DE4131520C1 - Single or multilayer structured coatings core - with mask film passed over cylindrical body - Google Patents
Single or multilayer structured coatings core - with mask film passed over cylindrical bodyInfo
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft Verfahren und Vorrichtungen zum Aus bilden strukturierter Beschichtungen auf zylinderförmigen Körpern oder angenähert zylinderförmigen Körpern sowie deren Anwendung, wobei die Beschichtungen ein- oder auch mehrlagig strukturiert sein können. Dabei werden an sich bekannte Beschichtungstechnologien angewandt, die Oberflä chen durch eine Maske hindurch beschichten.The invention relates to methods and devices for form structured coatings on cylindrical ones Bodies or approximately cylindrical bodies as well their application, the coatings one or can be structured in multiple layers. In doing so known coating technologies applied, the surface coating through a mask.
Zur Herstellung strukturierter Beschichtungen ist die Methode der Fotolithografie der Stand der Technik, mit dem auf ebenen Flächen ein außerordentlich hohes Auflösungsver mögen und größte Präzision erzielbar sind, wie z. B. die Höchstintegration in der Halbleitertechnologie zeigt.For the production of structured coatings State of the art method of photolithography with which an extraordinarily high resolution on flat surfaces like and greatest precision can be achieved, such as. B. the Shows maximum integration in semiconductor technology.
Auf gekrümmten, insbesondere stark gekrümmten Oberflächen ist diese Methode jedoch nur schwer anwendbar, besonders wenn eine allseitige "nahtlose" Beschichtung gefordert ist. Auch verursachen die Beschichtung und nachfolgende Struktu rierung erhebliche Probleme, wenn zwei verschiedene Schich ten ähnlichen Werkstoffs in Strukturen aufzubringen sind, die sich an vorgegebenen Stellen überlappen sollen. Konven tionelle Methoden der Lithografie mit Masken-, Belichtungs- und Ätztechnik sind damit überfordert.On curved, especially strongly curved surfaces however, this method is difficult to use, especially when an all-round "seamless" coating is required. Also cause the coating and subsequent structure major problems if two different layers similar materials have to be applied in structures, that should overlap at given positions. Conven tional methods of lithography with mask, exposure and Etching technology is overwhelmed.
Es wurde von den Erfindern zunächst in Betracht gezogen, die jeweilige Schichtstruktur durch eine geeignet geformte, dicht anliegende Schablone (Maske) hindurch aufzutragen. Jedoch sind z. B. beim Aufbringen einer Vielzahl benachbar ter, schmaler langer Bahnen die Geometrieanforderungen an die den isolierenden Zwischenraum ausbildenden Maskenstruk turen derartig hoch, daß diese technisch nicht mehr zu realisieren sind. Auch eine Verformung der Maskenstruktur während des Aufbringens der dünnen Schicht durch deren innere Spannungen verhindert eine erfolgreiche technische Realisierung. It was initially considered by the inventors the respective layer structure through a suitably shaped, Apply tightly fitting stencil (mask) through. However, e.g. B. adjacent when applying a variety th, narrow long tracks meet the geometry requirements the mask structure forming the isolating space doors so high that they are technically no longer closed are realized. Also a deformation of the mask structure during the application of the thin layer by its internal tension prevents successful technical Realization.
