DE4040930C1

DE4040930C1 - Illumination system for printing plates - has small mirror located at centre of one reflector, rotatable to direct incoming light beam along scanning line

Info

Publication number: DE4040930C1
Application number: DE19904040930
Authority: DE
Inventors: Konrad 7204 Wurmlingen De Kensy
Original assignee: B Bacher 7204 Wurmlingen De GmbH
Current assignee: B Bacher 7204 Wurmlingen De GmbH
Priority date: 1990-12-20
Filing date: 1990-12-20
Publication date: 1992-06-25
Anticipated expiration: 2010-12-21

Abstract

An illumination system is used for printing plates films or coatings located on the surface of a cylinder (2). The cylinder is located near to a ring reflector (4) and passes through a second reflector (5). At the centre of the one reflector is a small mirror (10) that can be rotated to direct an incoming light beam (12) along a scanning line. The beam is directed axially onto the second reflector (5) and the beam scans the periphery (14). The reflector is then incremented axially. ADVANTAGE - Drum remains stationary with only reflector moving.

Description

Die Erfindung geht aus von einem Belichtungssystem für auf zylinderförmigen Körpern aufgebrachte belichtbare Schichten, gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1. Ein solches Belichtungs system ist aus der DE-OS 17 62 568 bekannt. The invention is based on an exposure system for exposed layers which are applied to cylindrical bodies, according to the preamble of claim 1. Such an exposure system is known from DE-OS 17 62 568.

Bei dem bekannten als Faksimilevorrichtung ausgebildeten Be lichtungssystem rotiert ein Monospiegel mit hoher Drehzahl innerhalb der Trommel und projiziert den belichtenden Licht strahl durch die durchsichtige Trommel auf das auf deren Außen seite angebrachte belichtbare Material, dessen belichtbare Schichtseite zur Trommel hin gekehrt ist. Dabei wird die gesamte optische Einrichtung mit dem Monospiegel längs der Trommelachse durch die Trommel hindurch verfahren. Die Trommel ist an einer Seite offen, damit über die gesamte Länge Trommelführungsschie nen und Transportvorrichtungen in das Trommelinnere einbringbar sind. Die Vorteile dieses Belichtungssystems liegen darin, daß die Trommel ortsfest ist, nicht rotiert und damit bei hoher Drehzahl der Trommel keine Unwucht entstehen kann, sowie daß der Laserstrahlabstand zum zu belichtenden Material (z. B. Papier) konstant ist und dadurch immer ein runder Bildpunkt auf der lichtempfindlichen Schicht entsteht. Wenn jedoch auf diese Weise Druckplatten zu belichten sind, muß beachtet werden, daß nach abgeschlossenem Belichtungsvorgang die belichtete Platte umgekehrt gekrümmt auf eine Außenfläche eines Druckzylinders aufgespannt werden muß. Bei diesen zusätzlichen Arbeitsvorgängen wird die belichtete Schicht unregelmäßig im Außenbereich gedehnt bzw. gestaucht.In the known Be trained as a facsimile device lighting system rotates a mono mirror at high speed inside the drum and projects the exposing light beam through the transparent drum onto the outside side attached illuminable material, its illuminable Layer side facing the drum. The whole optical device with the mono mirror along the drum axis move through the drum. The drum is on one Side open, so drum guide slide over the entire length NEN and transport devices can be introduced into the interior of the drum are. The advantages of this exposure system are that the drum is stationary, does not rotate and therefore at high Speed of the drum no unbalance can occur, and that the laser beam distance to the material to be exposed (e.g. Paper) is constant and therefore always a round pixel the photosensitive layer is formed. However, if on this Way to expose printing plates, it must be noted that after the exposure process is complete, the exposed plate reversely curved on an outer surface of a printing cylinder must be spanned. With these additional operations the exposed layer is stretched irregularly outdoors or compressed.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Belichtungs system der eingangs genannten Art dahingehend weiterzubilden, daß die Handhabung der Druckplatten verbessert wird und daß der Aufspannvorgang einer zu belichtenden Schicht dem Aufspann vorgang beim Druckprozeß entspricht. The object of the invention is therefore an exposure to further develop a system of the type mentioned at the beginning, that the handling of the printing plates is improved and that the clamping process of a layer to be exposed the clamping process in the printing process corresponds.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im Anspruch 1 gekennzeichneten Merkmale gelöst.This object is achieved by the in claim 1 marked features solved.

