DE3412917A1 - RECORDING DEVICE FOR RECORDING WITH HEATING ENERGY - Google Patents
RECORDING DEVICE FOR RECORDING WITH HEATING ENERGYInfo
- Publication number
- DE3412917A1 DE3412917A1 DE19843412917 DE3412917A DE3412917A1 DE 3412917 A1 DE3412917 A1 DE 3412917A1 DE 19843412917 DE19843412917 DE 19843412917 DE 3412917 A DE3412917 A DE 3412917A DE 3412917 A1 DE3412917 A1 DE 3412917A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- recording
- heating
- thermal energy
- resistance
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14032—Structure of the pressure chamber
- B41J2/1404—Geometrical characteristics
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14088—Structure of heating means
- B41J2/14112—Resistive element
- B41J2/14129—Layer structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14387—Front shooter
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2202/00—Embodiments of or processes related to ink-jet or thermal heads
- B41J2202/01—Embodiments of or processes related to ink-jet heads
- B41J2202/11—Embodiments of or processes related to ink-jet heads characterised by specific geometrical characteristics
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Description
Aufzeichnungsvorrichtung zum Aufzeichnen mit Wärmeenergie.Recording device for recording with thermal energy.
Die Erfindung bezieht sich auf eine Wärmeenergie-Aufzeichnungsvorrichtung und insbesondere auf eine Vorrichtung zum mehrteiligen Aufzeichnen in hohe Dichte unter Nutzung der Wärmeenergie.The invention relates to a thermal energy recording apparatus and more particularly to an apparatus for multipart high density recording using the thermal energy.
Eines von Wärmeenergie-Aufzeichnungssystemen ist bei- - ',-spielsweise als eine Tini ensl.rahl-Aufzeichnungsvorrichtung bekannt, die in der US-PS 4 330 787 beschrieben ist. Mit dieser Tintenstrahl-Aufzeichnungsvorrichtung kann auf einfache Weise eine Farbaufzeichnung mit hoher Geschwindigkeit ausgeführt werden, wobei die Vorrichtung einen als hauptsächlichen Ausgabeteil verwendeten Aufzeichnungskopf enthält. Der Auf?eichnungs- One of thermal energy recording systems is known , for example, as a Tiny Beam recording apparatus, which is described in U.S. Patent 4,330,787. With this ink jet recording apparatus, high speed color recording can be easily carried out, the apparatus including a recording head used as a main output part. The recording
I L·Ό I I IL · Ό I I
~ 4 · DE 38 21 ~ 4 EN 38 21
kopf kann zum Ausstoßen der AufzeichnungsfJüssigkeit für das Bilden fliegender Tröpfchen eine Vielzahl von Ausst'oßöf f nungen bzw. Düsen haben, die in hoher Dichte angeordnet sind. Dadurch kann der Aufzeichnungskopf als Ganzes kompakt gestaltet werden und vorteilhaft,in Massenfertigung hergestellt werden, wobei sich ein höheres Auflösungsvermögen ergibt. Ferner kann der Aufzeichnungskopf dadurch hergestellt werden, daß in zufriedenstel- lender Weise die Vorteile integrierter Schaltungen undder Mikro-Bearbeitungstechnik genutzt werden, welche auf dem Gebiet der Halbleiter beträchtlich w.eiterentwickelt und hinsichtlich der Zuverlässigkeit verbessert worden ist. Damit kann der Aufzeichnungskopf leicht (zweidimensional) lang und breit gestaltet werden.. Demzufolge haben die AufzeichnungskÖpfe dieser Art große Aufmerksamkeit auf sich gezogen* .head can be used to eject the recording liquid for forming flying droplets a variety of Ejection openings or nozzles that have a high density are arranged. This allows the recording head to be used as a Whole can be made compact and advantageous, in mass production can be produced, resulting in a higher resolving power. Furthermore, the recording head can be manufactured by having a satisfactory tend to take advantage of integrated circuits and the Micro-machining technology can be used, which is being developed considerably in the field of semiconductors and has been improved in terms of reliability. With this, the recording head can easily (two-dimensional) can be made long and wide. Accordingly, the recording heads of this type have large ones Attracted attention *.
