DE4235696A1 - Controlling application of specimen for electrophoretic device using reciprocally movable specimen carrier - measuring temp. and humidity in region of carrier element to determine waiting and application times - Google Patents
Controlling application of specimen for electrophoretic device using reciprocally movable specimen carrier - measuring temp. and humidity in region of carrier element to determine waiting and application timesInfo
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Abstract
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Steuern einer Probenapplikation gemäß dem Oberbegriff des Pa tentanspruchs 1, welches für eine elektrophoretische Vor richtung verwendet wird, die zum Beispiel einen Zellulose- Acetat-Film als ein Trägerelement hat, und die eine Applikationswartezeit für das Trägerelement steuert, das heißt, daß das Trägerelement, das mit einer Pufferlösung wie einem Barbitalpuffer befeuchtet ist, geeignet getrocknet ist, bis Blutserum auf das Trägerelement aufgetragen wird, und die eine Zeit für das Applizieren bzw. Auftragen des Se rums auf dem Trägerelement steuert.The present invention relates to a method for control a sample application according to the preamble of Pa claim 1, which for an electrophoretic before direction is used, for example a cellulose Has acetate film as a support member, and the one Application latency for the carrier element that controls means that the carrier element, which with a buffer solution such is moistened in a barbital buffer, suitably dried is until blood serum is applied to the carrier element, and the one time for the application or application of the Se controls rums on the support element.
Als diesen Verfahrenstyp offenbart die veröffentliche unge prüfte JP-A-55-1 62 049, entsprechend US-PS 43 08 822, das Verfahren für zum Beispiel das Feststellen des Feuchtigkeitsniveaus in der Nähe eines Trägerelements, das Setzen einer Applikationswartezeit, das heißt, einer Zeit für das Trägerelement, um in einen Naßzustand gebracht zu werden, der optimal ist für das Aufbringen einer Probe, ge mäß dem festgestellten Feuchtigkeitsniveau, und automa tisches Auftragen der Probe auf das Trägerelement nach dem Ablauf jener gesetzten Zeit. Die AES600, 620 offenbart zum Beispiel das Verfahren zum Teilen der Temperatur- und Feuchtigkeitsniveaus in eine stufenweise Beziehung, das Aufstellen einer Zeittafel, die auf empirisch ermittelten Daten beruht, und Steuerung der Applikationswartezeit und der Applikationszeit. Das heißt, die AES600, 620 teilt die Temperatur- und Feuchtigkeitsniveaus in Segmente von vorbe stimmter Breite, stellt eine Zeittafel auf und bestimmt die Applikationswartezeit und Applikationszeit für jedes Seg ment. Es ist möglich, die Applikationswartezeit und Applika tionszeit, welche einem gegebenen Temperatur-/Feuchtigkeits niveau entspricht, auszulesen, und die Applikationswartezeit und Applikationszeit zu steuern.The published publication discloses this type of process examined JP-A-55-1 62 049, corresponding to US-PS 43 08 822, that Procedures for, for example, determining the Moisture levels near a support member that Set an application waiting time, that is, a time for the support member to get wet be optimal for the application of a sample, ge according to the determined moisture level, and automa table application of the sample to the carrier element after Expiry of that time. The AES600, 620 discloses to Example the procedure for dividing the temperature and Moisture levels in a gradual relationship, that Drawing up a timeline based on empirically determined Data based, and control of application latency and the application time. That is, the AES600, 620 shares the Temperature and humidity levels in segments of of the right width, draws up a time table and determines the Application waiting time and application time for each segment ment. It is possible the application waiting time and applica tion time, which a given temperature / humidity level corresponds to read out and the application waiting time and control application time.
Bei der JP-A-55-1 62 049 war es jedoch schwierig, die exakte Applikationswartezeit und Applikationszeit, die nur auf der Feststellung des Feuchtigkeitsniveaus beruhen, zu steuern. Dies liegt daran, daß die Verdampfung einer Flüssigkeit nicht nur von der Umgebungstemperatur, sondern auch von der Umgebungsfeuchtigkeit beeinflußt wird. Die AES600, 620 kann die Applikationswartezeit durch die Feststellung des Tempe ratur-/Feuchtigkeitsniveaus steuern. Das Verfahren kann je doch nicht mit kontinuierlichen Daten arbeiten und die involvierte Bedingung schwankt bei einem Grenzbereich der Zeittafel. Es ist daher schwierig, einen geeigneten Naßzu stand festzustellen.In JP-A-55-1 62 049, however, it was difficult to get the exact one Application waiting time and application time that only on the Determining the moisture level is based on control. This is because the evaporation of a liquid not only from the ambient temperature, but also from the Ambient humidity is affected. The AES600, 620 can the application waiting time by determining the temperature Control temperature / humidity levels. The procedure can vary but don't work with continuous data and that condition involved fluctuates at a limit range of Timeline. It is therefore difficult to get a suitable wet stood to be determined.
