DE4330279A1 - Presensitised lithographic printing with minimised edge peel plate - has silicone rubber layer obtd. from mixt. of alkenyl-substd. polysiloxane(s) with different mol.wt. cured with hydrido-polysiloxane - Google Patents

Presensitised lithographic printing with minimised edge peel plate - has silicone rubber layer obtd. from mixt. of alkenyl-substd. polysiloxane(s) with different mol.wt. cured with hydrido-polysiloxane

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Yuji Tanaka
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Abstract

PS dry lithographic printing plate has a substrate with light-sensitive coat (I) covered by a silicone rubber layer (II), obtd. by addn. cure of: (a) a basic polymer mixt. of 50-95 (wt.)% polysiloxane (IIIA) and 5-50% polysiloxane (IIIB) contg. at least 2 Si-bound alkenyl gps./ml. and gps. of the formula -(Si(R1)(R2)-O)k (III) and (b) a hydridopolysiloxane of the formula R1-Si(R4)2-O-(SiH(R4)-O)m-(Si(R4)2-O)n-Si)R4)2-R3 (IV) (where R1-2 are at least 70% Me, rest (ar)alkyl, aryl, vinyl or halohydrocarbyl; k is 100-500 in (IIIA) and k is 700-10000 in (IIIB); R3 is H or Me; R4 is at least 70% Me, rest (ar)alkyl, aryl or vinyl; and m + n is 4-100 and n/m is 0-1). The (IIIA):(IIIB) ratio is 70:30 to 90:10; and the amt. of (IV) 4-15 equiv. Si-H gps./equiv. unsatd. C-C gps. in (III). (II) pref. also contains a siloxane of the formula (R5)3-SiO-(Si(R5)2-O)p-(Si(R6)(R7)-O)q-Si(R5)3 (V) where R5 is 1-4C alkyl; R6-7 are a substd.) aromatic gp. or one of R6-7 = (substd.) alkyl; p/q is 99/1 to 10/90). (II) has a thickness of 0.5-5 g/m2. It has a protective coating produced by laminating with a transparent, opt. oriented and/or matted polyethylene, polypropylene, PVC, PVDC, PVA, PET or 'Cellophane' (RTM) film or by coating with one of these polymers. (I) contains a monomer, oligomer or macromonomer with photopolymerisable ethylenically unsatd. gp(s)., a film-forming polymer and photopolymerisation initiator. ADVANTAGE - (II) does not peel off as a result of loss of sensitivity caused by pressure changes at the edge of the original film during evacuation. The plate has good resistance to background soiling during printing and gives large editions.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Platte für die Verwendung zur Herstellung einer lithogra­ phischen Druckplatte, die kein Anfeuchtungswasser benö­ tigt, die umfaßt ein Substrat, auf dem in der genannten Reihenfolge vorgesehen sind eine lichtempfindliche Schicht und eine Siliconkautschukschicht, bei der im wesentlichen keine Ablösung der Siliconkautschukschicht in Bereichen, die Randabschnitten eines Originaltransparenzfilms entsprechen, auftritt als Folge einer Herabsetzung der Empfindlichkeit durch Druckänderungen an den Randabschnitten eines Origi­ nalfilms während der bildmäßigen Belichtung, was zu einer ungenügenden Belichtung führt, und die eine deutliche ver­ besserte Beständigkeit gegen Hintergrundkontamination (Hintergrundverschmutzung) während des Druckens und eine deutlich verbesserte Druckhaltbarkeit aufweist.The present invention relates to a presensitized Plate for use to make a lithogra phical pressure plate, which benö no moistening water which comprises a substrate on which in said Sequence provided are a photosensitive layer and a silicone rubber layer in which substantially no detachment of the silicone rubber layer in areas correspond to the margins of an original transparency film,  occurs as a result of a reduction in sensitivity by pressure changes on the margins of an origi nalfilms during the imagewise exposure, resulting in a insufficient exposure leads, and a significant ver improved resistance to background contamination (Background contamination) during printing and one has significantly improved print durability.

Es sind bereits verschiedene Arten von vorsensibilisierten Platten vorgeschlagen worden für die Verwendung zur Her­ stellung von lithographischen Druckplatten, die kein An­ feuchtungswasser benötigen, welche die praktische Durch­ führung von lithographischen Druckarbeitsgängen ohne Ver­ wendung von irgendwelchem Anfeuchtungswasser erlauben (nachstehend als "trockene PS-Platten" bezeichnet, und die durch Behandlung der trockenen PS-Platte hergestellte li­ thographische Druckplatte, die kein Anfeuchtungswasser benötigt, wird nachstehend als "trockene lithographische Druckplatte" bezeichnet). Unter diesen sind trockene PS- Platten, die jeweils aufweisen ein Substrat, auf dem in der genannten Reihenfolge, vorgesehen sind eine Primer- Schicht, eine lichtempfindliche Schicht und eine Silicon­ kautschukschicht, bevorzugt wegen ihrer ausgezeichneten Qualität und spezifische Beispiele dafür sind bei­ spielsweise in den japanischen Patentpublikationen für Op­ positionszwecke (nachstehend als "JP Kokoku" bezeichnet) Nr. Sho 54-26 923 (entsprechend dem US-Patent 3 894 873), Sho 55-22 781 (entsprechend dem britischen Patent 1 419 643) und Sho 56-23 150 und in der ungeprüften japanischen Patentpublikation (nachstehend als "JP Kokai" bezeichnet) Nr. Hei 2-236550 beschrieben.There are already different types of presensitized Plates have been proposed for use with Her position of lithographic printing plates which are not An need dampening water, the practical through management of lithographic printing operations without Ver allow use of any moistening water (hereinafter referred to as "dry PS plates", and the prepared by treating the dry PS plate thographic printing plate that does not dampen water is required hereinafter as "dry lithographic Pressure plate "). Among these are dry PS Plates each having a substrate on which in in the order mentioned, a primer is provided Layer, a photosensitive layer and a silicone rubber layer, preferred because of their excellent Quality and specific examples are included For example, in the Japanese patent publications for Op positioning purposes (hereinafter referred to as "JP Kokoku") No. Sho 54-26 923 (corresponding to U.S. Patent 3,894,873), Sho 55-22 781 (corresponding to British Patent 1,419 643) and Sho 56-23 150 and in the unaudited Japanese Patent Publication (hereinafter referred to as "JP Kokai") No. Hei 2-236550.

Als Siliconkautschukschicht werden in diesen trockenen PS- Platten derzeit solche verwendet, die erhalten werden durch partielle Vernetzung von Polymeren, die Polysiloxan- Reste als Haupt-Grundgerüst enthalten, mit Vernetzungsmit­ teln. Bisher wurden die nachstehend angegebenen beiden Verfahren zum Härten der Siliconkautschukschicht angewen­ det:As the silicone rubber layer, in these dry PS Plates currently uses those that are obtained by partial crosslinking of polymers containing polysiloxane Containing residues as the main backbone, with crosslinking stuffs. So far, the two indicated below  Method for curing the silicone rubber layer angewen det:

  • 1) kondensierte Siliconkautschukschicht: ein Polysiloxan mit Hydroxylgruppen an beiden Enden wird vernetzt mit ei­ nem Silan oder einem Siloxan, das eine direkt an ein Sili­ ciumatom desselben gebundene hydrolysierbare funktionelle Gruppe trägt, unter Bildung eines Siliconkautschuks;1) condensed silicone rubber layer: a polysiloxane with hydroxyl groups at both ends is cross-linked with ei a silane or a siloxane that is directly attached to a sili ciumatom of the same bound hydrolyzable functional Group wears to form a silicone rubber;
  • 2) Siliconkautschukschicht vom Additions-Typ: ein Polysi­ loxan mit ≡Si-H-Gruppen und ein Polysiloxan mit -CH=CH- Gruppen werden einer Additionsreaktion unterworfen unter Bildung eines Siliconkautschuks (vgl. z. B. JP KOKAI Nr. Sho 61-73 156 und Hei 3-161 753).2) Addition type silicone rubber layer: a polysi loxan with ≡Si-H groups and a polysiloxane with -CH = CH- Groups are subjected to an addition reaction Formation of a silicone rubber (cf., for example, JP KOKAI no. Sho 61-73 156 and Hei 3-161 753).

Der kondensierte Siliconkautschuk (1) verursacht Änderun­ gen seiner Aushärtungseigenschaften und seiner Haftung an einer lichtempfindlichen Schicht je nach Feuchtigkeitsge­ halt der Atmosphäre während des Aushärtens, und bei ihm tritt daher das Problem auf, daß dann, wenn er zur Her­ stellung einer trockenen PS-Platte verwendet wird, die Empfindlichkeit derselben leicht variiert und ihre stabile Produktion sehr schwierig ist. Aus diesem Grunde wird der Siliconkautschuk (2) vom Additions-Typ als besser angese­ hen, da er diese Nachteile nicht aufweist.The condensed silicone rubber (1) causes changes conditions of its curing properties and its adhesion a photosensitive layer depending on the amount of moisture Keep the atmosphere during curing, and with him Therefore, the problem arises that when he to Her Position of a dry PS plate is used, the Sensitivity thereof varies slightly and their stable Production is very difficult. For this reason, the An addition-type silicone rubber (2) is considered to be better hen, because he does not have these disadvantages.

Wenn ein Siliconkautschuk vom Additions-Typ verwendet wird, sollte jedoch die trockene PS-Platte gleichzeitig den Anforderungen in bezug auf eine hohe Beständigkeit ge­ gen Hintergrundkontamination (Hintergrundverschmutzung) während des Druckens bzw. Vervielfältigens (unter dem Aus­ druck "Hintergrundkontamination bzw. Hintergrundverschmut­ zung" ist zu verstehen, daß eine geringe Menge der verwen­ deten Druckfarbe an dem bildfreien Bereich einer lithogra­ phischen Druckplatte haftet und so eine Kontamination (Verschmutzung) der resultierenden Kopien hervorruft) und in bezug auf eine hohe Druckhaltbarkeit genügen. Das heißt mit anderen Worten, die Beständigkeit gegen Hintergrund­ kontamination und die Druckhaltbarkeit einer trockenen lithographischen Druckplatte stehen im Gegensatz zueinan­ der. Wenn der Grad der Aushärtung des Siliconkautschuks vom Additions-Typ übermäßig erhöht wird, wird insbesondere die Druckhaltbarkeit der resultierenden trockenen litho­ graphischen Druckplatte verbessert, die Beständigkeit ge­ gen Hintergrundkontamination derselben wird dadurch jedoch in nachteiliger Weise beeinflußt, während dann, wenn der Grad der Aushärtung des Siliconkautschuks übermäßig herab­ gesetzt wird, die Beständigkeit gegen Hintergrundkontami­ nation der resultierenden trockenen lithographischen Druckplatte verbessert wird, ihre Druckhaltbarkeit jedoch beeinträchtigt (verschlechtert) wird. Es ist daher seit langem erwünscht, eine trockene PS-Platte zu entwickeln, die gleichzeitig diesen beiden einander widersprechenden Eigenschaften genügt.When an addition type silicone rubber is used but should dry the PS plate at the same time the requirements for a high resistance ge gene background contamination (background contamination) during printing or copying (under the Off print "Background contamination or background pollution tion "is to be understood that a small amount of the verwen Dye ink on the non-image area of a lithograph Phisic pressure plate adheres and so contamination (Pollution) causes the resulting copies) and with respect to a high pressure durability suffice. This means  in other words, the resistance to background Contamination and print durability of a dry lithographic printing plate are in contrast to each other the. When the degree of cure of the silicone rubber In particular, the addition type is excessively increased the print durability of the resulting dry litho graphic printing plate improved, the resistance ge However background contamination of the same is thereby detrimentally affected, while then when the Degree of curing of the silicone rubber excessively low is set, the resistance against background Kontami nation of the resulting dry lithographic Pressure plate is improved, but their print durability impaired (worsened). It is therefore since then long desired to develop a dry PS plate, at the same time these two contradictory Properties are enough.

Andererseits wird üblicherweise die Evakuierungstechnik angewendet, um die Haftung eines Originalfilms an einer trocknen PS-Platte während der bildmäßigen Belichtung zu verbessern zum Zwecke der Verhinderung der "Bildung eines unscharfen Bildes". Im allgemeinen wird eine weiche Sili­ conkautschukschicht in einer trockenen PS-Platte verwen­ det. Aus diesem Grunde werden die Randabschnitte eines Originalfilms verformt als Folge der während der bildmäßi­ gen Belichtung durchgeführten Evakuierung, und die Empfindlichkeit an den Randabschnitten wird deutlich her­ abgesetzt oder die Randabschnitte der trockenen PS-Platte werden unvollständig belichtet. Als Folge davon löst sich die Siliconkautschukschicht während der Entwicklung der PS-Platte ab und infolgedessen dienen die Randabschnitte derselben als Bildabschnitte während der Druckarbeits­ gänge. Dieses Problem wurde gelöst durch Erhöhung der Lichtmenge für die Belichtung, um eine ausreichende Belich­ tung der Randabschnitte zu gewährleisten oder durch Aus­ löschung dieser Teile mit einer Auslöschungslösung. Diese Verfahren sind jedoch als Plattenherstellungsverfahren un­ wirksam und es war daher erwünscht, ein verbessertes Ver­ fahren zu entwickeln, mit dessen Hilfe diese Nachteile eliminiert werden können.On the other hand, usually the evacuation technique applied to the adhesion of an original film to a Dry PS plate during imagewise exposure improve for the purpose of preventing the "formation of a blurred image. "In general, a soft sili use a rubber layer in a dry PS plate det. For this reason, the edge sections of a Original film deformed as a result of during bildmalsi Gen Exposure carried out evacuation, and the Sensitivity at the edge sections becomes clear deposited or the edge portions of the dry PS plate are exposed incompletely. As a result, it dissolves the silicone rubber layer during the development of the PS plate and as a result serve the edge sections same as image sections during the print job transitions. This problem has been solved by increasing the Amount of light for the exposure, to ensure adequate exposure tion of the edge sections to ensure or by Off deleting these parts with an extinguishing solution. These  However, methods are known as plate-making method effective and it was therefore desirable to have an improved Ver drive to develop, with the help of these disadvantages can be eliminated.

Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine trockene PS-Platte zu schaffen, die frei von einer Ablö­ sung der Siliconkautschukschicht als Folge der Herabset­ zung der Empfindlichkeit durch Druckänderungen an den Randabschnitten eines Originalfilms während der Evakuie­ rung ist und eine trockene lithographischen Druckplatte mit einer guten Beständigkeit gegen Hintergrundkontamina­ tion während des Druckens und einer ausgezeichneten Druck­ haltbarkeit ergeben kann.An object of the present invention is therefore to provide a to create dry PS plate, free of a Ablö solution of the silicone rubber layer as a result of the reduction Sensitivity due to pressure changes to the Edge sections of an original film during the evacuation tion and a dry lithographic printing plate with a good resistance to background contamination tion during printing and excellent printing durability can result.

Das obengenannte Ziel der Erfindung kann erreicht werden mit einer verbesserten trockenen PS-Platte, die umfaßt ein Substrat, auf dem in der genannten Reihenfolge vorgesehen sind eine lichtempfindliche Schicht und eine Silicon­ kautschukschicht, wobei die Siliconkautschukschicht herge­ stellt wird durch Vernetzung der folgenden Komponenten (a) und (b) durch eine Additionsreaktion:The above object of the invention can be achieved with an improved dry PS plate, which includes Substrate, provided on the in the order mentioned are a photosensitive layer and a silicone rubber layer, wherein the silicone rubber layer Herge is prepared by crosslinking the following components (a) and (b) by an addition reaction:

  • a) eine Mischung von Polysiloxanen (Basisschichten), die jeweils in ihrem Molekül mindestens zwei direkt an Silici­ umatome gebundene Alkenylgruppen und Gruppen der Formel -(Si(R1)(R2)-O)k- aufweisen (worin R1 und R2 jeweils für eine Alkyl-, Aryl-, Aralkyl-, Vinyl- oder halogenierte Kohlenwasserstoffgruppe stehen, mit der Maßgabe, daß min­ destens 70% dieser Gruppen R1 und R2 Methylgruppen sind), wobei die Mischung umfaßt (i) 50 bis 95 Gew.-% des Polysi­ loxans mit einer durchschnittlichen Anzahl k der wieder­ kehrenden Einheiten innerhalb des Bereiches von 100 bis 500 und (ii) 5 bis 50 Gew.-% des Polysiloxans, dessen durchschnittliche Anzahl k der wiederkehrenden Einheiten in dem Bereich von 700 bis 10 000 liegt (die Summe von (i) + (ii) entspricht 100 Gew.-%) und a) a mixture of polysiloxanes (base layers), each having in its molecule at least two directly to silicon umatome bound alkenyl groups and groups of the formula - (Si (R 1 ) (R 2 ) -O) k - (wherein R 1 and R 2 each represent an alkyl, aryl, aralkyl, vinyl or halogenated hydrocarbon group, with the proviso that at least 70% of these groups R 1 and R 2 are methyl groups), the mixture comprising (i) 50 to 95 % By weight of the polysiloxane having an average number k of recurring units within the range of 100 to 500 and (ii) 5 to 50% by weight of the polysiloxane whose average number k of repeating units is in the range of 700 to 10,000 (the sum of (i) + (ii) equals 100% by weight) and
  • b) ein Hydrogenpolysiloxan der folgenden allgemeinen For­ mel: R³-Si(R⁴)₂-O-(SiH(R⁴)-O)m-(Si(R⁴)₂-O)n-Si(R⁴)₂-R³ (I)(worin R3 für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe steht; R4 für eine Alkyl-, Aryl-, Aralkyl- oder Vinyl­ gruppe steht, mit der Maßgabe, daß eine Vielzahl der Reste R3 oder eine Vielzahl der Reste R4 gleich oder verschieden sein kann und daß mindestens 70% der Reste R4 Methylgrup­ pen sind, und worin m+n für eine Zahl von 4 bis 100 und n/m für eine Zahl von 0 bis 1 stehen).b) a hydrogenpolysiloxane of the following general formula: R³-Si (R⁴) ₂-O- (SiH (R⁴) -O) m - (Si (R⁴) ₂-O) n -Si (R⁴) ₂-R³ (I ) (wherein R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 4 represents an alkyl, aryl, aralkyl or vinyl groups, with the proviso that a plurality of R 3 or a plurality of the radicals R 4 are identical or may be different and that at least 70% of the radicals R 4 are methyl groups, and wherein m + n is a number from 4 to 100 and n / m is a number from 0 to 1).

Wie oben angegeben, kann der Siliconkautschuk vom Additi­ ons-Typ erhalten werden durch Aushärtung durch Reaktion der Alkenylgruppen des Basis-Polymers mit Si-H-Gruppen, die in dem Vernetzungsmittel vorhanden sind. Das obenge­ nannte Ziel der Erfindung wird erreicht durch Verwendung eines Hydrogenpolysiloxans mit einer hohen Rate an in dem Molekül vorhandenen Si-H-Gruppen, welche die Verbesserung des Wirkungsgrades der Aushärtung des Siliconkautschuks und der Festigkeit des resultierenden Silicon­ kautschukfilms erlaubt, und durch Mischen eines Basispoly­ mers mit niedrigem Molekulargewicht als eine Hauptkompo­ nente mit einem Basispolymer mit einem hohen Molekularge­ wicht (obgleich die dreidimensionale Struktur des gehärte­ ten Siliconkautschuks noch nicht aufgeklärt ist), das eine Verbesserung der Druckfarbenabweisung der resultierenden Siliconkautschukschicht erlaubt.As indicated above, the silicone rubber of Additi Ons type can be obtained by curing by reaction the alkenyl groups of the base polymer having Si-H groups, which are present in the crosslinking agent. The top The object of the invention is achieved by use of a hydrogenpolysiloxane at a high rate in the Molecule present Si-H groups which the improvement the efficiency of curing the silicone rubber and the strength of the resulting silicone rubber film, and by mixing a base poly low molecular weight mers as a major compo nenten with a base polymer with a high Molekularge weight (although the three-dimensional structure of the hardened th silicone rubber is not yet cleared), the one Improvement of ink repellency of the resulting Silicone rubber layer allowed.

Die vorliegende Erfindung wird nachstehend näher beschrie­ ben.The present invention will be described below in more detail ben.

Die trockene PS-Platte und die daraus resultierende troc­ kene lithographische Druckplatte müssen so flexibel sein, daß sie auf die übliche Druckerpresse gelegt werden können und gleichzeitig der während des Druckvorganges einwirken­ den Belastung standhalten können. Deshalb gehören zu typi­ schen Beispielen für Substrate, die erfindungsgemäß ver­ wendbar sind, beschichtetes Papier, Metallplatten wie eine Aluminiumplatte, Kunststoffilme wie ein Polyethylen­ terephthalatfilm, Kautschuk und Verbundmaterialien davon. Die Oberfläche des Substrats kann mit einer Primer-Schicht versehen sein zur Verhinderung einer Halation (Lichthof­ bildung) und für andere Zwecke.The dry PS plate and the resulting troc kene lithographic printing plate must be so flexible that they can be placed on the usual printing press  and at the same time acting during the printing process can withstand the load. Therefore belong to typi Examples of substrates according to the invention ver reversible, coated paper, metal plates like one Aluminum plate, plastic films like a polyethylene terephthalate film, rubber and composites thereof. The surface of the substrate may be covered with a primer layer be provided to prevent a halation (halo education) and for other purposes.

Das Substrat kann gegebenenfalls mit einem Silan-Kuppler oberflächenbehandelt werden zur Verbesserung der Haftung zwischen dem Substrat und einer lichtempfindlichen Schicht oder einer Primer-Schicht, die anschließend darauf aufge­ bracht wird, wie in JP KOKAI Nr. Hei 4-3 166 beschrieben.The substrate may optionally contain a silane coupler surface treated to improve adhesion between the substrate and a photosensitive layer or a primer layer, which is subsequently applied to it as described in JP KOKAI No. Hei 4-3166.

Es können verschiedene Arten von Primer-Schichten zur Ver­ besserung der Haftung zwischen einem Substrat und einer lichtempfindlichen Harzschicht zur Verhinderung einer Ha­ lation (Lichthofbildung) und zur Verbesserung des Bild-An­ färbevermögens und der Druckeigenschaften verwendet wer­ den. Zu spezifischen Beispielen dafür gehören solche, wie sie erhalten werden durch Aushärtung einer Vielzahl von lichtempfindlichen Polymeren durch Einwirkung von Licht vor dem Aufbringen einer lichtempfindlichen Harzschicht, wie in JP KOKAI Nr. Sho 60-229 031 beschrieben; solche, die gebildet werden durch Aushärtung von Epoxyharzen durch Er­ hitzen, wie in JP KOKAI Nr. Sho 62-50 760 beschrieben; solche, die erhalten werden durch Härten von Gelatine, wie in JP KOKAI Nr. Sho 63-133 151 (entsprechend US-Patent 4 861 698) beschrieben; solche, die aus Urethanharzen und Silan-Kupplern hergestellt werden, wie in JP KOKAI Nr. Hei 3-200 965 beschrieben, und solche die aus Urethanharzen hergestellt werden, wie in JP KOKAI Nr. Hei 3-273 248 be­ schrieben. Außerdem ist es auch wirksam, solche zu verwen­ den, die durch Härten von Casein erhalten werden. Different types of primer layers can be used for Ver Improvement of the adhesion between a substrate and a photosensitive resin layer for preventing Ha lation (halation) and to improve the image on dyeing and printing properties the. Specific examples include such as they are obtained by curing a variety of photosensitive polymers by the action of light before applying a photosensitive resin layer, as described in JP KOKAI No. Sho 60-229 031; those that be formed by curing of epoxy resins by Er heat as described in JP KOKAI No. Sho 62-50,760; those obtained by curing gelatin, such as in JP KOKAI No. Sho 63-133 151 (corresponding to US Pat 861,698); those made from urethane resins and Silane couplers, as described in JP KOKAI No. Hei 3-200 965, and those made of urethane resins as disclosed in JP KOKAI No. Hei 3-273,248 wrote. Moreover, it is also effective to use such those obtained by hardening casein.  

Die Primer-Zusammensetzung kann, um sie weich zu machen, ein Polymer mit einem Glasumwandlungspunkt von nicht mehr als Raumtemperatur enthalten, z. B. ein Polyurethan, Polya­ mid, Styrol/Butadien-Kautschuk, Carbonsäure-modifizierter Styrol/Butadien-Kautschuk, Acrylnitril/Butadien-Kautschuk, Carbonsäure-modifizierter Acrylnitril/Butadien-Kautschuk, Polyisopren, Acrylat-Kautschuk, Polyethylen oder chlorier­ tes Polyethylen oder Polypropylen. Die Menge desselben ist nicht kritisch, so lange die es enthaltende Zusammenset­ zung eine Filmschicht bilden kann. Alternativ kann die Primer-Schicht auch aus dem obengenannten Polymer allein hergestellt werden.The primer composition may be softened to soften it a polymer with a glass transition point of no more as room temperature, z. As a polyurethane, polya mid, styrene / butadiene rubber, carboxylic acid modified Styrene / butadiene rubber, acrylonitrile / butadiene rubber, Carboxylic acid-modified acrylonitrile / butadiene rubber, Polyisoprene, acrylate rubber, polyethylene or chlorin polyethylene or polypropylene. The amount of it is the same not critical, as long as the composition containing it tion can form a film layer. Alternatively, the Primer layer also from the above polymer alone getting produced.

Die Primer-Zusammensetzung kann weitere Zusätze enthalten, z. B. einen Farbstoff, einen pH-Indikator, ein Agens oder eine Zusammensetzung zur Erzeugung eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach der bildmäßigen Belichtung, einen Photo­ polymerisationsinitiator, ein Hilfsmittel für die Adhäsion (Haftung) (z. B. ein polymerisierbares Monomer, ein Diazo­ harz, ein Silan-Kuppler, ein Titanat-Kuppler oder ein Alu­ minium-Kuppler), ein Pigment und/oder Siliciumdioxid-Pul­ ver, je nach Verwendungszweck. Im allgemeinen liegt die Menge der Primer-Schicht, die auf das Substrat aufgebracht werden soll, zweckmäßig in dem Bereich von 0,1 bis 20 g/m2 und vorzugsweise bei 1 bis 10 g/m2 (gewogen nach dem Trocknen).The primer composition may contain other additives, e.g. A dye, a pH indicator, an agent or composition for forming a visible image immediately after imagewise exposure, a photopolymerization initiator, an adhesion promoter (adhesion) (e.g., a polymerizable monomer, a diazo resin , a silane coupler, a titanate coupler or an aluminum coupler), a pigment and / or silica powder, depending on the purpose. In general, the amount of the primer layer to be applied to the substrate is desirably in the range of 0.1 to 20 g / m 2 and preferably 1 to 10 g / m 2 (weighed after drying).

Die erfindungsgemäß verwendete lichtempfindliche Harz­ schicht kann eine photopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht, eine photovernetzbare lichtempfindliche Schicht oder eine lichtempfindliche Schicht sein, die ein Diazo­ harz und ein Bindemittelharz enthält.The photosensitive resin used in the present invention Layer can be a photopolymerizable photosensitive Layer, a photocrosslinkable photosensitive layer or a photosensitive layer containing a diazo resin and a binder resin.