Bei einer derartigen Wärmeenergie-Aufzeichnungsvorrich-. tung wird jedoch für 'ein Aufzeichnungsmaterial im Format A4 die Gesamfcanzahl von elekt.rothermischen Wandlerelementen zu 252G, falls die Wandlerelemente auf einer Vollzeile auf der kürzeren Seite des Aufzeichnungsma-' terials im Format A4 (mit 210 mm) in eine Dichte vonIn such a thermal energy recording apparatus. However, processing is for 'a recording material in the format A4 is the total number of electrothermal transducer elements to 252G if the transducer elements are on a Full line on the shorter side of the record terials in A4 format (with 210 mm) in a density of
12. Elementen je mm angeordnet werden. Dies nrqibt mancherlei Probleme hinsichtlich der . Zuverlässigkeit-, der Reproduzierbarkeit und der Massenfertigung. Jedes der erektrothermiseheh Wandlerelemente hat eine Heizwider- ; stsndsschicht, die an einem Heizabschnitt angeordnet ist und die hinsichtlich dei Dicke und der Länge außerordentlich verkleinert ist. Es ist daher sehr schwierig, im Vergleich zur Einstellung von Widerstandswert.en von Elektroden, die elektrisch mit den jeweiligen Heizwiderstandsschichten verbunden sind, alle Heizwider-12. Elements are arranged per mm. This poses several problems regarding the. Reliability, reproducibility and mass production. Each of the erectrothermal transducer elements has a heating resistor ; Stand layer which is arranged on a heating section and which is extremely reduced in terms of thickness and length. It is therefore very difficult, in comparison to the setting of resistance values of electrodes that are electrically connected to the respective heating resistor layers, all of the heating resistors.
35' standsschiehten/in bezug auf der» Widerstandswert genau35 'in relation to the resistance value exactly
. "~ 5 .- DE 5021. "~ 5 .- DE 5021
einzustellen. Falls die Heizwiderstandsschichten streuende Widerstandswerte haben, werden auch an den jeweiligen elektrothermisehen Wandlerelementen die Wärmeenergien unter Streuung erzeugt. Damit wird beispielsweise bei dem vorstehend genannte-n Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungssystem eine Steuerung der aus den Düsen des Aufzeichnungskopfs fliegenden Tröpfchen schwierig, so daß das angestrebte Drucken nicht erzielbar ist.to adjust. If the heating resistor layers are scattering Have resistance values, the thermal energies are also applied to the respective electrothermal transducer elements generated with scattering. This is for example at the above-mentioned liquid jet recording system it is difficult to control the droplets flying out of the nozzles of the recording head, so that the aim Printing is not achievable.
Im Hinblick auf die vorstehend genannten Probleme liegt
der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Wärmeenergie-Aufzeichnungsvorrichtung zu schaffen, die ein genaues
Aufzeichnen unter hoher Geschwindigkeit bei hoher Dichte ermöglicht.
· ■ ■In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a thermal energy recording apparatus capable of recording accurately at high speed at high density.
· ■ ■
Ferner soll mit der Erfindung eine Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungsvorrichtung geschaffen werden, bei der die Streuung fliegender Tintentröpfchen aus Tintenausstoßöffnungen gering ist und die damit zur Aufzeichnung von .Another object of the invention is to provide a liquid jet recording apparatus in which the scattering of flying droplets of ink from ink ejection orifices is low and that is used to record.
Bildern in hoher Qualität geeignet ist .High quality images is appropriate.