Es ist folglich die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Applizieren einer Probe bereitzustellen, wel ches eine Applikationswartezeit und Applikationszeit durch das Feststellen einer Temperatur und relativer Feuchtigkeit genau finden kann, und das die Applikationswartezeit und Ap plikationszeit frei und kontinuierlich steuern kann.It is therefore the object of the present invention, a To provide methods for applying a sample, wel through an application waiting time and application time determining a temperature and relative humidity can find exactly, and that the application waiting time and Ap control the application time freely and continuously.
Die obige Aufgabe wird durch die Merkmale des Pa tentanspruchs 1 gelöst.The above task is characterized by the characteristics of Pa claim 1 solved.
Das Verfahren der vorliegenden Erfindung beinhaltet das Mes sen einer Temperatur und relativer Feuchtigkeit und, vor der Applikation der Probe, das freie und kontinuierliche Steuern auf der Basis von jenen gemessenen Werten einer Applika tionswartezeit, die nötig ist, um ein Trägerelement in einem geeigneten Naßzustand zu halten. Ferner ist es, basierend auf den Werten, auch möglich, eine Zeit für das Applizieren eines Serums auf das Trägerelement und eine Serumkontaktzeit zu steuern. Die Probe wird auf ein Trägerelement gemäß der Applikationswartezeit und der gesteuerten Applikationszeit appliziert.The method of the present invention involves measuring a temperature and relative humidity and, before Application of the sample, the free and continuous control based on those measured values of an applica tion waiting time, which is necessary to a carrier element in one maintain a suitable wet condition. Furthermore, it is based on the values, also possible, a time for applying a serum on the carrier element and a serum contact time to control. The sample is placed on a carrier element according to the Application waiting time and the controlled application time applied.
Als ein Ergebnis kann das Verfahren der vorliegenden Erfin dung die Applikationswartezeit und Applikationszeit durch die Temperatur und involvierte relative Feuchtigkeit genau feststellen, und ferner kann die Applikationswartezeit und Applikationszeit stufenlos und kontinuierlich gesetzt oder modifiziert werden, da die Applikationswartezeit und die Ap plikationszeit durch die Funktion definiert sind.As a result, the method of the present invention the application waiting time and application time the temperature and relative humidity involved exactly determine, and furthermore the application waiting time and Application time set continuously and continuously or be modified because the application waiting time and the Ap time defined by the function.
Weitere Vorteile und Merkmale der vorliegenden Erfindung er geben sich aufgrund der Beschreibung einer bevorzugten Aus führungsform sowie anhand der Zeichnung.Further advantages and features of the present invention he give themselves based on the description of a preferred management form and based on the drawing.
Es zeigt:It shows:
Fig. 1 ein Kurvenschaubild, das eine Beziehung einer Tem peratur zu einer Applikationswartezeit zeigt, für welche ein Verfahren zum Steuern einer Probenap plikation gemäß der vorliegenden Erfindung ange wendet wird; undIs Figure 1 is a curve diagram showing a relation of temperature Tem to an application waiting time for which a method of controlling a Probenap plication applies according to the present invention are possible. and
Fig. 2 eine Ansicht, die schematisch eine Anordnung einer Probenapplikationsvorrichtung zeigt, für welche das Verfahren der vorliegenden Erfindung angewen det wird. Fig. 2 is a view schematically showing an arrangement of a sample application device to which the method of the present invention is applied.
Ein Verfahren zum Steuern der Applikation einer Probe gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung wird unten unter Be zug auf Fig. 1 und 2 erläutert.A method for controlling the application of a sample according to an aspect of the present invention is explained below with reference to FIGS. 1 and 2.
Das Prinzip, wie man die Applikationswartezeit und Applika tionszeit bei dem Verfahren zum Steuern der Applikation ei ner Probe gemäß der vorliegenden Erfindung feststellt, wird unten erläutert. The principle of how to keep the application waiting time and applica tion time in the process for controlling the application detects a sample according to the present invention explained below.