Das erfindungsgemäße Belichtungssystem hat damit den wesent lichen Vorteil, daß die Druckplatte, der zu belichtende Film und dgl. in derselben Weise und Krümmung wie bei einem Druck zylinder auf der Trommelzylinderaußenfläche mit nach außen gewendeter, zu belichtender Oberfläche anbringbar ist. Die Druckplatte wird, sofern sie überhaupt auf einen Druckzylinder umgespannt wird, nur in einem Maße und demselben Krümmungssinn verbogen, wie sie auch beim Belichtungsvorgang verbogen wurde. Mögliche Materialverspannungen in der Druckplatte, die zu Qualitätseinbußen beim Druck selbst führen können, sind bei der erfindungsgemäßen Anordnung der Druckplatte auszuschließen, denn die Druckplatte wird beim Druck in der Außenschicht nur so weit gedehnt und in der Innenschicht gestaucht, wie sie auch beim Belichtungsvorgang verformt wurde. Zudem kann bei geeig neten Zylindern der bei der Belichtung verwendete Zylinder auch beim Druckvorgang eingesetzt werden. Die Druckplatte muß nicht umgespannt werden und es können Druckplatten im Format 70×100 eingesetzt werden. Ebenfalls können beschichtete Druck zylinder belichtet werden. Bisher bekannte Arbeitsvorgänge entfallen.The exposure system according to the invention therefore has the essential Lichen advantage that the printing plate, the film to be exposed and the like in the same manner and curvature as in a print cylinder on the outside of the drum cylinder surface reversible surface to be exposed can be attached. The Printing plate is, if at all, on a printing cylinder is spanned, only to one degree and the same sense of curvature bent as it was bent during the exposure process. Possible material tension in the pressure plate, which too Loss of quality in printing can lead to to exclude the arrangement of the printing plate according to the invention, because the printing plate is only so when printing in the outer layer stretched wide and compressed in the inner layer, just like it is was deformed during the exposure process. In addition, at geeig neten cylinders the cylinder used for the exposure can also be used in the printing process. The pressure plate must can not be reclamped and printing plates in the format 70 × 100 can be used. Coated printing can also be used cylinders are exposed. Previously known operations omitted.

Dadurch, daß der rotierende Spiegel ortsfest ist, und die Optik den Lichtstrahl über einen ersten Ringreflektor und einen zweiten Ringreflektor auf die belichtbare Schicht überträgt, wird der Vorteil bewirkt, daß der rotierende Spiegel neben der Rotationsbewegung nicht noch einem weiteren Bewegungsablauf ausgesetzt ist. Derartige Spiegel rotieren mit über 7000 U/min., so daß eine ortsfeste Rotationsbewegung eine Qualitätssteigerung in puncto Richtungsstabilität des reflektierten Lichtstrahls ermöglicht. Bildpunkte können mit einer größeren Sicherheit und einem geringeren apparativen Aufwand definiert auf einer vorgegebenen Bildpunktlinie des zu belichtenden Material abge bildet werden.Because the rotating mirror is stationary and the optics the light beam over a first ring reflector and one transmits a second ring reflector onto the exposed layer, the advantage is that the rotating mirror next to the Rotational movement not yet another movement sequence is exposed. Such mirrors rotate at over 7000 rpm, so that a fixed rotational movement an increase in quality in terms of directional stability of the reflected light beam enables. Pixels can be viewed with greater certainty and a lower equipment effort defined on one given pixel line of the material to be exposed be formed.

In Ausgestaltung der Erfindung ist sowohl der erste wie auch der zweite Ringreflektor ortsfest und die Trommel ist längs der Trommelachse verfahrbar, derart, daß dem aus dem zweiten Ringreflektor reflektierten Lichtstrahl jede vorbestimmte Flächeneinheit der belichtbaren Schicht zuordenbar ist.In an embodiment of the invention, both the first and the second the second ring reflector is stationary and the drum is longitudinal the drum axis movable, such that that from the second Ring reflector reflected light beam every predetermined Area unit of the exposed layer is assignable.