Aus der JP-A-63-1 66 958, Pat. Abstr. JP C-545, 22.11.88, Vol. 12, No. 444, ist es zwar bekannt, einen zylindrischen Körper in einem Abscheideverfahren zu verwenden, jedoch haben die Gründe hierfür nichts mit der obigen Zielsetzung zu tun. Es soll statt dessen ein hochwertiges Dampfabschei deverfahren zum Abscheiden einer Metallschicht in einem vorgegebenen Beschichtungsmuster auf einem Basisfilm unter Verwendung eines Ölmaskensystems geschaffen werden. Während der Beschichtung des mittels einer Abwickel- und Aufwickel spule über einen Bereich eines zylindrischen Kühlkörpers gezogenen Basisfilms wird ein geschlossenes, ringförmig geführtes Maskenband mitbewegt, das dem Metalldampf ausge setzt wird und zuvor an einem Ölbeschichtungsrohr vorbeige führt wurde. Mit dem geschlossenen Maskenband erfolgt so eine fortlaufend gleiche Beschichtung des Basisfilms.From JP-A-63-1 66 958, Pat. Abstr. JP C-545, Nov. 22, 2008, Vol. 12, No. 444, it is known to be a cylindrical Body to use in a deposition process, however the reasons for this have nothing to do with the above objective to do. Instead, it should be a high-quality steam separator de method for depositing a metal layer in a given coating pattern on a base film under Be created using an oil mask system. While the coating of the by means of an unwinding and rewinding coil over an area of a cylindrical heat sink drawn base film becomes a closed, ring-shaped led mask tape moved, which expelled the metal vapor is placed and before passing an oil coating tube was led. This is done with the closed mask band a continuously identical coating of the base film.
Der Erfindung lag hingegen die Aufgabe zugrunde, ein Ver fahren und eine Vorrichtung anzugeben, mit denen beliebige ein- oder mehrlagige Strukturen gleicher oder unterschied licher Materialien mit der erforderlichen Genauigkeit auf zylinderförmigen Körpern selbst kleinen Durchmessers auf bringbar sind.The invention was based on the object, a Ver drive and specify a device with which any single or multi-layer structures the same or different materials with the required accuracy cylindrical bodies even of small diameter are feasible.
Dies Aufgabe wird durch den Gegenstand des Patentanspruchs 1 bzw. 5 gelöst. Eine vorteilhafte Anwendung der Vorrich tung ist im Anspruch 11 gekennzeichnet. This object is achieved by the subject matter of the claim 1 or 5 solved. An advantageous application of the Vorrich tung is characterized in claim 11.
Die erfindungsgemäße Lösung beinhaltet das kontinuier liche Abrollen einer Maske über den zylindrischen Körper, der dabei in Rotation versetzt wird und nur zum Teil von der Maske umschlungen wird, während seine Oberflächenbe schichtung kontinuierlich abschnittsweise erfolgt. Die Maske enthält vorzugsweise nicht nur eine auf den Körper umfang abgestimmte Maskenstruktur, sondern eine Anzahl aufeinanderfolgender Maskensequenzen, mit denen es mög lich ist, Strukturen gleicher oder auch unterschiedlicher Materialien stückweise nahtlos und mit wahlweisen feinen oder groben Abständen aneinanderzufügen, so daß beliebig lange Körper beschichtbar bzw. strukturierbar sind. Auch eine überlappende Schichtung ist auf diese Weise in einem Arbeitsgang, ohne daß die Maske ausgewechselt werden müß te, fortlaufend erzielbar. Ebenso können beliebig feine und lange Bahnen, ohne daß die Maskenfolie in sich insta bil würde, realisiert werden, da durch mehrere Maskense quenzen mit den zugehörigen aufeinanderfolgenden Körper drehungen nur jeweils kurze Ausnehmungen in einer Masken sequenz ausgenommen werden müssen. In gleicher Weise sind beliebig viele selektive Strukturlagen erzielbar. Bei Um schaltung der materialauftragenden Einrichtung vor einer neuen Maskensequenz, ist es möglich, das Beschichtungsma terial zu wechseln, ohne den Prozeß zu unterbrechen und die Bewegung von Körper und Maske anzuhalten.The solution according to the invention includes this continuously unrolling a mask over the cylindrical body, which is set in rotation and only partially by is wrapped around the mask while its surface area stratification is carried out continuously in sections. The Mask preferably contains not only one on the body scope coordinated mask structure, but a number successive mask sequences with which it is possible is structures of the same or different Materials seamlessly piece by piece and with optional fine or roughly spaced apart so that any long bodies can be coated or structured. Also an overlapping stratification is thus in one Operation without having to replace the mask te, continuously achievable. Likewise, any fine and long lengths without the masking film becoming stuck in itself bil would be realized because of several Masquerades sequences with the associated successive bodies turns only short recesses in a mask sequence must be excluded. Are in the same way Any number of selective structural positions can be achieved. At Um switching of the material application facility in front of a new mask sequence, it is possible to measure the coating change material without interrupting the process and to stop the movement of the body and mask.