Allgemein wird die Geschwindigkeit der Wasserverdampfung bei gegebener Atmosphäre im wesentlichen durch eine Differenz (es-e) zwischen einem gesättigten Wasserdampfdruck (es) bei der Umgebungstemperatur und einem Wasserdampfpartialdruck (e) bei dem Umgebungsdruck definiert.In general, the rate of water evaporation in a given atmosphere is essentially defined by a difference (e s -e) between a saturated water vapor pressure (e s ) at the ambient temperature and a water vapor partial pressure (e) at the ambient pressure.
Der gesättigte Wasserdampfdruck (es) ist als eine Tempera turfunktion gegeben, zum Beispiel als Antoine-Formel.The saturated water vapor pressure (e s) is given as a temperature turfunktion, for example as Antoine formula.
log₁₀es = 8 · 10 765-1750 · 286/(235 · O+t)log₁₀e s = 8 · 10 765-1750 · 286 / (235 · O + t)
wobeiin which
die Temperatur t: °C; und
die Atmosphäre es: mmHg ist.the temperature t: ° C; and
the atmosphere e s: mmHg.
Die unter angegebene empirische Formel lautet:The empirical formula given below is:
lnes = 60 · 32-6851/T-5 · 138lnT:lne s = 6032-6851 / T-5138lnT:
wobeiin which
die Temperatur T: K; und
die Atmosphäre es: Pa ist.the temperature T: K; and
the atmosphere e s: Pa.
Ferner ist die relative Feuchtigkeit (RH)Furthermore, the relative humidity (RH)
RH = e/es×100,RH = e / e s × 100,
(es-e) wird wie folgt ausgedrückt:(e s -e) is expressed as follows:
es-e = es{1-(RH/100)}e s -e = e s {1- (RH / 100)}
Ferner werden der gesättigte Wasserdampfdruck (es) und die relative Feuchtigkeit (RH) als eine Temperaturfunktion bzw. Feuchtigkeitsfunktion ausgedrückt, und so wird (es-e) eine Temperatur/Feuchtigkeitsfunktion. Das heißt, je größer der Wert (es-e), desto schneller ist die Wasserverdampfung, und je kleiner der Wert ist, desto langsamer ist die Wasserverdampfung. Die Applikationswartezeit (tTS) und die Applikationszeit (tAP) (Einheit sec.) stehen im inversen Verhältnis zu (es-e),Further, the saturated water vapor pressure (e s ) and the relative humidity (RH) are expressed as a temperature function and moisture function, respectively, and so (e s -e) becomes a temperature / humidity function. That is, the larger the value (e s -e), the faster the water evaporation, and the smaller the value, the slower the water evaporation. The application waiting time (t TS ) and the application time (t AP ) (unit sec.) Are inversely related to (e s -e),
tTS = {a/(es-e)} + b.t TS = {a / (e s -e)} + b.
Es muß angemerkt werden, daß der Koeffizient a etwas schwankt, abhängig von der Art des Trägerelements und daß die Konstante b als theoretischer Wert 0 ist, und daß sie so definiert ist, um einen fehlerbehafteten Wert zwischen dem theoretischen Wert und einem gemessenen Wert zu korrigieren.It should be noted that the coefficient a is something varies depending on the type of support member and that the constant b as the theoretical value is 0, and that it is so is defined to be an erroneous value between the correct theoretical value and a measured value.
Auf diese Weise kann die Applikationswartezeit (tTS) in ei ner einfacheren Weise nur durch das Feststellen der Tempera tur- und relativen Feuchtigkeitsniveaus festgestellt werden.In this way, the application waiting time (t TS ) can be determined in a simpler manner only by determining the temperature and relative humidity levels.
Wie in Fig. 1 gezeigt, wird die Beziehung der oben erwähnten Applikationswartezeit (tTS) zur Temperatur (T) als eine gra phische Darstellung aufgetragen. In dem kurvenschaubild, ge zeigt in Fig. 1, zeigt eine charakteristische Kurve a eine Beziehung bei einem niedrigen Feuchtigkeitsniveau, bei wel cher Zeit die Applikationswartezeit (tTS) kürzer wird. In Fig. 1 werden die charakteristischen Kurven b, c, d und e mit der Feuchtigkeit in jener Reihenfolge höher und auch die Applikationswartezeit (tTS) wird länger. Wie klar ersicht lich aus dem Kurvenschaubild, gezeigt in Fig. 1, wird die Applikationswartezeit (tTS) maximal bei einer niedrigen Tem peratur und bei einer hohen Feuchtigkeit.As shown in Fig. 1, the relationship of the above-mentioned application waiting time (t TS ) to the temperature (T) is plotted as a graph. In the graph, shown in Fig. 1, a characteristic curve a shows a relationship at a low humidity level, at which time the application waiting time (t TS ) becomes shorter. In Fig. 1, the characteristic curves b, c, d and e become higher with the moisture in that order and also the application waiting time (t TS ) becomes longer. As clearly shown in the graph, shown in Fig. 1, the application waiting time (t TS ) becomes maximum at a low temperature and a high humidity.
