DE4421256A1 - Feldeffekt-Mikrotriode - Google Patents
Feldeffekt-MikrotriodeInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Feldeffekt-Mikro
triode gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Derartige Feldeffekt-Mikrotrioden können beispielsweise
als Schutzschalter gegen elektrostatische Entladungen
(ESD) bei Halbleiterbauelementen bzw. Halbleiterschalt
kreisen sowie als schaltendes bzw. verstärkendes Hoch
frequenzbauelement alternativ für Halbleiterbauelemente
in monolithisch integrierten Schaltungen eingesetzt
werden.
Mikrodioden und Mikrotrioden, die im Vakuum arbeiten,
sind in zahlreicher Form vorbekannt:
Veröffentlichungen dazu erfolgten u. a. C. A. Spindt, C.
E. Holland, A. Rosengreen und L. Brodie, Field
emitterarrays for vacuum microelectronics, IEEE Trans.
Electron Devices 38 (1991) 2355; Helmuth Lemme,
Integrierte Röhren - Mikromechanische Vakuumtrioden als
Transistor-Ersatz, Elektronik 13 (1991) 40 und
US-PS 4 901 028.
Angewendet werden diese Bauelemente u. a. als Schutz
schalter gegen elektrostatische Entladungen für inte
grierte Mikrowellenschaltkreise und für den Aufbau von
Flachbildschirmen.
Das Design von konventionellen Mikrotrioden ist stark
am Design von normalen Vakuumröhren orientiert:
Zwischen der Feldemissionskathode und der Anode liegt
ein sogenanntes Grid (Gitter), das über eine entspre
chend angelegte negative Spannung den Stromfluß zwi
schen Kathode und Anode unterbrechen kann und somit
eine Modulation dieses Stromes ermöglicht. Diese Form
der Gitteranordnung erfordert allerdings eine Vielzahl
von Prozeßschritten für die Herstellung der notwendi
gen Isolator- und Metallschichten.
Weiter gibt es ausgehend von bekannt gewordenen wissen
schaftlichen Veröffentlichungen Anhaltspunkte, daß eine
solche Lochblenden-Gitterelektrode die erzielbare
Grenzfrequenz auf Grund des relativ hohen Anodenwider
standes negativ beeinflußt.
In den üblichen triodenähnlichen Mikrotrioden werden
die Steuerelektroden in der Nähe der Spitzen durch
Einziehen einer Lochblende erzeugt. Damit liegt aber,
bis auf den Bereich der Spitze, diese gesamte Fläche
auf einem vergleichbar negativen Potential wie die
Feldemitterspitze bzw. -Kante, wodurch sich zwangsläufig
ungünstigere Feldverhältnisse ergeben.
Schnittbilder bekannter Mikrotroden-Konzepte zeigt Fig. 1.
Die bekannten Bauelemente arbeiten meist mit sehr
spitzen Emittoren und damit verbundenen sehr hohen
Stromdichten. Der nutzbare Strom muß allerdings durch
die Parallelschaltung einer Vielzahl von elementaren
Trioden zu einem Array (FEA Field-Emitter Array) auf
brauchbare Werte erhöht werden. Die Modulation eines
solchen Arrays - gerade im Hochfrequenz-Bereich - stellt
wegen der großen technologischen und schaltungstechni
schen Streuungen ein großes Problem (Rauschen, Jitter)
dar.
Darüberhinaus arbeiten die bekannten Bauelemente mit
relativ großen Kathoden-Anodenabständen im Bereich von
50 µm bis in den mm-Bereich.
Mikrotrioden, die ohne Vakuum arbeiten, sind bislang
nicht bekannt geworden.
Aus der amerikanischen Patentschrift US 5 227 699 geht
ein in Vakuum betriebener Feldeffekt-Transistor, der
einen aus Silizium gefertigten Feldemitter aufweist,
hervor, bei dem die Gate-Elektroden relativ zu den
Emitterspitzen abgesenkt sind. Gleiche oder ähnliche
Anordnungen gehen darüberhinaus aus folgenden
Dokumenten hervor: IEEE Electron devices meeting 1991,
Seiten 213 bis 215 (H.H. Busta et al.), US 5 199 917,
EP 0 520 780.
Der Vorteil einer derartigen Anordnung zwischen der
Gate- und Emitterelektrode liegt darin, daß die Feld
emission durch die Anode (Drain) hervorgerufen werden
kann und der Strom zwischen Emitter und Anode (Drain)
durch die Gate-Elektrode moduliert werden kann. Mit
dieser Anordnung wird die Strommodulation ohne auf
tretenden statistischen Emitter-Gate-Strom, der den
Eingangswiderstand des Bauelementes vergrößert, mög
lich. Auf diese Weise kann die Emitter-Gate und Anode-
Gatekapazität verringert werden, wodurch der Eingangs-
Blindwiderstand insbesondere für hochfrequente Ein
gangssignale gesteigert wird.
Jedoch ist die Auslegung der bekannten Mikrotrioden
anordnungen nicht an die Anforderungen des Hoch
frequenzbereiches ausgelegt, so daß das Verarbeiten
hochfrequenter Signale, z. B. Signale im Giga- und
Terra-Hz-Bereich, aufgrund der Bauelementestruktur
nicht in gewünschter Weise erfolgen kann.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine
Feldeffekt-Mikroteriode anzugeben, die in normaler
Atmosphäre arbeitet und für den Einsatz hochfrequenter
Steuersignale geeignet ist.