Die photopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht ent­ hält mindestens (1) ein Monomer, Oligomer oder Makromono­ mer, das mindestens eine photopolymerisierbare, ethyle­ nisch ungesättigte Gruppe trägt; (2) eine polymere Verbin­ dung mit einem Filmbildungsvermögen; und (3) einen Photo­ polymerisationsinitiator.The photopolymerizable photosensitive layer ent holds at least (1) a monomer, oligomer or macromono that at least one photopolymerizable, ethyle nically unsaturated group bears; (2) a polymeric compound  with a film-forming ability; and (3) a photograph polymerization initiator.

Komponente (1): Monomer. Oligomer oder Makromonomer, das mindestens eine photopolymerisierbare ethylenisch unge­ sättigte Gruppe trägtComponent (1): monomer. Oligomer or macromonomer, the at least one photopolymerizable ethylenic unge saturated group wears

Die erfindungsgemäß verwendete photopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht umfaßt bzw. enthält mindestens ein Monomer, Oligomer oder Makromonomer, das mindestens eine photopolymerisierbare, ethylenisch ungesättigte Gruppe im Molekül trägt. Zu Beispielen für das obenge­ nannte Monomer, Oligomer oder Makromonomer, das erfin­ dungsgemäß verwendbar ist, gehören die nachstehend aufge­ zählten Verbindungen:The photopolymerizable used in the invention photosensitive layer comprises or contains at least a monomer, oligomer or macromonomer that is at least a photopolymerizable, ethylenically unsaturated Group in molecule carries. Examples of the above called monomer, oligomer, or macromonomer that invented Usable according to the invention, the following are listed below counted connections:

  • A) (Meth)Acrylate von Alkoholen, wie Ethanol, Propanol, Hexanol, 2-Ethylhexanol, Cyclohexanol, Glycerin, Hexan­ diol, Trimethylolpropan, Pentaerythrit, Sorbit, Tri­ ethylenglycol, Polyethylenglycol und Polypropylenglycol;A) (meth) acrylates of alcohols, such as ethanol, propanol, Hexanol, 2-ethylhexanol, cyclohexanol, glycerol, hexane diol, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol, tri ethylene glycol, polyethylene glycol and polypropylene glycol;
  • B) Reaktionsprodukte von Aminen (wie Ethylamin, Butylamin, Benzylamin, Ethylendiamin, Hexamethylendiamin, Diethylen­ triamin, Xylylendiamin, Ethanolamin und Anilin) mit Glyci­ dyl(meth)acrylat oder Allylglycidyl;B) reaction products of amines (such as ethylamine, butylamine, Benzylamine, ethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylene triamine, xylylenediamine, ethanolamine and aniline) with glycine dyl (meth) acrylate or allylglycidyl;
  • C) Reaktionsprodukte von Carbonsäuren (wie Essigsäure, Propionsäure, Benzoesäure, (Meth)Acrylsäure, Bernstein­ säure, Maleinsäure, Phthalsäure, Weinsäure und Citronen­ säure) mit Glycidyl(meth)acrylat oder Allylglycidyl; undC) reaction products of carboxylic acids (such as acetic acid, Propionic acid, benzoic acid, (meth) acrylic acid, amber acid, maleic acid, phthalic acid, tartaric acid and citrons acid) with glycidyl (meth) acrylate or allylglycidyl; and
  • D) Amidderivate (z. B. Acrylamid, N-Methylolacrylamid, t- Butylacrylamid, Methylenbisacrylamid und Diaceto­ nacrylamid).D) amide derivatives (eg acrylamide, N-methylolacrylamide, t-butyl) Butylacrylamide, methylenebisacrylamide and diaceto nacrylamid).

Zu Beispielen für diese Monomeren, Oligomeren und Makro­ monomeren gehören ferner Urethanacrylate, z. B. solche, wie sie in JP Kokoku Nr. Sho 48-41 708 und Sho 50-6 034 und in JP-KOKAI Nr. Sho 51-37 193 beschrieben sind; Poly­ esteracrylate, z. B. solche, wie sie in JP-KOKAI Nr. Sho 48-64 183 und JP Kokoku Nr. Sho 49-43191 und Sho 52-30 490 beschrieben sind; polyfunktionelle (Meth)Acrylate, z . B. Epoxyacrylate, die durch Reaktionen von Epoxyharzen mit (Meth)Acrylsäure erhalten werden; N-Methylolacrylamidderi­ vate, z. B. solche, wie sie in dem US-Patent 4 540 649 be­ schrieben sind; solche, wie sie im "Bulletin of Adhesives Society of Japan", 1984, Band 20, Nr. 7, S. 300-308, als photohärtbare Monomere und Oligomere beschrieben sind; und Makromonomere, wie sie in P. Dreyfuss und R.P. Quirk in "Encycl. Polym. Sci. Eng.", 1987, 7, Seite 551, in KAGAKU KOGYO (Chemical Industries), 1987, 38, Seite 56, und in KOBUNSHI KAKO (Polymer Processing), 1986, 35, Seite 262, beschrieben sind. Die vorliegende Erfindung ist jedoch nicht auf diese spezifischen Beispiele beschränkt. Die obengenannten polyfunktionellen Monomeren können jeweils gleichzeitig mindestens zwei Gruppen aufweisen, die ausge­ wählt werden aus der Gruppe, die besteht beispielsweise aus Acryl-, Methacryl-, Allyl- und Vinylgruppen. Diese Mo­ nomeren, Oligomeren und Makromonomeren können allein oder in Form einer Kombination verwendet werden. Ihre Menge liegt in dem Bereich von 5 bis 80 Gew.-%, vorzugsweise von 30 bis 70 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfeststoffgehalt der photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht.Examples of these monomers, oligomers and macro monomers also include urethane acrylates, e.g. B. such as  in JP Kokoku Nos. Sho 48-41 708 and Sho 50-6 034 and in JP KOKAI No. Sho 51-37193; poly ester acrylates, e.g. Such as those described in JP KOKAI No. Sho 48-64 183 and JP Kokoku Nos. Sho 49-43191 and Sho 52-30 490 are described; polyfunctional (meth) acrylates, e.g. B. Epoxy acrylates obtained by reactions of epoxy resins with (Meth) acrylic acid are obtained; N-Methylolacrylamidderi father, z. For example, as described in US Pat. No. 4,540,649 are written; such as the "Bulletin of Adhesives Society of Japan, 1984, Vol. 20, No. 7, pp. 300-308, as photohardenable monomers and oligomers are described; and Macromonomers as described in P. Dreyfuss and R.P. Quirk in "Encycl, Polym Sci. Eng.", 1987, 7, p. 551, in KAGAKU KOGYO (Chemical Industries), 1987, 38, page 56, and in KOBUNSHI KAKO (Polymer Processing), 1986, 35, page 262, are described. However, the present invention is not limited to these specific examples. The The above-mentioned polyfunctional monomers may respectively simultaneously have at least two groups out are selected from the group, for example from acrylic, methacrylic, allyl and vinyl groups. This mo monomers, oligomers and macromonomers may be alone or be used in the form of a combination. Your lot is in the range of 5 to 80 wt .-%, preferably from 30 to 70 wt .-%, based on the total solids content the photopolymerizable photosensitive layer.

Komponente (2): Polymere mit einem FilmbildungsvermögenComponent (2): polymers with a film-forming ability

Die erfindungsgemäß verwendete photopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht umfaßt bzw. enthält mindestens ein filmbildendes Polymer. Zu Beispielen für diese film­ bildenden polymeren Verbindungen, die erfindungsgemäß ver­ wendbar sind, gehören Polyesterharze, Vinylchlorid/Vi­ nylacetat-Copolymere, Acrylharze, Polyamidharze, Ep­ oxyharze, (Meth)Acrylat-Copolymere, (Meth)Acrylamid-Copo­ lymere, Polyurethanharze, Vinylacetat-Copolymere, Polysty­ rol, Phenoxyharze, Polyvinylchlorid, saure Cellulosederi­ vate, alkohollösliche Polyamide, (Meth)Acrylsäure-Copoly­ mere, Maleinsäure-Copolymere, Polyvinylalkohol, wasserlös­ liche Polyamide, wasserlösliche Polyurethane, wasserlösli­ che Cellulose und Polyvinylpyrrolidon. Zusätzlich zu den obengenannten polymeren Verbindungen können auch solche verwendet werden, die an den Seitenketten photopolymerisierbare oder photovernetzbare olefinisch un­ gesättigte Doppelbindungen aufweisen. Die vorliegende Er­ findung ist jedoch auf diese spezifischen Beispiele nicht beschränkt. Die Menge der filmbildenden polymeren Verbindung liegt im Bereich von 10-80 Gew.-% und vorzugsweise 25-65 Gew.-% bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung fuhr die photopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht.The photopolymerizable used in the invention photosensitive layer comprises or contains at least a film-forming polymer. Examples of this film forming polymeric compounds ver according to the invention ver include polyester resins, vinyl chloride / Vi nylacetate copolymers, acrylic resins, polyamide resins, Ep oxy resins, (meth) acrylate copolymers, (meth) acrylamide copo polymers, polyurethane resins, vinyl acetate copolymers, polysty  rol, phenoxy resins, polyvinyl chloride, acid cellulose derivatives alkane, alcohol-soluble polyamides, (meth) acrylic acid copoly mers, maleic acid copolymers, polyvinyl alcohol, water-soluble Liche polyamides, water-soluble polyurethanes, wasserlösli cellulose and polyvinylpyrrolidone. In addition to the The above-mentioned polymeric compounds may also be used be used on the side chains photopolymerizable or photocrosslinkable olefinic un have saturated double bonds. The present He However, finding is not specific to these specific examples limited. The amount of the film-forming polymeric compound is in the range of 10-80 wt .-% and preferably 25-65 wt .-% based on the total weight of the composition drove the photopolymerizable photosensitive layer.

Komponente (3): PhotopolymerisationsinitiatorComponent (3): photopolymerization initiator

Zu typischen Beispielen für Photopolymerisationsinitiato­ ren, wie sie in der photopolymerisierbaren lichtempfindli­ chen Schicht der erfindungsgemäßen trockenen PS-Platte verwendet werden, gehören die nachstehend aufgezählten Verbindungen:Typical examples of photopolymerization initiation as described in the photopolymerizable lichtempfindli Chen layer of dry PS plate according to the invention used include those listed below Links:

  • a) Benzophenonderivate, wie Benzophenon, Michlers Ketone, Xanthon, Anthron, Thioxanthon, Acridon, 2-Chloroacridon, 2-Chloro-N-n-butylacridon, 2,4-Diethylthioxanthon und Fluorenon;a) benzophenone derivatives, such as benzophenone, Michler's ketones, Xanthone, anthrone, thioxanthone, acridone, 2-chloroacridone, 2-chloro-N-n-butylacridone, 2,4-diethylthioxanthone and fluorenone;
  • b) Benzoinderivate, wie Benzoin, Benzoinmethylether und Benzoinethyläther;b) benzoin derivatives such as benzoin, benzoin methyl ether and benzoin ethyl ether;
  • c) Chinone, wie p-Benzochinon, β-Naphthochinon und β-Me­ thylanthrachinon;c) Quinones such as p-benzoquinone, β-naphthoquinone and β-Me thylanthrachinon;
  • d) Schwefelatom-haltige Verbindungen, wie Dibenzyldisulfid und Di-n-butyldisulfid;d) sulfur atom-containing compounds, such as dibenzyl disulfide and di-n-butyl disulfide;
  • e) Azo- oder Diazoverbindungen, wie 2-Azobisisobutyroni­ tril, 1-Azo-bis-1-cyclohexancarbonitril, p-Diazoben­ zylethylanilin und Kongorot; e) azo or diazo compounds, such as 2-azobisisobutyroni tril, 1-azo-bis-1-cyclohexanecarbonitrile, p-diazoben cylethylaniline and Congo red;  
  • f) Halogenatom-haltige Verbindungen, wie Tetrabrom­ kohlenstoff, Silberbromid, α-Chloromethylnaphthalin und Verbindungen vom Trihalogenmethyl-s-triazin-Typ; undf) halogen atom-containing compounds, such as tetrabromide carbon, silver bromide, α-chloromethylnaphthalene and Trihalomethyl-s-triazine type compounds; and
  • g) Peroxide wie Benzoylperoxid.g) peroxides such as benzoyl peroxide.

In der lichtempfindlichen Schicht können diese Photopoly­ merisationsinitiatoren allein oder in Kombination verwen­ det werden und die Menge, in der sie in die Schicht einge­ arbeitet werden sollen, liegt in dem Bereich von 0,1 bis 25 Gew.-%, vorzugsweise von 3 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren lichtempfind­ lichen Zusammensetzung.In the photosensitive layer, these photopoly use polymerization initiators alone or in combination and the amount in which they are inserted into the shift to work is in the range of 0.1 to 25 wt .-%, preferably from 3 to 20 wt .-%, based on the total weight of the photopolymerizable photosensitizer composition.

Andere (weitere) KomponentenOther (further) components

Zusätzlich zu den obengenannten Komponenten enthält die photopolymerisierbare lichtempfindliche Zusammensetzung vorzugsweise weitere Zusätze, wie z. B. einen Wärmepolyme­ risationsinhibitor, wie Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di- t-butyl-p-kresol, Pyrogallol, t-Butylbrenzkatechin, Benzo­ chinon, 4,4′-Thiobis-(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2′-Me­ thylenbis-(4-methyl-6-t-butylphenol) und 2-Mercaptobenz­ imidazol und gegebenenfalls ein Pigment oder einen Farb­ stoff zum Anfärben der lichtempfindlichen Harzschicht und/oder einen pH-Indikator oder einen Leuko-Farbstoff als Farbstoff, Pigment oder als Agens oder Zusammensetzung zur Erzielung eines Bildes unmittelbar nach der Belichtung.In addition to the above components, the photopolymerizable photosensitive composition preferably further additives, such as. B. a heat polymer inhibitor, such as hydroquinone, p-methoxyphenol, di- t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylpyrocatechol, benzo quinone, 4,4'-thiobis- (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-Me thylenebis- (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2-mercaptobenz imidazole and optionally a pigment or a color A fabric for dyeing the photosensitive resin layer and / or a pH indicator or a leuco dye as Dye, pigment or as an agent or composition for Take an image immediately after exposure.

