DE4408041A1 - Sub-nanosecond nitrogen laser - Google Patents

Sub-nanosecond nitrogen laser

Info

Publication number
DE4408041A1
DE4408041A1 DE19944408041 DE4408041A DE4408041A1 DE 4408041 A1 DE4408041 A1 DE 4408041A1 DE 19944408041 DE19944408041 DE 19944408041 DE 4408041 A DE4408041 A DE 4408041A DE 4408041 A1 DE4408041 A1 DE 4408041A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
nanosecond
gas discharge
laser
sub
integrated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19944408041
Other languages
German (de)
Inventor
Marcus-G Meisel
Thomas Feurer
Hansheinrich Langhoff
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
MEISEL MARCUS G
Original Assignee
MEISEL MARCUS G
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by MEISEL MARCUS G filed Critical MEISEL MARCUS G
Priority to DE19944408041 priority Critical patent/DE4408041A1/en
Publication of DE4408041A1 publication Critical patent/DE4408041A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0971Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
    • H01S3/0973Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited having a travelling wave passing through the active medium

Abstract

The laser uses a gas discharge for generating the sub-nanosecond pulses, with a jitter of less than one nanosecond. The gas discharge channel is provided in the upper or lower electrode (4,5) of a low inductance band line acting as the charge storage capacitance, with an integrated triggered spark path at its left or right end. The band line pref. has a solid electrode (4), an earth plate (5) and an intermediate dielectric (6), with a precisely controlled switch (8) for triggering the spark path integrated in the earth plate.

Description

Die Erfindung betrifft einen Stickstofflaser zur Erzeugung von Subnanosekunden­ impulsen bei Repetitionsraten von mehreren hundert Hertz und einem zeitlichen Jitter, bezüglich des Triggerimpulses, von weniger als einer Nanosekunde. Anwen­ dungen finden solche Laser als Pumplichtquellen für Farbstofflaser, als Blitzlampen für Hochgeschwindigkeitsphotographie, zur Materialbearbeitung und als UV Licht­ quelle in der Mikroelektronik.The invention relates to a nitrogen laser for the generation of subnanoseconds pulses at repetition rates of several hundred hertz and a temporal Jitter, with respect to the trigger pulse, of less than a nanosecond. Anwen Such lasers are used as pumping light sources for dye lasers, as flash lamps for high-speed photography, for material processing and as UV light source in microelectronics.

Auf Grund seiner physikalischen Eigenschaften ist der Stickstofflaser bei einer Wel­ lenlänge von 337 nm nur als gepulster Laser zu betreiben. Die wichtigste Grundbe­ dingung, die es dabei zu erfüllen gilt, ist eine möglichst schnelle und große Besetzung des oberen Laserniveaus. In den allermeisten Fällen wird dazu eine transversale Ga­ sentladung in einem abgeschlossenen, mit Stickstoff gefüllten Volumen gezündet. Die zugrunde liegende elektrische Schaltung ist meist entweder ein Blumleinkreis oder eine sogenannte Charge Transfer Schaltung. Innerhalb eines, verglichen zum Entladevorgang, relativ langen Zeitraumes werden dabei Kondensatoren auf eine bestimmte Spannung aufgeladen und schließlich, mittels eines schnellen Schalters, wird die in den Kondensatoren gespeicherte Energie in das Stickstoffgas transfe­ riert. Die Geschwindigkeit dieses Vorganges hängt nun im wesentlichen von der Gesamtinduktivität des Systems ab. Diese setzt sich aus mehreren Einzelindukti­ vitäten (Schalter, Zuleitungen, etc.) zusammen. Für einen effizienten Betrieb muß also darauf geachtet werden, letztere möglichst klein zu halten. Neben der hohen Geschwindigkeit muß, wie bereits oben erwähnt, auch eine möglichst hohe Pum­ pleistung gewährleistet werden. Dies wird einerseits durch eine hohe Ladespannung erreicht, andererseits muß darauf geachtet werden, daß die Impedanz der Gasentla­ dung und die des elektrischen Schaltkreises übereinstimmen, denn nur dann ist es möglich, die gesamte gespeicherte Energie im Gas selbst zu deponieren.Due to its physical properties, the nitrogen laser is at Wel wavelength of 337 nm can only be operated as a pulsed laser. The most important Grundbe The condition that must be met is that it should be as fast and large as possible of the upper laser level. In the vast majority of cases, this is a transversal Ga sent charge ignited in a sealed, filled with nitrogen volume. The underlying electrical circuit is usually either a Blumleinkreis or a so-called charge transfer circuit. Within one, compared to Entladevorgang, relatively long period of time while capacitors to a charged certain voltage and finally, by means of a fast switch, the energy stored in the capacitors will be transferred to the nitrogen gas riert. The speed of this process depends essentially on the Total inductance of the system. This consists of several Einzelindukti vities (switches, supply lines, etc.) together. For efficient operation must So be sure to keep the latter as small as possible. In addition to the high Speed must, as already mentioned above, also the highest possible Pum pleistung be guaranteed. This is on the one hand by a high charging voltage achieved, on the other hand, care must be taken that the impedance of Gasentla and the electrical circuit, because only then is it possible to deposit the entire stored energy in the gas itself.