Die Geschwindigkeiten von Körper und Maske werden so eingestellt, daß diese vorzugsweise keine Differenzge schwindigkeit aufweisen und so bei einer Umdrehung des Körpers verzerrungsfrei genau eine Maskensequenz abge bildet wird. Es ist jedoch prinzipiell möglich, einen komprimierenden oder dehnenden Effekt durch unterschied liche Masken- und Körperumfangsgeschwindigkeiten hervor zurufen. Ist der Körper nicht rotationssymmetrisch und exakt zylindrisch, so kann dies auf diese Weise berück sichtigt werden.The speeds of the body and mask become like this set that this preferably no difference have speed and so with one revolution of the Exactly one mask sequence without distortion is forming. In principle, however, it is possible to use one compressing or stretching effect by difference mask and body circumference speeds shout. Is the body not rotationally symmetrical and exactly cylindrical, so this can be taken into account be viewed.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird bevorzugt mit Dünn schichttechnologie-Beschichtungseinrichtungen durchge führt. Insbesondere eignen sich gegenüber dem Körper angeordnete Sputtertargets, jedoch sind auch allgemein alle CVD- und PVD- Verfahren einsetzbar. Auch die Be schichtung mittels lasertechnischer Abscheidung oder Pseudofunken-Ablation ist ohne weiteres einsetzbar. Durch eine gleichzeitige Relativbewegung zwischen dem zu be schichtenden Körper und der Beschichtungseinrichtung, beispielsweise dem Sputtertarget, ist es möglich, auch bei längeren Körpern mit nur kurzen Targets zu arbeiten. Für die Beschichtung mit mehreren Materialien werden entsprechend umschaltbare bzw. mehrere Schichtquellen eingesetzt. Somit bietet die Erfindung nicht nur den Vorteil, daß keine sonst unumgängliche Aufteilung der Maske in feine Streifen nötig ist und in einem kontinu ierlichen Arbeitsgang über die ganze Körperlänge be schichtet (oder auch abgetragen) werden kann, sondern auch noch den, daß mit sehr kleinen und kostengünstigen Schichtquellen bzw. Targets beliebig lange Körper in einem kontinuierlichen Prozeß beschichtbar sind.The method according to the invention is preferred with thin layer technology coating facilities leads. In particular, are suitable for the body arranged sputtering targets, however, are also general all CVD and PVD processes can be used. The Be Layering by means of laser deposition or Pseudo-spark ablation can be used without any problems. By a simultaneous relative movement between the be layered body and the coating device, for example the sputtering target, it is possible too to work with longer bodies with only short targets. For coating with multiple materials accordingly switchable or multiple layer sources used. Thus, the invention does not only offer that Advantage that no otherwise inevitable division of the Mask in fine strips is necessary and in a continuous animal work process over the entire length of the body can be stratified (or also removed), but also that with very small and inexpensive Layer sources or targets of any length in are coatable in a continuous process.
In diesen Prozeß läßt sich in vorteilhafter Weise auch noch eine Vorätzung der Körperoberfläche einbeziehen, indem auf der der Schichtquelle abgewandten Seite des Körpers eine Ätzeinrichtung angeordnet wird, die auf den nicht umschlungenen Oberflächenbereich des Körpers wirkt. Die Vorätzung kann vor der Beschichtung oder auch syn chron während der Beschichtung mit jeweils rotierendem Körper durchgeführt werden. This process can also be used advantageously include a pre-etching of the body surface, by on the side of the An etching device is arranged on the body not wrapped around the surface area of the body. The pre-etching can be done before coating or syn chron during the coating with rotating Body to be performed.
