DE3240360C2

DE3240360C2 -

Info

Publication number: DE3240360C2
Application number: DE19823240360
Authority: DE
Inventors: Adolf 7080 Aalen De Weyrauch
Original assignee: M Hensoldt & Soehne Wetzlar Optische Werke Ag 6330 Wetzlar De
Current assignee: M Hensoldt & Soehne Wetzlar Optische Werke Ag 6330 Wetzlar De
Priority date: 1982-11-02
Filing date: 1982-11-02
Publication date: 1987-05-21
Also published as: DE3240360A1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Lichtbündels, das über einen vorgegebenen Entfernungsbereich einen vorbestimmten Mindestwert der Energiedichte im Strahlquerschnitt hat.The present invention relates to a device for generating a Light beam that a predetermined distance over a predetermined range Minimum energy density in the beam cross section.

Solche Vorrichtungen finden vorzugsweise Verwendung als Schußsimulatoren. Bei diesen wird ein Lichtstrahl, beispielsweise im roten oder infraroten Spektralbereich auf das Ziel gerichtet. Dieses kann mit Empfängern ausgerüstet sein, die beim Auftreffen des Lichtes ansprechen und einen Treffer anzeigen. Es ist auch möglich, das Ziel mit Retro-Reflektoren, beispielsweise Tripelspiegeln, auszurüsten, welche das auftreffende Licht in sich zurückwerden. Dieses wird dann über einen Teilerspiegel auf einen Empfänger gelenkt, der beim Auftreffen eines reflektierten Lichtimpulses Treffer anzeigt.Such devices are preferably used as shot simulators. In these, a light beam is emitted, for example in the red or infrared Spectral range aimed at the target. This can be done with receivers be equipped that respond when the light hits and show a hit. It is also possible to target with retro reflectors, For example, to equip triple mirrors, which the incident Becoming light in itself. This is then via a divider directed to a receiver that is reflected when striking a Indicates light pulse hit.

Da bei Schußsimulatoren das Licht die Stelle der scharfen Munition einnimmt, ist es notwendig die Energiedichte im Strahlquerschnitt so zu wählen, daß am Ziel über die sogenannte Volltrefferzone, und nur über diese eine vorbestimmte Mindestenergiedichte erreicht wird, die zum Ansprechen der Empfänger ausreicht. Die Volltrefferzone ist im wesentlichen entfernungsunabhängig, so daß also dafür zu sorgen ist, daß das Lichtbündel über einen vorgegebenen Entfernungsbereich, den Einsatzbereich des Schußsimulators einen vorbestimmten Mindestwert der Energiedichte im Strahlquerschntt hat.Since the light takes the place of live ammunition in shot simulators, it is necessary to increase the energy density in the beam cross section choose that at the goal over the so-called direct hit zone, and only over this a predetermined minimum energy density is reached, the Addressing the recipient is sufficient. The direct hit zone is essentially Independent of the distance, so it must be ensured that the Beams of light over a given distance range, the area of application the shot simulator a predetermined minimum value of the energy density in the beam cross-section.

Aus der DE-OS 29 13 401 ist ein Schußsimulator bekannt, bei dem zur Lichterzeugung ein Laser mit nachgeordnetem Lichtleiter und Diffusor verwendet ist, und bei dem zur Intensitätsverteilung des aus dem Diffusor austretenden Lichtes eine Maske und ein Ojektiv vorgesehen ist, bei dem mindestens eine Baugruppe eine von Null abweichende, vorgegebene sphärische Aberration aufweist. Bei diesem Schußsimulator ist ein relativ hoher Aufwand notwendig um die erforderliche Strahlaufweitung durch einen entsprechenden Verlauf der optischen Bildfehler des Objektivs zu erreichen. Außerdem besteht eine starke Abhängigkeit der Energiedichteverteilung im Strahlquerschnitt von der Pupillenausleuchtung, da in verschiedenen Winkelbereichen nur eng begrenzte Flächenelemente des Objektivs strahlen. Es ist zudem notwendig der Maskenöffnung eine reltiv komplizierte Form oder eine variable optische Dichte zu geben, um einen gewünschten, mit Licht der geforderten Mindestenergiedichte erfüllten Strahlquerschnitt zu erreichen.From DE-OS 29 13 401 a shot simulator is known in which the Light generation using a laser with a downstream light guide and diffuser is used, and in which to distribute the intensity of the diffuser emerging light a mask and an objective is provided at the at least one module has a predetermined, non-zero has spherical aberration. This shot simulator is a relative one high effort necessary to achieve the required beam expansion a corresponding course of the optical image errors of the lens to reach. There is also a strong dependency on the energy density distribution in the beam cross section from the pupil illumination, because in different angular ranges only narrowly limited surface elements of the Lens shine. It is also necessary to open the mask complicated shape or variable optical density to give a desired, with light of the required minimum energy density To achieve beam cross-section.

Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung einen Schußsimulator zu schaffen, bei dem eine vorbestimmte, entfernungsunabhängige Energiedichte im Strahlquerschnitt durch einfache Mittel erreicht wird, wobei diese Energiedichteverteilung im wesentlichen unabhängig ist von der Gleichmäßigkeit der Pupillenausleuchtung.It is the object of the present invention to provide a shot simulator create a predetermined, distance-independent energy density is achieved in the beam cross section by simple means, whereby this energy density distribution is essentially independent of the Uniformity of pupil illumination.

Diese Aufgabe wird, ausgehend von einer Vorrichtung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß in Lichtrichtung gesehen hinter dem Objektiv ein zur Lichtaufweitung dienendes Gitter angeordnet ist.This task is based on a device according to the preamble of claim 1 according to the invention solved in that in the direction of light seen behind the lens is a grating used to expand the light is arranged.

Das durch das Objektiv tretende Parallellichtbündel wird am Gitter gebeugt und dadurch aufgeweitet. Das Gitter stellt ein sekundäre Strahlungsquelle dar, deren Strahlstärke I vom Winkel α abhängt, den ein zum Empfänger am Rande der Volltrefferzone verlaufender Strahl mit der optischen Achse bildet. Die Strahlstärke I ist proportional zu 1/α², wenn der Empfänger mit dem Ziel verbunden ist. Durch diese Abhängigkeit ist erreicht, daß unabhängig von der Zielentfernung E die Ansprechschwelle Φ _s des Empfängers im Gebiet der Volltrefferzone und an dessen Rand stets erreicht wird.The parallel light beam passing through the lens is diffracted at the grating and thereby expanded. The grating represents a secondary radiation source, the beam intensity I of which depends on the angle α which a beam running to the receiver at the edge of the direct hit zone forms with the optical axis. The beam intensity I is proportional to 1 / α ² when the receiver is connected to the target. This dependency ensures that the response threshold Φ _{s of} the receiver is always reached in the area of the direct hit zone and at the edge thereof, regardless of the target distance E.

Die Verwendung eines Gitters macht es möglich eine gezielte, dem jeweiligen Problem angepaßte Strahlaufweitung zu erreichen.The use of a grid makes it possible to target the particular one To achieve problem-adjusted beam expansion.

Ein Gitter hat die Eigenschaft, daß die Energieverteilung im gebeugten Licht im wesentlichen unabhängig ist von der Gleichmäßigkeit der Gitterbeleuchtung. Deshalb ist bei dem Schußsimulator nach der Erfindung die Energiedichte im Zielstrahl auch weitgehend unabhängig von der Pupillenausleuchtung. A grating has the property that the energy distribution in the diffracted Light is essentially independent of the uniformity of the lattice lighting. Therefore, in the shot simulator according to the invention Energy density in the target beam is also largely independent of the pupil illumination.

Durch die Verwendung des Gitters wird der Schußsimulator auch bei Zielen einsetzbar, die mit Retro-Reflektoren ausgerüstet sind. Da das Licht hier die Entfernung zwischen Simulator und Ziel auf seinem Weg zum Empfänger zweimal durchläuft, muß die Mindestenergiedichte im geforderten Querschnitt relativ hoch sein, jedenfalls wesentlich höher als bei Simulatoren, die mit Ziel-Empfängern zusammenwirken. Eine solche hohe Mindestenergiedichte im geforderten Querschnitt läßt sich durch entsprechende Ausbildung des Gitters erreichen.By using the grid, the shot simulator is also used on targets can be used, which are equipped with retro reflectors. Because the light here the distance between the simulator and the target on its way to the receiver passes through twice, the minimum energy density in the required Cross-section be relatively high, at least much higher than with simulators, that work with target recipients. Such a high minimum energy density in the required cross-section can be by appropriate Achieve grid formation.

Es ist vorteilhaft das Gitter als Kreisgitter mit konzentrisch zur optischen Achse des Objektivs angeordneten Kreisringen auszubilden. In diesem Fall wird bei Verwendung eines Lichtleiters mit kreisförmigem Querschnitt am Ziel ein im wesentlichen runder Lichtfleck erzeugt. Ist ein rechteckförmiger Strahlquerschnitt gefordert, so wird zweckmäßig vor dem Objektiv ein Lichtleiter mit rechteckförmigem Querschnitt angeordnet und das zur Lichtaufweitung dienende Gitter wird als Linear- oder als Kreuzgitter ausgebildet; auch die Verwendung eines Kreisgitters ist möglich.It is advantageous to use the grating as a circular grating concentric with the optical one Form axis of the lens arranged circular rings. In this Fall occurs when using a light guide with a circular cross-section creates a substantially round light spot at the target. Is a rectangular beam cross-section is required, it is appropriate before Objectively arranged a light guide with a rectangular cross section and the grating used to expand the light is called a linear or a cross grating educated; the use of a circular grid is also possible.

Weitere zweckmäßige Ausgestaltungen des Gitters sind in den Unteransprüchen 4-10 beschrieben.Further expedient configurations of the grid are in the subclaims 4-10.

Der beschriebene Schußsimulator findet Verwendung im Nahfeld, d. h. für Ziele im Entfernungsbereich von beispielsweise 200-600 m. Für größere Entfernungen finden zweckmäßig andere Mittel zur Darstellung der Volltrefferzone Verwendung.The shot simulator described is used in the near field, i. H. For Targets in the range of 200-600 m, for example. For bigger ones Distances conveniently find other means of representing the direct hit zone Use.

Will man einen, mit den erwähnten, jedoch nicht näher spezifierten Mitteln zur Darstellung der Volltrefferzone versehenen Schußsimulator für den an das Nahfeld anschließenden Entfernungsbereich (z. B. größer 600 m) auch für die Verwendung im Nahfeld ausbilden, so wird vorteilhaft im Strahlengang ein Gitter angeordnet, dessen Gitterlinien aus elektro-optisch aktivierbarem Material gebildet sind. Für die Schußsimulation im Nahfeld werden dann die Gitterlinien aktiviert.If you want one, with the means mentioned, but not specified in more detail to show the direct hit zone provided shot simulator for the distance range adjoining the near field (e.g. greater than 600 m) training for use in the near field, it is advantageous in Beam path arranged a grating, the grating lines of electro-optical activatable material are formed. For the shot simulation the grid lines are then activated in the near field.

Als elektro-optisch aktivierbares Material läßt sich z. B. eine elektrochrome Schicht verwenden, die bei Ladungszufuhr absorbierend wirkt. As an electro-optically activatable material such. B. an electrochromic Use a layer that is absorbent when the charge is applied.

Damit läßt sich ein wahlweise aktivierbares Amplitudengitter schaffen. Auch andere Substanzen sind denkbar.This can be used to create an optionally activatable amplitude grating. Other substances are also conceivable.

Die Erfindung wird im folgenden anhand der Fig. 1-3 der Zeichnungen näher erläutert. Im einzelnen zeigtThe invention is explained in more detail below with reference to FIGS. 1-3 of the drawings. In detail shows

Fig. 1 ein Ausführungsbeispiel eines nach der Erfindung aufgebauten Schußsimulators zur Verwendung bei Zielen welche Empfänger tragen; Figure 1 shows an embodiment of a shot simulator constructed according to the invention for use with targets carrying recipients.

Fig. 2 ein anderes Ausführungsbeispiel eines Schußsimulators zur Verwendung bei Zielen, welche mit Retro-Reflektoren ausgerüstet sind; Fig. 2 shows another embodiment of a shot simulator for use with targets which are equipped with retro reflectors;

Fig. 3 ein Ausführungsbeispiel eines in den Schußsimulatoren der Fig. 1 und 2 verwendbaren Gitters. Fig. 3 shows an embodiment of a grid usable in the shot simulators of Figs. 1 and 2.

In Fig. 1 ist mit 1 eine intensitätsreiche Lichtquelle bezeichnet, welche beispielsweise einen oder mehrere Laser oder LED enthält. Vor dieser Lichtquelle ist ein Lichtleiter 2 angeordnet, welcher zweckmäßig aus mehreren Lichtfasern besteht, die eine Lichtaustrittsfläche von gewünschtem Querschnitt bilden. Das aus diesem Querschnitt austretende divergente Lichtbündel wird mittels eines, schematisch dargestellten Objektivs 3 parallel gerichtet und tritt durch ein Bewegungsgitter 4. Dieses Bewegungsgitter ist im dargestellten Asuführungsbeispiel als Kreisgitter ausgebildet. Durch die Bewegung am Gitter 4 wird der Lichtstrahl aufgeweitet, und zwar so, daß er im gesamten Entfernungsbereich zwischen dem Gitter 4 und dem mit einem Ziel verbundenen Empfänger 5 einen vorbestimmten Mindestwert der Energiedichte im Strahlquerschnitt hat.In Fig. 1, 1 denotes a high-intensity light source which contains, for example, one or more lasers or LEDs. Arranged in front of this light source is a light guide 2 , which expediently consists of a plurality of light fibers which form a light exit surface of the desired cross section. The divergent light beam emerging from this cross section is directed in parallel by means of a schematically illustrated objective 3 and passes through a movement grating 4 . In the illustrated exemplary embodiment, this movement grating is designed as a circular grating. The movement on the grating 4 expands the light beam in such a way that it has a predetermined minimum value of the energy density in the beam cross section in the entire distance range between the grating 4 and the receiver 5 connected to a target.

Das mit dem Objektiv 3 zusammenwirkende Gitter 4 stellt eine sekundäre Lichtquelle dar, deren Strahlstärke mit I bezeichnet werden soll. Die Zielentfernung zwischen Gitter 4 und Empfänger 5 ist mit E bezeichnet. Der vom Empfänger 5 aufgenommene Strahlungsfluß Φ ist nach den bekannten Gesetzmäßigkeiten proportional zu I/E². The grating 4 interacting with the objective 3 represents a secondary light source, the radiance of which is to be designated I. The target distance between grating 4 and receiver 5 is labeled E. The radiation flux aufgenommen received by the receiver 5 is proportional to I / E ² according to the known laws.

Bezeichnet man die Ansprechschwelle des Empfängers 5 mit Φ _s, so giltIf the response threshold of the receiver 5 is denoted by Φ _s , the following applies

I = Φ _s · E² (1) I = Φ _s · E ² (1)

Für kleine Winkel α zwischen einem Strahl zum Empfänger 5 und der optischen Achse istFor small angles α between a beam to the receiver 5 and the optical axis

wobei Z den Radius der Volltrefferzone bezeichnet. Soll Φ _s innerhalb des Einsatzbereiches des Schußsimulators, d. h. etwa zwischen 200 m und 600 m innerhalb der Volltrefferzone Z unabhängig von E erreicht werden, so folgt aus (1) und (2)where Z denotes the radius of the direct hit zone. If Φ _{s is to be} achieved independently of E within the area of application of the shot simulator, ie between 200 m and 600 m within the direct hit zone Z , then it follows from (1) and (2)

I ∼ 1/α² (3) I ∼ 1 / α ² (3)

Diese Beziehung sagt aus, daß bei größerem Winkel α bei konstanten Werten von Φ _s und Z, infolge der kleineren Entfernung E die Intensität I im Zielstrahl kleiner sein muß als bei kleineren Winkeln.This relationship says that at a larger angle α with constant values of Φ _s and Z , due to the smaller distance E, the intensity I in the target beam must be smaller than at smaller angles.

Die Beziehung (3) läßt sich mittels des Gitters 4 darstellen.The relationship (3) can be represented by means of the grid 4 .

Damit ist gewährleistet, daß im interessierenden Entfernungsbereich ein Treffer angezeigt wird, wenn ein mit dem Ziel verbundener Empfänger in der Volltrefferzone oder an deren Rand liegt.This ensures that a distance in the area of interest Hit is displayed when a recipient connected to the destination is in the direct hit zone or on the edge of it.

Fig. 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines Schußsimulators, bei dem das Ziel nicht mit einem Empfänger, sondern mit einem Retro-Reflektor 6, beispielsweise einem Tripelspiegel, ausgestattet ist. In diesem Fall ist zwischen dem Lichtleiter 2 und dem Objektiv 3 ein Teilerwürfel 7 angeordnet, welcher das vom Reflektor 6 zurückreflektierte Licht über einen Lichtleiter 8 einem Empfänger 9 zuführt. Zwischem dem Kreisgitter 4 und dem Retro-Reflektor 6 durchläuft das Licht, wie der Doppelpfeil 10 andeutet, die Entfernung zweimal. Fig. 2 shows an embodiment of a shot simulator, in which the target is not equipped with a receiver, but with a retro reflector 6 , for example a triple mirror. In this case, a divider cube 7 is arranged between the light guide 2 and the objective 3 , which feeds the light reflected back by the reflector 6 via a light guide 8 to a receiver 9 . Between the circular grating 4 and the retro reflector 6 , the light, as the double arrow 10 indicates, runs through the distance twice.

Auch hier ist durch eine entsprechende Ausbildung des Kreisgitters 4 dafür gesorgt, daß das Zielstrahlbündel über die Entfernung E einen vorbestimmten Mindestwert der Energiedichte in einem Strahlquerschnitt hat, welcher der Volltrefferzone vom Radius Z entspricht. Da das Licht die Entfernung E zweimal durchläuft, ist zwischen der Strahlstärke I und dem Strahlwinkel α die Beziehung I ∼ 1/α darzustellen. Bei dieser Ausbildung des Gitters 4 wird im gesamten Entferungsbereich E ein Treffersignal ausgelöst, wenn ein mit dem Ziel verbundener Retro-Reflektor 6 innerhalb oder am Rand der Volltrefferzone liegt.Here too, a corresponding design of the circular grating 4 ensures that the target beam has a predetermined minimum value of the energy density in a beam cross section over the distance E , which corresponds to the direct hit zone of radius Z. Since the light passes through the distance E twice, the relationship I ∼ 1 / α must be shown between the beam intensity I and the beam angle α . With this design of the grating 4 , a hit signal is triggered in the entire distance range E when a retro reflector 6 connected to the target lies within or at the edge of the direct hit zone.

Das in Fig. 4 in Draufsicht dargestellte Kreisgitter 4 besteht aus Gitterlinien 11, die konzentrisch zur optischen Achse des Schußsimulators angeordnet sind. Wird das Gitter 4 als Phasengitter ausgebildet, so bestehen die Gitterlinien 11 aus einem dielektrischen Material, das auf ein Glassubstrat aufgebracht ist und dessen Dicke so gewählt ist, daß eine vorbestimmte Phasenverschiebung des durchgelassenen Lichtes verursacht wird. Diese Phasenverschiebung wird λ/2 für die benutzte Wellenlänge λ (z. B. 904 nm) gewählt. Das dielektrische Material hat einen Brechzahlenwert, der etwa dem des Glassubstrats entspricht; Verwendung kann beispielsweise SiO₂ finden.The circular grid 4 shown in Fig. 4 in plan view consists of grid lines 11 which are arranged concentrically to the optical axis of the excess simulator. If the grating 4 is designed as a phase grating, then the grating lines 11 consist of a dielectric material which is applied to a glass substrate and the thickness of which is selected such that a predetermined phase shift of the transmitted light is caused. This phase shift is chosen λ / 2 for the wavelength λ used (e.g. 904 nm). The dielectric material has a refractive index value which corresponds approximately to that of the glass substrate; SiO₂ can be used, for example.

Es ist auch möglich das Gitter 4 als Amplitudengitter auszubilden. Die Gitterlinien 11 bestehen dann aus licht-absorbierendem Material.It is also possible to design the grating 4 as an amplitude grating. The grid lines 11 then consist of light-absorbing material.

Wird auf ein Substrat ein elektrochromes Material aufgebracht und werden Elektroden aus durchsichtigem Material verwendet, welche die Gestalt der Gitterlinien 11 haben, so läßt sich durch Anlegen einer Spannung erreichen, daß das Material Licht absorbiert, d. h. daß ein Amplitudengitter entsteht. Dieses Gitter kann also körperlich im Strahlengang verbleiben und kann wahlweise zur Wirkung gebracht oder außer Wirkung gesetzt werden.If an electrochromic material is applied to a substrate and electrodes made of transparent material are used, which have the shape of the grid lines 11 , it can be achieved by applying a voltage that the material absorbs light, ie an amplitude grid is formed. This grating can therefore remain physically in the beam path and can either be activated or deactivated.