Eine erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist im
Patentanspruch 1 angegeben. Weiterbildungen der Erfin
dung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Erfindungsgemäß wird eine Feldeffekt-Mikrotriodenan
ordnung mit einer, Feldemissionskanten aufweisenden
Emittereinheit, einer Anodenanordnung (Drain) sowie
einer steuerelektroden-Einheit (Gate) die planar oder
unterhalb zu den Feldemissionskanten angeordnet ist,
derart ausgebildet, daß die Steuerelektrodeneinheit
(Gate) und die Emitter-Einheit als coplanare Hoch
frequenzwellenleiterstruktur ausgebildet sind.
Die Erfindungsgemäße Triode basiert auf der Idee, daß
es möglich ist, zwischen dem Gate und der Feldemis
sionskathode eine Welle zu führen. So ist die Feldemis
sionskathode auf Masse potential zu legen, so daß die
Gate-Elektrode mit den auf Masse liegenden Feldemis
sionskathoden eingangsseitig einen am Design von Co
planarleitern orientierten Wellenleiter für das hoch
frequente Steuersignal bildet.
Um Hochfrequenzsignale mit geringem Pegel zu ver
stärken, muß die Ausführung des verstärkenden Bau
elementes die Eigenheiten von hochfrequenten elektro
magnetischen Wellen berücksichtigen. Um ein hoch
frequentes Signal zu führen, müssen spezielle Leitungs
strukturen (coplanare Leitung oder Mikrostreifen-
Leitung bzw. koaxiale Leitungen oder Hohlleiter) ver
wendet werden. Die Leitungen und die aktiven Bauele
mente müssen im Wellenwiderstand anpaßbar sein, um
Reflexionen zu vermeiden. Der erfindungsgemäße Trioden
entwurf ist unter diesen Besonderheiten ausgestaltet
worden.
Das, im Vorstehenden beschriebene an sich bekannte
Tieferlegen des Gates weicht jedoch von Ausführungen
der normalen Coplanarleitungen ab und stellt eine
Modifikation des Coplanarleiters dar.
Durch die erfindungsgemäße Geometrie der Feldemis
sionstrioden ist es möglich, daß neben geringster
parasitärer Kapazitäten auch die Anschlußwellen
leitungen und die verstärkenden oder schaltenden
aktiven Feldemissionstrioden auf den gleichen Wellen
widerstand abgestimmt werden können. Damit werden ge
ringste Reflexionen am Ein- und Ausgang ermöglicht, die
für einen Betrieb im Höchstfrequenzbereich oft die
Begrenzung darstellen.
Durch den erfindungsgemäßen Entwurf auf der Basis von
Wellenleiterstrukturen bietet sich eine Realisierung
von Wanderwellen-Trioden an, die auf diese Weise als
mikroelektronisch integrierbares, nicht an Vakuum ge
bundenes und auf Feldemissionskathoden basierendes
Höchstfrequenzbauelement mit außerordentlich hohen
Ausgangsleistungen dienen kann.
Die erfindungsgemäße Triode basiert zudem auf einem neuen
Prinzip der Strommodulation. Forschungen mit verschie
denen Feldemitteranordnungen haben ergeben, daß es
einen optimalen Abstand zwischen zwei Feldemissionskan
ten beispielsweise in Klingenform gibt, so daß bei
einem entsprechenden Aufbau das für die Feldemission
von Elektronen aus dem Feldemitter benötigte elektri
sche Feld mit kleinstmöglicher angelegter Spannung
(zwischen Feldemissionskathode und Anode) erreicht wird.
Der optimale Abstand ist dabei abhängig von der Höhe der
emittierenden Klinge und dem Abstand zur Anode. Weiterhin
sind die Dotierung und die Spitzenform von Einfluß.
Das Prinzip beruht nun darauf, daß dieses optimale Feld
durch eine möglicherweise jeweils coplanar zwischen den
Feldemissionsklingen angeordnete Steuerelektrode ent
weder durch eine geeignete Spannung erst erzeugt wird,
wozu es notwendig ist, den physikalischen Abstand der
Feldemitter nicht in das Optimum zu legen, oder das
Optimum wird durch eine geeignete Spannung gestört; in
diesem Fall wird der physikalische Abstand genau in das
Optimum gelegt, was eine wirksame Strommodulation er
möglicht.
Diese Steuerelektrode ist coplanar zur Basis der Feld
emitter ausgeführt und in einem optimalen Abstand DG
zwischen den Emitterkanten lokalisiert. Damit erzielt
man eine Beeinflussung des Feldemissionsstromes über
die Änderung der Feldstärke ET des an den Feldemittern
anliegenden Feldes.
Die Feldemitterelemente können dabei mittels Kontakt
metall und die Steuerelektroden mittels Gatemetall auf
dem Trägerisolator aufgebracht sein.
Durch entsprechende Einstellung des Abstandes der Feld
emitterkanten DE untereinander kann die Feldstärke
maximiert werden. Wird nun zwischen diesen Feldemis
sionskanten auf einer Elektrode (Gate) ein von Null
verschiedenes Potential angeboten, so wird ein mehr
oder weniger großer Teil der Feldlinien ET an dieser
Elektrode enden. Damit wird die Feldliniendichte EE an
der Spitze der Feldemitterkanten variiert.