Prinzipiell eignet sich die Erfindung nicht nur für die Dünnschichttechnologie, sondern es ist jede beliebige Auf- oder auch Abtragetechnik möglich. Bei entsprechend langsamer Bewegung von Maske und Körper sind auch Dickschichttechnologien anwendbar.In principle, the invention is not only suitable for Thin film technology but it's any Application or removal technology possible. With accordingly slow movement of the mask and body are also Thick film technologies applicable.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist mit geringem techni schen Aufwand realisierbar. Die Bewegungseinrichtungen für die zylindrischen Körper sind universell verwendbar und es muß bei einem neuen Körper lediglich die Maske ausgetauscht werden.The device according to the invention is low in techni feasible. The movement devices for the cylindrical bodies can be used universally and with a new body all that is required is the mask be replaced.
Die Folienmasken lassen sich mit den aus der Siebdruck- und Ätztechnik verfügbaren Methoden einfach und kosten günstig mit der erforderlichen Präzision herstellen, so daß im Endergebnis durch das erfindungsgemäße Verfahren beliebig Beschichtungen ein- oder mehrlagig ohne die aufwendige Fotolithografie herstellbar sind, die die erfindungsgemäß möglichen beliebigen Strukturen und unterschiedlichen Materialien bzw. Werkstoffe nicht zulassen würde. Bei der Herstellung der Maskenfolie wird darauf geachtet, daß die die gewünschte Dünnschichtstruk tur ausbildenden Öffnungen auf so viele Maskensequenzen verteilt werden, daß keine die Festigkeit der Folie gefährdenden zu großen, insbesondere zu langen Öffnungen auftreten.The foil masks can be used with the screen printing and Etching technology available methods simple and cost manufacture cheaply with the required precision, so that in the end result by the inventive method any coatings one or more layers without the elaborate photolithography can be produced, the Any structures and possible according to the invention different materials or materials would allow. During the production of the mask film made sure that the desired thin layer structure turing openings on so many mask sequences be distributed that no the strength of the film dangerous openings too large, especially too long occur.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigenIn the following the invention with reference to the drawings explained in more detail. Show it
Fig. 1 ein Beispiel für eine Folienmaske, Fig. 1 an example of a film mask,
Fig. 2 die mit der Folienmaske aus Fig. 1 erzielte Schichtstruktur und FIG. 2 shows the layer structure achieved with the film mask from FIG. 1 and
Fig. 3 ein Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung. Fig. 3 shows an embodiment of the device according to the invention.
Die Maskenfolie 1 der Fig. 1 umfaßt vier Maskense quenzen, von denen jeweils zwei für ein und dasselbe Material vorgesehen sind. Zur Unterscheidung der Sequenzen sind gemäß Fig. 2 das erste Material schraffiert und das zweite Material gepunktet dargestellt. Im Ausführungsbei spiel werden auf einem nur etwa 1 cm dicken zylindrischen Körper 2 (Fig. 3) Leiterbahnen von 1 bis 1,5 mm Breite mit Hilfe eines auf ein zweites Material umschaltbaren Sput tertargets 4 aufgesputtert. Der Umschlingungswinkel liegt im Bereich von 90°, kann jedoch durchaus auch bis zu 180° betragen. Größere Umschlingungswinkel als 180° sind zwar prinzipiell auch möglich, jedoch nicht erforderlich und technisch auch weniger leicht zu realisieren. Desgleichen sind kleinere Umschlingungswinkel als 90° möglich und insbesondere dann sinnvoll, wenn keine entsprechend großen Targets zur Verfügung stehen.The mask sheet 1 of Fig. 1 comprises frequencies, of which two are provided for one and the same material Maskense four. To distinguish the sequences, the first material is hatched according to FIG. 2 and the second material is shown in dotted lines. In the game Ausführungsbei are sputtered on a only about 1 cm thick cylindrical body 2 ( Fig. 3) conductor tracks from 1 to 1.5 mm wide with the help of a switchable to a second material sputter tertargets 4 . The wrap angle is in the range of 90 °, but can also be up to 180 °. Wrap angles greater than 180 ° are in principle also possible, but not necessary and technically less easy to implement. Wrap angles smaller than 90 ° are also possible and are particularly useful if no correspondingly large targets are available.