Dies hat den Vorteil, daß die gesamte Optik mit den Reflektoren keinen Bewegungsabläufen längs der Trommel ausgesetzt ist. Reflexionsfehler und unbeabsichtigte Lichtstrahlverschiebungen, die sich auf den späteren Druckvorgang negativ auswirken, können vermieden werden. Zeitaufwendige Nachjustierungen oder kost spielige und apparativ aufwendige Prüfeinrichtungen, die den Lichtstrahlverlauf kontrollieren, können bei dem erfindungsge mäßen Belichtungssystem entfallen.This has the advantage that the entire optics with the reflectors is not exposed to any movements along the drum. Reflection errors and unintentional light beam shifts, which can have a negative impact on the later printing process be avoided. Time-consuming readjustments or cost Playful and complex testing equipment that the Check the light beam path can with the fiction appropriate lighting system.

In einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung ist der erste Ringreflektor ortsfest angeordnet und der zweite Ringreflektor ist entlang einer Trommelachse über die gesamte Länge der Trom mel verfahrbar. In a further embodiment of the invention, the first is Ring reflector arranged stationary and the second ring reflector is along a drum axis over the entire length of the drum mel movable.

Dies hat den Vorteil, daß die Trommel, die die belichtbare Schicht trägt, nicht verfahren werden muß. Ist dabei zusätzlich noch die Lichtquelle in der Trommel angeordnet, so ist gewähr leistet, daß das erfindungsgemäße Belichtungssystem als kompakte Einheit in einem Gehäuse unterzubringen ist.This has the advantage that the drum, which is the exposable Layer carries, does not have to be moved. Is there additional nor the light source arranged in the drum, so it is guaranteed provides that the exposure system according to the invention as a compact Unit must be housed in a housing.

In weiterer Ausgestaltung der Erfindung sind die auf der Innen fläche des zweiten Ringreflektors ringförmig verteilte Einfalls punkte des Lichtstrahls von der belichtbaren Schicht um die Hälfte ihres Abstandes von der optischen Achse beabstandet, und die über eine Ringfläche verteilten Lichtstrahlen sind derart ablenkbar, daß sie als Lichtstrahlen in einem Belich tungspunkt fokussiert sind.In a further embodiment of the invention, those are on the inside area of the second ring reflector ring-shaped incidence points of the light beam from the exposed layer around the Half of their distance from the optical axis, and which are light rays distributed over an annular surface so deflectable that they act as rays of light in an exposure are focused.

Dies hat den Vorteil, daß mit einer einfachen Optik und Reflek toranordnung Lichtstrahlen sicher und mit hoher Güte als Punkt auf der belichtbaren Schicht abgebildet werden können.This has the advantage that with a simple look and reflect Door arrangement Light beams safely and with high quality as a point can be imaged on the exposed layer.

Das erfindungsgemäße Belichtungssystem ist auch für die Be lichtung einer Außenmantelfläche eines zylinderförmigen Ge genstandes geeignet, wobei die Trommel mit der belichtbaren Schicht durch einen zylinderförmigen Gegenstand, der eine be lichtbare Schicht auf der Außenmantelfläche aufweist, ersetzt wird.The exposure system according to the invention is also for the Be thinning of an outer surface of a cylindrical Ge suitable object, the drum with the exposed Layer through a cylindrical object that be a has visible layer on the outer surface, replaced becomes.

Die prinzipielle Anordnung des vorgeschlagenen Belichtungs systems läßt sich auch zur Abtastung von Informationen auf einem zylinderförmigen Informationsträger einsetzen. The basic arrangement of the proposed exposure systems can also be used to scan information use a cylindrical information carrier.

