DE3227913A1 - Photopolymerisable mixture, and photopolymerisable copying material produced therefrom - Google Patents

Photopolymerisable mixture, and photopolymerisable copying material produced therefrom

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Abstract

A radiation-polymerisable mixture is described which contains a polymeric binder, a radiation-activatable polymerisation initiator and a polymerisable compound of one of the formulae I and II <IMAGE> in which R1 is a phenylene or biphenyldiyl group or a group formed from two phenylene radicals linked via a bridge, where the bridge is an oxygen or sulphur atom, a sulphone group, an optionally substituted alkylene or cycloalkylene group or a group of the formula (O-alkylene)nO where n is 1-3, R2 is an oxygen atom or the CH2-CH2-CO group, R3 is a hydrogen atom or a methyl radical, and R4 is a hydrogen atom or the <IMAGE> radical. The mixture is used for the production of photopolymerisable printing plates and for the production of photoresists and is distinguished by insensitivity towards oxygen.

Description

Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltesPhotopolymerizable mixture and one produced therewith

photopolymerisierbares Kopiermaterial Die Erfindung betrifft ein photopolymerisierbares Gemisch, das als wesentliche Bestandteile (a) eine radikalisch polymerisierbare Verbindung mit endständigen ethylenisch ungesättigten Gruppen, (b) ein polymeres Bindemittel und (c) einen durch Strahlung aktivierbaren Polymerisationsinitiator enthält.Photopolymerizable Copy Material The invention relates to a photopolymerizable copy material Mixture, the essential constituents (a) a free-radically polymerizable Compound with terminal ethylenically unsaturated groups, (b) a polymeric Binder and (c) a radiation activatable polymerization initiator contains.

Derartige photopolymerisierbare Gemische sind z. B.Such photopolymerizable mixtures are, for. B.

aus den US-A 2 760 863, 3 060 023 und 3 149 975 bekannt. Als polymerisierbare ethylenisch ungesättigte Verbindungen werden dort niedermolekulare und hochmolekulare Verbindungen mit endständigen bzw. seitenständigen Vinyl- oder Vinylidengruppen, insbesondere Acryl- und Methacrylsäureester von niedermolekularen oder hochmolekularen Polyhydroxyverbindungen, beschrieben. In der Praxis haben sich bisher fast ausschließlich photopolymerisierbare Materialien auf der Basis solcher Ester als polymerisierbare Verbindungen durchgesetzt. Von diesen sind es insbesondere die niedermolekularen Vertreter, die in der Technik bevorzugt eingesetzt werden.known from US-A-2,760,863, 3,060,023 and 3,149,975. As polymerizable ethylenically unsaturated compounds are there low molecular weight and high molecular weight Compounds with terminal or pendent vinyl or vinylidene groups, in particular acrylic and methacrylic acid esters of low or high molecular weight Polyhydroxy compounds. In practice so far have almost exclusively photopolymerizable materials based on such esters as polymerizable Connections enforced. Of these, it is especially the low molecular weight ones Representatives who are preferred in technology.

Bei der Verarbeitung von photopolymerisierbaren Materialien der angegebenen Gattung ist es notwendig, den Einfluß des Luftsauerstoffs auf die radikalische Polymerisation auszuschalten oder so weit wie möglich zu unterdrücken. Das erfolgt zumeist dadurch, daß man die photopolymerisierbare Schicht mit einem abziehbaren sauerstoffundurchlässigen Deckblatt (US-A 3 060 026) oder mit einer sauerstoffundurchlässigen Deckschicht abdeckt, die in dem Entwickler löslich ist (US-A 3 458 311). Hierdurch- wird verhindert, daß während der lichtinduzierten Polymerisation Sauerstoff in die Schicht eindiffundiert und dort zu Kettenabbruchreaktionen führt, die sich in einer unvollständigen Polymerisation und damit geringeren Lichtempfindlichkeit auswirken.When processing photopolymerizable materials of the specified It is necessary to determine the influence of atmospheric oxygen on the radical genus Polymerization off or suppress as much as possible. This is mostly done by that the photopolymerizable layer with a strippable oxygen-impermeable Cover sheet (US-A 3 060 026) or with an oxygen-impermeable cover layer which is soluble in the developer (US-A 3,458,311). This prevents that during the light-induced polymerization oxygen diffuses into the layer and there leads to chain termination reactions, which result in incomplete polymerization and thus lower photosensitivity.

Der Nachteil der bekannten Materialien liegt in dem zusätzlichen Arbeitsschritt, der für das Aufbringen von Deckfolie oder Deckschicht erforderlich ist. Weiterhin wird die Bildauflösung bei Verwendung selbsttragender Deckfolien, die in der Regel eine Dicke um 20/um haben, beim Kontaktkopieren verschlechtert. Deckschichten, die im Entwickler löslich sind, haben einen rascheren Verbrauch desselben und eine zusätzliche Abwasserbelastung zur Folge. Man hat deshalb versucht, photopolymerisierbare Materialien herzustellen, die auch ohne Deckschicht eine ausreichende Lichtempfindlichkeit bei der bildmäßigen Polymerisation zeigen.The disadvantage of the known materials is the additional work step, which is required for the application of the cover film or cover layer. Farther the image resolution when using self-supporting cover foils, which is usually have a thickness of around 20 µm, deteriorated in contact copying. Top layers that are soluble in the developer have a more rapid consumption of the same and an additional one Wastewater pollution result. Attempts have therefore been made to use photopolymerizable materials to produce that have sufficient photosensitivity even without a top layer show the image-wise polymerization.

In der DE-A 28 30 143 wird ein derartiges rlaterial beschrieben, das bestimmte polymerisierbare Verbindungen mit höherem tlolekulargewicht und bestimmte Initiatorsysteme enthält und daher eine geringe Sauerstoffempfindlichkeit aufweist. Als polymerisierbare Verbindungen wer- den Acryl- bzw. Methacrylsäureester verwendet, die durch Umsetzen von Acryl- oder rEethacrylsäure mit Bis-epoxyverbindungen erhalten werden.In DE-A 28 30 143 such a material is described which certain polymerizable compounds of higher molecular weight and certain Contains initiator systems and therefore has a low sensitivity to oxygen. As polymerizable compounds are the acrylic or methacrylic acid ester used by reacting acrylic or r-ethacrylic acid with bis-epoxy compounds can be obtained.

ähnliche tiaterialien werden in der BE-A 838 135 beschrieben, die bevorzugt zur Herstellung von Photoresistbildern verwendet werden.Similar materials are described in BE-A 838 135 which are preferably used for the production of photoresist images.

Die bekannten.PIaterialien haben neben einer Reihe von Vorteilen den Nachteil, daß sich mit ihnen nur bestimmte erwünschte Eigenschaften einstellen lassen. So ist es z.The known.PIaterialien have a number of advantages Disadvantage that they can only be used to set certain desired properties. So it is z.