Die lichtempfindliche Schicht kann außerdem je nach Ver­ wendungszweck enthalten eine geringe Menge einer Silicon­ verbindung, wie Polydimethylsiloxan, Methylstyrol-modifi­ ziertes Polydimethylsiloxan, Olefin-modifiziertes Polydi­ methylsiloxan, Polyäther-modifiziertes Polydimethylsi­ loxan, einen Silan-Kuppler oder Silicon-di(meth)acrylat. The photosensitive layer may also vary depending on Ver use a small amount of a silicone compound, such as polydimethylsiloxane, methylstyrene-modifi grained polydimethylsiloxane, olefin-modified polydi methylsiloxane, polyether-modified polydimethylsi loxan, a silane coupler or silicone di (meth) acrylate.  

Der lichtempfindlichen Zusammensetzung kann auch ein ober­ flächenaktives Agens vom Silicon-Typ oder ein Fluoratom­ haltiges oberflächenaktives Agens einverleibt werden zur Verbesserung ihrer Beschichtungseigenschaften.The photosensitive composition may also have an upper silicone surfactant or fluorine atom containing surface active agent are incorporated to Improvement of their coating properties.

Außerdem kann ein Diazoharz der lichtempfindlichen Schicht zugesetzt werden zur Verbesserung der Haftung zwischen der lichtempfindlichen Harzschicht und der Primer-Schicht.In addition, a diazo resin of the photosensitive layer be added to improve the adhesion between the photosensitive resin layer and the primer layer.

Daneben kann auch ein Weichmacher (z. B. Polyethylenglycol oder Trikresylphosphat), der dem resultierenden Überzugs­ film Flexibilität verleihen kann, und/oder ein Stabilisa­ tor (z. B. Phosphorsäure) der lichtempfindlichen Zusammen­ setzung zugesetzt werden.In addition, a plasticizer (eg., Polyethylenglycol or tricresyl phosphate), the resulting coating flexibility, and / or a Stabilisa tor (eg, phosphoric acid) of the photosensitive composition be added.

Die Menge dieser gegebenenfalls vorhandenen Zusätze be­ trägt im allgemeinen nicht mehr als 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Zusammensetzung.The amount of these optional additives be generally does not contribute more than 10% by weight, based on the total weight of the photosensitive composition.

Die lichtempfindliche Zusammensetzung kann gegebenenfalls ein hydrophobes Siliciumdioxid-Pulver enthalten, dessen Oberfläche mit einem eine (Meth)Acryloyl- oder Allyl­ gruppe-enthaltenden Silankuppler behandelt worden ist, in einer Menge von nicht mehr als 50 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung, zum Zwecke der Verbes­ serung der Haftung derselben an der anschließend daran aufgebrachten Siliconkautschukschicht.The photosensitive composition may optionally a hydrophobic silica powder whose Surface with a (meth) acryloyl or allyl group-containing silane coupler has been treated in an amount of not more than 50% by weight, based on the Total weight of the composition, for the purpose of the verb the liability of the latter subsequently applied silicone rubber layer.

Die lichtempfindliche Schicht der erfindungsgemäßen troc­ kenen PS-Platte kann auch aus einer lichtempfindlichen Zusammensetzung hergestellt werden, die ein Diazoharz und ein Bindemittelharz enthält. Die in der lichtempfindlichen Schicht verwendeten Diazoharze können beispielsweise sein Kondensate von aromatischen Diazoniumsalzen mit Formalde­ hyd. Unter diesen besonders bevorzugt sind Salze von Kon­ densaten von p-Diazodiphenylamin mit Formaldehyd oder Acetaldehyd, z. B. anorganische Salze von Diazoharzen, die Reaktionsprodukte der obengenannten Kondensate mit He­ xafluorophosphat, Tetrafluoroborat, Perchlorat oder Perjo­ dat darstellen; und organische Salze von Diazoharzen, die Reaktionsprodukte der obengenannten Kondensate mit Sulfon­ säuren darstellen, wie in dem US-Patent 3 200 309 be­ schrieben. Die Menge des in der lichtempfindlichen Schicht verwendeten Diazoharzes liegt in dem Bereich von 20 bis 95 Gew.-%, vorzugsweise von 35 bis 80 Gew.-%.The photosensitive layer of troc kenen PS plate can also be made of a photosensitive Made of a diazo resin and composition contains a binder resin. The in the photosensitive Layer used Diazoharze can be, for example Condensates of aromatic diazonium salts with formaldehyde hyd. Among these, particularly preferred are salts of Kon densates of p-diazodiphenylamine with formaldehyde or Acetaldehyde, e.g. For example, inorganic salts of diazo resins, the  Reaction products of the abovementioned condensates with He xafluorophosphate, tetrafluoroborate, perchlorate or perjo represent dat; and organic salts of diazo resins, the Reaction products of the abovementioned condensates with sulfone acids as described in U.S. Patent 3,200,309 wrote. The amount of in the photosensitive layer used diazo resin is in the range of 20 to 95 Wt .-%, preferably from 35 to 80 wt .-%.

Es können verschiedene polymere Verbindungen als Bindemit­ telharz-Komponenten in der lichtempfindlichen Zusammenset­ zung verwendet werden und Beispiele dafür, die bevorzugt verwendet werden, sind Copolymere von Monomeren mit aroma­ tischen Hydroxylgruppen, wie N-(4-Hydroxyphenyl)(meth)­ acrylamid, o-, m- oder p-Hydroxystyrol und o-, m- oder p- Hydroxyphenylmethacrylat mit anderen Monomeren, die mit den obengenannten Monomeren copolymerisierbar sind, wie in JP-Kokai Nr. Sho 54-98 613 beschrieben, Polymere, die als hauptsächliche wiederkehrende Einheiten solche aufweisen, die abgeleitet sind von Hydroxyethyl(meth)acrylat, wie in dem US-Patent 4 123 276 beschrieben; Copolymerharze mit wiederkehrenden Einheiten, die von eine phenolische Hydro­ xylgruppe enthaltenden Monomeren abgeleitet sind, und wie­ derkehrenden Einheiten, die von eine alkoholische Hydro­ xylgruppe enthaltenden Monomeren abgeleitet sind, wie in JP-Kokai Nr. Hei 3-158 853 beschrieben; natürliche Harze, wie Schellack oder Rosin; Polyvinylalkohol; Polyamidharze, wie in dem US-Patent 3 751 257 beschrieben, lineare Po­ lyurethanharze, wie in dem US-Patent 3 660 097 beschrie­ ben; Phthalat-modifizierte Polyvinylalkoholharze, Ep­ oxyharze, die durch Kondensation von Bisphenol A mit Epi­ chlorhydrin erhalten werden, und Cellulosen, wie Cellulo­ sebutyrat und Celluloseacetat.Various polymeric compounds can be used as binders telharz components in the photosensitive composition be used and examples of which are preferred used are copolymers of monomers with aroma hydroxyl groups, such as N- (4-hydroxyphenyl) (meth) acrylamide, o-, m- or p-hydroxystyrene and o-, m- or p- Hydroxyphenyl methacrylate with other monomers containing the above-mentioned monomers are copolymerizable, as in JP Kokai No. Sho 54-98613, polymers which are known as main recurring units have such which are derived from hydroxyethyl (meth) acrylate, as in U.S. Patent 4,123,276; Copolymer resins with Recurring units derived from a phenolic hydro xylgruppe containing monomers are derived, and as repeating units by an alcoholic hydro xylgruppe containing monomers are derived, as in JP Kokai No. Hei 3-158 853; natural resins, like shellac or rosin; polyvinyl alcohol; Polyamide resins, as described in U.S. Patent 3,751,257, linear Po polyurethane resins as described in US Patent 3,660,097 ben; Phthalate-modified polyvinyl alcohol resins, Ep oxy resins obtained by condensation of bisphenol A with epi chlorohydrin, and celluloses, such as Cellulo Sebutyrate and cellulose acetate.

Außerdem können die Bindemittelharze solche sein, die hauptsächlich umfassen lichtempfindliche Polymere, wie Po­ lyester, Polyamide und Polycarbonate, die jeweils als lichtempfindliche Gruppen -CH=CH-CO-Gruppen in der Haupt­ kette und in den Seitenketten des Polymers tragen. Zu spe­ zifischen Beispielen dafür gehören lichtempfindliche Poly­ ester, die erhalten werden durch Kondensation von Phe­ nylendiethylacrylat, hydriertem Bisphenol A und Triethy­ lenglycol, wie in JP KOKAI Nr. Sho 55-40 415 beschrieben; und lichtempfindliche Polyester, die abgeleitet sind von (2-Propenyliden)malonat-Verbindungen, z. B. Cinnamyliden­ malonat und bifunktionellen Glycolen, wie in dem US-Patent 2 956 878 beschrieben.In addition, the binder resins may be those which mainly photosensitive polymers such as Po lyester, polyamides and polycarbonates, each as  light-sensitive groups -CH = CH-CO groups in the main chain and in the side chains of the polymer. To spe Examples include photosensitive poly esters, which are obtained by condensation of Phe nylendiethylacrylat, hydrogenated bisphenol A and triethy glycol as described in JP KOKAI No. Sho 55-40415; and photosensitive polyesters derived from (2-propenylidene) malonate compounds, e.g. B. cinnamylidene malonate and bifunctional glycols, as in the US patent 2,956,878.

Die obengenannten lichtempfindlichen Schichten, welche diese Diazoharze enthalten, können auch andere (weitere) Zusätze enthalten, wie z. B. Farbstoffe, oberflächenaktive Agentien, Weichmacher und/oder Stabilisatoren, wobei spe­ zifische Beispiele dafür die gleichen sind, wie sie oben in Verbindung mit der obengenannten photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Zusammensetzung aufgezählt worden sind.The above photosensitive layers which contain these diazo resins, other (further) Contain additives such. B. dyes, surface-active Agents, plasticizers and / or stabilizers, wherein spe Examples of this are the same as above in conjunction with the abovementioned photopolymerizable light-sensitive composition have been listed.

Alternativ kann die lichtempfindliche Schicht der erfin­ dungsgemäßen trockenen PS-Platte auch eine photovernetz­ bare lichtempfindliche Schicht sein, wie sie weiter oben beschrieben worden ist. Die photovernetzbare lichtempfind­ liche Schicht kann aus jeder beliebigen, in dem Stand der Technik bekannten photovernetzbaren lichtempfindlichen Zu­ sammensetzung hergestellt werden.Alternatively, the photosensitive layer of the inventions dry PS plate according to the invention also a photocrosslink be bare photosensitive layer, as above has been described. The photocrosslinkable photosensitizer Liche layer can be made from any, in the state of Technique known photocrosslinkable photosensitive Zu composition are produced.

Die obengenannte lichtempfindliche Zusammensetzung wird jeweils auf die Oberfläche eines Substrats in Form einer Lösung in einem geeigneten Lösungsmittel aufgebracht, z. B. in 2-Methoxyethanol, 2-Methoxyethylacetat, Propylenglycol­ methylethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Propylengly­ colmonomethyläther, Ethanol, Methylethylketon, N,N-Dime­ thylacetamid oder einer Mischung davon. Die Menge, in der sie aufgebracht werden sollen, liegt in dem Bereich von 0,1 bis 20 g/m2, vorzugsweise von 0,5 bis 10 g/m2 (gewogen nach dem Trocknen). The above photosensitive composition is applied to the surface of each substrate in the form of a solution in a suitable solvent, e.g. For example, in 2-methoxyethanol, 2-methoxyethyl acetate, propylene glycol methyl ethyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, Propylengly colmonomethyläther, ethanol, methyl ethyl ketone, N, N-Dime thylacetamid or a mixture thereof. The amount in which they are to be applied is in the range of 0.1 to 20 g / m 2 , preferably 0.5 to 10 g / m 2 (weighed after drying).