Mit der Erfindung wird eine Wärnneenergie-Aufzeichnungsvorrichtung geschaffen, die ein Substrat und eine Vielzahl an dem Substrat als Vorrichtungen zum Erzeugen von 26The invention provides a thermal energy recording apparatus created, which a substrate and a plurality on the substrate as devices for producing 26th
Wärmeenergie angebrachter elektrothermischer Wandlerelemente aufweist, von welchen jedes ein Paar Elektroden und .eine an die Elektroden angeschlossene Heizwiderstandsschicht. aufweist und zwischen den E'l.ektroden einen Heizabschnitt für das Erzeugen der Wärmeenergie hat, wobei ein Widerstandswert Re der jeweiligen Elektroden und ein Normn lwiderst .an.dswnrt Rh der He i /w i dniüt η Haloschicht an dem Heizabschnitt der folgenden Bedingung genügen:Thermal energy from attached electrothermal transducer elements each of which has a pair of electrodes and a heating resistor layer connected to the electrodes. has and between the E'l. electrodes one Has heating section for generating the thermal energy, with a resistance value Re of the respective electrodes and a norm resistance to the value Rh of the He i / w i dniut η halo layer at the heating portion of the following condition suffice:
3^ 0,5 £ Re/Rh < 2,0 . - 3 ^ 0.5 £ Re / Rh < 2.0 . -
■ .: - 6 - DE 3821■.: - 6 - DE 3821
\ ■\ ■
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines Ausführungs- ,The invention is based on an embodiment,
■'■.·,·■ breispiels unter ßezugnahme auf die Zeichnung näher erläutert. . ,■ '■. ·, · ■ a broad example with reference to the drawing explained in more detail. . ,
- 5 ■■'■■■·■''.-■'..- . - .- 5 ■■ '■■■ · ■' '.- ■' ..-. -.
Fig. 1 ist. eine graphische Darstellung, die dieFig. 1 is. a graph showing the
; /$)-■■" Grundlage zahlenmäßiger Begrenzungen bezüg-1 : .."■·■ · lieh,eines Elektrodenwiderstandswerts und; / $) - ■■ " Basis of numerical limitations relating to 1: .." ■ · ■ · borrowed, an electrode resistance value and
... eines :Normalw.i derstandswerts einer Heizwider... one : normal resistance value of a heating resistor
' stän;dssehicht "an einem Heizabschnitt in 10'stand; dssehicht' on a heating section in 10
einer e-'rf i ndungsgemäÖen Wärmeencrg i ^-Aufzeichnungsvorrichtung veranschaulicht.a heat generator according to the invention illustrated.
Fig. 2 ist ein schemaiischer Querschnitt durchFig. 2 is a schematic cross section through
• ' eine Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnunusvor-• 'a liquid jet recording pre-
15. ■ ' -■- ■■■·..-■■"".■ - ■ * - ■-15. ■ ' - ■ - ■■■ · ..- ■■ "". ■ - ■ * - ■ -
ι ' ,, ' richtung als Ausführungsbeispiel der Erfin.-ι ',,' direction as an embodiment of the invention
, Fig. 3 ist-eine teilweise durchgeschnitten darge-■;...■" stellte- perspektivische Ansicht, der in Fig., FIG. 3 is a partially cut-through figure- ■; ... ■ " posed - perspective view shown in Fig.
2 gezeigten Vorrichtung.2 shown device.
• ■ -• ■ -
Eine erfirtdungsgemäße Wärmeenergie-Aufzeichnungsvorric'htung kann die im folgenden genannten überlegenen Eigenschaften insofern bieten, als an el ektrot.hermischen Wandler-2B.-■■■■.■. ■ ■ ;A thermal energy recording device according to the invention can have the following superior properties insofar as offering electrical thermal converters-2B.- ■■■■. ■. ■ ■;
elementen die jeweilige Wärmeenergie mit einer gerin-g.eren Streuung erzeugt wird. ; elements, the respective thermal energy is generated with a smaller spread. ;
■Es- sei nun angenommen, daß mit Rh, der normale Widerstandseiner Heizwiderstandssrhicht an deren Heizabschnitt■ It is now assumed that with Rh, the normal resistance of one Heating resistance layer on their heating section
in einer Wärmeenergie-Aufze ιchnungsvörrichtung bezeichnetιchnungsvörrichtung referred to in a thermal energy Aufze