Im praktischen Betrieb ist es nicht möglich, alle Voraussetzungen optimal zu erfüllen. Bei typischen Betriebsspannungen von 10 bis 30 kV sind dazu technisch hochent­ wickelte, teure Schalter notwendig. Um hohe Repetitionsraten zu fahren sind zudem sehr aufwendige, leistungsstarke Netzgeräte erforderlich, und außerdem ist man ge­ zwungen ständig frisches Stickstoffgas in das Entladungsvolumen strömen zu lassen. In practical operation, it is not possible to fulfill all requirements optimally. At typical operating voltages of 10 to 30 kV, this is technically very high wrapped, expensive switches necessary. In addition, to drive high repetition rates are very complex, powerful power supplies required, and also one is ge constantly flowing fresh nitrogen gas into the discharge volume.  

Bei dem vorliegenden Stickstofflaser wird durch den mechanischen Aufbau und im wesentlichen durch den integrierten Schalter, eine extrem hohe Anregungsgeschwin­ digkeit erreicht. Die für die hier verwandte Blumleinschaltung notwendigen Kon­ densatoren sind als Bandleiter realisiert. Die masseseitige Elektrode beider Konden­ satoren wird von ein und derselben Metallplatte gebildet, während in die hochspan­ nungsseitigen Elektroden der Entladungskanal eingearbeitet ist. Die Geometrie des Aufbaus ist so gewählt, daß möglichst keine Impedanzänderungen im elektrischen Kreis auftreten, welche zu einer Herabsetzung der Geschwindigkeit führen würden. In den bisher völlig symmetrischen Aufbau, wird nun in einen der beiden Bandleiter eine triggerbare Funkenstrecke direkt integriert. Damit entfallen im gesamten Kreis alle hochinduktiven Zuleitungen.In the present nitrogen laser is by the mechanical structure and in the essentially by the integrated switch, an extremely high excitation speed achieved. The necessary for the related Blumleinschaltung Kon capacitors are realized as a strip conductor. The ground-side electrode of both condenses is formed by one and the same metal plate, while in the high chip nungsseitigen electrodes of the discharge channel is incorporated. The geometry of the Structure is chosen so that possible no impedance changes in the electrical Circle occur, which would lead to a reduction in speed. In the previously completely symmetrical structure, is now in one of the two band conductor a triggerable spark gap directly integrated. This accounts for the entire circle all highly inductive feeders.

Die sehr schnelle Anregung hat nun zwei entscheidende Vorteile. Einerseits erzielt man mit diesem Aufbau Laserpulse, die im Subnanosekundenbereich liegen (meh­ rere hundert Pikosekunden), andererseits fällt der zeitliche Jitter auf unter eine Nanosekunde, d. h. in 90% aller Fälle variiert die Zeitspanne zwischen elektrischem Triggerimpuls und Laserimpuls um weniger als eine Nanosekunde.The very fast stimulation now has two decisive advantages. On the one hand achieved one with this structure laser pulses, which are in the subnanosecond range (meh second hundred picoseconds), on the other hand, the temporal jitter drops below one Nanosecond, d. H. In 90% of all cases, the time interval varies between electrical Trigger pulse and laser pulse less than a nanosecond.

Wegen des relativ geringen Elektrodenabstandes kann der Laser mit einem hohen Stickstoffdruck von etwa einem bar betrieben werden. Der hohe Druck und die klei­ nen geometrischen Abmessungen führen dazu, daß Repetitionsraten von mehreren hundert Hertz erreicht werden können, ohne die Energie pro Puls merklich herab­ zusetzen, und vor allem ohne den Laser bei ständigem Gasdurchsatz zu betreiben.Because of the relatively small electrode spacing, the laser can with a high Nitrogen pressure of about one bar are operated. The high pressure and the clothes geometric dimensions mean that repetition rates of several one hundred hertz can be achieved without the energy per pulse being noticeably lower enforce, and in particular without the laser to operate at a constant gas flow rate.