In einer bevorzugten Ausführungsform werden die Trioden
mit naß-chemisch geätzten Feldemissionsklingen ausge
führt. Diese Klingen werden aus dem hochdotierten (1-3
10¹⁸) Halbleitermaterial oder höher dotiertem GaAs
geätzt. Eine hohe Dotierung ist vorteilhaft, aber nicht
funktionsbedingend. Die Klingen können auch aus anderen
Halbleitern hergestellt werden. Bei Verzicht auf den
hilfreichen "Electronic Blunting"-Effekt sogar aus Glas
oder Kunststoffen mit aufgedampften Leiterschichten. Es
bieten sich auch kostengünstige epitaktische Schichten
auf anderen Trägermaterialien an.
Unter Nutzung des "Elektronic Blunting"-Effekts ist es
möglich, eine gleichmäßige Emission über eine Klinge
aus dotiertem Halbleitermaterial zu erzeugen, trotz
eventueller kleiner Inhomogenitäten in der Höhe oder
der Oberfläche der Klingen. Durch die Dotierung ist ein
Sättigungsstrom eingestellt. Wird nun versucht, örtlich
begrenzt diesen Sättigungsstrom zu überschreiten, so
findet durch das Wegemittieren von Oberflächenladungen
ein Eindringen des Feldes in den Halbleiter statt. Dies
kommt einer örtlichen Widerstandserhöhung gleich, wo
durch die Emission von benachbarten Gebieten begün
stigt wird. Bei einer metallischen Feldemissions-Klinge
würde zuerst die Stelle zünden, welche der Anode am
nächsten ist. Der Strom steigt hier über die Zerstö
rungsgrenze so lange an, bis diese Stelle evaporiert
wird. Die Folge ist, daß eine metallische Kante kaum zu
homogener Emission zu veranlassen ist.
Ausgehend von diesem Zusammenhang ist auch erklärlich,
daß die meisten veröffentlichten Konzepte auf der Basis
von Feldemissions-Spitzen beruhen, was für eine Anwen
dung als leistungstragende Bauelemente unbefriedigend ist.
Das "Electronic-Blunting"-Prinzip funktioniert aller
Voraussicht nach auch mit polykristallinen Halbleiter
materialen, welche durch sehr kostengünstige Verfahren
(CVD, PECVD, Epitaxie) auf Trägermaterialien, wie Glas
und Kunststoffe aufgebracht werden können.
Durch das neuartige Prinzip der Erfindung ist es mög
lich, sehr kleine Abstände zwischen Kathode und Anode
in einem Wertebereich von 0,4 . . . 0,5 µm einzustellen.
Daraus ergibt sich der Vorteil, daß diese Bauelemente
auch ohne Vakuum zuverlässig arbeiten. Der Abstand der
Elektroden liegt im Bereich der mittleren freien Weg
länge von Elektronen in Normal-Atmosphäre, was einem
Quasi-Vakuum entspricht.
Durch die sehr kleinen Abstände zwischen Kathode und
Anode ist es weiterhin möglich, relativ große und damit
stumpfe Spitzenradien mit einem Radius im Bereich von
<25 . . . 75 nm einzusetzen.
Diese erfindungsgemäße Dimensionierung der Feldemitter
elemente steht im Gegensatz zu konventionellen Trioden
prinzipien, die möglichst spitze Emittoren bei einem
Radius von 0,5-10 nm verlangen.
Durch Anwendung relativ stumpfer Spitzen kann der Vor
teil solcher Mikro-Trioden voll ausgeschöpft werden.
Neben der prinzipiell erzielbaren hohen Stromdichte
kann mit der größeren emittierenden Fläche auch ein
größerer nutzbarer Strom pro Emitter erzeugt werden.
Derartige relativ stumpfe Spitzen sind auch einfacher
herzustellen.
Die Steuerwirkung wird nach der erfindungsgemäßen Kon
figuration der Feldemitterelemente mittels Beeinflus
sung der Maximalfeldstärke an der Spitze der Feldemis
sionskante erreicht. Dies steht im Gegensatz zur Poten
tialschwellensteuerung von normalen Trioden. Daraus
ergeben sich entscheidende prinzipielle Vorteile, wie
- - hoher Steuereingangswiderstand,
- - nahezu leistungsloses Steuern und
- - hohe Integrationsfähigkeit die auch wegen der geringen Abmessungen begünstigt wird.
Durch die Variation des Abstandes zwischen Kathode und
Anode und des Spitzenradius der Feldemissionskante
können verschiedene Schwellspannungen eingestellt wer
den. Eine weitere sehr exakte Variation der für Feld
emission aus der Kathode notwendigen Schwellspannung
ist mit einer entsprechenden DC-Gitterspannung möglich.
Weiterhin erlaubt die Erfindung, die einfache Integra
tion von Anoden durch z. B. Luftbrückentechnologie.
Eine Luftbrücke ist eine aus der Halbleitertechnik her
bekannte und üblicherweise benutzte Form eine auf dem
Substrat aufgebrachte Leiterstruktur durch eine weitere
Leiterstruktur zu überkreuzen. Dabei sollen die beiden
sich kreuzenden Leitungen keinen direkten elektrischen
Kontakt aufweisen. Während bei der auf dem Wafer aufge
brachten Leiterstruktur das Substratmaterial als
Dielektrikum für die geführte Welle fungiert, ist das
Dielektrikum für die "durch die Luft geführte", in Form
einer metallischen Brücke ausgeführte Leiterstruktur
nur Luft. Auch ist es möglich, diese Technologie für
den Aufbau von Feldemissions-Flach-Bildschirmen einzu
setzen. Dabei wird die Anode z. B. als Glasscheibe mit
aufgedampftem Metallgitter auf das Halbleitermaterial
aufgebracht, wobei der optimale Abstand sich auto
matisch einstellt. Die hierzu notwendigen Technologie
schritte liegen hinsichtlich des Aufwandes beträchtlich
unter den derzeitig verfolgten Prinzipien, der Multi
layer-Technology.