B. erwünscht, daß photopolymerisierbare Schichten, die ohne sauerstoffhemmende Deckschicht verwendet werden sollen, nicht klebrig, jedoch flexibel sind und keine Tendenz zur Kristallisation zeigen. Es ist im allgemeinen nicht möglich, eine derartige Kombination von Eigenschaften ohne Zusatz anderer Monomerer zu erreichen, wodurch wiederum andere vorteilhafte Eigenschaften beeinträchtigt werden.B. desired that photopolymerizable layers without oxygen inhibitors Top layer to be used, non-sticky, but flexible and none Show a tendency to crystallize. It is generally not possible to do this To achieve combination of properties without the addition of other monomers, whereby in turn, other advantageous properties are impaired.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, durch Strahlung polymerisierbare Gemische zu formulieren, die sich durch hohe Strahlungsempfindlichkeit auszeichnen, die nicht kristallisierbar sind und trotzdem Schichten mit nicht klebender Oberfläche herzustellen gestatten, besonders dann, wenn auf eine Sauerstoff abschirmende Deckschicht verzichtet wird.The invention is based on the object of radiation-polymerizable To formulate mixtures that are characterized by high radiation sensitivity, which cannot be crystallized and still have layers with a non-sticky surface allow to produce, especially if on an oxygen-shielding top layer is waived.

Die Erfindung geht aus von einem Gemisch, das durch Strahlung polymerisiert werden kann und als wesentliche Bestandteile a) eine radikalisch polymerisierbare Verbindung mit endständigen Acryl- oder Methacrylsäureestergruppen, b) ein polymeres Bindemittel.The invention is based on a mixture that polymerizes by radiation can be and as essential components a) a radically polymerizable Compound with terminal acrylic or methacrylic acid ester groups, b) a polymer Binder.

c) einen durch Strahlung aktivierbaren Polymerisationsinitiator enthält.c) contains a polymerization initiator which can be activated by radiation.

Das erfindungsgemäße Gemisch ist dadurch gekennzeichnet, daß es als polymerisierbare Verbindung (a) eine Verbindung einer der allgemeinen Formeln enthält, worin R1 eine Phenylen-, Biphenyldiylgruppe oder eine aus zwei über eine Brücke verbundenen Phenylenresten gebildete Gruppe ist, wobei die Brücke ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine Sulfongruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylen- oder Cycloalkylengruppe oder eine Gruppe der Formel (O-Alkylen)nO mit n = 1-3 ist, R2 ein Sauerstoffatom oder die Gruppe CH2-CH2-CO, R3 ein Wasserstoffatom oder ein Methylrest und R4 ein Wasserstoffatom oder der Rest ist.The mixture according to the invention is characterized in that it contains, as polymerizable compound (a), a compound of one of the general formulas contains where R1 is a phenylene, biphenyldiyl group or a group formed from two phenylene radicals linked by a bridge, the bridge being an oxygen or sulfur atom, a sulfonic group, an optionally substituted alkylene or cycloalkylene group or a group of the formula (O-alkylene ) nO with n = 1-3, R2 is an oxygen atom or the group CH2-CH2-CO, R3 is a hydrogen atom or a methyl radical and R4 is a hydrogen atom or the radical is.

Beispiele für Gruppen R1 sind Phen-1,4-ylen, Phen-1,3-ylen, Biphenyl-4,4'-diyl, Tol-2,4-ylen, 1,3-Xyl-4,6-ylen und l,l,l-Triphenyl-ethan-4,4'-ylen. Bevorzugt werden Gruppen, in denen zwei Phenylgruppen durch ein Sauerstoff- oder Schwefelatom oder durch eine substituierte Alkylengruppe, insbesondere durch ein Sauerstoffatom oder eine durch eine Carbonsäureestergruppe substituierte Alkylengruppe, verbunden sind.Examples of groups R1 are phen-1,4-ylene, phen-1,3-ylene, biphenyl-4,4'-diyl, Tol-2,4-ylene, 1,3-xyl-4,6-ylene and l, l, l-triphenyl-ethan-4,4'-ylene. To be favoured Groups in which two phenyl groups are replaced by an oxygen or sulfur atom or by a substituted alkylene group, in particular by an oxygen atom or an alkylene group substituted by a carboxylic acid ester group.

Die in dem erfindungsgemäßen Gemisch enthaltenen polymerisierbaren Verbindungen lassen sich nach bekannten Verfahren herstellen. So können z. B. rnehrwertige Phenole HO-R1-OH durch Umsetzen mit Phosgen (wie z. B. von H. Schnell und L. Bottenbruch in iilakromolekulare Chenie 57, 1 (1962) beschrieben) in die entsprechenden Bis-(Chlorkohlensäure-arylester) übergeführt werden. Durch anschließende Reaktion mit ß-Hydroxyethylmethacrylat oder mit 1,3-Bis-(methacryloyl)-glycerin werden Verbindungen der allgemeinen Formel I mit R2 = Sauerstoff erhalten.The polymerizable ones contained in the mixture according to the invention Connections can be made by known methods. So z. B. valuable Phenols HO-R1-OH by reaction with phosgene (such as from H. Schnell and L. Bottenbruch in iilakromolekulare Chenie 57, 1 (1962)) in the corresponding bis (chlorocarbonic acid aryl ester) are converted. By subsequent Reaction with ß-hydroxyethyl methacrylate or with 1,3-bis (methacryloyl) glycerine compounds of the general formula I with R2 = oxygen are obtained.

Durch Acylierung aromatischer Verbindungen mit Chloracetylchlorid unter den Bedingungen der Friedel-Crafts-Reaktion werden (z. B. nach A. Dechamp, J.P. Tortei und E.+larechal, Bull. Soc. chim. France 1972, 3234) Chloracetyl-Aromaten gebildet, welche sich mit Acryl- oder Nethacrylsäure zu polymerisierbaren Verbindungen der allgemeinen Formel II umsetzen lassen Wird als Acylierungskomponente bei der Friedel-Crafts-Reaktion Bernsteinsäureanhydrid eingesetzt, so werden W -Carboxylpropiophenonderivate erhalten, deren Veresterung mit Hydroxyalkylacrylat bzw. -methacrylat polymerisierbare Verbindungen der allgemeinen Formel I mit R2 = CH2CH2CO liefert.By acylating aromatic compounds with chloroacetyl chloride under the conditions of the Friedel-Crafts reaction (e.g. according to A. Dechamp, J.P. Tortei and E. + larechal, Bull. Soc. chim. France 1972, 3234) chloroacetyl aromatics formed which, with acrylic or methacrylic acid, form polymerizable compounds of the general formula II can be used as acylation component in the Friedel-Crafts reaction succinic anhydride is used, so are W -carboxylpropiophenonderivate obtained whose esterification with hydroxyalkyl acrylate or methacrylate polymerizable Compounds of the general formula I with R2 = CH2CH2CO provides.

Die erfindungsgemäßen photopolymerisierbaren Gemische enthalten ferner polymere Bindemittel. Es können eine Vielzahl löslicher organischer Polymerisate Einsatz finden.The photopolymerizable mixtures according to the invention also contain polymeric binders. A large number of soluble organic polymers can be used Find use.

Als Beispiele seien genannt: Polyamide, Polyvinylester, Polyvinylacetaie, Polyvinylether, Polyacrylsäureester, Polymethacrylsäureester, Polyester, Alkydharze, Polyacrylamid, Polyvinylalkohol, Polyethylenoxid, Polydimethylacrylamid, Polyvinylmethylformamid, Polyvinylmethylacetamid sowie Mischpolymerisate der Monomeren, die die aufgezählten Homopolymerisate bilden.Examples include: polyamides, polyvinyl esters, polyvinylacetaie, Polyvinyl ether, polyacrylic acid ester, Polymethacrylic acid ester, polyester, Alkyd resins, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, polydimethylacrylamide, Polyvinylmethylformamide, polyvinylmethylacetamide and copolymers of the monomers, which form the homopolymers listed.