Abb. 1 zeigt eine Realisation des beschriebenen Stickstofflasers. Der Laserkopf 1 ist in einem gasdichten Gehäuse 2 montiert, welches mit Stickstoff gefüllt ist. Durch ein Fenster 3 wird der Laserstrahl selbst aus dem Resonator ausgekoppelt. Letzterer kann aus dem Fenster 3 und einem entweder planen oder konkaven Spiegel bestehen. In der Schnittzeichnung, Abb. 2, sind die wesentlichen Komponenten des Laser­ kopfes 1 zu sehen. Die Bandleiter werden aus den massiven Elektroden 4, der Masseplatte 5 und einem dazwischenliegendem Dielektrikum 6 gebildet. Elektro­ den 4 und Masseplatte 5 sollten aus einem Metall mit möglichst hoher Leitfähigkeit gefertigt sein (z. B.: Kupfer, Messing, etc.). Das Dielektrikum 6 dagegen muß ein Isolator mit großer Durchbruchsfeldstärke sein (z. B.: Kapton, Mylar, Keramik). Die Halteplatte 7 dient dazu, den Aufbau mechanisch zu stabilisieren. In der Masse­ platte 5 ist der Schalter 8, eine triggerbare und auf die jeweilige Ladespannung einstellbare Funkenstrecke, integriert. Die Triggerung des Schalters erfolgt über einen kurzen, schnellen Hochspannungsimpuls, dessen Spitzenwert vorzugsweise der Ladespannung entsprechen sollte. Es besteht allerdings auch die Möglichkeit die Funkenstrecke im Selbstdurchbruch zu betreiben. Das Elektrodenprofil 10 des Entla­ dungskanals ist so gestaltet, daß eine Oberflächenentladung über das Dielektrikum 6 unterbunden wird, trotzdem aber ein Impedanzsprung weitgehend vermieden wird. Das Blockschaltbild in Abb. 3 zeigt das elektrische Ersatzschaltbild des Lasers, wel­ ches einer einfachen Blumleinschaltung entspricht. Die Punkte A und B werden mittels eines Hochspannungsnetzgerätes auf zwischen 4 und 7 kV aufgeladen. Die Netzgerätdimensionen müssen dabei so gewählt werden, daß es bei der gewünschten maximalen Repetitionsrate des Lasers, den notwendigen Ladestrom zur Verfügung stellt. Fig. 1 shows a realization of the described nitrogen laser. The laser head 1 is mounted in a gas-tight housing 2 , which is filled with nitrogen. Through a window 3 , the laser beam itself is coupled out of the resonator. The latter may consist of the window 3 and either a plane or a concave mirror. In the sectional drawing, Fig. 2, the essential components of the laser head 1 can be seen. The band conductors are formed of the solid electrodes 4 , the ground plate 5 and an intervening dielectric 6 . Electro- 4 and ground plate 5 should be made of a metal with the highest possible conductivity (eg: copper, brass, etc.). On the other hand, the dielectric 6 must be an insulator with a high breakdown field strength (eg Kapton, Mylar, ceramics). The holding plate 7 serves to mechanically stabilize the structure. In the mass plate 5 , the switch 8 , a triggerable and adjustable to the respective charging voltage spark gap, integrated. The triggering of the switch via a short, fast high-voltage pulse whose peak value should preferably correspond to the charging voltage. However, there is also the possibility to operate the spark gap in self-breakdown. The electrode profile 10 of the discharge duct is designed in such a way that a surface discharge via the dielectric 6 is prevented, but nevertheless an impedance discontinuity is largely avoided. The block diagram in Fig. 3 shows the electrical equivalent circuit diagram of the laser wel Ches corresponds to a simple Blumleinschaltung. The points A and B are charged by means of a high voltage power supply to between 4 and 7 kV. The power supply unit dimensions must be chosen so that it provides the necessary charging current at the desired maximum repetition rate of the laser.

In der folgenden Tabelle sind die typischen Daten eines bevorzugten Ausführungs­ beispiels zusammengestellt.In the following table, the typical data of a preferred embodiment compiled example.