ist, mit ÄRh die maximale Widerstandsstιeuung bzw. Widerstahdsabweichung der Heizwiderstandsschicht bezeich-■ net ist. und mit Re d-er Widerstandswert der der Heizwider-S:ta?n'dssciiicht zugeordneten Elektroden ist. Der zumis, with ÄRh the maximum resistance control or resistance deviation of the heating resistance layer is ■ denoted. and with Re d-er resistance value of the Heizwider-S: ta ? n'dssciiicht associated electrodes. The for
3&:. '-V-; . ' ■:.■■■' . .■■■■' ■ ■3 & :. '-V-; . '■:. ■■■'. . ■■■■ '■ ■
- 7 - .DE 3821 : ·- 7 - .DE 3821: ·
Erzielen eines vorbestimmten Heirkraftwerts.an dem jeweiligen Heizabschnitt or forderliche Leislungsver- ' brauch sollte an allen el ekr.rothermischen Wandlerele- : menten konstant bzw. unverändert gleich sein» Nimmt man nun an, daß die an Bine Bezugs-Heizwiderstandsschicht und eine Heizwiderstandssehicht mit maximaler Widerstandsstreuung angelegten Spannungen jeweils mit , V bzw. V + AV bezeichnet sind, so ergibt, sieh folqeüde Gleichung:Obtaining a predetermined Heirkraftwerts.an of each heating section or ford variable Leislungsver- 'need at all should ekr.rothermischen el Wandlerele-: menten constant or unchanged equal to "Assuming now that the at Bine reference heating resistor and a maximum Heizwiderstandssehicht Resistance scatter applied voltages are marked with, V or V + AV, then see the following equation:
(1)(1)
Durch Auflösung der. Gleichung (1) erzielt man folgendeBy dissolving the. Equation (1) is obtained as follows
Gleichung:
15Equation:
15th
2 _ ,, ARh/Rh ν 2 , ■ 1 ,... χ :■■■,„.2 _ ,, ARh / Rh ν 2, ■ 1, ... χ: ■■■, ".
U + v; - U + χ + Re/Rn ) I1 + VVU + v ; - U + χ + Re / Rn ) I 1 + VV
Nach dieser Gleichung (2) kann die in'Figur 1 .".gezeigte .; graphische Darstellung au fgetrag'en werden, 20According to this equation (2), the.; graphic representation can be applied, 20
Im einzelnen sind in der Figur 1auf der Abszisse dieIn detail, on the abscissa in FIG
• -• -
Verhältnisse von ARh zu dem Normalwiderstandswert Rh der Heizwiderstandssch ichten cfärgestell ty» während auf der Ordinate die Verhältnisse ^er Spannungsdifferenz Δν zu der Spannung V aufgetragen sind,■welche zum Er- · zeugen eines Heizkräfrwerts an der Bezuqs-Heizwiderstandsschicht mit dem Normalwidersr'and Rh erforderlich ist, während zum Erzeugen des gleichen Heizkraftwerts an einer Heizwiderstandssehicht mit frä-netn Widevsi aridswert, der von dem Normalw idersiandsweri- Rh uw ARh abweicht, diese Spannung V zuzügl ich der SpafHtunqsdi f ferenz AV erforderlich ist. Die Kurven sind für Rarg'meter Re/Rh von Q1I, 0,5-, 1,0 und 2,0 aufgetragen»Ratios of ARh to the normal resistance value Rh of the heating resistance layers cfärgestell ty »while the ratios of the voltage difference Δν to the voltage V are plotted on the ordinate, which are used to generate a heating force value at the reference heating resistance layer with the normal resistance Rh is necessary, while to generate the same heating power value at a heating resistor layer with a wide vsi aridswert, which deviates from the normalw idersiandsweri- Rh uw ARh, this voltage V plus the SpafHtunqsdifferenz AV is required. The curves are plotted for Rarg'meter Re / Rh of Q 1 I, 0.5-, 1.0 and 2.0 »
w-r < «- w ι rw-r <«- w ι r
- 8 - DE 38 21- 8 - EN 38 21
GomäO der Darstellung in I icjur J, wird st* Mi«I dmvn, .wenn die maximale Widerstandsstreuung bzwi. Wi derst aridsabweichung 4Rh einer· Heizwιderstandsschient von dem Norma.lwiderständsw'ert' Rh der Bezugs-Hei zwi derstands- ° ■ schicht·, in einem Bereich von +_ 30 % liegt:, die zum"GomäO of the representation in I icjur J, st * Mi «I dmvn, .when the maximum resistance spread or. Resistance deviation 4Rh of a heating resistance rail from the standard resistance value Rh of the reference heating between the layer, lies in a range of + 30 %:
Erzielen des gleiühe-n Heizkraftvwiert-.a erforderliche - Spahnungsdifferenz1 AV gegenüber .der Spannung V sehr klein, nämlich ungefähr 1,5 % ader weniqer, falls da*;" Verhältnis Re/Rh gleich l,,0 ist.. Wenn die jeweiligen I^ eiekt".rot.herm.i sehen Wa'ndl erel ementve , mi t der gleichen . Spannung betrieben werden, wird daher die Streuunq der an den jeweiligen Heizimi derständsschi chten hervorgerufenen Heizkraftwerte außerordentlich verringert.Achieving the same-n Heizkraftvwiert-.a required - Spahnungsdifferenz 1 AV compared to the voltage V is very small, namely about 1.5 % or less if the ratio Re / Rh equals 1 ,, 0 .. If the respective I ^ eiekt ".rot.herm.i see Wa'ndl erel ementve, with the same. Voltage are operated, therefore the scatter of the heating power values caused at the respective Heizimi derstandssschi chten is extremely reduced.
Erf indungsgemäO soll daher dor Wi derstandswert. Re der . ' Elektroden, der'nach dem Stand der Technik im wesentlichen nicht berücksichtigt worden ist, auf bei rächt-1iche'Weise so gesteigert werden, daß das Verhältnis Re/Rh in den vorangehend qenannten Bereich eingestelltAccording to the invention, the resistance value should therefore. Re der. ' Electrodes, which, according to the state of the art, have essentially not been taken into account, in no small part so increased that the ratio Re / Rh is set in the aforementioned range
2Ö wird. Gemäß der Darstellung in Fiqur 1 hat das Verhältnis Re/Rh am günstigsten einen Wert, von ungefähr 1,0. Die Streuung der He i zkraf t.we rte an den Heizwiderstandsschichten kann jedoch auch dann verringert werden, wenn dasVerhältnis Re/Rh öinen Wert im Bereich von ungefähr 1/2 bis ungefähr 2 hat.2Ö will. As shown in Fig. 1, the ratio Re / Rh has a most favorable value of approximately 1.0. The distribution of the heating force values on the heating resistor layers however, it can also be decreased if the Re / Rh ratio has a value in the range of approximately 1/2 to about 2.
Die erfindungsgemäOe Auszeichnungsvorrichtunq wird nun konkret anhand eines Ausfühiungsbeispiel π in der.Form e;iner in den Figuren 2 und 3 gezeigten Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungsvorrichtung beschrieben» -· . . ,The marking device according to the invention will now be concretely illustrated using an exemplary embodiment π in der.Form e ; A liquid jet recording apparatus shown in Figs. 2 and 3 has been described. . ,
Die Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungsvnrrichtung weist hauptsächlich ein,Substrat 1., elekrrothermische Wandlerelemente 2 an dem Substrat 1, vordere, rückwärtige undThe liquid jet recording direction has mainly one, substrate 1., electrothermal transducer elements 2 on the substrate 1, front, back and
- 9 - äDE 3821- 9 - ä DE 3821
seitliche Wände 6, 7, 8, 9 und 10, die einen Flüssigkeitsdurehlaß 5 und eine erste und zweite Fluss i gkei t.skammer 4 bzw. 5 begrenzen, eine DüsenöFfnungsplalte 12, die jeweils den elektrothermisehen Wandlerelementen .side walls 6, 7, 8, 9 and 10 which provide a fluid passage 5 and a first and second flow chamber 4 or 5, a nozzle opening slot 12, each of the electrothermal transducer elements .
gegenübergesetzt angeordnet ist und in der jeweils Düsenöffnungen 11 ausgebildet sind, Deckplatten 13 und 14 und ein Zufuhrrohr 15 für das Zuführen der Flüssigkeit zu der zweiten Flüssigkei toskammer 5 auf.is arranged opposite and in each of the nozzle openings 11 are formed, cover plates 13 and 14 and a supply pipe 15 for supplying the liquid the second liquid chamber 5 on.
