DE4003634C2 - Process for the production of a reflection diffraction grating with an asymmetrical groove profile - Google Patents

Process for the production of a reflection diffraction grating with an asymmetrical groove profile

Info

Publication number
DE4003634C2
DE4003634C2 DE4003634A DE4003634A DE4003634C2 DE 4003634 C2 DE4003634 C2 DE 4003634C2 DE 4003634 A DE4003634 A DE 4003634A DE 4003634 A DE4003634 A DE 4003634A DE 4003634 C2 DE4003634 C2 DE 4003634C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
transparent
light
sensitive layer
periodic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE4003634A
Other languages
German (de)
Other versions
DE4003634A1 (en
Inventor
Lothar Gorzel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dr Johannes Heidenhain GmbH
Original Assignee
Dr Johannes Heidenhain GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dr Johannes Heidenhain GmbH filed Critical Dr Johannes Heidenhain GmbH
Priority to DE4003634A priority Critical patent/DE4003634C2/en
Publication of DE4003634A1 publication Critical patent/DE4003634A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE4003634C2 publication Critical patent/DE4003634C2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/18Diffraction gratings
    • G02B5/1847Manufacturing methods
    • G02B5/1857Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/76Patterning of masks by imaging
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstel­ lung eines Reflexionsbeugungsgitters mit unsymme­ trischem Furchenprofil gemäß dem Oberbegriff der Ansprüche 1 und 2.The invention relates to a method of manufacture a reflection diffraction grating with unsymme trical furrow profile according to the preamble of Claims 1 and 2.

Aus der DE-PS 21 18 674 ist bereits ein Verfahren zur Herstellung von Beugungsgittern mit unsymme­ trischem Furchenprofil bekannt. Eine auf einem Trä­ ger aufgebrachte lichtempfindliche Schicht wird durch ein regelmäßiges Streifensystem hindurch be­ lichtet. Nach ihrer Entwicklung weist die licht­ empfindliche Schicht ein symmetrisches Furchenpro­ fil auf, dessen eine Flanke durch eine Schrägbe­ dampfung mit einer Metallschicht versehen wird. Anschließend wird die lichtempfindliche Schicht mit der partiellen Metallschicht einer gleichmäßigen Belichtung ausgesetzt, wobei vorausgesetzt ist, daß die lichtempfindliche Schicht außerhalb der par­ tiellen Metallschicht auf diese weitere Belichtung anspricht. Durch eine weitere Entwicklung ergibt sich somit ein Beugungsgitter mit unsymmetrischem Furchenprofil, das durch eine nachfolgende Vollver­ spiegelung zu einem Reflexionsblazegitter wird. Dieses Verfahren zur Herstellung von Beugungsgit­ tern mit unsymmetrischem Furchenprofil ist jedoch relativ aufwendig und läßt bei kleinen Gitterkon­ stanten kein optimales Furchenprofil zu.DE-PS 21 18 674 is already a process for the production of diffraction gratings with unsymme trical furrow profile known. One on a door ger applied light-sensitive layer through a regular strip system thins out. After its development, the light sensitive layer a symmetrical furrow pro fil on whose one flank by a slant vaporization is provided with a metal layer. The photosensitive layer is then coated with the partial metal layer of an even Exposed to exposure, provided that the photosensitive layer outside the par tial metal layer on this further exposure  appeals. Resulting from further development thus a diffraction grating with asymmetrical Furrow profile, which by a subsequent full ver reflection becomes a reflection blaze grid. This method of making diffraction grit ters with asymmetrical furrow profile relatively complex and leaves with small lattice con do not have an optimal furrow profile.