Kanallänge|8 cmChannel length | 8 cm Elektrodenabstandelectrode distance 0.8 mm0.8 mm Angeregtes VolumenExcited volume 0.04 cm²0.04 cm² Gesamtkapazitättotal capacity 1 nF1 nF Ladespannungcharging voltage 6.5 kV6.5 kV Dielektrikumdielectric 50 µm Kaptonfolie (TMDu Pont)50 μm Kapton foil ( TM Du Pont) Gasdurchflußgas flow nein (Puffervolumen)no (buffer volume)

Pulsdauer|300 psPulse duration | 300 ps Pulsenergiepulse energy 11 µJ11 μJ Wellenlängewavelength 337.1 nm337.1 nm Linienbreitelinewidth 0.1 nm0.1 nm Strahldimensionbeam dimension 0.5 × 0.6 mm²0.5 × 0.6 mm² Fokus (f=40 mm)Focus (f = 40 mm) 20 × 140 µm²20 × 140 μm 2 max. EnergiedichteMax. energy density 460 mJ/cm²460 mJ / cm² Strahldivergenzbeam divergence 4 × 8 mrad4 × 8 mrad Jitterjitter ±1 ns± 1 ns max. RepetitionsrateMax. repetition 350 Hz350 Hz mittlere Leistungaverage power 4 mW4 mW Wirkungsgradefficiency 0.05%0.05% GasaustauschintervallGas Exchange interval <10⁵ Schuß<10⁵ shot

Claims (2)

1. Gasentladung zur Erzeugung von Subnanosekundenimpulsen und einem zeitlichen Jitter von wenigen Nanosekunden, dadurch gekennzeichnet, daß in einen niederin­ duktiven Bandleiter in dessen untere oder obere Elektrode der Gasentladungskanal eingearbeitet und in dessen linkem oder rechtem Ende eine triggerbare Funkenstrecke integriert ist.1. gas discharge for the generation of subnanosecond pulses and a temporal jitter of a few nanoseconds, characterized in that incorporated in a niederin ductile strip conductor in the lower or upper electrode of the gas discharge channel and in the left or right end a triggerable spark gap is integrated. 2. Stickstofflaser, welche die unter Anspruch 1 beschriebene Gasentladung benutzen und bei einem Betriebsdruck von vorzugsweise einem bar bis zu Repetitionsraten von mehreren hundert Hertz betrieben werden können.2. nitrogen laser, which use the gas discharge described in claim 1 and at an operating pressure of preferably one bar up to repetition rates can be operated by several hundred hertz.
DE19944408041 1994-03-10 1994-03-10 Sub-nanosecond nitrogen laser Withdrawn DE4408041A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19944408041 DE4408041A1 (en) 1994-03-10 1994-03-10 Sub-nanosecond nitrogen laser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19944408041 DE4408041A1 (en) 1994-03-10 1994-03-10 Sub-nanosecond nitrogen laser

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE4408041A1 true DE4408041A1 (en) 1995-09-14

Family

ID=6512387

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19944408041 Withdrawn DE4408041A1 (en) 1994-03-10 1994-03-10 Sub-nanosecond nitrogen laser

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4408041A1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10024463A1 (en) * 2000-05-18 2001-11-29 Ltb Lasertechnik In Berlin Gmb Charging pulsed gas lasers, involves applying potential difference controllable in time and amplitude to laser channel electrodes pre-ionization is achieved directly in laser channel
DE102005024931B3 (en) * 2005-05-23 2007-01-11 Ltb-Lasertechnik Gmbh Transversely electrically excited gas discharge laser for generating light pulses with a high pulse repetition frequency and method for the production
DE102011017140A1 (en) 2011-04-13 2012-10-18 Werner Schramm Arrangement for generating nitrogen laser pulse, used in spectroscopic application, has rounded electrodes provided in discharge area so that high voltage pulses are advanced to electrodes through ribbon conductor for excitation of laser

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2008846A (en) * 1977-11-25 1979-06-06 South African Inventions An apparatus and method for generating a glow discharge
FR2489050A1 (en) * 1980-08-20 1982-02-26 Comp Generale Electricite Compact short impulse capacitor discharge gas laser - has nitrogen filled optical cavity inside barium titanate block walls forming capacitors with coplanar electrodes coupled inductively
US4365337A (en) * 1979-08-13 1982-12-21 Kraftwerk Union Aktiengesellschaft Excitation system for a fast pulsed discharge

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2008846A (en) * 1977-11-25 1979-06-06 South African Inventions An apparatus and method for generating a glow discharge
US4365337A (en) * 1979-08-13 1982-12-21 Kraftwerk Union Aktiengesellschaft Excitation system for a fast pulsed discharge
FR2489050A1 (en) * 1980-08-20 1982-02-26 Comp Generale Electricite Compact short impulse capacitor discharge gas laser - has nitrogen filled optical cavity inside barium titanate block walls forming capacitors with coplanar electrodes coupled inductively