Jedes der el ekt.rot.hermischen Wondlerel emente 2 weist.Each of the el ect.rot.hermal Wondlerel emente 2 has.
eine Heizwiderstandsschioht 16, eine von Wähl elektroden 17, die zueinander parallel auf den Heizwiderst aridsschichten mit Ausnahme eines Teilbereichs derselben angeordnet, sind, eine gemeinsame Elektrode 18 und eine · -a Heizwiderstandsschioht 16, one of selection electrodes 17, which are arranged parallel to one another on the heating resistor layers with the exception of a partial area thereof, a common electrode 18 and a -
Schutzschicht". 19 auf, welche zumindest an dem direkt mit. der Flüssigkeit in Berührung stehenden Bereich der Flüssigkeitskammer angeordnet ist, wobei die Srhirhten bzw. Elektroden in der genannten Aufe i riariderf alge von dem Substrat 1'beginnend übereinander angeordnet sind. Hinsichtlich des Wide'rstandswertes können die Wählelektrode 17 und -die gemeinsame Elektrode 18 im Vergleich zur Einstellung der Heizwiderstandsschichts 16 in einem Heizbereich 20 leicht, eingestellt, werden. Diese ElektrodenProtective layer ". 19, which at least on the directly with. the area in contact with the liquid Liquid chamber is arranged, wherein the Srhirhten or electrodes in the specified range of are arranged one above the other beginning with the substrate 1 '. With regard to the distance value, the selection electrode 17 and -the common electrode 18 compared to the setting of the heating resistor layer 16 in one Heating area 20 can be easily adjusted. These electrodes
17 und 18 werden nun so qestaltet, daß die Summe der 2517 and 18 are now formed in such a way that the sum of the 25th
Wi derstandswßrt e der Wähl el ekt ι ode 17 und der qomornsn-men Elektrode 18 im wesentlichen gleich dem normalen Widerstandswert der He izwiderst andssch.i chi 1,6 in dem Heizbereich 20 ist.Resistance values of the selection el ect ι or 17 and the qomornsn-men Electrode 18 is essentially equal to the normal resistance value of the heating resistance andssch.i chi 1.6 in the Heating area 20 is.
· .·.
Wenn die Heizwiderstandsschicht 16 über die Wähl elektrode 17 und die gemeinsame Elektrode 18 gespeist wird, wird in dem Heizboreich 20 zwischen den Elektroden Wärmeenergie erzeugt. Eine Wärmewirkungsfläche 21, an der die erzeugte Wärme auf die Flüssigkeit, einwirkt, steht in enger Verbin-.When the heating resistor layer 16 over the selection electrode 17 and the common electrode 18 is fed, is Heat energy generated in the heating area 20 between the electrodes. A heat-acting surface 21, on which the generated Heat acts on the liquid, is closely related.
dung mit. dem Heizbereich 20. Die Wärmeeinwirkung an derdung with. the heating area 20. The effect of heat on the
yj T I yj T I
- ΙΟ - DE 38 2.1- ΙΟ - DE 38 2.1
Wärmewirkungsf lache 21 bewj rkt., daß in dnr Flüssigkeit plötzlich Bläschen erzeugt werden. Dies iuft. in der Flüs sigkeit, einen Drucka'nsl j oq b/w. Diuckr.l αΠ hoivoi , dor zum Ausstoßen der Flüssigkeit über die Düsenöffnunq 11 ,.".'■ " - ■ Thermal area 21 causes bubbles to suddenly be generated in the liquid. This works. in the liquid, a pressure a'nsl j oq b / w. Diuckr.l αΠ hoivoi, dor for ejecting the liquid through the nozzle opening 11,. ". '■" - ■
in der Form fliegender .Tröpfchen dient., wodurch ein Aufzei;Chttur)gsvoFg.sng; hervorgerufen wird.in the form of flying droplets, creating a record; Chttur) gsvoFg.sng ; is caused.