Aus der DE-OS 16 22 834 ist ein weiteres Verfahren zur Herstellung von Beugungsgittern bekannt, bei dem durch "Superpositionierung" von Belichtungen durch Streifensysteme unsymmetrische Furchenprofile erzeugt werden. Es ist ferner bekannt, zur Erzeu­ gung eines unsymmetrischen Furchenprofiles durch Belichten Graukeile vorzusehen (DE-OS 20 54 833). Die DE-OS 20 43 637 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung optischer Beugungsgitter, bei dem die Belichtungsvorlage kontinuierlich und gleichförmig in Richtung der zu erzeugenden Furchen bewegt wird. Auch die vorbeschriebenen Verfahren zur Herstellung von Beugungsgittern sind verhältnismäßig aufwendig.Another method is known from DE-OS 16 22 834 known for the production of diffraction gratings, at by "superpositioning" exposures asymmetrical furrow profiles due to strip systems be generated. It is also known to produce an asymmetrical furrow profile Expose gray wedges to provide (DE-OS 20 54 833). DE-OS 20 43 637 describes a method for Manufacture of optical diffraction gratings, in which the Exposure template continuously and uniformly is moved in the direction of the furrows to be produced. Also the above-mentioned manufacturing processes diffraction gratings are relatively complex.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung von Reflexionsbeugungsgittern mit un­ symmetrischem Furchenprofil anzugeben, das wesent­ lich vereinfacht ist und ein optimales Furchenpro­ fil liefert.The object of the invention is to provide a method for Production of reflection diffraction gratings with un Specify symmetrical furrow profile, the essential Lich is simplified and an optimal furrow pro fil supplies.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die kenn­ zeichnenden Verfahrensschritte der Ansprüche 1 und 2 gelöst.This object is achieved by the kenn drawing method steps of claims 1 and 2 solved.

Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen insbesondere darin, daß die beiden vorgeschlagenen Verfahren die Erzeugung von Reflexionsbeugungsgit­ tern mit unsymmetrischem Furchenprofil ermöglichen, deren optimale Furchenprofile auch bei kleinen Git­ terkonstanten einen vielfältigen Einsatz bei Präzi­ sionsinstrumenten erlauben.The advantages achieved with the invention exist especially in that the two proposed Method of generating reflection diffraction grids  ters with asymmetrical furrow profile, their optimal furrow profiles even with small git constant use at Präzi allow instruments.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand der Zeichnung näher erläutert.Embodiments of the invention are based on the drawing explained in more detail.

Es zeigenShow it

Fig. 1 und 2 ein erstes Verfahren zur Herstellung eines Re­ flexionsbeugungsgitters mit unsymmetrischem Fur­ chenprofil und Fig. 1 and 2, a first method for producing a Re chenprofil flexionsbeugungsgitters unbalanced and Fur

Fig. 3 und 4 ein zweites Verfahren zur Herstellung eines Reflexionsbeugungsgitte­ rs mit unsymmetrischem Furchenprofil. Figures 3 and 4, a second method. For producing a reflection diffraction lattice rs unbalanced groove profile.

Nach Fig. 1 wird auf die Oberseite einer transpa­ renten Trägerschicht 1, beispielsweise aus Glas, eine lichtempfindliche Schicht 2 aufgebracht und diese mit einer transparenten Folie 3 überdeckt, die auf ihrer Unterseite eine periodische Teilung 4 aufweist. Über der transparenten Folie 3 wird eine transparente Matrize 5 in Pfeilrichtung quer zum Verlauf der periodischen Teilung 4 beweglich an­ geordnet, die auf ihrer Unterseite ebenfalls eine periodische Teilung 6 aufweist, die mit der perio­ dischen Teilung 4 der Folie 3 identisch ist; die beiden periodischen Teilungen 4, 6 werden parallel zueinander justiert. Bei der anschließenden Belich­ tung 7 mit parallelem Licht von oben wird die transparente Matrize 5 mit konstanter Geschwindig­ keit in Pfeilrichtung relativ zur Folie 3 verscho­ ben.According to Fig. 1 a transpa pensions support layer 1, for example made of glass, a light-sensitive layer 2 is applied on top of this and covered with a transparent film 3 having on its underside a periodic subdivision 4. Above the transparent film 3 , a transparent die 5 is arranged in the direction of the arrow movably across the course of the periodic division 4 , which also has a periodic division 6 on its underside, which is identical to the periodic division 4 of the film 3 ; the two periodic divisions 4 , 6 are adjusted parallel to each other. In the subsequent exposure device 7 with parallel light from above, the transparent die 5 is shifted at a constant speed in the direction of the arrow relative to the film 3 .