Weitere Anwendungsmöglichkeiten der erfindungsgemäßen
Feldeffekt-Mikrotriode sind neuartige Schutzschalter
gegen elektrostatische Entladungen (ESD) für mono
lithisch integrierte Mikrowellenschaltkreise sowie das
breite Einsatzfeld als schaltendes und/oder verstärken
des Hochfrequenzbauelement.
Mit dem neuartigend Aufbau und der damit einhergehenden
Funktionsweise der Feldeffekt-Mikrotriode ergeben sich
folgende Vorteile:
Es wird ein geringster Abstand zwischen Kathode und
Anode ermöglicht. Die geometrische Anordnung der
steuernden Gitterelektrode begrenzt nicht den minimal
möglichen Abstand zwischen Kathode (Feldemitter) und
Anode, wie es zwangsläufig bei den meisten der derzeit
üblichen Konzepte der Fall ist. Daraus wiederum ergibt
sich eine relativ geringe Schwellspannung (i.d.R. zwi
schen 7 und 25 Volt) zwischen Kathode und Anode, um
die für Feldemission von Elektronen aus der Kathode
notwendige Feldstärke an der Spitze des Feldemitters,
der Kathode zu erreichen.
Mit der erfindungsgemäßen geometrischen Ausbildung der
Emittoren werden je nach Bedarf relativ große Spitzen
radien und einhergehend mit einer entsprechend großen
Emissionsfläche auch relativ hohe Emissionsströme mit
adäquater Leistung ermöglicht.
Damit im Zusammenhang stehen vergleichsweise geringe
Einsatzspannungen für die Bauelemente, z. B. für inte
grierte Feldemitterelektronik.
Durch die Verwendbarkeit der größeren Feldemitterspit
zenradien wird eine höhere Funktionssicherheit der
Feldemissionskanten gewährleistet, da bei Stößen mit
ionisierten Teilchen die Wahrscheinlichkeit sehr gering
ist, daß die Spitze maßgeblich zerstört wird, während
dies bei sehr spitzen Feldemissionskanten ein Hauptpro
blem hinsichtlich Zuverlässigkeit und Stromrauschen
ist.
Die Anode wird mittels der aus der MMIC (Monolithic
Microwave Integrated Circuit) Technologie bekannten
Luftbrückentechnologie sehr einfach und direkt auf dem
Wafer integriert. Der Abstand kann dabei mit den zur
Verfügung stehenden Fotolacken variiert werden im Be
reich 0,3 µm bis etwa 30 µm. Typisch ist jedoch der
sehr geringe Abstand von zirka 0,5 µm, da sich hier die
genannten Vorteile hinsichtlich Quasi-Vakuum und höhere
erzielbare Stromstärken unter Verwendung von relativ
stumpfen Spitzen mit großen Emissionsflächen ergeben.
Der Herstellungsaufwand für diese Anoden ist geringer
als bei konventionellen Feldemissionsbauelementen.
Die Erfindung wird nachstehend ohne Beschränkung des
allgemeinen Erfindungsgedankens anhand von Ausführungs
beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung exempla
risch beschrieben, auf die im übrigen bezüglich der
Offenbarung aller im Text nicht näher erläuterten er
findungsgemäßen Einzelheiten ausdrücklich verwiesen
wird. Es zeigen:
Fig. 1 eine Mikrotriode nach dem Stand der Technik
(bereits erläutert),
Fig. 2a ein Schnittbild einer erfindungsgemäßen Feld
emissions-Mikrotrioden,
Fig. 2b Detailzeichnung von Fig. 2a,
Fig. 3a eine Aufsicht auf die in Fig. 2a und 2b darge
stellte Feldemissions-Mikrotriode,
Fig. 3b Aufsicht auf die Version mit elektrischem
Anschluß der Feldemitter nur durch ohmschen Kon
takt an der Kathodenmesa,
Fig. 3c Aufsicht auf die Version mit elektrischem An
schluß der Feldemitter durch ohmschen Kontakt
an der Kathodenmesa und zusätzlichen ohmschen
Kontaktstreifen parallel zu den Feldemittern.
Fig. 4 Feldemissionstriode basierend auf dem Wander
wellenprinzip mit langer Emissionskante,
Fig. 5 Feldemissionstriode basierend auf dem Wander
wellenprinzip mit definierten Abstand,
Zur Begriffserläuterung sei hier bemerkt, daß die Mesa die Stelle ist, an der die aktive (dotierte) Halblei terschicht nicht weggeätzt wird.
Zur Begriffserläuterung sei hier bemerkt, daß die Mesa die Stelle ist, an der die aktive (dotierte) Halblei terschicht nicht weggeätzt wird.
Die Fig. 2a und 2b zeigen den prinzipiellen Aufbau der
Feldemissions-Mikrotriode im Schnitt.
Die Steuerelektrode 2 ist coplanar zur Basis der Feld
emitter 1 in einem optimalen Abstand DG zu den Emitter
kanten angeordnet. Die Feldemitterelemente sind zur
Gewährleistung der Feldemitterkanten in Klingenform
ausgeführt. Die Feldemissionsklingen 1 sind dabei mit
tels Kontaktmetall 4 auf dem Trägerisolator 6 angeordnet
und die Steuerelektrode (Gatemetall 2) ist auch auf dem
Trägerisolator angeordnet.