Ferner kommen als Bindemittel Naturstoffe oder umgewandelte Naturstoffe in Betracht, z. B. Gelatine oder Celluloseether.Natural substances or converted natural substances are also used as binders into consideration, e.g. B. gelatin or cellulose ether.

illit Vorteil werden Bindemittel verwendet, die in wäßrigalkalischen Lösungen löslich oder mindestens quellbar sind, da sich Schichten mit solchen Bindemitteln mit den bevorzugten wäßrig-alkalischen Entwicklern entwickeln lassen. Derartige Bindemittel können z. B. die folgenden Gruppen enthalten: -COOH, -P03H2, -S03H, -S02NH2, -S02-NH-CO-. Als Beispiele hierfür seien genannt: Maleinatharze, Polymerisate aus N-(p-Tolylsulfonyl)-carbaminsäure-(ß-methacryloyloxyethyl)-ester und Mischpolymerisate dieser und ähnlicher rSonomerer mit anderen tionomeren, ferner Methylmethacrylat-Methacrylsäure-Copolymerisate oder Mischpolymerisate aus Methacrylsäure, Alkylmethacrylaten und Methylmethacrylat undoder Styrol, Acrylnitril u.a.With advantage, binders are used that are in aqueous alkaline Solutions are soluble or at least swellable, as there are layers with such binders develop with the preferred aqueous alkaline developers. Such Binders can e.g. B. contain the following groups: -COOH, -P03H2, -S03H, -S02NH2, -S02-NH-CO-. Examples include: maleinate resins, polymers from N- (p-tolylsulfonyl) carbamic acid (ß-methacryloyloxyethyl) ester and copolymers this and similar monomers with other ionomers, also methyl methacrylate-methacrylic acid copolymers or copolymers of methacrylic acid, alkyl methacrylates and methyl methacrylate and or styrene, acrylonitrile, etc.

Vorzugsweise werden jedoch Styrol-Maleinsäureanhydrid-oder Styrol-Plaleinsäureester-hfischpolymerisate verwendet.However, styrene-maleic anhydride or styrene-maleic acid ester-fish polymers are preferred used.

Als Fotoinitiatoren können eine Vielzahl von Substanzen Verwendung finden. Beispiele sind Benzoin, Benzoinether, tiehrkernchinone, z. B. 2-Ethyl-anthrachinon, Acridinderivate, z. B. 9-Phenyl-acridin, 9-p-ethoxyphenylacridin, 9-Acetylamino-acridin, Benz(a)acridin; Phenazinderivate, z. B. 9,10-Dimethyl-benz(a)phenazin, 9-Methylbenz(a)phenazin, l0-Methoxy-benz(a)phenazin, Chinoxalinderivate, z. B. 6,4' ,4"-Triinethoxy-2,3-diphenyl-chinoxalin, 4' ,4"-Dimethoxy-2,3-diphenyl-5-aza-chinoxalin- oder Chinazolinderivate.A large number of substances can be used as photoinitiators Find. Examples are benzoin, benzoin ether, core quinones, z. B. 2-ethyl-anthraquinone, acridine derivatives, e.g. B. 9-phenyl-acridine, 9-p-ethoxyphenylacridine, 9-acetylamino-acridine, benz (a) acridine; Phenazine derivatives, e.g. B. 9,10-dimethyl-benz (a) phenazine, 9-methylbenz (a) phenazine, 10-methoxy-benz (a) phenazine, quinoxaline derivatives, e.g. B. 6.4 ' , 4 "-Triinethoxy-2,3-diphenyl-quinoxaline, 4 ', 4" -Dimethoxy-2,3-diphenyl-5-aza-quinoxaline- or quinazoline derivatives.

Die erfindungsgemäßen Gemische können außer Monomeren, Bindemitteln und Fotoinitiatoren noch eine Reihe weiterer üblicher Zusätze enthalten, z. B. Inhibitoren zur Verhinderung der thermischen Polymerisation der Monomeren, Wasserstoffdonatoren, sensitometrische Regler, Farbstoffe, Farbpigmente und ungefärbte Pigmente.The mixtures according to the invention can, in addition to monomers, binders and photoinitiators contain a number of other common additives, e.g. B. Inhibitors to prevent the thermal polymerization of the monomers, hydrogen donors, sensitometric regulators, dyes, colored pigments and uncolored pigments.

Diese Bestandteile sind zweckmäßig so auszuwählen, daß sie in dem für den Initiìer*gsvorgang wichtigen aktinischen Strahlungsbereich möglichst nicht zu stark absorbieren.These components are expediently selected so that they are in the as far as possible not the actinic radiation range that is important for the initiation process absorb too much.

Als aktinische Strahlung soll jede Strahlung verstanden werden, deren Energie mindestens der des kurzwelligen sichtbaren Lichts entspricht. Geeignet ist insbesondere langwellige W-Strahlung, aber auch Elektronen-, Röntgen-und Laserstrahlung.Actinic radiation is to be understood as meaning any radiation whose Energy at least corresponds to that of short-wave visible light. Suitable is in particular long-wave UV radiation, but also electron, X-ray and laser radiation.

Die erfindungsgemäßen Gemische ergeben fotopolymerisierbare Schichten mit hoher Lichtempfindlichkeit. Diese ist auch dann gegeben, wenn auf eine Sauerstoff abschirmende Deckschicht verzichtet wird. Die Schichten zeigen auch ohne Deckschicht keine Klebeneigung und sind im belichteten Zustand beständig gegen alkalische Entwickler und saure alkoholische Wischwässer.The mixtures according to the invention produce photopolymerizable layers with high photosensitivity. This is also the case when on oxygen shielding Top layer is dispensed with. The layers show Even without a top layer there is no tendency to stick and are stable when exposed against alkaline developers and acidic alcoholic wipers.

Die Herstellung der lichtempfindlichen Materialien unter Verwendung des erfindungsgemäßen Gemischs erfolgt in bekannter Weise. So kann man diese in einem Lösungsmittel aufnehmen und die Lösung bzw. Dispersion durch Gießen, Sprühen, Tauchen oder Antragen mit Walzen auf den vorgesehenen Träger als Film aufbringen und anschließend trocknen.The manufacture of photosensitive materials using the mixture according to the invention is carried out in a known manner. So you can do this in absorb a solvent and the solution or dispersion by pouring, spraying, Apply immersion or application with rollers to the intended support as a film and then dry.

Die Kopierschichten werden in bekannter Weise belichtet und entwickelt. Als Entwickler sind wäßrige, vorzugsweise wäßrig-alkalische Lösungen, z. B. von Alkaliphosphaten oder Alkalisilikaten, geeignet, denen gegebenenfalls kleine Mengen an mischbaren organischen Lösungsmitteln und Netzmitteln zugesetzt werden können. Gewünschtenfalls können auch organische Lösungsmittel oder Gemische davon als Entwickler verwendet werden.The copy layers are exposed and developed in a known manner. Aqueous, preferably aqueous-alkaline solutions, e.g. B. from Alkali phosphates or alkali silicates, suitable, where appropriate, small amounts of miscible organic solvents and wetting agents can be added. If desired, organic solvents or mixtures thereof can also be used as developers be used.