Gemäß Fig. 2 bildet die transparente Trägerschicht 1 mitsamt der entwickelten lichtempfindlichen Schicht 2 ein Transmissionsbeugungsgitter mit einem optimalen unsymmetrischen, etwa dreieckförmigen Furchenprofil. Wenn die Unterseite der transparen­ ten Trägerschicht 1 mit einer Mattierung 1a verse­ hen wird, erhält man ein Reflexionsblazegitter; ein solches Reflexionsblazegitter ergibt sich auch nach einer Vollverspiegelung der Oberfläche des Furchen­ profils der lichtempfindlichen Schicht 2 mittels einer Reflexionsschicht. Der Blazewinkel wird dabei durch die folgenden Kriterien bestimmt: Dicke der lichtempfindlichen Schicht 2, Gitterkonstante der periodischen Teilungen 4 und 6, Belichtungszeit der Belichtung 7 und Verschiebegeschwindigkeit der Ma­ trize 5.Referring to FIG. 2, the transparent substrate 1 forms, together with the developed photosensitive layer 2, a transmission diffraction grating having an optimum unbalanced, approximately triangular groove profile. If the underside of the transparent carrier layer 1 is hen with a matting 1 a verse, you get a reflection blaze grid; Such a reflection blaze grating also results after full mirroring of the surface of the furrow profile of the light-sensitive layer 2 by means of a reflection layer. The blaze angle is determined by the following criteria: thickness of the light-sensitive layer 2 , lattice constant of the periodic divisions 4 and 6 , exposure time of the exposure 7 and displacement speed of the die 5 .

Nach Fig. 3 wird auf die Oberseite einer transpa­ renten Trägerschicht 1, beispielsweise aus Glas, eine lichtempfindliche Schicht 2 aufgebracht. Über der lichtempfindlichen Schicht 2 wird eine trans­ parente Matrize 8 angeordnet, an deren Unterseite parallel verlaufende Graukeile 9 periodisch vorge­ sehen sind. Nach einer Belichtung 10 mit parallelem Licht bildet gemäß Fig. 4 die transparente Träger­ schicht 1 mitsamt der entwickelten lichtempfind­ lichen Schicht 2 ein Transmissionsbeugungsgitter mit einem optimalen unsymmetrischen dreieckförmigen Furchenprofil. Wenn die Unterseite der transparen­ ten Trägerschicht 1 mit einer Mattierung 1a verse­ hen wird, erhält man ein Reflexionsblazegitter; ein solches Reflexionsblazegitter ergibt sich auch nach einer Vollverspiegelung der Oberfläche des Furchen­ profils der lichtempfindlichen Schicht 2 mittels einer Reflexionsschicht.According to Fig. 3 a transpa pensions support layer 1, for example made of glass, a light-sensitive layer 2 is applied on top. Above the photosensitive layer 2 , a transparent matrix 8 is arranged, on the underside of which parallel gray wedges 9 are periodically seen. After exposure 10 with parallel light forms, as shown in FIG. 4, the transparent support layer 1 together with the developed photosensitive layer 2, a transmission diffraction grating with an optimal asymmetrical triangular groove profile. If the underside of the transparent carrier layer 1 is hen with a matting 1 a verse, you get a reflection blaze grid; Such a reflection blaze grating also results after full mirroring of the surface of the furrow profile of the light-sensitive layer 2 by means of a reflection layer.