Der Abstand der Feldemitterkanten DE zueinander ist so
gewählt, daß eine maximale Feldstärke gegeben ist. Eine
Beeinflussung des Feldemissionsstromes erfolgt über die
Änderung der Feldstärke ET. Wird die Steuerelektrode
mit einem von Null verschiedenen Potential beauf
schlagt, so wird ein bestimmter Teil der Feldlinien ET
in diese Elektrode eintreten. Auf diese Weise kann die
Feldliniendichte EE an der Spitze der Feldemitterkanten
variiert werden.
Der Abstand DA zwischen Kathode und Anode 3 ist so
vorgegeben, daß er im Bereich der mittleren freien
Weglänge der Elektronen in Normal-Atmosphäre liegt, was
einem Quasi-Vakuum entspricht.
Die Anode 3 ist nach der Luftbrückentechnologie ausge
führt.
Die Fig. 3a bis 3c komplettieren die Erläuterungen
durch dargestellte Aufsichten auf die Feldemissions-Mikro
triode. Die Fig. 3b und 3c sind dabei Detailzeich
nungen von Fig. 3a für zwei verschiedene Ausführungs
formen. Fig. 3b zeigt eine Aufsicht auf eine Version
mit elektrischem Anschluß der Feldemitter durch
ohmschen Kontakt an der Kathodenmesa und Fig. 3c zeigt
eine Version mit zusätzlichen ohmschen Kontaktstreifen
parallel zu den Feldemittern. Es sind jeweils Kathodenpad
7, Anodenpad 8 und Gatepad 9 eingezeichnet.
Das vorliegende Bauelement wurde auf GaAs realisiert.
Der GaAs-Ätzprozeß wurde naß-chemisch entwickelt, da
Plasma-Prozesse meist geschädigte Oberflächen hinter
lassen, die für den mit ungeschädigtem Halbleitermate
rial erzielbaren "Electronic Blunting"-Effekt nachtei
lig sind.
Das zum Herstellen der GaAs-Feldemitter verwendete Naß-
Ätzverfahren erlaubt es allerdings, Spitzenradien von
kleiner als 25 nm zu ätzen und stellt somit ein Verfah
ren dar, welches zu einer ähnlich guten Strukturierung
führt wie das Plasma-Ätzverfahren, jedoch die Nachteile
dieses Verfahrens wie Oberflächenschäden, hervorgerufen
durch Ionenbombardement während des Prozesses, nicht
aufweist.
Mit einem Triodendesign welches auf vier Feldemissions-
Klingen mit einer jeweiligen Länge von 35 µm und einem
Spitzenradius von ca. 70 nm beruht, wird bei einer
Spannung von 25 V zwischen Kathode 1 und Anode 3 ein
Strom von 38 mA DC emittiert und mit einer Gatespannung
(planar Grid) von 15 V auf weniger als die Hälfte redu
ziert.
Das Bauelement benötigt eine Gesamtfläche von 85 µm ×
50 µm ohne Anschlußfelder und kann somit unter Normal-
Atmosphäre zuverlässig eine Leistung von 1,4 Watt DC
zur Verfügung stellen.
Die Feldemissionskanten sind aus einkristallinem Halb
leitermaterial GaAs - auch polykristallines Halbleiter
material oder metallbeschichteter Kunststoff werden als
nutzbar eingeschätzt - hergestellt. Daraus ergeben sich
weitere Vorteile für den Aufbau zuverlässiger Feldemis
sionsbauelemente, wie homogene Kantenemission und kein
Evaporieren der Spitzen bzw. Kanten, wie es bei Metall
emittoren zu beobachten ist.
Die Steuerelektrode (Gate 2, siehe Fig. 2a) muß nicht
notwendigerweise mit Metall beschichtet werden, viel
mehr kann die elektrische Kontaktierung über den ohm
schen Kontakt an der Kathodenmesa erfolgen. Dadurch
kann der Stromfluß lateral durch die Feldemitterkante
erfolgen. Bei langen Emissionskathoden ist es optional
möglich den ohmschen Kontakt zusätzlich parallel zu der
Basis der Feldemitter auszuführen. Genauso ist eine
ohmsche Kontaktierung der Feldemissionsklingen über die
Feldemitterkathodenmesa möglich.
Weiterhin ist es möglich die materialabhängige Austritts
arbeit der Feldemitterklingen durch Beschichtung mit
speziellen Materialien, wie Cs, CsO, Na, K oder C₆₀ zu
verringern. Gerade die Beschichtung mit Buckminster
fullerenen wie C₆₀ hat den Vorteil, daß außer der
Änderung der Austrittsarbeit noch eine Verlängerung der
Zuverlässigkeit des Bauelements erreicht werden kann, da
diese Fullerene diamantähnliche Eigenschaften besitzen.
Damit würde die Langzeitzuverlässigkeit hinsichtlich
Korrosion, Ionenstöße und Halbleiter- bzw. -Oberflä
chenveränderungen jeglicher Art, wie z. B. Ausgasen von
Arsen oder Dotierstoffen bei GaAs, auch in hohen Tempe
raturbereichen zunehmen. Diese vorteilhafte Beschich
tung ließe sich z. B. auch mit einer Diamantschicht, die
auch dotiert sein kann ausführen.
Aus Fig. 4 geht eine Feldemissionstriode basierend auf
dem eingangs erwähnten Wanderwellenprinzip hervor. Die
in der Fig. 4 dargestellte Feldemissionstriode besitzt
eine Wanderwellenstruktur für hohe Frequenzen im µm-
Wellenlängenbereich.