Die erfindungsgemäß verwendete Siliconkautschukschicht, die als Druckfarbe abweisende Schicht der resultierenden trockenen lithographischen Druckplatte dient, umfaßt bzw. enthält die folgenden Komponenten:The silicone rubber layer used according to the invention, the ink-repellent layer of the resulting dry lithographic printing plate, comprises or contains the following components:

  • a) eine Mischung von Basispolymeren, d. h. Polysiloxanen, die jeweils im Molekül mindestens zwei Alkenylgruppen (z. B. Vinyl-, Butenyl-, Hexenyl- und Decenylgruppen, wobei die Vinylgruppen bevorzugt sind), die direkt an Silici­ umatome gebunden sind, sowie Gruppen der Formel -(Si(R1(R2)-O)k- aufweisen (worin R1 und R2 jeweils stehen für eine Alkylgruppe, beispielsweise eine Methyl- oder Ethylgruppe, eine Arylgruppe, beispielsweise eine Phenyl­ gruppe, eine Aralkylgruppe, z. B. eine β-Phenylpropyl­ gruppe, eine Vinylgruppe oder eine halogenierte Kohlenwas­ serstoffgruppe, wie z. B. eine Chloromethyl- oder 3,3,3- Trifluoropropyl-Gruppe, mit der Maßgabe, daß mindestens 70 % dieser Gruppen R1 und R2 Methylgruppen darstellen), wo­ bei die Mischung enthält (i) 50 bis 95 Gew.-% des Polysi­ loxans, dessen durchschnittliche Anzahl k der wiederkeh­ renden Einheiten in dem Bereich von 100 bis 500 liegt, und (ii) 5 bis 50 Gew.-% des Polysiloxans, dessen durch­ schnittliche Anzahl k der wiederkehrenden Einheiten in dem Bereich von 700 bis 10 000 liegt (wobei die Summe von (i) und (ii) 100 Gew.-% entspricht). Es können mindestens drei Arten von Polysiloxanen verwendet werden. Das Mischungs­ verhältnis (i)/(ii) liegt vorzugsweise in dem Bereich von 60/40 bis 95/5 und insbesondere von 70/30 bis 90/10, be­ zogen auf das Gewicht.a) a mixture of base polymers, ie polysiloxanes, each having in the molecule at least two alkenyl groups (eg vinyl, butenyl, hexenyl and decenyl groups, the vinyl groups being preferred), which are bonded directly to silicon atoms, and also groups of the formula - (Si (R 1 (R 2 ) -O) k - (wherein R 1 and R 2 each represent an alkyl group, for example, a methyl or ethyl group, an aryl group, for example, a phenyl group, an aralkyl group, e.g. B. a β-phenylpropyl group, a vinyl group or a halogenated Kohlenwas hydrogen group, such as a chloromethyl or 3,3,3-trifluoropropyl group, with the proviso that at least 70% of these groups R 1 and R 2 represent methyl groups), where in the mixture contains (i) 50 to 95 wt .-% of Polysi loxans whose average number k of recurring units in the range of 100 to 500, and (ii) 5 to 50 wt. -% of the polysiloxane whose average number k of the again repeating units is in the range of 700 to 10,000 (where the sum of (i) and (ii) equals 100% by weight). At least three types of polysiloxanes can be used. The mixing ratio (i) / (ii) is preferably in the range of 60/40 to 95/5, and especially 70/30 to 90/10, be based on the weight.
  • b) Bei den in der Siliconkautschukschicht der trocknen PS- Platte verwendeten Vernetzungsmitteln handelt es sich um Hydrogenpolysiloxane der oben angegebenen allgemeinen For­ mel (I). Besonders bevorzugte Hydrogenpolysiloxane sind beispielsweise solche der folgenden allgemeinen Formel: (CH₃)₃-Si-O-(SiH(CH₃)-O)m-(Si(CH₃)₂-O)n-Si(CH₃)₃b) The crosslinking agents used in the silicone rubber layer of the dry PS plate are hydrogenpolysiloxanes of the above general formula (I). Particularly preferred hydrogenpolysiloxanes are, for example, those of the following general formula: (CH₃) ₃-Si-O- (SiH (CH₃) -O) m - (Si (CH₃) ₂-O) n -Si (CH₃) ₃

Vorzugsweise werden solche verwendet, bei denen m und n den folgenden Beziehungen genügen: (m;n) = (5 bis 50; 0), (5 bis 50; 5), (10 bis 80; 10) oder (20 bis 80; 20) und insbesondere (5 bis 40; 0). Diese Hydrogenpolysiloxane können allein oder in Form einer Kombination verwendet werden.Preferably, those are used in which m and n satisfy the following relations: (m; n) = (5 to 50; 0), (5 to 50, 5), (10 to 80, 10) or (20 to 80, 20) and in particular (5 to 40; 0). These hydrogenpolysiloxanes can be used alone or in combination become.

Das Mischungsverhältnis zwischen dem Alkenylpolysiloxan und dem Hydrogenpolysiloxan wird in der Weise festgelegt, daß die Menge des letzteren zweckmäßig nicht weniger als 2 Äquivalente und vorzugsweise 4 bis 15 Äquivalente beträgt, ausgedrückt durch die Menge der Si-H-Gruppen pro Einheits- Äquivalentmenge der in dem Alkenylpolysiloxan vorhandenen ungesättigten Kohlenstoff-Kohlenstoff-Gruppen.The mixing ratio between the alkenylpolysiloxane and the hydrogenpolysiloxane is determined in the manner that the amount of the latter expediently not less than 2 Equivalents and preferably 4 to 15 equivalents, expressed by the amount of Si-H groups per unit Equivalent amount of those present in the alkenylpolysiloxane unsaturated carbon-carbon groups.

Die Katalysatoren für die Additionsreaktion dieser Kompo­ nenten können willkürlich aus den in dem Stand der Technik bekannten Katalysatoren ausgewählt werden. Insbesondere werden sie zweckmäßig ausgewählt aus Platinverbindungen, wie elementarem Platin, Platinchlorid, Chloroplatin(IV)­ säure und Platin, das mit Olefinen koordiniert ist.The catalysts for the addition reaction of this compo Nuclei may be arbitrarily removed from those in the prior art known catalysts are selected. In particular they are suitably selected from platinum compounds, such as elemental platinum, platinum chloride, chloroplatin (IV) acid and platinum, which is coordinated with olefins.

Die Zusammensetzung für die Siliconkautschukschicht kann ferner enthalten einen Vernetzungsinhibitor, beispiels­ weise ein eine Vinylgruppe enthaltendes Organopolysiloxan, wie Tetracyclo(methylvinyl)Siloxan, einen Alkohol mit ei­ ner Kohlenstoff-Kohlenstoff-Dreifachbindung, Aceton, Me­ thylethylketon, Methanol, Ethanol oder Propylenglycolmono­ methyläther, um die Aushärtungsgeschwindigkeit bzw. -rate der Zusammensetzung zu steuern (zu kontrollieren).The composition for the silicone rubber layer may further contain a crosslinking inhibitor, for example example, a vinyl group-containing organopolysiloxane, such as tetracyclo (methylvinyl) siloxane, an alcohol with egg a carbon-carbon triple bond, acetone, Me ethyl ethyl ketone, methanol, ethanol or propylene glycol mono methyl ether to the cure rate to control (control) the composition.

Diese Zusammensetzungen unterliegen einer Additionsreak­ tion, sobald die obengenannten drei Komponenten miteinan­ der gemischt werden und damit deren Aushärtung initiiert wird. Es sei jedoch darauf hingewiesen, daß die Aushär­ tungsrate bzw. -geschwindigkeit der Zusammensetzung schnell ansteigt, wenn die Reaktionstemperatur erhöht wird. Aus diesem Grunde ist es erforderlich, die Topfzeit oder die Zeit zwischen ihrer Herstellung und ihrer Umwand­ lung in Kautschuk zu verlängern und die für die Aushärtung derselben auf einer lichtempfindlichen Schicht erforderli­ che Zeit zu verkürzen. Zu diesem Zweck wird die Zusammen­ setzung vorzugsweise in einem Temperaturbereich gehärtet, der die Eigenschaften eines Substrats und einer lichtemp­ findlichen Harzschicht nicht beeinflußt, und sie wird vor­ zugsweise bei einer hohen Temperatur gehalten, bis sie vollständig ausgehärtet ist. Auf diese Weise kann eine stabile Haftung an der lichtempfindlichen Harzschicht ge­ währleistet werden.These compositions undergo an addition reaction tion as soon as the abovementioned three components are involved which are mixed and thus initiates their hardening becomes. It should be noted, however, that the Aushär processing rate of the composition  rises rapidly as the reaction temperature increases becomes. For this reason, it is necessary to the pot life or the time between their production and their conversion elongation in rubber and that for curing the same on a photosensitive layer erforderli time to shorten. For this purpose, the Zusammen cured preferably in a temperature range, the properties of a substrate and a lichtemp sensitive resin layer is not affected, and it is before preferably kept at a high temperature until they completely cured. This way a can stable adhesion to the photosensitive resin layer ge be ensured.

Zusätzlich zu den obengenannten Komponenten kann die Zu­ sammensetzung gegebenenfalls enthalten ein bekanntes Adhä­ sion verleihendes Agens, wie z. B. ein Alkenyltrialkoxysi­ lan und/oder andere Zusätze, z. B. feine Pulver von anorga­ nischen Substanzen, wie Siliciumdioxid, Calciumcarbonat und Titanoxid, Hilfs-Adhäsionsmittel, wie Silan-Kuppler, Kuppler vom Titanat-Typ und Kuppler vom Aluminium-Typ, Si­ liconöl und/oder Polymerisationsinitiatoren.In addition to the above components, the Zu Composition may contain a known adhesive sion-conferring agent such. B. an alkenyltrialkoxysi lan and / or other additives, eg. B. fine powder of anorga nical substances, such as silicon dioxide, calcium carbonate and titanium oxide, auxiliary adhesives, such as silane couplers, Titanate type couplers and aluminum type couplers, Si licon oil and / or polymerization initiators.

Die Siliconkautschukschicht kann gegebenenfalls enthalten ein Siliciumatom enthaltende Verbindungen, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (II) , zur Verbesse­ rung des Ablösungsvermögens eines Überzugsfilms (wie wei­ ter unten erläutert), der auf die Siliconkautschukschicht aufgebracht wird, um die Schicht oder die Druckfarbe ab­ weisende Schicht zu schützen:The silicone rubber layer may optionally contain a silicon atom-containing compounds by the following general formula (II), for the sake of improvement Ablösungsvermögens a coating film (as white described below), which refers to the silicone rubber layer is applied to the layer or the ink to protect pointing layer:

(R⁵)₃-SiO-(Si(R⁵)₂-O)p-(Si(R⁶) (R⁷)-O)q-Si(R⁵)₃ (II)(R⁵) ₃-SiO- (Si (R⁵) ₂-O) p - (Si (R⁶) (R⁷) -O) q -Si (R⁵) ₃ (II)

(worin die Reste R5 gleich oder verschieden sein können und jeweils stehen für eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Koh­ lenstoffatomen; R6 und R7 ebenfalls gleich oder verschie­ den sein können und jeweils stehen für eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte aromatische Gruppe, mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R6 und R7 eine substitu­ ierte oder unsubstituierte aromatische Gruppe darstellt; und p/q (Molverhältnis) innerhalb des Bereiches von 99/1 bis 10/90 liegt), z. B. solche, wie sie in JP KOKAI Nr. Hei 1-179 047 beschrieben sind. Zu spezifischen Beispielen da­ für gehören solche, wie sie nachstehend aufgezählt sind, die vorliegende Erfindung ist auf diese spezifischen Bei­ spiele jedoch nicht beschränkt.(wherein R 5 's may be the same or different and each represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R 6 and R 7 may also be the same or different and each represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted one with the proviso that at least one of R 6 and R 7 represents a substituted or unsubstituted aromatic group, and p / q (molar ratio) is within the range of 99/1 to 10/90), e.g. For example, those described in JP KOKAI No. Hei 1-179,047. Specific examples thereof include those listed below, but the present invention is not limited to these specific examples.

(CH₃)₃SiO-(Si(CH₃)₂-O)p-(Si(CH₃) (CH₂CH(CH₃)-C₆H₅)-O)q-Si(CH₃)₃ (p/q=75/25;
MG = etwa 2×10⁴)
(CH₃) ₃SiO- (Si (CH₃) ₂-O) p - (Si (CH₃) (CH₂CH (CH₃) -C₆H₅) -O) q -Si (CH₃) ₃ (p / q = 75/25;
MG = about 2 × 10⁴)

Außerdem kann ein Trennmittel, wie es in dem Stand der Technik allgemein bekannt ist, der Siliconkautschukschicht zugesetzt werden.In addition, a release agent, as in the state of Technology is well known, the silicone rubber layer be added.

Die erfindungsgemäß verwendete Siliconkautschukschicht dient als Druckfarbe abweisende (abstoßende) Schicht. Da­ her wird, wenn ihre Dicke zu gering ist, ihre Druckfarben- Abweisung vermindert und die Schicht neigt dazu, beschä­ digt zu werden. Wenn sie andererseits zu dick ist, wird ihre Entwickelbarkeit beeinträchtigt. Daher liegt ihre Dicke zweckmäßig in dem Bereich von 0,5 bis 5 g/m2, vor­ zugsweise von 1 bis 3 g/m2 (gewogen nach dem Trocknen).The silicone rubber layer used in the invention serves as an ink-repellent (repelling) layer. Therefore, if their thickness is too low, their ink repellency is reduced and the layer tends to be damaged. On the other hand, if it is too thick, its developability is impaired. Therefore, its thickness is suitably in the range of 0.5 to 5 g / m 2 , preferably 1 to 3 g / m 2 (weighed after drying).

Die oben diskutierte trockene PS-Platte kann außerdem ver­ schiedene Arten von Druckfarbe abweisenden (abstoßenden) Schichten aufweisen, die auf die obengenannten Silicon­ kautschukschicht (d. h. die Druckfarbe abweisende Schicht) aufgebracht werden. Die trockene PS-Platte kann auch eine Haftschicht zwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Siliconkautschukschicht aufweisen zur Verbesserung der Haftung zwischen beiden Schichten oder zur Unterdrückung eines Vergiftungseffekts auf den in der Zusammensetzung für die Druckfarbe abweisende Schicht vorhandenen Kataly­ sator.The above discussed dry PS plate may also ver different types of ink repellent (repulsive) Have layers based on the above-mentioned silicone rubber layer (i.e., the ink-repellent layer) be applied. The dry PS plate can also be a Adhesive layer between the photosensitive layer and have the silicone rubber layer for improving the Adhesion between two layers or for suppression a poisoning effect on the in the composition  for the ink-repellent layer existing Kataly sator.