Non-Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ABOITES,V.: High-Efficiency Low-Pressure Blumlein Nitrogen Laser. In: IEEE Journal of Quantum Electronics. Vol.29, No. 8, Aug. 1993, S.2364-2370 *
BAUMANN,Wolfram: A small rugged nitrogen laser for instrumentation. In: Rev.Sci.Instrum.64(1),Jan.1993,S.63-70 *
BEN *
et.al.: A compact nitrogen laser for long-term stable operation. In: Meas. Sci. Tech- nol. 3, 1992, S.1198-1203 *
et.al.: A four-channel TEA N¶2¶laser controlled by a multistage spark gap. In: Meas. Sci. Technol.4, 1993, S.513-516 *
KOZMA,L.: The Role of Excitation *
KUKHLEVSKY,S.V. *
LANGHOFF,H.: A High Power N¶2¶ Laser Using Water Filled Strip Lines. In: Appl. Phys. B54, 1992, S.100,101 *
MARTINEZ,Vazquez,A. *
METZNER,J. *
NEUKUM,J. *
Otman A.: Distributed para- meter analysis of a Blumlein-line N¶2¶laser. In: Optics Communications 99, 1993, S.405-412 *
RODRIGUES,Silvana,V. *
TOU,T.Y. *
TWATI,Mohamed O. *

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10024463A1 (en) * 2000-05-18 2001-11-29 Ltb Lasertechnik In Berlin Gmb Charging pulsed gas lasers, involves applying potential difference controllable in time and amplitude to laser channel electrodes pre-ionization is achieved directly in laser channel
DE102005024931B3 (en) * 2005-05-23 2007-01-11 Ltb-Lasertechnik Gmbh Transversely electrically excited gas discharge laser for generating light pulses with a high pulse repetition frequency and method for the production
US7672354B2 (en) 2005-05-23 2010-03-02 Ltb-Lasertechnik Berlin Gmbh Electrically excited gas discharge laser for generating high-repetition frequency light pulses and method for the production thereof
DE102011017140A1 (en) 2011-04-13 2012-10-18 Werner Schramm Arrangement for generating nitrogen laser pulse, used in spectroscopic application, has rounded electrodes provided in discharge area so that high voltage pulses are advanced to electrodes through ribbon conductor for excitation of laser

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4108474C2 (en)
EP0024576B1 (en) Apparatus producing fast pulsed discharges in a laser, particularly for high-energy lasers
US4401920A (en) Laser triggered high voltage rail gap switch
DE4426723A1 (en) Sliding discharge preionization for gas lasers
US4490651A (en) Laser triggered high voltage rail gap switch
DE102005024931B3 (en) Transversely electrically excited gas discharge laser for generating light pulses with a high pulse repetition frequency and method for the production
DE2811198A1 (en) GAS LASER WITH PULSED ELECTRIC DISCHARGE USING BLUMLEIN TRANSMISSION WITH WATER AS DIELECTRIC
DE3544862A1 (en) INTEGRATED LASER DEVICE FOR PULSE GAS LASER
EP0411022A1 (en) Device and process for generating high-output, high-voltage pulses, in particular for partial-discharge gas lasers
EP0590346A1 (en) Diffusion cooled CO2-slab laser with reduced ignition tension
DE19950601A1 (en) Pre-ionization device for gas laser
DE4105053A1 (en) PRE-PRESENTIZED, TRANSVERSE EXCITED LASER
DE3118868A1 (en) &#34;DEVICE FOR GENERATING LASER RADIATION&#34;
US4797888A (en) Circuit for the preionization and main discharge of a pulsed gas laser
US4975921A (en) Integrated prepulse circuits for efficient excitation of gas lasers
DE3706981A1 (en) DEVICE AND METHOD FOR UNIFORMED IONIZING GAS-SHAPED MEDIA UNDER HIGH PRESSURE
DE4408041A1 (en) Sub-nanosecond nitrogen laser
Cohn et al. HF laser excited by a capacitively coupled discharge
DE2728517A1 (en) GAS PULSE LASER WITH TRANSVERSAL ELECTRICAL EXCITATION
DE2953233C2 (en)
DE2135109B2 (en) Gas laser
US4663568A (en) Multichannel or spark gap switch triggered by saturable inductor induced voltage pulse
Pacala et al. Control of XeF laser output by pulse injecton
Cirkel et al. A new type of pulse forming network of low inductance and large energy storage density
DE4112456A1 (en) Discharge arrangement for high pressure pulsed gas laser - incorporates larger storage capacitors and smaller peaking capacitors for decoupling of spark gaps in pre-ionisation regions

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8122 Nonbinding interest in granting licences declared
8139 Disposal/non-payment of the annual fee