Die Halterungen und Bewegungseinrichtungen für das Folienband 1 und den Körper 2 sind nicht dargestellt. Sie sind beliebig ausbildbar. Beispielsweise kann das Folien band von einer Vorratsrolle abgewickelt und nach Passie ren der Beschichtungsregion auf eine zweite Rolle wieder aufgewickelt werden, wobei die Vorschubgeschwindigkeit des Bandes und die Umfangsgeschwindigkeit des Körpers aufeinander abgestimmt sind. Außerhalb des Umschlingungs bereichs wird das Folienband durch parallel liegende, feststehende Masken oder Blenden vor unerwünschter Be schichtung geschützt. Diese Blenden verhindern auch die Abscheidung unscharfer Strukturen auf dem Körper in Regionen, in denen das Maskenband dem Körper nicht mehr dicht anliegt.The holders and movement devices for the film strip 1 and the body 2 are not shown. They can be trained as required. For example, the film tape can be unwound from a supply roll and rewound on a second roll after passing the coating region, the feed speed of the tape and the peripheral speed of the body being coordinated. Outside the wrapping area, the film strip is protected from unwanted coating by parallel, fixed masks or screens. These diaphragms also prevent blurred structures from being deposited on the body in regions where the mask band is no longer close to the body.
Während des Beschichtungsprozesses wird die Maskenfolie 1 langsam über den Körper 2 hinweggezogen (in Richtung der Pfeile), wobei die nicht dargestellte Bewegungsmechanik den Körper 2 mit einer der Geschwindigkeit der darüberge zogenen Folie entsprechenden Umfangsgeschwindigkeit dreht. Bei der fortlaufenden Beschichtung mittels des über dem Körper 2 in geeignetem Abstand angeordneten Targets 4 durch die Maskenfolie 1 hindurch werden durch die erste Maskensequenz nur die in Fig. 1 und 2 sichtbaren kurzen Abschnitte mit dem Material 1 beschichtet. Mit der zweiten Maskensequenz werden diese Teilstrecken durch Überlappung verlängert und zur durchgehenden Leiterbahn gemäß Fig. 2 verbunden. Die einzelnen Maskensequenzen sind in der Bewegungsrichtung in einem solchen Abstand von Vorderkante zu Vorderkante (Rapport) auf der Folie 1 angeordnet, daß dieser gerade dem Umfang des Körpers entspricht. Nach den ersten beiden Sequenzen wird das Target 4 ohne Unterbrechung der Bewegung oder gar des Vakuums (im Zwischenraum der Sequenzen) auf das zweite Material umgeschaltet, und es bildet sich die vollstän dige Leiterbahnbeschichtung gemäß Fig. 2 nach insgesamt vier kontinuierlichen Umdrehungen des Körpers 2 aus.During the coating process, the mask film 1 is slowly pulled over the body 2 (in the direction of the arrows), the movement mechanism, not shown, rotating the body 2 at a circumferential speed corresponding to the speed of the film drawn over it. In the continuous coating by means of the target 4 arranged above the body 2 at a suitable distance through the mask film 1 , only the short sections visible in FIGS . 1 and 2 are coated with the material 1 by the first mask sequence. With the second mask sequence, these sections are lengthened by overlapping and connected to form the continuous conductor track according to FIG. 2. The individual mask sequences are arranged in the direction of movement at such a distance from the leading edge to the leading edge (repeat) on the film 1 that this corresponds exactly to the circumference of the body. After the first two sequences, the target 4 is switched to the second material without interrupting the movement or even the vacuum (in the space between the sequences), and the complete conductor coating according to FIG. 2 is formed after a total of four continuous revolutions of the body 2 .
In einer vorteilhaften Weiterbildung wird das Sputter target 4 in pendelnder Bewegung in Richtung der Längs achse (hier senkrecht zur Papierebene) des Körpers 2 bewegt, so daß ein kleines Target bzw. eine kleine Be schichtungsquelle ausreicht. In äquivalenter Weise sind eine entsprechende Bewegung des Körpers 2 oder von Körper und Beschichtungsquelle möglich.In an advantageous further development, the sputtering target 4 is moved in an oscillating movement in the direction of the longitudinal axis (here perpendicular to the paper plane) of the body 2 , so that a small target or a small coating source is sufficient. A corresponding movement of the body 2 or of the body and coating source is possible in an equivalent manner.
Um eine unerwünschte Beschichtung in den Bereichen zu verhindern, in denen das Maskenband bereits von dem Körper abgehoben hat, werden in diesen Bereichen zu sätzliche, fest stehende Masken oder Blenden 5 parallel zum Maskenband bzw. der Folie angebracht.In order to prevent undesired coating in the areas in which the masking tape has already lifted off the body, additional, fixed masks or screens 5 are attached in these areas parallel to the masking tape or the film.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Weiterbildung erfolgt eine Abätzung oder Vorätzung der Körperoberfläche wie bekannt zur Haftungsverbesserung mittels einer unterhalb des Körpers 2 angeordneten Ätzeinrichtung 3 in Form einer Hochfrequenz-Sputterentladung, die auf den nicht um schlungenen Körperbereich wirkt und bei der der zu beschichtende Körper als abzutragende Elektrode geschaltet wird. Die Vorätzung wird so durchgeführt, daß der Körper 2 zumindest einmal gedreht wird. Auf diese Weise kann auch die Vorätzung mit in den gesamten Prozeß einbezogen werden.According to a further advantageous development, the body surface is etched or pre-etched, as is known, to improve adhesion by means of an etching device 3 arranged below the body 2 in the form of a high-frequency sputtering discharge, which acts on the area of the body which is not looped around and in which the body to be coated acts as an electrode to be removed is switched. The pre-etching is carried out in such a way that the body 2 is rotated at least once. In this way, the pre-etching can also be included in the entire process.
Im Ausführungsbeispiel wurden Leiterbahnen aufgesputtert. Wie bereits oben erwähnt, sind jedoch beliebige, mit einer Maske anwendbare Auf- oder Abtragtechniken einsetz bar. Statt Leiterbahnen können auch selektive sowie mehr lagige Beschichtungen aufgetragen werden. Auch ist es möglich, statt der Materialauftragung durch die Maske einen strukturierenden Materialabtrag zu bewirken. Die zylinderförmigen Körper können aus Kunststoff, Metall oder Keramiken bestehen und beispielsweise als Sonden bzw. Meßfühler und Sensoren ausgelegt werden. Schließlich ist es möglich, flexible zu beschichtende größere Sub strate auf zylinderförmigen Trägern anzubringen und mit dem erfindungsgemäßen Verfahren eine effiziente Beschich tung zu erzielen.In the exemplary embodiment, conductor tracks were sputtered on. However, as mentioned above, any are with use applicable application or removal techniques on a mask bar. Instead of conductor tracks, selective and more can also be used layered coatings are applied. It is too possible instead of the material application through the mask to effect a structuring material removal. The cylindrical body can be made of plastic, metal or ceramics exist and for example as probes or sensors and sensors. In the end it is possible to flexibly coat larger sub strate on cylindrical supports and with the method according to the invention an efficient coating to achieve.
Das Ausführungsbeispiel macht ferner deutlich, daß durch entsprechend zahlreiche Maskensequenzen beliebig komplexe Beschichtungsstrukturen in einem Arbeitsgang realisierbar sind.The embodiment also makes it clear that by correspondingly numerous mask sequences of any complexity Coating structures can be implemented in one operation are.
Claims (11)
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DE19914131520 DE4131520C1 (en) | 1991-09-21 | 1991-09-21 | Single or multilayer structured coatings core - with mask film passed over cylindrical body |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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DE4131520C1 true DE4131520C1 (en) | 1992-09-24 |
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Family Applications (1)
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DE (1) | DE4131520C1 (en) |
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- 1991-09-21 DE DE19914131520 patent/DE4131520C1/en not_active Expired - Lifetime
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Title |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
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