Darüber hinaus kann eine Schutzschicht (oder ein Überzugs­ film) auf die Oberfläche der Druckfarbe abweisenden Schicht aufgebracht werden. Die Schutzschicht kann gebil­ det werden durch Auflaminieren eines transparenten Films, wie z. B. eines Polyethylen-, Polypropylen-, Polyvinylchlo­ rid-, Polyvinylidenchlorid-, Polyvinylalkohol-, Polyethy­ lenterephthalat- oder Cellophanfilms, auf die Druckfarbe abweisende Schicht oder durch Beschichten der Druckfarbe abweisenden Schicht mit einem Polymer, das ausgewählt wird aus der Gruppe der obengenannten polymeren Verbindungen. Diese Filme können in der orientierten Form verwendet wer­ den. Außerdem können diese Filme mattiert werden, um die Haftung unter Vakuum an einem Originalfilm in einem Druck­ rahmen während der Belichtung zu gewährleisten.In addition, a protective layer (or a coating film) on the surface of the ink repellent Layer are applied. The protective layer can gebil det by laminating a transparent film, such as B. a polyethylene, polypropylene, Polyvinylchlo chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethyl lenterephthalate or cellophane film, on the printing ink repellent layer or by coating the ink repellent layer with a polymer that is selected from the group of the abovementioned polymeric compounds. These films can be used in the oriented form the. In addition, these films can be frosted to the Adhesion under vacuum to an original film in one print frame during exposure.

Die erfindungsgemäße trockene PS-Platte wird durch ein Original-Diapositiv (Transparent) bildmäßig belichtet und dann mit einem Entwickler entwickelt, der eine partielle oder vollständige Auflösung oder Aufquellung der lichtemp­ findlichen Harzschicht auf dem Bildbereich (oder bild­ freien Bereich) bewirken kann.The dry PS plate according to the invention is characterized by a Original slide (transparent) imagewise exposed and then developed with a developer who is a partial or complete dissolution or swelling of the lichtemp sensitive resin layer on the image area (or image free area) can effect.

Der erfindungsgemäß verwendete Entwickler kann einer von denjenigen sein, wie sie als Entwickler für trockene PS- Platten bekannt sind, zu bevorzugten Beispielen dafür ge­ hören jedoch Wasser oder wäßrige Lösungen, die jeweils Wasser als Hauptkomponente und ein wasserlösliches organi­ sches Lösungsmittel enthalten. Die Konzentration des was­ serlöslichen organischen Lösungsmittels beträgt zweckmäßig weniger als 40 Gew.-%, wenn das die Sicherheit und Entflammbarkeit desselben in Betracht zieht. Die bildmäßig belichtete trockene PS-Platte wird besonders bevorzugt mit reinem Wasser entwickelt. Zu den bekannten Entwicklern, die erfindungsgemäß verwendbar sind, gehören bei­ spielsweise solche, die aliphatische Kohlenwasserstoffe, wie Hexan, Heptan, "Isopar E, H, G" (Handelsnamen für ali­ phatische Kohlenwasserstoffe, erhältlich von der Firma Esso Chemical Company), Benzin und Kerosin; aromatische Kohlenwasserstoffe wie Toluol und Xylol; halogenierte Koh­ lenwasserstoffe wie Trichlorethylen enthalten, denen die folgenden polaren Lösungsmittel zugesetzt werden oder wel­ che die polaren Lösungsmittel selbst enthalten:The developer used in the invention may be one of those who work as dry-PS developers Plates are known to preferred examples thereof ge However, you can hear water or aqueous solutions, respectively Water as the main component and a water-soluble organi contain beautiful solvent. The concentration of what water-soluble organic solvent is expedient less than 40% by weight, if that is the security and Considers flammability of the same. The pictorial exposed dry PS plate is particularly preferred developed pure water. Among the well-known developers, which can be used according to the invention belong to  For example, those which aliphatic hydrocarbons, such as hexane, heptane, "Isopar E, H, G" (trade name for ali phatic hydrocarbons available from the company Esso Chemical Company), gasoline and kerosene; aromatic Hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated Koh such as trichlorethylene, to which the be added to the following polar solvent or wel the polar solvents themselves contain:

  • - Alkohole, wie Methanol, Ethanol, Propanol, Isopropa­ nol, Benzylalkohol, Ethylenglycolmonomethyläther, 2-Eth­ oxyethanol, Diethylenglycolmonoethyläther, Diethylengly­ colmonohexyläther, Triethylenglycolmonomethyläther, Propy­ lenglycolmonoethyläther, Dipropylenglycolmonomethyläther, Polyethylenglycolmonomethyläther, Polypropylenglycol und Tetraethylenglycol;- Alcohols, such as methanol, ethanol, propanol, isopropa nol, benzyl alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, 2-eth oxyethanol, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol colmonohexyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, propy glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, Polyethylene glycol monomethyl ether, polypropylene glycol and tetraethylene;
  • - Ketone, wie Aceton und Methylethylketon;Ketones, such as acetone and methyl ethyl ketone;
  • - Ester, wie Ethylaceat, Methyllactat, Butyllactat, Propylenglycolmonomethyletheracetat, Diethylenglycolacetat und Diethylphthalat; undEsters, such as ethyl acetate, methyl lactate, butyl lactate, Propylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol acetate and diethyl phthalate; and
  • - andere polare Lösungsmittel, wie Triethylphosphat und Trikresylphosphat.Other polar solvents, such as triethyl phosphate and Tricresyl.

Darüber hinaus ist es auch möglich, als Entwickler solche zu verwenden, die erhalten werden durch Zugabe von Wasser zu den obengenannten Entwicklern, die organische Lösungs­ mittel enthalten; Entwickler, welche die obengenannten or­ ganischen Lösungsmittel enthalten, die in Wasser solubili­ siert worden sind durch Verwendung eines Solubilisierungs­ mittels, z. B. eines oberflächenaktiven Agens; diese Ent­ wickler, die außerdem ein alkalisches Agens, wie Natri­ umcarbonat, Diethanolamin und/oder Natriumhydroxid, enthalten; oder Wasser, wie Leitungswasser, reines Wasser oder destilliertes Wasser. In addition, it is also possible as a developer such to be used, which are obtained by adding water to the above developers, the organic solutions contain medium; Developers, the above or ganic solvents contained in solubili water have been characterized by using a solubilization by, for. B. a surface-active agent; this Ent which also contains an alkaline agent such as Natri carbonate, diethanolamine and / or sodium hydroxide, contain; or water, such as tap water, pure water or distilled water.  

Dem Entwickler kann ein Farbstoff, wie Kristallviolett (C.I. 42555), Victoria Pure Blue (C.I. 42595) oder Astrazon Red (C.I. 48020) zugesetzt werden, um gleichzeitig die Bildab­ schnitte der entwickelten trockenen PS-Platte anzufärben.The developer may contain a dye such as Crystal Violet (C. I. 42555), Victoria Pure Blue (C.I. 42595) or Astrazon Red (C.I. 48020) may be added to simultaneously control the image output sections of the developed dry PS plate.

Die Entwicklung kann auf irgendeine bekannte Weise durch­ geführt werden, beispielsweise durch Reiben der Platten­ oberfläche mit einem Entwicklungs-Polster (Tampon), das den obengenannten Entwickler enthält, oder durch Gießen der Entwickler auf die Plattenoberfläche und anschließen­ des Reiben der Oberfläche mit einer Entwicklungsbürste in Wasser. Die Temperatur des verwendeten Entwicklers kann beliebig gewählt werden, sie liegt jedoch vorzugsweise in dem Bereich von 10 bis 50°C. Auf diese Weise werden die Siliconkautschukschicht (oder die Druckfarbe abweisende Schicht) auf dem Bildbereich entfernt, die lichtempfindli­ che Schicht wird somit freigelegt und dient als Druckfarbe auf nehmender Abschnitt.Development can be accomplished in any known manner be guided, for example by rubbing the plates Surface with a development pad (tampon), the containing the above-mentioned developer, or by casting the developer on the disk surface and connect rubbing the surface with a development brush in Water. The temperature of the developer used can However, it is preferably in in the range of 10 to 50 ° C. In this way, the Silicone rubber layer (or the ink repellent Layer) on the image area, the lichtempfindli Thus layer is exposed and serves as an ink on taking section.

Der Entwickler enthält einen Farbstoff, so daß der freige­ legte Bildabschnitt (lichtempfindliche Schicht) angefärbt werden kann zur Bestätigung der Bilderzeugungseigenschaf­ ten der so erhaltenen PS-Platte oder zur Prüfung der Platte. Wenn der verwendete Entwickler keinen Farbstoff zum Anfärben des freigelegten Bildabschnitts enthält, wird die PS-Platte nach der Entwickelung mit einer Färbelösung behandelt. Der Bildabschnitt wird mit einem die Färbelö­ sung enthaltenden weichen Polster leicht gerieben, so daß nur der freiliegende Abschnitt der lichtempfindlichen Schicht angefärbt wird, und dadurch kann bestätigt werden, ob der helle Bildbereich ausreichend entwickelt worden ist oder nicht. Bei der verwendeten Färbelösung handelt es sich beispielsweise um solche, die erhalten werden durch Auflösen oder Dispergieren mindestens eines Farbstoffs, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus wasserlöslichen Dispersfarbstoffen, Säurefarbstoffen und basischen Farb­ stoffen, in einem Lösungsmittel, wie Wasser, Alkoholen, Ketonen, Äthern oder einer Mischung davon. Es ist auch wirksam, der Färbelösung Carbonsäuren, Amine, oberflächen­ aktive Agentien, Färbehilfsmittel und/oder An­ tischaumbildner zuzusetzen zur Verbesserung des Färbever­ mögens der Lösung.The developer contains a dye, so that the frei put on image section (photosensitive layer) stained can be used to confirm the image forming property th the PS plate thus obtained or for testing the Plate. If the developer used is not a dye for staining the exposed image portion is the PS plate after development with a dyeing solution treated. The image section is with a Färbelö sung soft pad gently rubbed, so that only the exposed portion of the photosensitive Layer is stained, and thereby it can be confirmed whether the bright image area has been sufficiently developed or not. The dyeing solution used is For example, those that are obtained by Dissolving or dispersing at least one dye, selected from the group consisting of water-soluble Disperse dyes, acid dyes and basic color  substances, such as water, alcohols, Ketones, ethers or a mixture thereof. It is also effective, the staining solution carboxylic acids, amines, surfaces Active Agents, Dyeing Aids and / or An tischaumbildner add to improve the coloring Verver like the solution.

Die mit einer solchen Färbelösung angefärbte resultierende lithographische Druckplatte wird vorzugsweise mit Wasser gewaschen und getrocknet, um das Problem der Klebrigkeit der Plattenoberfläche zu eliminieren und somit die Handhabungseigenschaften der Platte zu verbessern.The resulting stained with such a dyeing solution lithographic printing plate is preferably water washed and dried to the problem of stickiness to eliminate the plate surface and thus the To improve the handling properties of the plate.

Wenn diese so hergestellten Platten in Stapeln gelagert werden, wird außerdem vorzugsweise ein Zwischenblatt zwi­ schen benachbarte Platten gelegt, um diese zu schützen.When these plates thus produced are stored in stacks In addition, preferably, an intermediate sheet zwi between adjacent plates to protect them.

Eine Reihe der obengenannten Prozesse, d. h. die Entwick­ lungs-, Anfärbe-, Wasserwasch- und Trocknungsprozesse, werden vorzugsweise in einer automatischen Behandlungsvor­ richtung durchgeführt. Bevorzugte Beispiele für solche au­ tomatischen Behandlungsvorrichtungen sind beispielsweise in JP-KOKAI Nr. Hei 2-220 061 beschrieben.A series of the above processes, d. H. the development lungs, staining, water washing and drying processes, are preferably in an automatic treatment direction. Preferred examples of such au Automatic treatment devices are for example in JP KOKAI No. Hei 2-220,061.

Die aus der erfindungsgemäßen trockenen PS-Platte herge­ stellte trockene lithographische Druckplatte weist eine ausgezeichnete Beständigkeit gegen Hintergrundkontamina­ tion und eine ausgezeichnete Druckhaltbarkeit auf und sie besitzt eine stark verbesserte Beständigkeit gegen Ablö­ sung der Siliconkautschukschicht an den Randabschnitten als Folge der Evakuierung, die während der bildmäßigen Be­ lichtung durchgeführt wird, was zu einer unzureichenden Belichtung an den Randabschnitten eines Originalfilms führt.Herge from the dry PS plate according to the invention presented dry lithographic printing plate exhibits one excellent resistance to background contamination tion and excellent print durability and they has a much improved resistance to delamination solution of the silicone rubber layer at the edge sections as a result of the evacuation that occurred during pictorial Be which is insufficient Exposure at the margins of an original film leads.

Die vorliegende Erfindung wird nachstehend unter Bezug­ nahme auf die folgenden Ausführungsbeispiele näher be­ schrieben und die in der Praxis durch die Erfindung er­ zielten Effekte werden ebenfalls im Vergleich mit den Ver­ gleichsbeispielen im Detail diskutiert.The present invention will be described below with reference to FIG Be closer to the following embodiments  wrote and in practice by the invention he targeted effects are also compared with the Ver the same examples discussed in detail.

Beispiele 1 bis 10 und Vergleichsbeispiele 1 bis 3Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 3 Primer-SchichtPrimer layer

Eine Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,3 mm, die auf die übliche Weise entfettet worden ist, wurde in eine 1%ige wäßrige Lösung von N-(β-Aminoethyl)-γ-aminopropyl-trimethoxysilan eingetaucht und dann bei Raumtempera­ tur getrocknet. Eine Primer-Lösung mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung wurde in einer Menge von 4 g/m2 (gewogen nach dem Trocknen) auf die Aluminiumplatte aufgebracht und getrocknet und durch 2-minütiges Erhitzen auf 140°C gehärtet.An aluminum plate according to JIS A 1050 having a thickness of 0.3 mm, which has been degreased in the usual way, was immersed in a 1% aqueous solution of N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and then at Room tempera ture dried. A primer solution having the composition shown below was applied to the aluminum plate in an amount of 4 g / m 2 (weighed after drying) and dried, and cured by heating at 140 ° C for 2 minutes.

Primer-LösungPrimer solution

Komponentecomponent Menge (Gew.-Teile)Quantity (parts by weight) Sanprene 1B1700D (30%ige Lösung eines terminale Hydroxylgruppen enthaltenden thermoplastischen Polyurethanharzes in Methylethylketon; erhältlich von der Firma Sanyo Chemical Industries, ltd.)Sanprene 1B1700D (30% solution of a terminal hydroxyl-containing thermoplastic polyurethane resin in methyl ethyl ketone available from Sanyo Chemical Industries, Ltd.) 1010 Hexafluorophosphat eines Polykondensats von p-Diazodiphenylamin mit ParaformaldehydHexafluorophosphate of a polycondensate of p-diazodiphenylamine with paraformaldehyde 0,10.1 TiO2 TiO 2 0,10.1 Defenser MCF 323 (30%ige Lösung eines ein Fluoratom enthaltenden nicht-ionischen oberflächenaktiven Agens in Methylisobutylketon; erhältlich von der Firma Dainippon Ink and Chemicals Inc.)Defenser MCF 323 (30% solution of a fluorine atom-containing nonionic surfactant in methyl isobutyl ketone available from Dainippon Ink and Chemicals Inc.) 0,030.03 PropylenglycolmethylätheracetatPropylenglycolmethylätheracetat 5050 Methyllactatmethyl 2020 reines Wasserpure water 11

Dann wurde die aufgebrachte Primer-Schicht unter Verwen­ dung einer Vakuumbelichtungs-Vorrichtung FT261V UDNS UL- TRA-PLUS FLIPTOP PLATE MAKER (erhältlich von der Firma Nu Arc Company) über 20 Zähler (counts) belichtet.Then the applied primer layer was used A Vacuum Exposure Device FT261V UDNS UL TRA-PLUS FLIPTOP PLATE MAKER (available from Nu Arc Company) over 20 counts.

Lichtempfindliche SchichtPhotosensitive layer

Eine photopolymerisierbare lichtempfindliche Lösung mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung wurde auf die Aluminiumplatte, die mit einer Primer-Schicht versehen war, in-einer Menge von 4 g/m2 (gewogen nach dem Trocknen) aufgebracht und dann durch 1minütiges Erhitzen auf 100°C getrocknet.A photopolymerizable photosensitive solution having the following composition was applied to the aluminum plate provided with a primer layer in an amount of 4 g / m 2 (weighed after drying), and then dried by heating at 100 ° C for 1 minute ,

Lichtempfindliche LösungPhotosensitive solution

Komponentecomponent Menge (Gew.-Teile)Quantity (parts by weight) Polyurethanharz [Isophorondiisocyanat/Polyester (Adipinsäure/1,4-Butandiol/2,2-dimethylpropan-1,3-diol)/Isophoron-di-amin]Polyurethane resin [isophorone diisocyanate / polyester (adipic acid / 1,4-butanediol / 2,2-dimethylpropane-1,3-diol) / isophorone diamine] 1,51.5 CH2=CHCOO-(C2H4O)14-COCH=CH2 CH 2 = CHCOO- (C 2 H 4 O) 14 -COCH = CH 2 0,50.5 Xylylendiamin/Glycidylmethacrylat (Molverhältnis 1 : 4)-AdduktXylylenediamine / glycidyl methacrylate (molar ratio 1: 4) adduct 1,31.3 Ethyl-Michlers KetonEthyl Michler's ketone 0,350.35 2-Chlorothioxanton2-Chlorothioxanton 0,100.10 Naphthalinsulfonat von Victoria Pure Blue BOHNaphthalene sulfonate from Victoria Pure Blue BOH 0,010.01 Defenser MCF 323 (30%ige Lösung eines ein Fluoratom-haltigen nicht-ionischen oberflächenaktiven Agens in Methylisobutylketon; erhältlich von der Firma Dainippon Ink and Chemicals Inc.)Defenser MCF 323 (30% solution of a fluorine atom-containing nonionic surfactant in methyl isobutyl ketone available from Dainippon Ink and Chemicals Inc.) 0,030.03 Methylethylketonmethyl ethyl ketone 1010 PropylenglycolmethylätherPropylenglycolmethyläther 2525

SiliconkautschuksschichtSilicone rubber layer

Dann wurde eine Zusammensetzung für die Siliconkautschuk­ schicht mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung auf die obengenannte photopolymerisierbare lichtempfindli­ che Schicht in einer Menge von 2,0 g/m2 (gewogen nach dem Trocknen) aufgebracht und danach 2 min lang bei 140°C ge­ trocknet, wobei man eine gehärtete Siliconkautschukschicht erhielt.Then, a composition for the silicone rubber layer having the composition shown below was applied to the above-mentioned photopolymerizable photosensitive layer in an amount of 2.0 g / m 2 (weighed after drying) and then dried at 140 ° C for 2 minutes. to obtain a cured silicone rubber layer.

Zusammensetzung für die SiliconkautschukschichtComposition for the silicone rubber layer

Komponentecomponent Menge (Gew.-Teile)Quantity (parts by weight) Polysiloxane als Basispolymere mit jeweils einer Kettenlänge k (Anzahl der wiederkehrenden Einheiten) wie in der Tabelle I angegeben:Polysiloxanes as base polymers, each having a chain length k (number of repeating units) as indicated in Table I: CH2=CH-(Si(CH3)2-O)k-Si(CH3)2-CH=CH2 CH 2 = CH- (Si (CH 3 ) 2 -O) k -Si (CH 3 ) 2 -CH = CH 2 99 (Gesamtmenge)(Total quantity) Hydrogenpolysiloxan als Vernetzungsmittel, dessen copolymerisierte Kettenlängen m, n in der Tabelle I angegeben sind: @Hydrogenpolysiloxane as crosslinking agent whose copolymerized chain lengths m, n are given in Table I: @ (CH3)3-SiO-(SiH(CH3)-O)m-Si(CH3)2-O)n-Si(CH3)3 (die Menge des zuzugebenden Hydrogenpolysiloxans wurde so festgelegt, daß die Menge ihrer Si-H-Gruppen das 10fache derjenigen der Vinylgruppen des Alkylenpolysiloxans betrug)(CH 3 ) 3 -SiO- (SiH (CH 3 ) -O) m -Si (CH 3 ) 2 -O) n -Si (CH 3 ) 3 (the amount of the hydrogenpolysiloxane to be added was determined so that the amount of Si-H groups were 10 times that of the vinyl groups of the alkylene polysiloxane) XX Polydimethylsiloxan (Polymerisationsgrad etwa 8000)Polydimethylsiloxane (degree of polymerization about 8000) 0,50.5 Olefin-Chloroplatin(IV)säureOlefin-chloroplatinic (IV) acid 0,20.2 Verzögererretarder 0,30.3 Isopar G (erhältlich von der Firma ESSO Chemical Company)Isopar G (available from ESSO Chemical Company) 140140

Ein biaxial orientierter, einseitig mattierter Polypropy­ lenfilm mit einer Dicke von 9 µm und der Fähigkeit, die Haftung unter Vakuum an einem Original-Film zu verbessern, wurde auf die auf die Aluminiumplatte aufgebrachte Siliconkautschukschicht so auflaminiert, daß eine nicht­ mattierte Oberfläche mit der Siliconkautschukschicht in Kontakt kam, unter Bildung einer trockenen PS-Platte.A biaxially oriented, one-sided matted polypropylene lenfilm with a thickness of 9 microns and the ability to Improve adhesion under vacuum to an original film, was applied to the aluminum plate Silicone rubber layer laminated so that a not  matt surface with the silicone rubber layer in Contact came under formation of a dry PS plate.

Tabelle I Table I

Ein positiver Film (Größe 450 mm x 300 mm; Dicke 100 µm), der ein Halbtonpunktmuster von 200 Linien/2,54 cm (1 inch) trug, wurde auf jede dieser PS-Platten (Größe 600 mm × 450 mm) aufgelegt, dann wurde das Ganze unter Verwendung einer Vakuumbelichtungsvorrichtung FT261V UDNS ULTRA-PLUS FLIP- TOP PLATE MAKER (erhältlich von der Firma Nu Arc Company) über 30 Zähler (counts) belichtet und der auflaminierte Film wurde abgezogen.A positive film (size 450 mm x 300 mm, thickness 100 μm), a halftone dot pattern of 200 lines / 2.54 cm (1 inch) wore on each of these PS plates (size 600 mm × 450 mm), then the whole thing was using a Vacuum exposure device FT261V UDNS ULTRA-PLUS FLIP TOP PLATE MAKER (available from Nu Arc Company) Over 30 counters (counts) exposed and laminated Movie was deducted.

Jede Platte wurde in Wasser von 35°C eingetaucht, während sie mit einem Entwicklungspolster gerieben wurde, um die Siliconkautschukschicht auf dem bildfreien Bereich zu ent­ fernen, anschließend wurde mit einer Färbelösung mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung angefärbt, wobei eine trockene lithographischen Druckplatte erhalten wurde.Each plate was immersed in water at 35 ° C while she was rubbed with a development pad to the Silicon rubber layer on the non-image area ent distant, followed by a dyeing solution with the colored according to the following composition, wherein a dry lithographic printing plate was obtained.

Färbelösungstaining solution

Komponentecomponent Gew.-Teile)Parts by weight) Kristallviolettcrystal violet 0,10.1 DiethylenglycolmonomethylätherDiethylenglycolmonomethyläther 1515 reines Wasserpure water 8585

Dann wurde jede Platte auf eine lithographische Offset- Druckerpresse aufgelegt, aus der die Anfeuchtungswasser- Zuführungsvorrichtung entfernt wurde, und es wurden Druckarbeitsgänge durchgeführt unter Verwendung von einer kommerziell erhältlichen schwarzen Tinte für eine trockene lithographische Druckplatte, um die Anzahl der erhaltenen akzeptablen Kopien (die Druckhaltbarkeit) zu bewerten, bis die Siliconkautschukschicht auf dem bildfreien Bereich zerbrach und die Druckplatte eine entsprechende Hinter­ grundkontamination sowie eine Ablösung der Silicon­ kautschukschicht (am Filmrand) hervorrief als Folge einer Druckänderung an den Randabschnitten des Originalfilms, die aus der unvollständigen Belichtung resultierte. Die so erhaltenen Ergebnisse sind in der Tabelle II zusammenge­ faßt.Then each plate was placed on a lithographic offset Printing press, from which the moistening water Feeder was removed, and there were Printing operations performed using one commercially available black ink for a dry lithographic printing plate to the number of obtained to evaluate acceptable copies (the print durability) until the silicone rubber layer on the non-image area broke and the pressure plate a corresponding behind basic contamination as well as a replacement of the silicone rubber layer (on the edge of the film) caused as a result of a Pressure change at the margins of the original film, which resulted from incomplete exposure. The way  results obtained are summarized in Table II summarizes.

Tabelle II Table II

Die in der Tabelle II angegebenen Ergebnisse zeigen ein­ deutig, daß die erfindungsgemäße trockene lithographische Druckplatte eine ausgezeichnete Beständigkeit gegen Hin­ tergrundkontamination und eine ausgezeichnete Druckhalt­ barkeit und eine gute Filmrandqualität aufweist.The results given in Table II indicate clear that the inventive dry lithographic Pressure plate excellent resistance to Hin background contamination and excellent pressure retention availability and a good film edge quality.

Beispiel 11Example 11 Primer-SchichtPrimer layer

Auf eine Aluminiumplatte gemäß JIS A 1050 mit einer Dicke von 0,24 mm, die entfettet und auf übliche Weise mit einem Silicat behandelt worden war, wurde die gleiche Primer- Schicht, wie sie in den Beispielen 1 bis 10 verwendet wor­ den war, in einer Menge von 3 g/m2 (gewogen nach dem Trocknen) aufgebracht und getrocknet und durch 2-minütiges Erhitzen auf 130°C gehärtet. Danach wurde die so auf ge­ brachte Primer-Schicht auf die gleiche Weise wie in den Beispielen 1 bis 10 belichtet, um sie auszuhärten.On an aluminum plate according to JIS A 1050 having a thickness of 0.24 mm, which had been degreased and treated with a silicate in the usual manner, the same primer layer as that used in Examples 1 to 10 was used 3 g / m 2 (weighed after drying) and dried and cured by heating at 130 ° C for 2 minutes. Thereafter, the thus-applied primer layer was exposed in the same manner as in Examples 1 to 10 to cure it.

Lichtempfindliche SchichtPhotosensitive layer

Eine photopolymerisierbare lichtempfindliche Lösung mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung wurde auf die Aluminiumplatte, auf der eine Primer-Schicht vorgesehen war, in einer Menge von 3 g/m² (gewogen nach dem Trocknen) aufgebracht und dann durch 1minütiges Erhitzen auf 120°C getrocknet.A photopolymerizable photosensitive solution with the composition given below was applied to the Aluminum plate on which a primer layer is provided was, in an amount of 3 g / m² (weighed after drying) applied and then by heating at 120 ° C for 1 minute dried.

Lichtempfindliche LösungPhotosensitive solution SiliconkautschuksschichtSilicone rubber layer

Dann wurde eine Zusammensetzung für die Siliconkautschuk­ schicht mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung auf die obengenannte photopolymerisierbare lichtempfindli­ che Schicht in einer Menge von 1,8 g/m2 (gewogen nach dem Trocknen) aufgebracht und dann 2 min lang bei 140°C ge­ trocknet, wobei man eine gehärtete Siliconkautschukschicht erhielt. Then, a composition for the silicone rubber layer having the composition shown below was applied to the above-mentioned photopolymerizable photosensitive layer in an amount of 1.8 g / m 2 (weighed after drying), and then dried at 140 ° C for 2 minutes. to obtain a cured silicone rubber layer.