Die erfindungsgemäßen Gemische eignen sich besonders in Form eines vorsensibilisierten Kopiermaterials auf einem geeigneten Träger, z. B. Aluminium oder Zink, für die fotomechanische Herstellung von Offsetdruckplatten. Sie sind ferner für die Herstellung von Trockenresistfolien, Reliefbildern, Siebdruckschablonen und Farbprüffolien geeignet, außerdem ist eine Verwendung als Photoresistlösung möglich.The mixtures according to the invention are particularly suitable in the form of a presensitized copying material on a suitable support, e.g. B. aluminum or zinc, for the photomechanical production of offset printing plates. they are also for the production of dry resist films, relief images, screen printing stencils and color proofing films are suitable, and use as a photoresist solution is also suitable possible.

Im Folgenden wird zunächst die Herstellung der polymerisierbaren Verbindungen beschrieben. Die daran anschliessenden Beispiele erläutern einzelne Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Gemisches. Die eingesetzten Mengen der Schichtbestandteile sind in Gewichtsteilen (Gt) angegeben. Prozentzahlen und Mengenverhältnisse sind, wenn nichts anderes angegeben ist, in Gewichtseinheiten zu verstehen.The following first describes the production of the polymerizable compounds described. The following examples explain individual embodiments of the mixture according to the invention. The quantities of the layer components used are given in parts by weight (pbw). Percentages and proportions are, unless otherwise stated, to be understood in units of weight.

Beispiele für die Herstellung von Verbindungen der allgemeinen Formel I mit R2 = Sauerstoffatom A. Chlorcarboxylierung von Phenolen der Formel HO-R1-OH a) In eine Lösung von 75,3 g (0,25 mol) 2,2-Bis(4-hydroxy-phenyl)essigsäurebutylester in 250 ml Toluol werden unterhalb von 5"C 85 g (0,86 mol) Phosgen eingeleitet. Es wird auf -10"C gekühlt und 60,5 g (0,5 mol) Dimethylanilin, gelöst in 60 ml Toluol, werden zugetropft. Nach 15 Stunden Reaktionszeit bei Raumtemperatur wird das überschüssige Phosgen durch Einleiten eines Stickstoffstromes vertrieben. Nach Verdünnen mit 250 ml Toluol wird mehrfach mit Wasser gewaschen und das Lösungsmittel im Vakuum abdestilliert. Es verbleiben 66 g (0,15 mol; 62 %) 2, 2-Bis-( 4-chlorcarbonyloxy-phenyl ) -ess igsäurbutylester.Examples of the preparation of compounds of the general formula I with R2 = oxygen atom A. Chlorocarboxylation of phenols of the formula HO-R1-OH a) In a solution of 75.3 g (0.25 mol) of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butyl acetate 85 g (0.86 mol) of phosgene are introduced into 250 ml of toluene below 5 "C. is cooled to -10 "C and 60.5 g (0.5 mol) of dimethylaniline, dissolved in 60 ml of toluene, are added dropwise. After a reaction time of 15 hours at room temperature, the excess becomes Phosgene driven off by introducing a stream of nitrogen. After diluting with 250 ml of toluene is washed several times with water and the solvent is distilled off in vacuo. 66 g (0.15 mol; 62%) of 2,2-bis (4-chlorocarbonyloxyphenyl) -ess remain butyl acetate.

b) Werden entsprechend a) 47,5 g (0,15 mol) 1,1,1-Trichlor-2,2-bis-(4-hydroxy-phenyl)ethan in 200 ml Toluol mit 53 g (0,53 mol) Phosgen in Gegenwart von 36,3 g (0,3 mol) Dimethylanilin umgesetzt, so werden 61 g (0,138 mol; 92 %) l,1,l-Trichlor-2,2-bis-(4-chlorcarbonyloxyphenyl)ethan erhalten. b) According to a) 47.5 g (0.15 mol) of 1,1,1-trichloro-2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) ethane are obtained in 200 ml of toluene with 53 g (0.53 mol) of phosgene in the presence of 36.3 g (0.3 mol) of dimethylaniline implemented, 61 g (0.138 mol; 92%) of l, 1, l-trichloro-2,2-bis (4-chlorocarbonyloxyphenyl) ethane obtain.

B. Umsetzung von Chlorcarbonyloxyaromaten mit Hydroxyethylmethacrylaten a) 17,7 g (50 mmol) 2,2-Bis-(4-chlorcarbonyloxyphenyl)propan und 0,5 g Hydrochinon werden in 100 ml Toluol gelöst, und bei 20 - 25"C werden zuerst 28,6 g (220 mmol) Hydroxyethylmethacrylat, dann 12 g (120 mmol) Triethylamin zugetropft. Nach 5 Stunden wird mit weiteren 100 ml Toluol versetzt und das Reaktionsgemisch mit Wasser gewaschen.B. Implementation of chlorocarbonyloxy aromatic compounds with hydroxyethyl methacrylates a) 17.7 g (50 mmol) of 2,2-bis (4-chlorocarbonyloxyphenyl) propane and 0.5 g of hydroquinone are dissolved in 100 ml of toluene, and at 20-25 "C are first 28.6 g (220 mmol) Hydroxyethyl methacrylate, then 12 g (120 mmol) of triethylamine were added dropwise. After 5 hours a further 100 ml of toluene are added and the reaction mixture is washed with water.

Nach Einengen der organischen Phase erhält man 20 g (37 mmol; 74 %) 2,2-Bis-(4-methacryloyloxyethyloxycarbonyloxy-phenyl)propan (Verbindung 1). After concentrating the organic phase, 20 g (37 mmol; 74 %) 2,2-bis (4-methacryloyloxyethyloxycarbonyloxy-phenyl) propane (Compound 1).

b) 19,1 g (50 mmol) 2,2-Bis-(4-chlorcarbonyloxyphenyl)essigsäuremethylester werden in 100 ml Toluol gelöst und mit 0,5 g Hydrochinon versetzt. Es werden 28,6 g (220 mmol) Hydroxyethylmethacrylat zugegeben und unter Eiskühlung 32 ml Triethylamin zugetropft, so daß die Temperatur 20"C nicht übersteigt. Nach 5 Stunden wird mit Wasser versetzt. Die organische Phase wird ahgetrennt, die wäßrige mit Toluol nachextrahiert und die vereinigten organischen Phasen wiederholt mit Wasser gewaschen. Nach Abdestillieren des Lösungsmittels verbleiben 22 g (38,6 anol; 77 %) 2,2-Bis-( 4-methacryloyloxyethyloxycarbonyloxyphenyl)essigsäuremethylester (Verbindung 5). b) 19.1 g (50 mmol) of 2,2-bis (4-chlorocarbonyloxyphenyl) acetic acid methyl ester are dissolved in 100 ml of toluene and treated with 0.5 g of hydroquinone. It will be 28.6 g (220 mmol) of hydroxyethyl methacrylate were added and 32 ml of triethylamine were added while cooling with ice added dropwise so that the temperature does not exceed 20 "C. After 5 hours, with Water added. The organic phase will ah separated, the watery one extracted with toluene and the combined organic phases repeated with Water washed. After the solvent has been distilled off, 22 g (38.6 anol; 77%) 2,2-bis (4-methacryloyloxyethyloxycarbonyloxyphenyl) acetic acid methyl ester (Compound 5).

c) Zu einer Lösung von 9,6 g (25 mmol) 2,2-Bis-(4-chlorcarbonyloxy-phenyl)essigsäuremethylester und 0,5 g Hydrochinon in 100 ml Toluol werden bei Raumtemperatur 25 g (110 mmol) l,3-Bis-methacryloylglycerin gegeben und bei 10°C 17 ml Triethylamin zugetropft. Nach 15 Stunden wird wie unter b) aufgearbeitet. Dabei ergeben sich 18 g (23,5 inmol; 94 %) der Verbindung 6.c) To a solution of 9.6 g (25 mmol) of 2,2-bis (4-chlorocarbonyloxyphenyl) acetic acid methyl ester and 0.5 g of hydroquinone in 100 ml of toluene are 25 g (110 mmol) at room temperature L, 3-bis-methacryloylglycerol was added and 17 ml of triethylamine were added dropwise at 10 ° C. After 15 hours, work-up is carried out as under b). This results in 18 g (23.5 inmol; 94%) of compound 6.

d) 16,3 g (50 mmol) 4,4'-Bis-chlorcarbonyloxydiphenylether und 0,5 g Hydrochinon in 100 ml Toluol werden bei Raumtemperatur mit 28,6 g (0,25 mol) Hydroxyethylmethacrylat versetzt, und anschließend werden unter Eiskühlung 33 ml Triethylamin zugetropft. Nach 15 Stunden wird mit Toluol verdünnt, gut mit Wasser gewaschen und das Lösungsmittel im Vakuum abdestilliert. Es verbleiben 18 g (35 mmcl; 70 %) 4,4'-Bis-(methacryloyloxyethyloxycarbonyloxy )-diphenylether (Verbindung 8).d) 16.3 g (50 mmol) of 4,4'-bis-chlorocarbonyloxydiphenyl ether and 0.5 g of hydroquinone in 100 ml of toluene are mixed with 28.6 g (0.25 mol) of hydroxyethyl methacrylate at room temperature added, and then 33 ml of triethylamine are added dropwise with ice cooling. After 15 hours, it is diluted with toluene, washed well with water and the solvent distilled off in vacuo. There remain 18 g (35 mmcl; 70%) of 4,4'-bis (methacryloyloxyethyloxycarbonyloxy) ) diphenyl ether (compound 8).

e) 21,5 g (50 mmol) 1,1-8is-(4-chlorcarbonyloxyphenyl)-l-phenyl-ethan und 0,5 g Hydrochinonmonomethylether werden in 100 ml Toluol gelöst, 28,6 g (220 mmol) Hydroxyethylmethacrylat hinzugegeben und durch Zutropfen von 32 ml Triethylamin bei ca. 10°C zur Reaktion gebracht.e) 21.5 g (50 mmol) 1,1-8is- (4-chlorocarbonyloxyphenyl) -l-phenyl-ethane and 0.5 g of hydroquinone monomethyl ether are dissolved in 100 ml of toluene, 28.6 g (220 mmol) of hydroxyethyl methacrylate were added and 32 ml of triethylamine reacted at approx. 10 ° C.

Nach dem Aufarbeiten wie unter b) verbleiben 26,4 g (44 mmol; 88 %) von Verbindung 14. After working up as under b), 26.4 g (44 mmol; 88 %) of compound 14.

f) Werden 10,8 g (25 mmol) l,l-Bis-(4-chlorcarbonyloxy-phenyl)-1-phenyl-ethan und 12,5 g (55 mmol) 1,3-Bis-methacryloyl-glycerin in 100 ml Toluol in Anwesenheit von 0,3 g Hydrochinon durch Zugabe von 17 ml Triethylamin zur Reaktion gebracht und wie oben beschrieben aufgearbeitet, so verbleiben 19,5 g (24,4 mmol; 98 %) der Verbindung 15.f) 10.8 g (25 mmol) of l, l-bis (4-chlorocarbonyloxyphenyl) -1-phenyl-ethane are obtained and 12.5 g (55 mmol) of 1,3-bis-methacryloyl-glycerol in 100 ml of toluene in the presence of 0.3 g of hydroquinone reacted by adding 17 ml of triethylamine and worked up as described above, leaving 19.5 g (24.4 mmol; 98%) of the Connection 15.

g) 19,25 g (50 mmol) 1,1-Bis-(4-chlorcarbonyloxyphenyl)-cyclohexan und 0,5 g Hydrochinonmonomethylether in 100 ml Toluol werden mit 28,6 g (220 mmol) Hydroxyethylmethacrylat versetzt und unter Eiskühlung 34 ml Triethylamin zugetropft.g) 19.25 g (50 mmol) 1,1-bis (4-chlorocarbonyloxyphenyl) cyclohexane and 0.5 g of hydroquinone monomethyl ether in 100 ml of toluene are mixed with 28.6 g (220 mmol) Hydroxyethyl methacrylate is added and 34 ml of triethylamine are added dropwise with ice cooling.

Nach 20 Stunden wird mit der doppelten-Menge Toluol versetzt, wiederholt mit Wasser ausgewaschen und das Lösungsmittel im Vakuum abdestilliert. Es verbleiben 23,2 g (40 mmol; 80 %) l,l-Bis-(4-methacryloyloxyethoxycarbonyloxy-phenyl)-cyclohexan (Verbindung 17). After 20 hours, double the amount of toluene is added, repeated Washed out with water and the solvent was distilled off in vacuo. It remains 23.2 g (40 mmol; 80%) 1,1-bis (4-methacryloyloxyethoxycarbonyloxy-phenyl) -cyclohexane (Compound 17).

h) 9,6 9 (25 mmol) l,l-Bis-(4-chlorcarbonyloxyphenyl)-cyclohexan und 0,2 g Hydrochinon werden in 100 ml Toluol gelöst, und 14 g 1,3-Bis-meth- acryloyl-glycerin werden zugegeben. Beim Zutropfen von 17 ml Triethylamin steigt die Temperatur bis ca. 45"C, Auf 15 Stunden Nachreaktion bei Raumtemperatur folgt die Aufarbeitung wie unter g) beschrieben. Die Ausbeute an Verbindung 18 beträgt 17 g (22 mmol; 88 %).h) 9.6 9 (25 mmol) l, l-bis (4-chlorocarbonyloxyphenyl) cyclohexane and 0.2 g of hydroquinone are dissolved in 100 ml of toluene, and 14 g of 1,3-bis-meth- acryloyl glycerin are admitted. When 17 ml of triethylamine are added dropwise, the temperature rises to approx. 45 ° C., after 15 hours of post-reaction at room temperature, the work-up follows as described under g). The yield of compound 18 is 17 g (22 mmol; 88 %).

Tabelle I Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel I mit R2 = Sauerstoff und R3 = CH3 Ver- bin- R1 R4 du-ng Nr. 1Ci CH3 2 2 zu t1 1) CH3 Ver- bin- R1 R4 dung Nr. 3 < H 4 . > Pl 3 M¼2c4H9 H 4 --- M C02C4Hg 1 C°2CH3 6 MM M C°2CH3 H 7 Mm H Ccl Ver- R1 bin- dung - Nr. 8 9 r 10 S02 H 11 zu H 12 G CH2 zu H 13 bCH2 < fl Ver- R1 R4 bin- dung Nr. CH7, 14 > H I CH3 15 16 MM H CH i2 CH2 COOH H O 17 H 18 zu zu M Ver- R1 bin- dung Nr. CH3 19 { 2 H CH2 - COOCH3 CH3 20 < IMM CH2-COOCH3 Table I Examples of compounds of the general formula I with R2 = oxygen and R3 = CH3 Ver bin- R1 R4 you-ng No. 1Ci CH3 2 2 to t1 1) CH3 Ver bin- R1 R4 manure No. 3 <H 4th > Pl 3 M¼2c4H9 H 4 --- M C02C4Hg 1 C ° 2CH3 6 MM M C ° 2CH3 H 7mm H. Ccl Ver R1 am- manure - No. 8th 9 r 10 S02 H 11 to H 12 G CH2 to H 13 bCH2 <fl R1 R4 am- manure No. CH7, 14> H I. CH3 15th 16 MM H CH i2 CH2 COOH H O 17 H. 18 to to M Ver R1 am- manure No. CH3 19 {2H CH2 - COOCH3 CH3 20 <IMM CH2-COOCH3

1) M ist der Rest Beispiele für die Herstellung von Verbindungen der allgemeinen Formel II A. Herstellung von Chloracetylverbindungen a) Zu einer Suspension von 200 g Aluminiumchlorid in 500 ml trockenem Methylenchlorid werden 81 ml (1,02 ml) Chloracetylchlorid, gelöst in 200 ml rlethylenchloridt und nach einer Stunde 85 g (0,5 mol) Diphenylether, ebenfalls gelöst in 200 ml Methylenchlorid, getropft. Es wird 10 bis 15 Stunden zum Rückfluß erhitzt, auf Eis gegossen, mit konz. Salzsäure angesäuert und mit Methylenchlorid extrahiert.1) M is the rest Examples of the preparation of compounds of the general formula II A. Preparation of chloroacetyl compounds a) To a suspension of 200 g of aluminum chloride in 500 ml of dry methylene chloride, 81 ml (1.02 ml) of chloroacetyl chloride, dissolved in 200 ml of methylene chloride and after one hour 85 g (0.5 mol) of diphenyl ether, also dissolved in 200 ml of methylene chloride, added dropwise. It is refluxed for 10 to 15 hours, poured onto ice, acidified with conc. Acidified hydrochloric acid and extracted with methylene chloride.

Nach dem Einengen der organischen Phase wird der verbleibende 4,4'-Bis-chloracetyl-diphenylether zweimal aus Toluol/Hexan umkristallisiert. Schmelzpunkt 108"C (Lit. 102"C) b) Wie unter a) werden 84 g (0,5 mol) Diphenylmethan umgesetzt, wobei 50 g (31 %) 4,4'-Bis-chloracetyldiphenylmethan vom Schmelzpunkt 122-124"C erhalten werden. After the organic phase has been concentrated, the remaining 4,4'-bis-chloroacetyl-diphenyl ether becomes recrystallized twice from toluene / hexane. Melting point 108 "C (Lit. 102" C) b) As under a) 84 g (0.5 mol) of diphenylmethane are reacted, with 50 g (31%) of 4,4'-bis-chloroacetyldiphenylmethane with a melting point of 122-124 "C.

c) Zu einer Mischung von 188 g Phenol, 60 ml Wasser und 120 g Ätznatron werden bei 100"C 180 g 2,2'-Dibromdiethylether getropft. Nach 16 Stunden wird in Eiswasser gegossen, abgesaugt und aus Essigester umkristallisiert. Man erhält 158 g (80 %) 2,2'-Bis-(phenoxy)diethylether vom Schmelzpunkt 60"C.c) To a mixture of 188 g of phenol, 60 ml of water and 120 g of caustic soda 180 g of 2,2'-dibromodiethyl ether are added dropwise at 100.degree. C. After 16 hours, in Poured ice water, suction filtered and recrystallized from ethyl acetate. 158 is obtained g (80%) 2,2'-bis (phenoxy) diethyl ether of melting point 60 "C.

80 g Aluminiumchlorid werden in 200 ml Methylenchlorid suspendiert, und 46 g Chloracetylchlorid werden zugetropft. Nach einer Stunde werden 52 g Bis-(2-phenoxJ-ethyl)ether, gelöst im 80 ml 'lethylenchlorid, zugetropft, und das Gemisch wird 15 Stunden zum Rückfluß erhitzt. Es wird vorsichtig auf Eis gegossen, mit 200 ml konz. Salzsäure angesäuert, mit vlethylenchlorid extrahiert, die organische Phase mit Wasser gewaschen, eingeengt und das Produkt aus Toluol/Hexan umkristallisiert. Es ergeben sich 55 g (32 %) 2,2'-Bis-(4-chloracetyl-phenoxy)-diethylether vom Schmelzpunkt 134 C. 80 g of aluminum chloride are suspended in 200 ml of methylene chloride, and 46 g of chloroacetyl chloride are added dropwise. After one hour, 52 g of bis (2-phenoxJ-ethyl) ether, dissolved in 80 ml of 'lethylene chloride, added dropwise, and the mixture is 15 hours for Heated to reflux. It is carefully poured onto ice, with 200 ml of conc. hydrochloric acid acidified, extracted with vlethylene chloride, the organic phase washed with water, concentrated and the product recrystallized from toluene / hexane. The result is 55 g (32%) 2,2'-bis- (4-chloroacetyl-phenoxy) -diethyl ether of melting point 134 C.

d) Zu einer Mischung aus 94 g Phenol, 30 ml Wasser und 60 g Natriurnhydroxid werden bei 100°C 160 g 2-Brom-ethylphenylether gegeben. Nach 16 Stunden Reaktionszeit wird in Wasser gegossen, abgesaugt und das Produkt aus Essigester umkristallisiert. Man erhält 90 g (53 7>) 1,2-Diphenoxy-ethan vom Schmelzpunkt 95°C.d) To a mixture of 94 g of phenol, 30 ml of water and 60 g of sodium hydroxide 160 g of 2-bromo-ethylphenyl ether are added at 100.degree. After a reaction time of 16 hours is poured into water, filtered off with suction and the product is recrystallized from ethyl acetate. 90 g (53 7>) 1,2-diphenoxyethane with a melting point of 95 ° C. are obtained.

120 g Aluminiumchlorid werden in 300 ml ethylenchlorid suspendiert, und 70 g Chloracetylchlorid, in 120 ml Slethylenchlorid gelöst, werden zugetropft. Nach einer Stunde wird eine Lösung von 64 g 1,2-Diphenoxyethan zugetropft und das Reaktionsgemisch 15 Stunden zum Rückfluß erhitzt. Es wird auf Eis gegossen und wie unter c) aufgearbeitet. Es werden 45 g (41 t) 1,2-Bis-(4-chloracetyl-phenoxy)-ethan vom Schmelzpunkt 165 r erhalten. 120 g of aluminum chloride are suspended in 300 ml of ethylene chloride, and 70 g of chloroacetyl chloride, dissolved in 120 ml of methylene chloride, are added dropwise. After one hour, a solution of 64 g of 1,2-diphenoxyethane is added dropwise and that The reaction mixture was heated to reflux for 15 hours. It is poured on ice and how worked up under c). There are 45 g (41 t) of 1,2-bis (4-chloroacetylphenoxy) ethane obtained from melting point 165 r.

B. Umsetzung von Chloracetylverbindungen mit (ileth) acryl säure a) 70 g 4,4'-Bis-chloracetyl-diphenylether, 60 g Methacrylsäure und 0,2 g Hydrochinon werden in 350 ml Aceton gelöst, mit 100 g Triethylamin versetzt und 5 Stunden zum Rückfluß erhitzt. Es wird vom ausgefallenen Ammoniumsalz abgesaugt, im Vakuum eingeengt, in ethylenchlorid aufgenommen, die organische Phase mit 2 n HC1, 2 n NaOH und mit Wasser gewaschen. Nach dem Einengen wird aus Essigester umkristallisiert, wobei sich 49 g (50 %) der Verbindung 21 vom Schmelzpunkt 103 - 105"C ergeben.B. Reaction of chloroacetyl compounds with (ileth) acrylic acid a) 70 g of 4,4'-bis-chloroacetyl diphenyl ether, 60 g of methacrylic acid and 0.2 g of hydroquinone are dissolved in 350 ml of acetone, treated with 100 g of triethylamine and 5 hours for Heated to reflux. The precipitated ammonium salt is filtered off with suction, concentrated in vacuo, taken up in ethylene chloride, the organic phase with 2N HC1, 2N NaOH and with Water washed. After concentration, it is recrystallized from ethyl acetate, whereby 49 g (50%) of the compound 21 with a melting point of 103-105 "C result.

b) 25 g 4,4'-Bis-chloracetyl-diphenylsulfid, 19 g tiethacrylsäure und 0,2 g Hydrochinon werden in 350 ml Aceton gelöst, 38 g Triethylamin werden zugetropft, und das Gemisch wird 5 Stunden zum Rückfluß erhitzt. Es wird wie unter a) aufgearbeitet und aus Ethanol umkristallisiert, wobei 21 g (66 g) der Verbindung 23 vom Schmelzpunkt 99"C erhalten werden.b) 25 g of 4,4'-bis-chloroacetyl-diphenyl sulfide, 19 g of thiethacrylic acid and 0.2 g of hydroquinone are dissolved in 350 ml of acetone, 38 g of triethylamine are added dropwise, and the mixture is refluxed for 5 hours. It is worked up as under a) and recrystallized from ethanol to give 21 g (66 g) of compound 23 of melting point 99 "C can be obtained.

c) 15,4 g 4,4'-Bis-chloracetyl-biphenyl, 0,2 g Hydrochinon und 11 g Acrylsäure werden in 300 ml Aceton gelöst, und 45 g Triethylamin werden zugetropft. Das Reaktionsgemisch wird 5 Stunden zum Rückfluß erhitzt und wie unter a) beschrieben aufgearbeitet. Es werden 13,6 g (72 %) der Verbindung 26 mit einem Schmelzpunkt von ca. 190"C erhalten.c) 15.4 g of 4,4'-bis-chloroacetyl-biphenyl, 0.2 g of hydroquinone and 11 g of acrylic acid are dissolved in 300 ml of acetone, and 45 g of triethylamine are added dropwise. The reaction mixture is refluxed for 5 hours and as described under a) worked up. There are 13.6 g (72%) of the compound 26 with a melting point of approx. 190 "C obtained.

d) l6,g 4,41-Bis-chloracetyl-diphenylmethan und 11 g Acrylsäure werden in 300 ml Aceton gelöst und mit 0,1 g Hydrochinon stabilisiert. Nach Zutropfen von 26 g Triethylamin wird 4 Stunden zum Rückfluß erhitzt und, wie unter a) beschrieben, aufgearbeitet. Es ergeben sich nach Umkristallisation aus Essigester 10 g (51 %) der Verbindung 28 vom Schmelzpunkt 118"C.d) 16 g of 4,41-bis-chloroacetyl-diphenylmethane and 11 g of acrylic acid dissolved in 300 ml of acetone and stabilized with 0.1 g of hydroquinone. After adding 26 g of triethylamine is refluxed for 4 hours and, as described under a), worked up. After recrystallization from ethyl acetate 10 g (51%) of compound 28, melting point 118 "C.

e) 20,6 g 2,2'-Bis-(4-chloracetyl-phenoxy)-diethylether und 13 g Methacrylsäure werden wie unter c) beschrieben, umgesetzt, wobei 14,6 g (57 %) der Verbindung 29 mit dem Schmelzpunkt 138"C erhalten werden.e) 20.6 g of 2,2'-bis (4-chloroacetylphenoxy) diethyl ether and 13 g of methacrylic acid are as described under c), implemented, with 14.6 g (57%) of the compound 29 with a melting point of 138 "C can be obtained.

f) Wird bei der unter e) beschriebenen Umsetzung statt 21ethacrylsäu-re die äquivalente Menge Acrylsäure eingesetzt, so werden 18,5 g (77 %) der Verbindung 30 erhalten.f) Is used in the reaction described under e) instead of 21ethacrylic acid the equivalent amount of acrylic acid is used, 18.5 g (77%) of the compound are used 30 received.

g) 18,4 g 1,2-Bis-(4-chloracety-l-phenoxy)-ethan werden in 300 ml Aceton unter Einwirkung von 45 g Triethylamin mit 13 g Methacrylsäure umgesetzt. Aus den Reaktionsprodukt werden durch Umkristallisieren aus Essigester 7,-2 g (36 %) der Verbindung 31 vom Schmelzpunkt 142 -146"C erhalten.g) 18.4 g of 1,2-bis (4-chloroacety-l-phenoxy) ethane are in 300 ml Acetone reacted with 13 g of methacrylic acid under the action of 45 g of triethylamine. The reaction product is recrystallized from ethyl acetate 7, -2 g (36 %) of compound 31 with a melting point of 142-146 "C.

h) 6 g l,3-Bis-(4-chloracetyl-phenoxy)-propan und 0,1 g Hydrochinon werden in 200 ml Aceton gelöst. Nach Zugabe von 4,1 g Methacrylsäure werden 14,2 g Triethylamin zugetropft, und das Reaktionsgemisch wird 6 Stunden zum Rückfluß erhitzt. Es wird eingeengt, in Methy- lenchlorid aufgenommen und mit 2 n Salzsäure, 2 n Natronlauge und Wasser gewaschen. Nach Abdestillieren des Lösungsmittels wird in Essigester aufgenommen und vom unlöslichen Rückstand abfiltriert. Die Ausbeute an Verbindung 33 beträgt 3,6 g (48 %).h) 6 g of 1,3-bis (4-chloroacetylphenoxy) propane and 0.1 g of hydroquinone are dissolved in 200 ml of acetone. After adding 4.1 g of methacrylic acid, 14.2 g of triethylamine are added dropwise, and the reaction mixture is refluxed for 6 hours heated. It is concentrated, in methyl Lene chloride added and washed with 2N hydrochloric acid, 2N sodium hydroxide solution and water. After distilling off the The solvent is taken up in ethyl acetate and the insoluble residue is filtered off. The yield of compound 33 is 3.6 g (48%).