Das erfindungsgemäße Belichtungssystem entspricht damit allen erweiterten Anforderungen, die an zukünftige Laserimagesetter gestellt werden. Die Druckplatte muß nicht mehrfach verformt werden, der bei der Belichtung verwendete Zylinder kann auch beim Druckvorgang verwendet werden, und sogar beschichtete Zylinder können mit diesem System sicher und schnell belichtet werden. Druckplattenformate beliebiger Größe können belichtet werden.The exposure system according to the invention thus corresponds to all extended requirements for future laser image setters be put. The pressure plate does not have to be deformed several times the cylinder used in the exposure can also be used in printing, and even coated Cylinders can be safely and quickly exposed with this system will. Printing plate formats of any size can be exposed will.

Weitere Vorteile ergeben sich aus der Beschreibung und der beigefügten Zeichnung. Ebenso können die vorstehend genannten und die noch weiter aufgeführten Merkmale erfindungsgemäß je weils einzeln oder in beliebigen Kombinationen miteinander verwendet werden. Die erwähnten Ausführungsformen sind nicht als abschließende Aufzählung zu verstehen, sondern haben viel mehr beispielhaften Charakter.Further advantages result from the description and the attached drawing. Likewise, the above and the features listed further according to the invention each because individually or in any combination with each other be used. The mentioned embodiments are not to understand as a final list, but have a lot more exemplary character.

Die Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird anhand von weiteren Ausführungsbeispielen in der Zeichnung näher er läutert. Es zeigen:The invention is shown in the drawing and is based on of further embodiments in the drawing he closer purifies. Show it:

Fig. 1 den schematischen Aufbau eines erfindungsgemäßen Belichtungssystems; FIG. 1 shows the schematic structure of an exposure system according to the invention;

Fig. 2 ein erfindungsgemäßes Belichtungssystem im Schnitt mit einer Lichtquelle, einer Optik und einem Aus schnitt eines Zylinders mit schematisch angedeuteten Reflektoren. Fig. 2 shows an exposure system according to the invention in section with a light source, an optics and a section from a cylinder with schematically indicated reflectors.

Die einzelnen Figuren der Zeichnung zeigen teilweise stark sche matisiert den erfindungsgemäßen Gegenstand und sind nicht maß stäblich zu verstehen. Die Gegenstände der einzelnen Figuren sind teilweise verkleinert bzw. vergrößert dargestellt, damit ihr Aufbau besser gezeigt werden kann.The individual figures of the drawing show some very strong matatised the subject of the invention and are not measured to understand literally. The objects of the individual figures are shown partially reduced or enlarged, so their structure can be better shown.

Fig. 1 zeigt mit 1 ein Belichtungssystem für eine auf einem Zylinder 2 aufgebrachte belichtbare Schicht 3. Die belichtbare Schicht 3 ist fest auf dem Außenmantel des Zylinders 2 aufge bracht (Beschichtung), oder der Zylinder 2 kann Druckplatten, beispielsweise über Vakuumsaugnäpfe, halten, wobei die Druck platten auf ihrer Außenseite eine belichtbare Schicht aufweisen. Der Zylinder 2 ist neben einem ersten Ringreflektor 4 angeordnet und durchstößt einen zweiten Ringreflektor 5. In der Figur ist der Zylinder 2 innerhalb des zweiten Ringreflektors 5 in Pfeil richtungen 6 verfahrbar. Längs einer Trommelachse 7 kann der Zylinder 2 mindestens so weit verfahren werden, daß sowohl eine erste Stirnfläche 8 des Zylinders 2 wie auch eine zweite Stirnfläche 9 des Zylinders 2 in den Bereich des zweiten Ring reflektors 5 treten kann. Fig. 1 shows with 1 a system for exposing a coating applied to a cylinder 2 exposable layer 3. The exposable layer 3 is firmly placed on the outer jacket of the cylinder 2 (coating), or the cylinder 2 can hold pressure plates, for example via vacuum suction cups, the pressure plates having an exposable layer on their outside. The cylinder 2 is arranged next to a first ring reflector 4 and penetrates a second ring reflector 5 . In the figure, the cylinder 2 is movable within the second ring reflector 5 in the arrow directions 6 . Along a drum axis 7 , the cylinder 2 can be moved at least so far that both a first end face 8 of the cylinder 2 and a second end face 9 of the cylinder 2 can enter the region of the second ring reflector 5 .