Verkleinerungen dieser Beugungsgitter mit unsymme­ trischem Furchenprofil sind mittels dazu geeigneter Projektionseinrichtungen möglich.Reductions of these diffraction gratings with unsymme trical furrow profile are more suitable Projection facilities possible.

Claims (3)

1. Verfahren zur Herstellung eines Reflexionsbeu­ gungsgitters mit unsymmetrischem Furchenprofil, gekennzeichnet durch folgende Verfahrensschrit­ te:
  • a) Die Unterseite einer transparenten Träger­ schicht (1) wird mit einer Mattierung (1a) versehen;
  • b) auf die Oberseite der transparenten Träger­ schicht (1) wird eine lichtempfindliche Schicht (2) aufgebracht;
  • c) die lichtempfindliche Schicht (2) wird mit einer transparenten Folie (3) überdeckt, die eine periodische Teilung (4) aufweist;
  • d) über der transparenten Folie (3) wird eine transparente Matrize (5) quer zum Verlauf der periodischen Teilung (4) beweglich angeord­ net, die ebenfalls eine periodische Teilung (6) aufweist, die mit der periodischen Tei­ lung (4) der Folie (3) identisch ist;
  • e) die beiden periodischen Teilungen (4, 6) wer­ den parallel zueinander justiert;
  • f) bei einer anschließenden Belichtung (7) von oben wird die transparente Matrize (5) mit konstanter Geschwindigkeit relativ zur Folie (3) verschoben;
  • g) nach der Belichtung (7) wird die lichtemp­ findliche Schicht (2) entwickelt.
1. A process for producing a reflection diffraction grating with an asymmetrical groove profile, characterized by the following process steps:
  • a) The underside of a transparent carrier layer ( 1 ) is provided with a matting ( 1 a);
  • b) a light-sensitive layer ( 2 ) is applied to the top of the transparent support layer ( 1 );
  • c) the light-sensitive layer ( 2 ) is covered with a transparent film ( 3 ) which has a periodic division ( 4 );
  • d) over the transparent film ( 3 ) is a transparent die ( 5 ) transversely to the course of the periodic division ( 4 ) movably arranged, which also has a periodic division ( 6 ) with the periodic Tei treatment ( 4 ) of the film ( 3 ) is identical;
  • e) the two periodic divisions ( 4 , 6 ) who adjusted the parallel to each other;
  • f) during a subsequent exposure ( 7 ) from above, the transparent matrix ( 5 ) is displaced at a constant speed relative to the film ( 3 );
  • g) after exposure ( 7 ), the light-sensitive layer ( 2 ) is developed.
2. Verfahren zur Herstellung eines Reflexionsbeu­ gungsgitters mit unsymmetrischem Furchenprofil, gekennzeichnet durch folgende Verfahrens­ schritte:
  • a) Die Unterseite einer transparenten Träger­ schicht (1) wird mit einer Mattierung (1a) versehen;
  • b) auf die Oberseite der transparenten Träger­ schicht (1) wird eine lichtempfindliche Schicht (2) aufgebracht;
  • c) über der lichtempfindlichen Schicht (2) wird eine transparente Matrize (8) angeordnet, an deren Oberfläche parallel verlaufende Grau­ keile (9) periodisch vorgesehen sind;
  • d) nach einer Belichtung (10) von oben wird die lichtempfindliche Schicht (2) entwickelt.
2. Method for producing a reflection diffraction grating with an asymmetrical groove profile, characterized by the following method steps:
  • a) The underside of a transparent carrier layer ( 1 ) is provided with a matting ( 1 a);
  • b) a light-sensitive layer ( 2 ) is applied to the top of the transparent support layer ( 1 );
  • c) a transparent matrix ( 8 ) is arranged over the light-sensitive layer ( 2 ), on the surface of which parallel gray wedges ( 9 ) are periodically provided;
  • d) after exposure ( 10 ) from above, the photosensitive layer ( 2 ) is developed.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß auf die entwickelte licht­ empfindliche Schicht (2) eine Reflexionsschicht aufgebracht wird.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that a reflection layer is applied to the developed light-sensitive layer ( 2 ).
DE4003634A 1990-02-07 1990-02-07 Process for the production of a reflection diffraction grating with an asymmetrical groove profile Expired - Fee Related DE4003634C2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4003634A DE4003634C2 (en) 1990-02-07 1990-02-07 Process for the production of a reflection diffraction grating with an asymmetrical groove profile