Ähnliche Kenndaten wurden auch für die Applikationszeit (tAP) beobachtet, und daher wurde jede weitere Erläuterung weggelassen.Similar characteristics were also observed for the application time (t AP ), and therefore any further explanation has been omitted.
Fig. 2 zeigt schematisch eine Anordnung einer Probenapplika tionsvorrichtung, bei welcher das vorliegende Verfahren, das heißt, ein Verfahren zum Steuern der Applikation, basierend auf dem oben erwähnten Prinzip, angewendet wird. FIG. 2 schematically shows an arrangement of a sample application device in which the present method, that is, a method for controlling the application based on the above-mentioned principle, is applied.
Wie in Fig. 2 gezeigt, beinhaltet die Probenapplikationsvor richtung einen Temperatursensor 2 und einen Feuchtigkeits sensor 4. Der Temperatursensor 2 und Feuchtigkeitssensor 4 sind mit dem ersten und dem zweiten Detektor 6 und 8 verbun den. Die Widerstandswerte, die aus dem Temperatursensor 2 und dem Feuchtigkeitssensor 4 ausgegeben werden, werden in den ersten und zweiten Detektor 6 und 8 eingegeben.As shown in FIG. 2, the sample application device includes a temperature sensor 2 and a humidity sensor 4 . The temperature sensor 2 and humidity sensor 4 are connected to the first and second detectors 6 and 8 . The resistance values output from the temperature sensor 2 and the humidity sensor 4 are input to the first and second detectors 6 and 8 .
Der erste und zweite Detektor 6 und 8 konvertiert jeweils die Eingangswiderstandswerte in Spannungswerte, die propor tional zu der Temperatur und Feuchtigkeit sind, und übergibt jeweils korrespondierende Ausgangswerte an den ersten und zweiten A/D-Wandler 10 und 12.The first and second detectors 6 and 8 each convert the input resistance values into voltage values that are proportional to the temperature and humidity, and pass corresponding output values to the first and second A / D converters 10 and 12 , respectively.
Der erste und zweite A/D-Wandler 10 und 12 führen vorbe stimmte arithmetische Operationen mit den Eingangsspannungs werten aus und konvertieren so die Eingangsanalogwerte in digitale Werte und übergeben die digitalen Werte an eine arithmetische Vorrichtung 14.The first and second A / D converters 10 and 12 perform predetermined arithmetic operations on the input voltage values, thereby converting the input analog values to digital values and passing the digital values to an arithmetic device 14 .
Die arithmetische Vorrichtung 14 führt eine arithmetische Operation mit einer Probenapplikationswartezeit (tTS) und Applikationszeit, basierend auf dem oben erwähnten Prinzip durch und übergibt eine resultierende Ausgabe an eine Zäh lerschaltung 16.The arithmetic device 14 performs an arithmetic operation with a sample application waiting time (t TS ) and application time based on the above-mentioned principle and outputs a resultant output to a counter circuit 16 .
Nach dem Zählen der Probenapplikationswartezeit (tTS) über gibt die Zählerschaltung 16, auf der Basis der gezählten Probenapplikationswartezeit (tTS), ein korrespierendes Steuerungssignal an eine Motorsteuerung 18.After the sample application waiting time (t TS ) has been counted, the counter circuit 16 , based on the counted sample application waiting time (t TS ), transmits a corresponding control signal to an engine control 18 .
Die Motorsteuerung 18 kann einen Motor (M) 20 frei und kon tinuierlich in der normalen und der umgekehrten Richtung an treiben.The motor controller 18 can drive a motor (M) 20 freely and continuously in the normal and reverse directions.
Ein Zahnritzel 24 im Ineinandergreifen mit einer Zahnstange 22 ist auf einer Antriebswelle des Motors (M) 20 befestigt. Das Antreiben des Motors (M) 20 in die normale und umge kehrte Richtung verursacht die Rotation des Zahnritzels 24 in die normale und umgekehrte Richtung, was umgekehrt die Bewegung der Zahnstange 22 aufwärts und abwärts verursacht, wie durch den Pfeil S in Fig. 2 angezeigt ist.A toothed pinion 24 meshed with a rack 22 is fixed on a drive shaft of the motor (M) 20 . Driving the motor (M) 20 in the normal and reverse directions causes the pinion 24 to rotate in the normal and reverse directions, which in turn causes the rack 22 to move up and down as indicated by arrow S in FIG. 2 is.
Ein Applikator 26 mit seinem daran befestigten Applikations endteil 28 ist an dem oberen Teil der Zahnstange 22 vorgese hen, so daß das Applikationsendteil 28 mit der Bewegung der Zahnstange 22 in die Richtungen des Pfeiles S nach oben und unten bewegt wird, wie in Fig. 2 gezeigt.An applicator 26 with its attached application end 28 is hen at the upper part of the rack 22 , so that the application end 28 is moved with the movement of the rack 22 in the directions of arrow S up and down, as in FIG. 2 shown.
Ein Trägerelement 28a ist an dem unteren Ende des Applika tionsendteils 28 vorgesehen, um zu ermöglichen, daß eine Probe wie Blutserum, nicht gezeigt, dort aufgebracht wird.A support member 28 a is provided at the lower end of the application end portion 28 to enable a sample such as blood serum, not shown, to be applied there.
Der Betrieb der so konstruierten Probenapplikationsvorrich tung wird unten kurz erläutert.Operation of the sample application device so constructed tion is briefly explained below.
Die Atmosphäre in der Nähe des Trägerelements 28a wird normalerweise durch die Temperatur- und Feuchtigkeitssenso ren 2 und 4 überwacht, so daß, wenn das Trägerelement 28a in einem geeigneten Naßzustand gehalten ist, ein Steuerungs signal von der Zählerschaltung 16 durch die oben erwähnte Schaltung ausgegeben wird. Die Motorsteuerung 18 reagiert auf das Eingangssteuerungssignal, um den Motor (M) 20 anzutreiben, so daß das Zahnritzel 24 in eine vorbestimmte Richtung gedreht wird, zum Beispiel in die normale Richtung.The atmosphere near the support member 28 a is normally monitored by the temperature and humidity sensors 2 and 4 , so that when the support member 28 a is kept in a suitable wet condition, a control signal from the counter circuit 16 by the above-mentioned circuit is issued. The motor controller 18 is responsive to the input control signal to drive the motor (M) 20 so that the pinion 24 is rotated in a predetermined direction, for example in the normal direction.
Durch das Drehen des Zahnritzels 24 in die normale Richtung wird die Zahnstange 22 in die Richtung des Pfeils S in Fig. 2 abgesenkt, um zu verursachen, daß der Applikator 26 und das Applikationsendteil 28 durch die Abwärtsbewegung der Zahnstange 22 abgesenkt werden. Als ein Ergebnis wird das Applikationsendteil 28 in einem Applikationswartezustand zu der Probe abgesenkt, um der Probe, nicht gezeigt, zu ermög lichen, auf das Trägerelement 28a aufgebracht zu werden. Dieser Zustand wird für eine Zeitspanne beibehalten, bis eine Probe hinreichend auf dem Trägerelement 28a aufgebracht ist.By rotating the pinion 24 in the normal direction, the rack 22 is lowered in the direction of arrow S in FIG. 2 to cause the applicator 26 and the application end portion 28 to be lowered by the downward movement of the rack 22 . As a result, the applicating end portion is lowered in an application waiting state to the sample 28 to be applied to enabled union, to the carrier member 28 a to the sample, not shown. This state is maintained for a period of time until a sample is sufficiently applied to the carrier element 28 a.
Nachdem die Probe auf dem Trägerelement 28a aufgebracht wurde, wird noch ein Steuerungssignal von der Zählerschal tung 16 ausgegeben, um zu veranlassen, daß der Motor (M) 20 durch die Motorsteuerung 18 angetrieben wird und somit das Zahnritzel 24 in die umgekehrte Richtung gedreht wird.After the sample has been applied to the carrier element 28 a, a control signal is still output from the counter circuit 16 to cause the motor (M) 20 to be driven by the motor control 18 and thus the pinion 24 is rotated in the opposite direction .
Durch das Drehen des Zahnritzels 24 in die umgekehrte Rich tung, wird die Zahnstange 22 aufwärts bewegt, um dem Appli kator 26 und dem Applikationsendteil 28 zu ermöglichen, auf wärts bewegt zu werden. Als ein Ergebnis wird das Trägerele ment 28a mit der daran aufgebrachten Probe aufwärts bewegt, weg von der Probenposition.By rotating the pinion 24 in the reverse direction Rich, the rack 22 is moved upward to allow the applicator 26 and the application end part 28 to be moved upward. As a result, the management is Trägerele 28 a with the applied thereto sample is moved upward, away from the sample position.
In der vorliegenden Ausführungsform wird die Applikations wartezeit (tTS) und die Applikationszeit durch das Feststel len der Temperatur und der relativen Feuchtigkeit festge stellt und durch das Ermitteln der Differenz zwischen einem gesättigten Wasserdampfdruck und dem Wasserdampfpartial druck. Da die Applikationswartezeit (tTS) und die Applika tionszeit durch die Funktion, wie gezeigt in Fig. 1, defi niert sind, ist es möglich, die Applikationswartezeit (tTS) und die Applikationszeit in einer stufenlosen und kontinu ierlichen Weise zu setzen und zu variieren. Gemäß dem vor liegenden Verfahren kann die Probe auf dem Trägerelement 28a aufgebracht werden, wenn der Grad des Trocknens des Träger elements 28a optimal ist.In the present embodiment, the application waiting time (t TS ) and the application time is determined by determining the temperature and the relative humidity and by determining the difference between a saturated water vapor pressure and the water vapor partial pressure. Since the application waiting time (t TS ) and the application time are defined by the function as shown in FIG. 1, it is possible to set and to set the application waiting time (t TS ) and the application time in a stepless and continuous manner vary. According to the prior method, the sample can be applied to the carrier element 28 a if the degree of drying of the carrier element 28 a is optimal.
Claims (5)
einen ersten Schritt zum Feststellen einer Temperatur in der Nähe des Trägerelements (28a);
einen zweiten Schritt zum Feststellen einer Feuchtig keit in der Nähe des Trägerelements (28a);
einen dritten Schritt des freien und kontinuierlichen Setzens, auf der Basis von den festgestellten Werten, die bei dem ersten und zweiten Schritt erhalten wurden, einer Applikationswartezeit, die nötig ist, um das Trä gerelement (28a) in einem geeigneten Naßzustand zu hal ten, und einer Applikationszeit, die nötig ist, um die Probe hinreichend auf dem Trägerelement (28a) aufzu bringen; und
einen vierten Schritt des Inkontaktbringens des Trä gerelements (28a) mit der Probe durch die Bewegungs mittel, gemäß der Applikationswartezeit und Applika tionszeit, die durch den dritten Schritt gesetzt wur den, und des Aufbringens der Probe auf das Trägerele ment (28a). 1. A method for controlling an application of a sample by means of a sample application device equipped with a carrier element ( 28 a) to enable a sample to be applied there and means for moving the carrier element ( 28 a) towards the sample and from it way, characterized by
a first step for determining a temperature in the vicinity of the carrier element ( 28 a);
a second step to detect a moisture near the support member ( 28 a);
a third step of free and continuous setting, based on the determined values obtained in the first and second steps, an application waiting time necessary to keep the carrier element ( 28 a) in a suitable wet state, and an application time which is necessary in order to apply the sample sufficiently to the carrier element ( 28 a); and
a fourth step of bringing the carrier element ( 28 a) into contact with the sample by the movement means, according to the application waiting time and application time set by the third step, and the application of the sample to the carrier element ( 28 a).
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Olympus ·R·, Instruction Manual, Hite System 600 * |
Olympus ·R·, Operator`s Manual, Hite System 620 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19820432A1 (en) * | 1998-05-07 | 1999-11-11 | Voith Sulzer Papiertech Patent | Method and device for applying an application medium to a running surface |
US6248407B1 (en) | 1998-05-07 | 2001-06-19 | Voith Sulzer Papiertechnik Gmbh | Method for applying a coating medium onto a moving surface |
US6503325B1 (en) | 1998-05-07 | 2003-01-07 | Voith Sulzer Papiertechnik Patent Gmbh | Device and method for applying a coating medium onto a moving surface |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ITMI922406A1 (en) | 1994-04-21 |
JPH05113427A (en) | 1993-05-07 |
JP3081688B2 (en) | 2000-08-28 |
ITMI922406A0 (en) | 1992-10-21 |
IT1255557B (en) | 1995-11-09 |
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