Das Gitter 4 kann auch als kombiniertes Phasen-Amplitudengitter ausgebildet werden, indem für einen Teil der Gitterlinien 11 ein licht-absorbierendes und für den anderen Teil der Gitterlinien dielektrisches Material verwendet wird. Ein solches Gitter ermöglicht es das Licht in bestimmte Versorgungsrichtungen zu beugen.The grating 4 can also be designed as a combined phase-amplitude grating by using a light-absorbing material for part of the grating lines 11 and dielectric material for the other part of the grating lines. Such a grating enables the light to be diffracted in certain directions of supply.

Im einfachsten Fall sind die Linien 11 des Gitters 4 äquidistant angeordnet. Besonders vorteilhaft ist es zur Erzielung eines Zielstrahles mit den geforderten Eigenschaften die Abstände der Gitterlinien 11 proportional zu den Nullstellen der Bessel'schen Funktion Nullter-Ordnung zu wählen. Dabei ist es zur Vereinfachung möglich, die Nullstellung der Bessel'schen Funktion durch den Ausdruck r = k (n-0,25) mit n = 1,2,3 . . . und einer Proportionalitätskonstanten K anzunähern. Bei einem derart ausgebildeten Gitter tritt im Zielstrahl im wesentlichen nur das aus der nullten- und ersten-Beugungsordnung stammende Licht auf.In the simplest case, the lines 11 of the grid 4 are arranged equidistantly. To achieve a target beam with the required properties, it is particularly advantageous to select the spacing of the grid lines 11 proportional to the zeros of the Bessel zero-order function. For simplification, it is possible to reset the Bessel function by the expression r = k (n -0.25) with n = 1,2,3. . . and to approximate a proportionality constant K. With such a grating, essentially only the light originating from the zeroth and first diffraction orders appears in the target beam.

Bei dem in Fig. 3 dargestellten Kreisgitter 4 sind jeweils nach einer vorbestimmten Anzahl von Gitterlinien 11 jeweils zwei Ringpaare durch ein Ringpaar doppelter Breite ersetzt. Dadurch wird erreicht, daß die Lichtintensität im Übergangsbereich von der nullten zur ersten Beugungsordnung angehoben wird, was besonders in der Vorrichtung nach Fig. 2 wichtig ist.In the circular grating 4 shown in FIG. 3, after a predetermined number of grating lines 11 , two pairs of rings are replaced by a pair of rings of double width. It is thereby achieved that the light intensity is increased in the transition region from the zero to the first diffraction order, which is particularly important in the device according to FIG. 2.

Claims

1. Device for generating a light beam which has a predetermined minimum value of the energy density in the beam cross section over a predetermined distance range, consisting of a laser light source ( 1 ), a light guide arranged in front of this ( 2 ) and a lens ( 3 ), characterized in that In the immediate vicinity of the objective ( 3 ), a grating ( 4 ) serving to expand the light is arranged.

2. Device according to claim 1, characterized in that the grating is designed as a circular grating ( 4 ) with concentric to the optical axis of the lens ( 3 ) arranged circular rings ( 11 ).

3. Device according to claim 1, characterized in that the grid is designed as a linear grating.

4. The device according to claim 1, characterized in that the grid is designed as a cross grating.

5. The device according to claim 1-4, characterized in that the grating lines ( 11 ) consist of dielectric material and have a thickness which cause a predetermined phase shift of the light passing through.

6. The device according to claim 5, characterized in that the phase shift λ / 2 is selected.

7. The device according to claim 1-4, characterized in that the grid lines ( 11 ) are formed from light-absorbing material.

8. The device according to claim 1-4, characterized in that part of the grid lines ( 11 ) made of light-absorbing material and the other part of the grid lines ( 11 ) consists of dielectric material.

9. The device according to claim 1-8, characterized in that the grid lines ( 11 ) are arranged equidistantly.

10. The device according to claim 1-8, characterized in that the distances between the grid lines ( 11 ) are selected proportional to the zeros of the Bessel function zero order.

11. The device according to claim 10, characterized in that the zeros of the Bessel function by r = k (n -0.25) with n = 1,2,3. . . are approximated.

12. The apparatus according to claim 1-7, characterized in that at least two line pairs are replaced by a line pair of corresponding width after a predetermined number of grid lines ( 11 ).

13. The apparatus according to claim 1 and one or more of the following, characterized in that the grid lines ( 11 ) are formed from electro-optically activatable material and that an optionally switchable arrangement for activating the lines ( 11 ) is provided.