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4003634A DE4003634C2 (en) 1990-02-07 1990-02-07 Process for the production of a reflection diffraction grating with an asymmetrical groove profile

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4003634A1 DE4003634A1 (en) 1991-08-14
DE4003634C2 true DE4003634C2 (en) 1994-03-31

Family

ID=6399616

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4003634A Expired - Fee Related DE4003634C2 (en) 1990-02-07 1990-02-07 Process for the production of a reflection diffraction grating with an asymmetrical groove profile

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4003634C2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19833756A1 (en) * 1998-07-16 2000-01-27 Hertz Inst Heinrich Arrangement for the production of vertical structures in semiconductor materials
CN112764145A (en) * 2021-02-01 2021-05-07 西安交通大学 Two-dimensional grating efficient manufacturing method based on time sequence control

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1622834A1 (en) * 1968-01-20 1970-12-23 Rudolph D Optical diffraction gratings
DE2043637A1 (en) * 1970-09-03 1972-03-23 Zeiss Carl Fa Method and device for the manufacture of optical diffraction gratings
DE2054833A1 (en) * 1970-11-07 1972-05-10 Basf Ag Process for the production of printing forms for gravure printing

Also Published As

Publication number Publication date
DE4003634A1 (en) 1991-08-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19525745B4 (en) Method of forming a cover pattern
DE3787955T2 (en) Photomask with transmission factor modulation, its manufacturing process and manufacturing process for a diffraction grating.
DE3789881T2 (en) Process for the production of photomasks and photomasks.
DE2703160C3 (en) Method for producing a master for a phase grating in a diffraction working subtractive color filter system
DE69125195T2 (en) Phase shift mask and manufacturing method
DE4329803A1 (en) Projection exposure method for ultra large scale integration chip mfr. - diffracting exposure light beam to eliminate perpendicular incidence angle component
WO2002044771A1 (en) Method and device for producing a coupling grating for a waveguide
DE19651029C2 (en) Calibration standard for profilometers and manufacturing processes
EP0451307A1 (en) Phase mask for photolithographic projection and process for its preparation
WO2004025335A1 (en) Binary blazed diffractive optical element
EP0212054A2 (en) Process for the production of X-ray masks
DE2715089C3 (en) Method for producing a material for embossing an image information pattern in a thermoplastic layer
DE4003634C2 (en) Process for the production of a reflection diffraction grating with an asymmetrical groove profile
DE2835363A1 (en) Optical prodn. of structures on semiconductor circuits - involves use of partly transparent layer on pattern in areas of coarse structure
DE2709614C2 (en) Exposure device for producing a screen of a color picture tube
DE2123887C3 (en)
DE19605062C1 (en) Long Bragg diffraction grating manufacturing method in monomode optical fibre
DE69230119T2 (en) Process for producing a shadow mask by etching a resist layer
EP0000571B1 (en) Process for the production of an original
DE10313548B4 (en) Binary blazed diffractive optical element and lens containing such an element
DE2345108C3 (en) Apparatus for generating a Fourier transform hologram
DE4443957A1 (en) Prodn. of semiconductor device
DE19503393A1 (en) Halftone phase shift mask and method of making the same
DE3129164A1 (en) DEVICE FOR MEASURING LIGHT INTO AN OPTICAL SYSTEM
DE3401963C2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee