 7, the area provided for electron emission 5 bearing surface is cylindrical-concave ge curved. This results in a certain focusing of the electron beam emanating from the area 5 intended for electron emission. In addition, the legs 2 and 3 of the sheet metal part 1 are narrower than the central part 4 .

Claims (6)

1. Thermionischer Elektronenemitter für eine Elektronenröhre, insbesondere Röntgenröhre, welcher ein unkarburiertes zumin­ dest in dessen zur Elektronenemission vorgesehenem Bereich (5), mit La₂O₃ dotiertes und beschichtetes Substrat (1) aus einem hochschmelzenden Metall aufweist.1. Thermionic electron emitter for an electron tube, in particular an X-ray tube, which has an uncarburized at least in its intended area for electron emission ( 5 ), with La₂O₃ doped and coated substrate ( 1 ) made of a high-melting metal. 2. Elektronenemitter nach Anspruch 1, bei dem das Substrat (1) aus Wolfram, Molybdän oder einer wolfram- oder molybdän­ haltigen Legierung gebildet ist.2. Electron emitter according to claim 1, in which the substrate ( 1 ) is formed from tungsten, molybdenum or an alloy containing tungsten or molybdenum. 3. Elektronenemitter nach Anspruch 1 oder 2, dessen Substrat (1) zumindest in dem zur Elektronenemission vorgesehenen Be­ reich (5) mit einer ein die Diffusion von Lanthan steigern­ den, dessen Abdampfgeschwindigkeit reduzierenden Metall der Platingruppe enthaltenden Beschichtung versehen ist.3. Electron emitter according to claim 1 or 2, the substrate ( 1 ) at least in the intended for electron emission loading area ( 5 ) with an increase the diffusion of lanthanum, the evaporation reducing metal of the platinum group containing coating is provided. 4. Elektronenemitter nach Anspruch 3, bei dem als Metall der Platingruppe Platin vorgesehen ist.4. Electron emitter according to claim 3, in which as the metal Platinum group platinum is provided. 5. Verfahren zur Herstellung eines Elektronenemitter nach ei­ nem der Ansprüche 1 bis 4, aufweisend den Verfahrensschritt, daß zur zumindest teilweisen Dissoziation des Lanthanoxides eine Temperung zumindest des Substrates (1) erfolgt.5. A method for producing an electron emitter according to one of claims 1 to 4, comprising the step of annealing at least the substrate ( 1 ) for at least partially dissociating the lanthanum oxide. 6. Verfahren nach Anspruch 5, wobei die Temperung nach der Beschichtung des Substrates (1) mit dem Metall der Platin­ gruppe erfolgt.6. The method according to claim 5, wherein the annealing takes place after the coating of the substrate ( 1 ) with the metal of the platinum group.
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