Zusammensetzung für die SiliconkautschukschichtComposition for the silicone rubber layer

Komponentecomponent Menge (Gew.-Teile)Quantity (parts by weight) die folgenden Polysiloxane als Basispolymere:the following polysiloxanes as base polymers: CH₂=CH-(Si(CH₃)₂-O)k-Si(CH₃)₂-CH=CH₂ @CH₂ = CH- (Si (CH₃) ₂-O) k -Si (CH₃) ₂-CH = CH₂ @ k=500k = 500 88th k=700k = 700 11 das folgende Hydrogenpolysiloxan als Vernetzungsmittel: @the following hydrogenpolysiloxane as crosslinking agent: @ (CH₃)₃SiO-(SiH(CH₃)-O)₈-Si(CH₃)₃(CH₃) ₃SiO- (SiH (CH₃) -O) ₈-Si (CH₃) ₃ 0,40.4 Polydimethylsiloxan (Polymerisationsgrad etwa 8000)Polydimethylsiloxane (degree of polymerization about 8000) 0,50.5 (CH₃)₃SiO-(Si(CH₃)₂-Op-Si(CH₃) (CH₂CH(CH₃)-C₆H₅)-O)q-Si(CH₃)₃; p/q=75/25; MG = etwa 2×10⁴(CH₃) ₃SiO- (Si (CH₃) ₂-O p -Si (CH₃) (CH₂CH (CH₃) -C₆H₅) -O) q -Si (CH₃) ₃; p / q = 75/25; MG = about 2 × 10⁴ 0,050.05 Olefin-Chloroplatin(IV)säureOlefin-chloroplatinic (IV) acid 0,10.1 Verzögererretarder 0,30.3 Isopar G (erhältlich von der Firma ESSO Chemical Company)Isopar G (available from ESSO Chemical Company) 100100

Ein biaxial orientierter, einseitig mattierter Polyethy­ lenterephthalatfilm mit einer Dicke von 6 µm und der Fä­ higkeit, die Haftung unter Vakuum zu verbessern, wurde auf die auf die Aluminiumplatte aufgebrachte Silicon­ kautschukschicht so auflaminiert, daß seine nicht-mat­ tierte Oberfläche mit der Siliconkautschukschicht in Kon­ takt kam, wobei eine trockene PS-Platte erhalten wurde.A biaxially oriented, one-sided matted polyethy lenterephthalate film with a thickness of 6 μm and the Fä ability to improve adhesion under vacuum has been on the silicone applied to the aluminum plate rubber layer laminated so that its non-mat surface with the silicone rubber layer in Kon came to a dry PS plate was obtained.

Auf die gleiche Weise wie in den Beispielen 1 bis 10 wurde die resultierende trockene PS-Platte bildmäßig belichtet, entwickelt und angefärbt, wobei man eine trockene litho­ graphische Druckplatte erhielt, und es wurden Druckopera­ tionen durchgeführt, um die Eigenschaften der Druckplatte zu bewerten. Dabei wurden die folgenden Ergebnisse erhal­ ten:In the same manner as in Examples 1 to 10 was imagewise exposing the resulting dry PS plate, developed and stained, using a dry litho received graphic printing plate, and there were Druckopera performed on the properties of the printing plate to rate. The following results were obtained th:

Beständigkeit gegen Hintergrundkontamination:Resistance to background contamination: Bewertung ARating A Druckhaltbarkeit:Printing durability: 150 000 Kopien150,000 copies Filmrand:Film edge: Bewertung ARating A

Claims (7)

1. Vorsensibilisierte Platte für die Verwendung zur Her­ stellung einer lithographischen Druckplatte, die kein An­ feuchtungswasser benötigt, gekennzeichnet durch ein Substrat, auf dem in der genannten Reihenfolge vorgesehen sind eine lichtempfindliche Schicht und eine Siliconkautschukschicht, wobei die Siliconkautschukschicht eine Schicht darstellt, die gebildet worden ist durch Ver­ netzung der folgenden Komponenten (a) und (b) durch eine Additionsreaktion:
  • a) eine Mischung von Polysiloxanen, die als Basispolymere dienen, die jeweils im Molekül mindestens zwei Alkenyl­ gruppen, die direkt an Siliciumatome gebunden sind, und Gruppen der allgemeinen Formel aufweisen: -(Si(R1) (R2)- O)k- (worin R1 und R2 jeweils stehen für eine Alkyl-, Aryl-, Aralkyl-, Vinyl- oder halogenierte Kohlenwasser­ stoffgruppe, mit der Maßgabe, daß mindestens 70% dieser Gruppen R1 und R2 Methylgruppen sind), wobei die Mischung enthält (i) 50 bis 95 Gew.-% des Polysiloxans, dessen durchschnittliche Anzahl k der wiederkehrenden Einheiten innerhalb des Bereiches von 100 bis 500 liegt, und (ii) 5 bis 50 Gew.-% des Polysiloxans, dessen durchschnittliche Anzahl k der wiederkehrenden Einheiten in dem Bereich von 700 bis 10 000 liegt ((i) + (ii = 100 Gew.-%) und
  • b) ein Hydrogenpolysiloxan der folgenden allgemeinen For­ mel: R³-Si(R⁴)₂-O-(SiH(R⁴)-O)m-(Si(R⁴)₂-O)n-Si(R⁴)₂-R³ (I)(worin R3 für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe steht; R4 für eine Alkyl-, Aryl-, Aralkyl- oder Vinyl­ gruppe steht, mit der Maßgabe, daß eine Vielzahl der Grup­ pen R3 oder eine Vielzahl der Gruppen R4 gleich oder ver­ schieden sein können und mindestens 70% der Reste R4 Methylgruppen darstellen, wobei m+n = 4 bis 100 und n/m = 0 bis 1).
Anspruch [en] A presensitized plate for use in producing a lithographic printing plate which does not require dampening water, characterized by a substrate provided with in the order named a photosensitive layer and a silicone rubber layer, the silicone rubber layer being a layer formed is by an addition reaction of the following components (a) and (b):
  • a) a mixture of polysiloxanes which serve as base polymers, each having in the molecule at least two alkenyl groups which are bonded directly to silicon atoms, and groups of the general formula: - (Si (R 1 ) (R 2 ) - O) k - (wherein R 1 and R 2 each represent an alkyl, aryl, aralkyl, vinyl or halogenated hydrocarbon group, with the proviso that at least 70% of these groups R 1 and R 2 are methyl groups), wherein the mixture contains (i) 50 to 95% by weight of the polysiloxane whose average number k of recurring units is within the range of 100 to 500, and (ii) 5 to 50% by weight of the polysiloxane, the average number k of which is recurring Units in the range of 700 to 10,000 are ((i) + (ii = 100 wt%) and
  • b) a hydrogenpolysiloxane of the following general formula: R³-Si (R⁴) ₂-O- (SiH (R⁴) -O) m - (Si (R⁴) ₂-O) n -Si (R⁴) ₂-R³ (I ) (wherein R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group; R 4 represents an alkyl, aryl, aralkyl or vinyl groups, with the proviso that a plurality of Grup groups R 3 or a plurality of the groups R 4 are the same or may be different and at least 70% of the radicals R 4 are methyl groups, where m + n = 4 to 100 and n / m = 0 to 1).
2. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Mischungsverhältnis zwi­ schen dem Polysiloxan (i) und dem Polysiloxan (ii) in dem Bereich von 70 : 30 bis 90 : 10 liegt.2. Vorsensibilisierte plate according to claim 1, characterized in that the mixing ratio zwi the polysiloxane (i) and the polysiloxane (ii) in the Range from 70: 30 to 90: 10. 3. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Mi­ schungsverhältnis zwischen dem Hydrogenpolysiloxan (b) und dem Polysiloxan (a) so festgelegt wird, daß die Menge des ersteren (b) in dem Bereich von 4 bis 15 Äquivalenten liegt, ausgedrückt durch die Menge der Si-H-Gruppen pro Einheits-Äquivalentmenge der ungesättigten Kohlenstoff- Kohlenstoff-Gruppen der Basispolymeren (a).3. Presensitized plate after at least one of Claims 1 to 2, characterized in that the Mi ratio between the hydrogenpolysiloxane (b) and the polysiloxane (a) is set so that the amount of the former (b) in the range of 4 to 15 equivalents is expressed by the amount of Si-H groups per Unit equivalent amount of unsaturated carbon Carbon groups of the base polymers (a). 4. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Sili­ conkautschukschicht außerdem umfaßt bzw. enthält eine ein Siliciumatom enthaltende Verbindung, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel: (R⁵)₃-SiO-(Si(R⁵)₂-O)p-(Si(R⁶) (R⁷)-O)q-Si(R⁵)₃ (II)in der die Reste R5 gleich oder verschieden sein können und jeweils stehen für eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Koh­ lenstoffatomen; R6 und R7 gleich oder verschieden sein können und jeweils stehen für eine substituierte oder un­ substituierte Alkylgruppe oder eine substituierte oder un­ substituierte aromatische Gruppe, mit der Maßgabe, daß mindestens einer der Reste R6 und R7 eine substituierte oder unsubstituierte aromatische Gruppe darstellt; und worin das Molverhältnis p/q in dem Bereich von 99/1 bis 10/90 liegt. The presensitized plate according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the silicone rubber layer further comprises or contains a silicon atom-containing compound represented by the following general formula: (R⁵) ₃-SiO- (Si (R⁵) ₂-O) p - (Si (R⁶) (R⁷) -O) q -Si (R⁵) ₃ (II) in which the radicals R 5 may be the same or different and each represent an alkyl group having 1 to 4 Koh lenstoffatomen ; R 6 and R 7 may be the same or different and each represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aromatic group, with the proviso that at least one of R 6 and R 7 represents a substituted or unsubstituted aromatic group ; and wherein the molar ratio p / q is in the range of 99/1 to 10/90. 5. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Sili­ conkautschukschicht eine Dicke in dem Bereich von 0,5 bis 5 g/m2 hat.5. Vorsensibilisierte plate according to at least one of claims 1 to 4, characterized in that the Sili conkautschukschicht has a thickness in the range of 0.5 to 5 g / m 2 . 6. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß sie außer­ dem eine auf die Oberfläche der Siliconkautschukschicht aufgebrachte Schutzschicht aufweist, die gebildet worden ist durch Auflaminieren eines transparenten Films, ausge­ wählt aus der Gruppe, die besteht aus einem Polyethylen-, Polypropylen-, Polyvinylchlorid-, Polyvinylidenchlorid-, Polyvinylalkohol-, Polyethylenterephthalat oder Cello­ phan-Film, auf die Siliconkautschukschicht oder durch Be­ schichten der Siliconkautschukschicht mit einem Polymer, ausgewählt aus den obengenannten polymeren Verbindungen, wobei der Film in einer orientierten und/oder mattierten Form verwendet werden kann.6. Presensitized plate after at least one of Claims 1 to 5, characterized in that they except one on the surface of the silicone rubber layer having applied protective layer, which has been formed is by lamination of a transparent film, out selects from the group consisting of a polyethylene, Polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, Polyvinyl alcohol, polyethylene terephthalate or cello phan film, on the silicone rubber layer or by Be layers of the silicone rubber layer with a polymer, selected from the above polymeric compounds, the film being in an oriented and / or frosted Shape can be used. 7. Vorsensibilisierte Platte nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht ein Monomer, Oligomer oder Makromonomer, das mindestens eine photopolymerisierbare ethylenisch ungesättigte Gruppe trägt, eine polymere Verbindung mit einem Filmbildungsvermögen, und einen Photopolymerisationsinitiator umfaßt.7. Presensitized plate after at least one of claims 1 to 6, characterized in that the photosensitive layer is a monomer, oligomer or Macromonomer containing at least one photopolymerizable carries ethylenically unsaturated group, a polymeric Compound with a film forming ability, and a Photopolymerization initiator.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19955214A1 (en) * 1999-11-17 2001-06-21 Stork Gmbh Process for the production of conductor patterns
WO2008017674A1 (en) * 2006-08-09 2008-02-14 Wacker Chemie Ag Crosslinkable reactive silicone organic copolymers and method for the production and use thereof
WO2008017671A1 (en) * 2006-08-09 2008-02-14 Wacker Chemie Ag Self-dispersible silicon copolymeres and method for the production and use thereof
WO2008017672A1 (en) * 2006-08-09 2008-02-14 Wacker Chemie Ag Solutions containing solids of siliconorganocopolymers with hight silicon content and high solid conent and method for the production and the use thereof

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3290313B2 (en) 1994-09-07 2002-06-10 富士写真フイルム株式会社 Photosensitive lithographic printing plate not requiring dampening solution and plate making method
JP3322493B2 (en) * 1994-12-09 2002-09-09 富士写真フイルム株式会社 No fountain solution photosensitive lithographic printing plate

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19955214A1 (en) * 1999-11-17 2001-06-21 Stork Gmbh Process for the production of conductor patterns
DE19955214B4 (en) * 1999-11-17 2006-05-11 Stork Gmbh Method for producing conductor structures
WO2008017674A1 (en) * 2006-08-09 2008-02-14 Wacker Chemie Ag Crosslinkable reactive silicone organic copolymers and method for the production and use thereof
WO2008017671A1 (en) * 2006-08-09 2008-02-14 Wacker Chemie Ag Self-dispersible silicon copolymeres and method for the production and use thereof
WO2008017672A1 (en) * 2006-08-09 2008-02-14 Wacker Chemie Ag Solutions containing solids of siliconorganocopolymers with hight silicon content and high solid conent and method for the production and the use thereof
US8318879B2 (en) 2006-08-09 2012-11-27 Wacker Chemie Ag High solids content solutions of organosilicone copolymers with high silicone content and high solids content, and process for preparation thereof, and use thereof
US8637613B2 (en) 2006-08-09 2014-01-28 Wacker Chemie Ag Self-dispersible silicone copolymers and method for the production and use thereof

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