AUS der vorstehenden Beach roibung ist ππ οπή cht 1 i ch, daß die Erfindung eine Wärmeenergie-Aufzeichnungsvorricht.ung ergibt ,bei. der die Streuung bzw. Abweichung. . von in den jeweiligen elektrothermischen Wahdlerelement.en erzeugten Wärmeenergien verringert werden kann' und die eine naturgetreue und zuverlässige Aufzeichnung von Aufzföichnungssignale hoher Frequenz ergibt.FROM the above beach rubbing is ππ οπή cht 1 i ch, that the invention provides a thermal energy recording device results in. which is the spread or deviation. . from in the respective electrothermal selector element generated thermal energy can be reduced ' and a lifelike and reliable recording of high frequency recording signals.
16' ■ . ■ ■ ■ ·16 '■. ■ ■ ■ ·
. In einer Wärmeenergie-Aufze i chnungsvorr i cht.ung mi t einem 'Substrat und einer Vielzahl von an dem Substrat zum Erzeugen von Wärmeenergie angebrachten elektrothermischen Waridlerelement.en, von denen jedes ein Paar Elektroden. In a thermal energy recording device with a 'Substrate and a plurality of on the substrate to create Electrothermal Waridler elements applied by thermal energy, each of which has a pair of electrodes
und eine zwischen die' Elektroden geschaltete Heizwiderstandsschicht aufweist, und einen Heizabschni t.t zum Er-and a heating resistor layer connected between the electrodes and a heating section for
: zeugeji der Wärmeenergie hat , erfüllen ein W i de r stands wertRe der.'jeweil igen Elekt roden ■ und ein Normalwi der-: evidence of thermal energy has a resistance value the respective electrodes and a normal resistance
st.andwert Rh der Heizwiders t andsseb i chi an dem Heizab-"■"■■' st.andwert Rh the heating resistance t andsseb i chi on the Heizab- "■" ■■ '
stihrvitt die Beziehung .stihrvitt the relationship.
: ■ 0,5'< Ri/Rh < 2,0 : : ■ 0.5 '<Ri / Rh <2.0 :
■ΛΑ■ ΛΑ
- Leerseite - - blank page -
Claims (3)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5919183A JPS59184665A (en) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | Recorder utilizing heat energy |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3412917A1 true DE3412917A1 (en) | 1984-10-11 |
Family
ID=13106274
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19843412917 Ceased DE3412917A1 (en) | 1983-04-06 | 1984-04-05 | RECORDING DEVICE FOR RECORDING WITH HEATING ENERGY |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59184665A (en) |
DE (1) | DE3412917A1 (en) |
FR (1) | FR2543884B1 (en) |
GB (1) | GB2139564B (en) |
HK (1) | HK32391A (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60183154A (en) * | 1984-03-01 | 1985-09-18 | Canon Inc | Ink jet recording head |
JP2607274B2 (en) * | 1988-06-21 | 1997-05-07 | キヤノン株式会社 | Inkjet recording head |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2944005A1 (en) * | 1978-10-31 | 1980-05-08 | Canon Kk | LIQUID JET RECORDING DEVICE |
DE3008487A1 (en) * | 1979-03-06 | 1980-09-18 | Canon Kk | INK-JET RECORDING DEVICE |
DE3219781A1 (en) * | 1981-05-26 | 1982-12-16 | Ricoh Co., Ltd., Tokyo | RECORDING METHOD AND DEVICE |
DE3224081A1 (en) * | 1981-06-29 | 1983-01-13 | Canon K.K., Tokyo | LIQUID JET RECORDING HEAD |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5943314B2 (en) * | 1979-04-02 | 1984-10-20 | キヤノン株式会社 | Droplet jet recording device |
US4313124A (en) * | 1979-05-18 | 1982-01-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording process and liquid jet recording head |
JPS57140170A (en) * | 1981-02-24 | 1982-08-30 | Canon Inc | Recording head |
JPS57174278A (en) * | 1981-04-22 | 1982-10-26 | Hitachi Ltd | Heat sensitive head driver |