Das Gateleiter G (Innenleiter der Eingangs-Coplanar
leitung) ist verbunden mit den eigentlichen Gateelek
troden GE der Triode. Die äußeren Massestreifen M der
näherungsweisen Coplanarleitung sind über die Zu
leitungen Z verbunden mit den beiden Feldemissions
klingen F der eigentlichen Triode. Die Anodenanschluß
leitung A (Innenleiter der Ausgangs-Coplanarleitung)
ist über die beiden Zuleitungluftbrücken LZ, die in
Form einer stabilen metallischen Brückenstruktur (Luft
brücke) in einer höheren Ebene die Zuleitung Z über
queren (Leiterüberkreuzung), mit den beiden Anodenzu
leitungen AZ verbunden. Von den beiden Anodenzu
leitungen gehen im Abstand der Wellenlänge Anodenluft
brücken LA aus, die die Gateelektroden und Feldemis
sionskanten in einer höheren Ebene überbrücken ohne
diese zu kontaktieren. Diese Anodenluftbrücken bilden
die eigentlichen Anoden, die die von den Feldemissions
kanten F emittierten Elektronen auffangen.
Die zu verstärkende Welle wird bei dieser ersten Geo
metrie zwischen Gateleiter G und Masseelektroden M an
die Triode herangeführt. In der Triode wird die Welle
zwischen den Gateelektroden GE und den, auf Masse-
Potential befindlichen und mit den Masseleitern M ver
bundenen, Feldemissionskanten F geführt. Die Länge der
Feldemissionskanten ist so bemessen, daß mehrere Wel
lenlängen der geführten Welle sich auf der Feldemis
sionskante befinden können.
Genau an den Stellen, an denen die Feldemissionskanten
von den Anodenluftbrücken überkreuzt werden, befindet
sich ein Wellenberg. Die Elektrodenlängen werden so
bemessen, daß sich die Wellenberge genau phasengleich
zu der geführten, zu verstärkenden Eingangs-Welle hin
zuaddieren können (Wanderwelleneffekt). Die verstärkte
Welle wird über die Ausgangsleitung weggeführt. Damit
kommt das vorgeschlagene Konzept der idealen "ver
stärkenden Leitung" sehr nahe.
Energiezufuhr erfolgt über die angelegte Gleichspannung
zwischen Feldemissionskante und Anode. Über eine zu
sätzliche Gleichspannung zwischen Gate und Feldemis
sionskanten kann ebenfalls der Arbeitspunkt beeinflußt
werden. Verstärkung erfolgt, da eine niederpegelige
nahezu leistungslose Welle am Eingang sehr hohe Feld
emissionsströme in der Triode bewirken und steuern
kann. Die verstärkten Signale überlagern sich über die
reflexionslos weitergeführte Eingangs-Welle. Einzig ein
Rücklaufen der verstärkten Welle zum Eingang muß durch
geeignete Bauelemente (Zirkulator in passiver oder
elektronischer Art) verhindert werden.
Aus Fig. 5 ist ähnlich wie in Fig. 4 eine Feldemis
sionstriode für den Wanderwellenbetrieb vorgesehen.
Hierbei ist der Abstand zwischen den Feldemissions
kanten F und den zugehörigen Gateelektroden G im Ab
stand von Vielfachen der Wellenlänge der zu verar
beitenden Signale ausgebildet.
Die gesamte Triode besteht aus mehreren einzelnen
Triodenzellen Z, die jeweils aus einer Feldemissions
kante F bestehen, welche auf beiden Längsseiten von
einer Gateelektrodenkante GE flankiert wird. Die Gate
leiter G (Innenleiter der Eingangs-Coplanarleitung) ist
verbunden mit den eigentlichen Gateelektroden GE der
Triode. Die äußeren Massestreifen M der näherungsweisen
Coplanarleitung sind mit den Feldemissionsklingen F der
eigentlichen Triodenzellen verbunden. Die Anodenan
schlußleitung A (Innenleiter der Ausgangs-Coplanar
leitung) ist mit den Anodenluftbrücken L, die in Form
einer stabilen metallischen Brückenstruktur (Luft
brücke) in einer höheren Ebene die Feldemissionskanten
F und die jeweiligen Gateelektroden GE überqueren
(Leiterüberkreuzung) verbunden.
Die zu verstärkende Welle wird bei dieser alternativen
Geometrie zwischen Gateleiter G und Masseelektroden M
an die Triode herangeführt. Die einzelne Triodenzelle
kann hier klein gegen die Wellenlänge sein, so daß von
einem Führen der Welle in der Triodenzelle nicht ausge
gangen werden muß.
Die Triodenzellen befinden sich im Abstand der Wellen
länge unter den Anodenluftbrücken. Anders ausgedrückt
befindet sich an jeder Triodenzelle ein Wellenberg.
Die Elektrodenlängen der Gesamtanordnung werden so
bemessen, daß sich die Wellenberge genau phasengleich
zu der geführten, zu verstärkenden Eingangs-Welle hin
zuaddieren können (Wanderwelleneffekt). Die verstärkte
Welle wird über die Ausgangsleitung A weggeführt. Damit
kommt das vorgeschlagene Konzept der idealen "ver
stärkenden Leitung" ebenfalls sehr nahe.
Energiezufuhr erfolgt auch hier über die angelegte
Gleichspannung zwischen Feldemissionskante und Anode.