Dem ersten Ringreflektor 4 ist ein Spiegel 10 zugeordnet, der um eine Achse in Pfeilrichtungen 11 rotieren kann. Die Lage des Spiegels 10 ist zum ersten Ringreflektor 4 derart, daß bei einer Rotation des Spiegels 10 in einer der Pfeilrichtungen 11 ein auf den Spiegel 10 auftreffender Lichtstrahl 12 auf dem ersten Ringreflektor 4 abgebildet werden kann, so wie es die am ersten Ringreflektor 4 gestrichelt gezeichnete Ringlinie 13 zeigt. Der Lichtstrahl 12 kommt von einer in der Fig. 1 nicht gezeigten Lichtquelle. Am Spiegel 10 wird der Lichtstrahl 12 auf den ersten Ringreflektor 4 umgelenkt und von dort als Licht strahl 12′ reflektiert. Der Lichtstrahl 12′ wird am zweiten Ringreflektor 5 derart umgelenkt und reflektiert, daß er als Lichtstrahl 12′′ punktförmig und kreisrund auf die belichtbare Schicht 3 trifft. Rotiert der Spiegel 10, und sind sowohl der erste Ringreflektor 4 wie auch der zweite Ringreflektor 5 und der Zylinder 2 in der in der Figur gezeigten Lage gehalten, so kann eine Bildpunktlinie 14 in Umfangsrichtung auf der belicht baren Schicht 3 abgebildet werden. Ist die gewünschte Informa tion in der Bildpunktlinie 14 maximal über den gesamten Umfang vom 360° abgelegt, so verfährt der Zylinder 2 in eine Position, die es erlaubt, neben der Bildpunktlinie 14 eine weitere unmit telbar benachbarte Bildpunktlinie abzubilden. Sind alle Infor mationen in Form von Bildpunktlinien über der gesamten Breite und über den Umfang der belichtbaren Schicht 3 abgelegt, so ist der Belichtungsvorgang beendet. Die belichtbare Schicht 3 kann entweder von dem Zylinder 2 abgenommen werden, oder der Zylinder 2 wird unmittelbar als Druckzylinder in einem sich anschließenden Druckprozeß verwendet.A mirror 10 is assigned to the first ring reflector 4 and can rotate about an axis in the direction of the arrows 11 . The position of the mirror 10 relative to the first ring reflector 4 is such that when the mirror 10 rotates in one of the arrow directions 11, a light beam 12 striking the mirror 10 can be imaged on the first ring reflector 4 , as is shown by the dashed lines on the first ring reflector 4 drawn ring line 13 shows. The light beam 12 comes from a light source not shown in FIG. 1. At the mirror 10 , the light beam 12 is deflected onto the first ring reflector 4 and from there as a light beam 12 'reflected. The light beam 12 'is deflected and reflected on the second ring reflector 5 such that it strikes the light-sensitive layer 3 as a light beam 12 ''in a punctiform and circular manner. If the mirror 10 rotates, and both the first ring reflector 4 and the second ring reflector 5 and the cylinder 2 are held in the position shown in the figure, then a pixel line 14 can be imaged in the circumferential direction on the exposed layer 3 . If the desired information is stored in the pixel line 14 at most over the entire circumference of 360 °, the cylinder 2 moves into a position which allows, in addition to the pixel line 14 , to display a further immediately adjacent pixel line. If all information is stored in the form of pixel lines over the entire width and over the circumference of the exposable layer 3 , the exposure process is ended. The exposable layer 3 can either be removed from the cylinder 2 , or the cylinder 2 is used directly as a printing cylinder in a subsequent printing process.

Fig. 2 zeigt ebenfalls stark schematisiert und mit zahlreichen Ausschnitten versehen ein Belichtungssystem 20, das die Belich tung einer auf einem Zylinderaußenmantel angebrachten belicht baren Schicht zuläßt. Fig. 2 also shows a highly schematic and provided with numerous cutouts an exposure system 20 , which allows the exposure of an exposed on a cylinder outer jacket exposed layer.