JPS587361A (en) * | 1981-07-03 | 1983-01-17 | Canon Inc | Liquid jet recording head |
-
1983
- 1983-04-06 JP JP5919183A patent/JPS59184665A/en active Granted
-
1984
- 1984-04-05 DE DE19843412917 patent/DE3412917A1/en not_active Ceased
- 1984-04-05 GB GB08408767A patent/GB2139564B/en not_active Expired
- 1984-04-05 FR FR8405369A patent/FR2543884B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-04-25 HK HK32391A patent/HK32391A/en not_active IP Right Cessation
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2944005A1 (en) * | 1978-10-31 | 1980-05-08 | Canon Kk | LIQUID JET RECORDING DEVICE |
DE3008487A1 (en) * | 1979-03-06 | 1980-09-18 | Canon Kk | INK-JET RECORDING DEVICE |
DE3219781A1 (en) * | 1981-05-26 | 1982-12-16 | Ricoh Co., Ltd., Tokyo | RECORDING METHOD AND DEVICE |
DE3224081A1 (en) * | 1981-06-29 | 1983-01-13 | Canon K.K., Tokyo | LIQUID JET RECORDING HEAD |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Patents Abstracts of Japan M-198, 5. März 1983, Vol. 7, Nr. 55 mit zurgehöriger: JP-OS 57-2 01 676 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59184665A (en) | 1984-10-20 |
GB2139564A (en) | 1984-11-14 |
JPH0532221B2 (en) | 1993-05-14 |
FR2543884B1 (en) | 1994-01-21 |
FR2543884A1 (en) | 1984-10-12 |
GB2139564B (en) | 1986-04-23 |
GB8408767D0 (en) | 1984-05-16 |
HK32391A (en) | 1991-05-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3012720C2 (en) | ||
DE60113798T2 (en) | INTEGRATED CMOS / MEMS INK JET PRESSURE BUTTON WITH LONG SLOTTED NOZZLE HOLE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF | |
DE2945658C2 (en) | ||
DE60111716T2 (en) | INTEGRATED CMOS / MEMS INK JET PRESSURE HEAD WITH OXID BASE SIDE DRY ARCHITECTURE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF | |
DE2942233C2 (en) | Color jet recording device | |
DE3008487C2 (en) | ||
DE4400094B4 (en) | Inkjet printhead for halftone and text printing | |
DE2943164C2 (en) | ||
EP0116971B1 (en) | Piezoelectrically activated recording head with a duct matrix | |
DE69817511T2 (en) | Liquid ejection head, head cassette and liquid ejection device | |
DE60027526T2 (en) | Improvement of the deflection for continuous inkjet printers | |
DE69833154T2 (en) | microdevice | |
DE2648867A1 (en) | METHOD OF OPERATING AN INKJET PRINTER AND A SUITABLE NOZZLE ARRANGEMENT FOR INKJET PRINTER | |
DE3402680A1 (en) | LIQUID SPLASH RECORDING DEVICE | |
DE2460913A1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR GENERATING A SEQUENCE OF EQUAL SIZE AND EQUALLY SPACED LIQUID DROPS | |
DE3018852A1 (en) | METHOD FOR INK-JET PRINTING AND WRITING HEAD FOR AN INK-JET PRINTER | |
DE3632848C2 (en) | ||
DE3246839A1 (en) | WRITING HEAD FOR A PULSE JET INK RECORDER | |
DE4317944C2 (en) | Ink jet recording head | |
EP0121894B1 (en) | Piezoelectrically operated write head for ink mosaic recording devices | |
DE69724527T2 (en) | A method of controlling the amount of liquid ejected from a plurality of liquid ejection nozzle units, an ink jet control method using the control method, and an ink jet apparatus | |
DE60120812T2 (en) | Printhead with multiple drop generator types | |
DE2949163A1 (en) | PRINT HEAD FOR AN INK JET PRINTER | |
DE3045204C2 (en) | ||
DE3414792A1 (en) | METHOD FOR PRODUCING A LIQUID JET PRINT HEAD |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8172 | Supplementary division/partition in: |
Ref country code: DE Ref document number: 3448537 Format of ref document f/p: P |
|
Q171 | Divided out to: |
Ref country code: DE Ref document number: 3448537 |
|
8131 | Rejection |