Über eine zusätzliche Gleichspannung zwischen Gate und
Feldemissionskanten kann ebenfalls der Arbeitspunkt
beeinflußt werden. Verstärkung erfolgt, da eine nieder
pegelige nahezu leistungslose Welle am Eingang sehr
hohe Feldemissionsströme in den Triodenzellen bewirken
und steuern kann. Die verstärkten Signale der einzelnen
Triodenzellen überlagern sich über die reflexionslos
weitergeführte Eingangs-Welle. Einzig ein Rücklaufen
der verstärkten Welle zum Eingang muß auch bei dieser
Alternative durch geeignete Bauelemente (z. B. Zirku
lator in passiver oder elektronischer Art) verhindert
werden.
Unter Ausnutzung des Wanderwelleneffektes lassen sich
auf diese Weise auch Oszillatoren (phasengleiche
Rückkopplung) oder Frequenzvervielfachung (Addition
zweier oder mehrerer leicht in der Phase verschobener
Wellen und deren geeignete Verstärkung) verwirklichen.
Für die erfindungsgemäße Triodenkonfiguration werden
verschiedene Anwendungen vorgeschlagen:
Einmal kann die Feldeffekt-Mikrotriode als neuartiger
Schutzschalter gegen elektrostatische Entladungen (ESD)
für monolithisch integrierte Mikrowellenschaltkreise
(Monolthic Microwave Integrated Circuit MMIC) und dis
krete Mikrowellenbauelemente wie Transistoren und Dio
den auch im Mikrowellenbereich eingesetzt werden.
Für solche ESD-Schutzschaltungen muß das schaltende
Bauelement gleichzeitig sehr geringe Parasitäten (vor
wiegend eine geringe elektrische Kapazität) und die
Fähigkeit aufweisen, sehr schnell eine relativ große
Stromdichte zu schalten. Dies ist derzeit in solchem
Maße nur mit den erfindungsgemäßen Feldemissions-Trio
den möglich.
Durch die Gitterelektrode kann die Einschaltschwelle in
weiten Grenzen variiert werden und somit können Techno
logieschwankungen ausgeglichen werden. Die Triode er
laubt dadurch auch den Einsatz von variablen Einschalt
spannungen mit demselben Schutzelement bei gleichem
Abstand zwischen Kathode und Anode auf einem Chip. Das
ist mit der einfachen Diodenform nicht möglich, da die
optimale Schaltspannung technologisch festgelegt werden
muß.
Variable Einschaltspannungen bei ESD-Schutzschaltungen
sind insbesondere in integrierten Schaltungen notwen
dig, wo unterschiedliche Arbeitsspannungsbereiche der
verwendeten Bauelemente vorkommen. Das betrifft bei
spielsweise MMIC, Integrierte optisch-elektronische
Mikrowellenschaltungen - Sender: Laser und Lasertreiber
- Empfänger: Detektor und entsprechende Verstärkerelek
tronik sowie hochfrequente Schaltungen mit integrierten
Leistungsendstufen im Hochfrequenzbereich.
Allgemein kann das Prinzip auch auf derzeit in Entwick
lung befindliche hochfrequente integrierte Silizium
schaltungen angewendet werden, da hier die konventio
nellen ESD-Schutzschaltungskonzepte ihre Leistungsgren
zen erreicht haben.
Zum anderen kann die Feldeffekt-Mikrotriode als schal
tendes und/oder verstärkendes Hochfrequenzbauelement
alternativ für Halbleiterbauelemente in monolithisch
integrierten Schaltungen eingesetzt werden.
Durch den geringen Abstand zwischen Kathode in Form der
Feldemissionskante und Anode kann Feldemission schon
bei sehr geringen Spannungen (4-5 V) erreicht werden.
Das hat den Vorteil, daß bei immer noch relativ gerin
gen Spannungen in Höhe von 15-20 Volt Feldemission
mit relativ stumpfen Kanten realisierbar ist. Bedingt
durch die relativ große Emissionsfläche dieser Kanten
können sehr große Emissionsströme erzeugt werden. Diese
Funktion ist von größtem Interesse für den Aufbau von
Leistungsbauelementen, wie Verstärker, Sender-Endstufen
für den Mikrowellenbereich oder als leistungsstarke
mikroelektronische Elektronenstrahlquellen für Flach-
Bildschirme.
Darüberhinaus haben sie auch für andere Elektronen
strahlanwendungen, wie Analysegeräte (STM scanning
tunnel microscope, SEM scanning electron mikroscope),
wo leistungsstarke Elektronenstrahlquellen gefordert
sind, eine große Bedeutung.
Durch eine Array-Anordnung solcher Trioden als Elektro
nenstrahlquellen im SEM sind die verschiedensten Ver
besserungen des SEM hinsichtlich Auflösung, Filtermög
lichkeiten und Selektivität möglich.
Mit der neuen Triodengeometrie wird die technologische
Herstellung von Flachbildschirmen gravierend verein
facht.
Dabei wird die Anode 3 z. B. als Glasscheibe mit aufge
dampftem Metallgitter und Leuchtstoff auf das Trägerma
terial mit den Feldemittern und den coplanar ausgeführ
ten Gitterelektroden aufgebracht, wobei der optimale
Abstand sich automatisch einstellt. Da das Zusammen
bringen auch eine einfache Evakuierung erlaubt, ist die
Toleranz im Abstand zwischen Kathode und Anode, die
sich aus der Qualität der Glasscheibe ergibt, unerheb
lich. Durch die Gitterelektrode ist zudem eine chroma
tische Korrektur eines jeden Bildpunktes möglich, da
sowohl der maximale Strom als auch die Schwellspannung
einstellbar sind.
Die hierzu notwendigen Technologieschritte liegen hin
sichtlich des Aufwandes beträchtlich unter den derzei
tig verfolgten Prinzipien der Multilayer-Technologie,
wobei die derzeitige Form der Gitteranordnung eine
Vielzahl von Prozeßschritten für die notwendigen Isola
tor- und Metallschichten erfordert.
Durch die coplanare Anordnung der Steuerelektrode 2 mit
der Basis der Feldemissionskanten auf dem isolierenden,
bei GaAs semiisolierenden Substrat 6 ist keine aufwen
dige Mehrfachschichtung von Isolator und Metallschich
ten (multilayer) incl. des damit verbundenen aufwendi
gen Justierens notwendig. Dadurch wird die Herstel
lungstechnologie gegenüber derzeit bekannten Verfahren
erheblich vereinfacht. Das hat direkte Auswirkungen auf
die Integrationsfähigkeit des Bauelementes. Die Inte
grationsfähigkeit ist stark von der zu erwartenden
Ausbeute abhängig und diese ist wiederum mit der Anzahl
der notwendigen Prozeßschritte korreliert. Nach dem
neuen Konzept wird die Zahl der kritischen Herstel
lungsschritte erheblich minimiert.
Durch die coplanare Anordnung der steuernden Elektrode
sind sehr einfache Verbindungen der aktiven Elemente
möglich. Auch die Anordnung der Anoden in der aus der
MMIC Fertigung bekannten Luftbrückentechnologie unter
stützt diese Integrationsfähigkeit, da die Pfeiler
dieser Luftbrücken in derselben Ebene verankert sind
und damit für einfache Verbindungen und Durchkontaktie
rungen zur Verfügung stehen.
Als weiteres Einsatzgebiet für die erfindungsgemäße
Mikrotriode kommt die Anwendung als Photonenemitter
in Frage.
Um die erfindungsgemäße Feldeffekt-Mikrotriode als
Sensor zu benutzen, sollte z. B. die Gitterklinge in der
Höhe variiert werden. Dadurch wird ein bestimmter
Arbeitspunkt eingestellt, der dafür verantwortlich ist,
daß z. B. erst mit einem bestimmten Gitterpotential
Feldemission stattfinden kann. Dieses Potential ist
dann z. B. auch abhängig von anderen physikalischen und
chemischen Gegebenheiten an der Triode.
Claims (18)
1. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung mit einer, Feld
emissionskanten aufweisenden Emittereinheit, einer
Anodenanordnung (Source) sowie einer Steuerelektrodeneinheit
(Gate), die planar oder unterhalb zu den Feld
emissionskanten angeordnet ist,
dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerelektrodeneinheit
(Gate) und die Emittereinheit als coplanare Hoch
frequenzwellenleiterstruktur ausgebildet sind.
2. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Feldemissionskanten
auf Massepotential liegen.
3. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die maximale Grenzfrequenz
der Mikrotriode im THz-Bereich liegt.
4. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Feldemissionskanten
derart länglich ausgebildet sind, so daß sich mehrere
Wellenlängen auf der Steuerelektrode befinden können.
5. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die einzelnen Steuerelektroden
(2) der Steuerelektrodeneinheit jeweils planar
zwischen den Feldemissionskanten angeordnet sind.
6. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß die Feldemissionskanten (1)
mittels Kontaktmetall (4) auf dem Trägerisolator (6) ange
ordnet sind.
7. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerelektroden (2)
mittels Gatemetall oder dotiertem Halbleitermaterial auf
dem Trägerisolator (6) angeordnet sind.
8. Feldeffekt-Mikrotriodeananordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerelektroden (2)
aus dotiertem Halbleitermaterial bestehen.
9. Feldeffekt-Mikrotriodeananordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Steuerelektroden
scharfe Kanten aufweisen.
10. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand DA zwischen der
Feldemissionskante (1) und Anode (3) im Bereich der mitt
leren freien Weglänge von Elektronen unter atmosphärischen
Normalbedingungen liegt.
11. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand DA etwa 0,4 bis
0,5 µm beträgt.
12. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß die Feldemissionskanten an
ihren Spitzen Krümmungsradien von maximal 75 nm aufweisen.
13. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß die Anode (3) mittels der aus
der MMIC (Monolithic Microwave Integrated Circuit)-Techno
logie bekannten Luftbrückentechnologie direkt auf einem
Wafer integriert ist.
14. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Emittereinheit (1) aus hochdotiertem (1-3 10¹⁸
Dotieratome/cm³) Halbleitermaterial geätzt ist.
15. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet, daß das Halbleitermaterial GaAs
ist.
16. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 15,
dadurch gekennzeichnet, daß die Feldemissionskante
Glas oder Kunststoffe mit aufgedampften Leiterschich
ten aufweisen.
17. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, daß die Austrittsarbeit der
Feldemitter durch Beschichtung mit geeigneten Materia
lien wie z. B. Cs, CsO, K, C₆₀, dotiertem Diamant,
variierbar ist.
18. Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung nach einem der
Ansprüche 1 bis 17,
dadurch gekennzeichnet, daß die Emittereinheit und die
Steuerelektrodeneinheit als Streifenleiter ausgebildet
sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4421256A DE4421256C2 (de) | 1993-06-17 | 1994-06-17 | Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung |
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DE4421256A Expired - Fee Related DE4421256C2 (de) | 1993-06-17 | 1994-06-17 | Feldeffekt-Mikrotriodenanordnung |
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