Ein Zylinder 21 trägt eine Druckplatte 22, die über Saugnäpfe auf dem Zylinderaußenmantel gehalten ist. Der Zylinder 21, von dem nur ein Teilbereich in der Fig. 2 dargestellt ist, ist in Pfeilrichtung 23 verfahrbar. Dem Zylinder 21 ist ein erster Ringreflektor 24, der ortsfest angeordnet ist, zugeordnet und ein zweiter Ringreflektor 25, der in Pfeilrichtungen 26 dann verfahrbar ist, wenn der Zylinder 21 ortsfest gehalten ist. Bei dem ersten und zweiten Ringreflektor 24, 25 handelt es sich um Parabolspiegel, die in der Fig. 2 nur angedeutet sind. Ein Spiegel 27 ist dem ersten Ringreflektor 24 zugeordnet. Der Spiegel 27 rotiert in Pfeilrichtung 28 um eine in der Fig. gestrichelt gezeichnete Achse 29 die gleichzeitig die optische Achse der Lichtstrahlen 31, 32, 33 ist. Mit 30 ist eine in der Fig. angedeutete und nicht näher beschriebene Optik gekenn zeichnet, die Lichtstrahlen 31, 32, 33 einer Lichtquelle 34 in bekannter Form ablenkt und bündelt, damit die Lichtstrahlen 31, 32, 33 als ringförmiger Belichtungspunkt 35 auf einer be lichtbaren Schicht 36 der Druckplatte 22 abbildbar sind.A cylinder 21 carries a pressure plate 22 which is held on the outer cylinder jacket by suction cups. The cylinder 21 , of which only a portion is shown in FIG. 2, can be moved in the direction of arrow 23 . The cylinder 21 is a first annular reflector 24, which is fixedly arranged, and associated with a second annular reflector 25, which is then moved in the directions of arrow 26 when the cylinder is held stationary 21st The first and second ring reflectors 24 , 25 are parabolic mirrors, which are only indicated in FIG. 2. A mirror 27 is assigned to the first ring reflector 24 . The mirror 27 rotates in the direction of the arrow 28 about an axis 29 drawn in dashed lines in the figure, which is also the optical axis of the light beams 31 , 32 , 33 . With 30 is indicated in the Fig. And not described optics marked marked, the light rays 31 , 32 , 33 deflects and bundles a light source 34 in a known form, so that the light rays 31 , 32 , 33 as an annular exposure point 35 on a be illuminable Layer 36 of the printing plate 22 can be imaged.

Die Lichtquelle 34 wie auch die Optik 30 vor dem Spiegel 27 sind innerhalb des Zylinders 21 angeordnet. Die in den Fig. 1 und 2 beschriebene Anordnung ist in einem nicht gezeigten Ge häuse untergebracht, in das der Zylinder 2, 21 eingefahren werden kann. Innerhalb des Gehäuses kann dann der Zylinder 2, 21 verfahren, oder der Zylinder 2, 21 liegt fest, und der zweite Reflektor 5, 25 verfährt über die Länge des Zylinders 2, 21. Als Lichtquelle 34 wird bevorzugt ein Gaslaser verwendet.The light source 34 as well as the optics 30 in front of the mirror 27 are arranged within the cylinder 21 . The arrangement described in FIGS . 1 and 2 is housed in a Ge housing, not shown, into which the cylinder 2 , 21 can be retracted. The cylinder 2 , 21 can then move within the housing, or the cylinder 2 , 21 is fixed, and the second reflector 5 , 25 moves over the length of the cylinder 2 , 21 . A gas laser is preferably used as the light source 34 .

Die in der Fig. 2 dargestellten Lichtstrahlen 31, 32, 33 treffen als abgelenkte Lichtstrahlen 31′, 32′, 33′ auf den zweiten Ringreflektor 25. Der zweite Ringreflektor 25 ist in einer Art und Weise ausgeformt, daß die von dem zweiten Ringreflektor 25 reflektierten Lichtstrahlen 31′′, 32′′, 33′′ im Belichtungspunkt 35 der belichtbaren Schicht 36 fokussiert sind. Der Lichtstrahl 32′ weist zur Achse 29 einen Abstand 38 auf. Die Länge des Lichtstrahls 32′′ entspricht dem halben Abstand 38.The light beams 31 , 32 , 33 shown in FIG. 2 hit the second ring reflector 25 as deflected light beams 31 ', 32 ', 33 '. The second ring reflector 25 is shaped in such a way that the light beams 31 '', 32 '', 33 '' reflected by the second ring reflector 25 are focused at the exposure point 35 of the exposable layer 36 . The light beam 32 'has a distance 38 to the axis 29 . The length of the light beam 32 '' corresponds to half the distance 38 .

Ein Belichtungssystem weist eine zylinderförmige Trommel 2 auf, die eine belichtbare Schicht 3 trägt. Der Trommel 2 ist eine ortsfeste Lichtquelle mit einem Lichtstrahl 12 zugeordnet, die den Lichtstrahl 12 über eine Optik und einen Spiegel 10 sowie einen ersten Ringreflektor 4 und einen zweiten Ringre flektor 5 auf die belichtbare Schicht 3 überträgt. Mit dem erfindungsgemäßen Belichtungssystem 1 können auf dem Zylinder 2 gehaltene Druckplatten, Filme oder Beschichtungen belichtet werden. Der bei der Belichtung eingesetzte Zylinder 2 kann auch im Druckprozeß verwendet werden.An exposure system has a cylindrical drum 2 which carries an exposable layer 3 . The drum 2 is assigned a stationary light source with a light beam 12 , which transmits the light beam 12 via an optical system and a mirror 10 and a first ring reflector 4 and a second ring reflector 5 to the exposable layer 3 . With the exposure system 1 according to the invention, printing plates, films or coatings held on the cylinder 2 can be exposed. The cylinder 2 used in the exposure can also be used in the printing process.

Claims

1. Exposure system for brought on cylindrical bodies exposed layers, consisting of a non-rotatably arranged cylindrical drum ( 2 ; 21 ) which carries the exposed layer ( 3 ; 36 ) and a fixed light source ( 34 ), the light beam ( 12 , 12 ' , 12 ''; 31 , 32 , 33 ) can be transferred via an optical system ( 30 ) to the exposable layer ( 3 ; 36 ) both in the circumferential direction and in the longitudinal direction of the drum ( 2 ; 21 ), the exposable layer ( 3 ; 36 ) can be fastened on the cylinder outer surface and the optics ( 30 ) have a mirror ( 10 ; 27 ) rotating inside the drum ( 2 ; 21 ), characterized in that
the rotating mirror ( 10 ; 27 ) is stationary, and that the optics ( 30 ) illuminate the light beam ( 12 '', 32 '') illuminating the exposable layer ( 3 ; 36 ) on its surface from outside the drum via a first ring reflector ( 4 ; 24 ) and a second ring reflector ( 5 ; 25 ) on the exposable layer ( 3 ; 36 ).

2. Exposure system according to claim 1, characterized in that both the first and the second ring reflector ( 4 , 24 ; 5 , 25 ) is stationary and the drum ( 2 ; 21 ) along the drum axis ( 7 ) is movable, such that from the second ring reflector ( 5 , 25 ) reflected light beam ( 12 '') each predetermined area unit of the be illuminable layer ( 3 ; 36 ) can be assigned.

3. Exposure system according to claim 1, characterized in that the first ring reflector ( 4 ; 24 ) arranged stationary and the second ring reflector ( 5 ; 25 ) along a drum axis ( 7 ) over the entire length of the drum ( 2 ; 21 ) ver mobile is.

4. Exposure system according to one of claims 1 to 3, characterized in that the light source ( 34 ) in the drum ( 2 ; 21 ) is arranged.

5. Exposure system according to one of claims 1 to 4, characterized in that on the inner surface of the second ring reflector ( 25 ) annularly distributed incidence of the light beam ( 32 ') from the exposed layer ( 36 ) by half the distance ( 38 ) annularly distributed incidence points of the light beam ( 32 ') are spaced from the axis ( 29 ), and the light beams ( 31 ', 32 ', 33 ') distributed over an annular surface ( 37 ) are deflectable in such a way that they act as light beams ( 31 '', 32 '', 33 '') are focused in one exposure point ( 35 ).