Tabelle II Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel II Ver- bin- R1 R3 dung Nr. 210-- CH3 22 b 4 H 23 -Q- S--< CH3 CH3 24 w Szu H 25 zu CH3 Rl beinr~ R1 R3 dung Nr. 1 26 H 27 tCH2 < CH3 28 eCH2 29 eo O ° zu S CH3 30Q- H | - Ver- R1 bin- R'z dung Nr. 31 5 Ozu CH3 32 H 33 o O< O5 CH3 Beispiele für die Herstellung von Verbindungen der allgemeinen Formel I mit R2 = CH2CH2CO und R3 = H.Table II Examples of compounds of the general formula II Ver bin- R1 R3 manure No. 210-- CH3 22 b 4 H 23 -Q- S - <CH3 CH3 24 w Szu H 25 to CH3 Rl legr ~ R1 R3 manure No. 1 26 H. 27 tCH2 <CH3 28 eCH2 29 eo O ° to S CH3 30Q- H | - Ver R1 am- R'z manure No. 31 5 O to CH3 32 H. 33 o O <O5 CH3 Examples of the preparation of compounds of the general formula I with R2 = CH2CH2CO and R3 = H.

a) 22 g Bis-[4-(3-carboxy-propionyl)phenyl]ether und 0,3 g Hydrochinon werden in 350 ml Toluol gelöst und mit 2 ml konzentrierter Schwefelsäure versetzt. Die Reaktionsmischung wird am Wasserabscheider zum Rückfluß erhitzt, und es werden langsam 23,5 g Hydroxyethylmethacrylat zugetropft. Nachdem sich ca. 3 ml einer wäßrigen Phase abgeschieden haben, wird die Toluolphase mit 2 n NaOH gewaschen und eingeengt, wobei 32 g (90 %) der Verbindung 34 erhalten werden.a) 22 g of bis [4- (3-carboxy-propionyl) phenyl] ether and 0.3 g of hydroquinone are dissolved in 350 ml of toluene and treated with 2 ml of concentrated sulfuric acid. The reaction mixture is heated to reflux on a water separator, and there are slowly added dropwise 23.5 g of hydroxyethyl methacrylate. After about 3 ml of an aqueous Phase separated, the toluene phase is washed with 2N NaOH and concentrated, whereby 32 g (90%) of compound 34 are obtained.

b) 18,5 g Bis-[4-(3-carboxy-propionyl)phenyl]ether, 0,2 g Hydrochinon und 1,5 ml konzentrierte Schwefelsäure werden in 350 ml Toluol zum Rückfluß erhitzt. Beim Zutropfen von 34 g l,3-Bis(methacryloyl)-glycerin scheiden sich 2,5 ml Wasser ab. Es wird von dem gebildeten polymeren Rückstand abfiltriert, die organische Phase mit Wasser gewaschen und eingeengt, wobei 31 g (81 %) der Verbindung 35 verbleiben.b) 18.5 g of bis [4- (3-carboxy-propionyl) phenyl] ether, 0.2 g of hydroquinone and 1.5 ml of concentrated sulfuric acid are refluxed in 350 ml of toluene. When 34 g of 1,3-bis (methacryloyl) -glycerol are added dropwise, 2.5 ml of water are separated away. The organic phase is filtered off from the polymeric residue formed washed with water and concentrated, 31 g (81%) of compound 35 remaining.

c) 3S,6 g Bis-[4-(3-carboxy-propionyl)phenyl]sulfid, 3 ml konzentrierte Schwefelsäure, 0,4 g Hydrochinon und 0,4 g Kupfer(I)oxid werden in 350 ml Toluol zum Rückfluß erhitzt, und 27 g Hydroxyethylmethacrylat werden zugetropft. Nachdem sich 4 ml einer wäßrigen Phase abgeschieden haben, wird mit 2 n Natronlauge gewaschen und eir.geengt. Die A'~si.Deu Wt ?;5 VrIndua beträgt 56 g (92 %).c) 3S, 6 g of bis [4- (3-carboxy-propionyl) phenyl] sulfide, 3 ml concentrated Sulfuric acid, 0.4 g of hydroquinone and 0.4 g of copper (I) oxide are dissolved in 350 ml of toluene heated to reflux, and 27 g of hydroxyethyl methacrylate are added dropwise. After this 4 ml of an aqueous phase have separated out and are washed with 2N sodium hydroxide solution and constricted. The A '~ si.Deu Wt?; 5 VrIndua is 56 g (92%).

d) 18,4 g Bis-[4-(3-carboxy-propionyl)phenyl}methan werden mit 1,5 ml. konzentrierter Schwefelsäure, 0,2 g Hydrochinon und 19,4 g Hydroxyethylmethacrylat in 300 ml Toluol zum Rückfluß erhitzt, bis sich 2,3 ml Wasser abgeschieden haben. Danach wird mit 2 n NaOH und Wasser gewaschen und im Vakuum eingeengt. Es verbleiben 20 g (55 %) der Verbindung 37.d) 18.4 g of bis [4- (3-carboxy-propionyl) phenyl} methane with 1.5 ml. concentrated sulfuric acid, 0.2 g hydroquinone and 19.4 g hydroxyethyl methacrylate heated to reflux in 300 ml of toluene until 2.3 ml of water have separated out. It is then washed with 2N NaOH and water and concentrated in vacuo. It remains 20 g (55%) of compound 37.

e) 17,7 g 4,4'-Bis-(3-carboxy-propionyl)biphenyl werden wie unter d) beschrieben umgesetzt, wobei 26,5 g (92 %) der Verbindung 38 erhalten werden.e) 17.7 g of 4,4'-bis (3-carboxy-propionyl) biphenyl are as below d) described implemented, whereby 26.5 g (92%) of the compound 38 are obtained.

Tabelle III Beispiele für Verbindungen der allgemeinen Formel I mit R2 = CH2CH2CO und R3 = H. Ver- R1 bin- dung Nr. 34 e ° 5 H 35 e ° t 1) 36 ffsff H 37 oCH2 o H 38 H Beispiel 1 Als Schichtträger für Druckplatten wurde elektrochemisch aufgerauhtes und anodisiertes Aluminium mit einer Oxidschicht von 3 g/m2 verwendet, das mit einer wäßrigen Lösung von Polyvinylphosphonsäure vorbehandelt worden war.Table III Examples of compounds of the general formula I with R2 = CH2CH2CO and R3 = H. Ver R1 am- manure No. 34 e ° 5 H. 35 e ° t 1) 36 ffff H 37 oCH2 o H 38 H. EXAMPLE 1 The substrate used for printing plates was electrochemically roughened and anodized aluminum with an oxide layer of 3 g / m 2, which had been pretreated with an aqueous solution of polyvinylphosphonic acid.

Es wurde eine Lösung aus: 2 Gt eines Styrol-Maleinsäureanhydrid-rlischpolymerisats mit dem mittleren Molekulargewicht 20 000 und einer Säurezahl von 180 - 200 (Scripset 540 von Monsanto), 2 Gt Verbindung 4, 0,125 Gt 9-Phenyl-acridin und 0,06 Gt des Azofarbstoffs aus 2,4-Dinitro-6-chlorbenzoldiazoniumsalz und 2-Methoxy-5-acetylamino-N-cyanethyl-N-hydroxyethyl-anilin in 26 Gt Butanon und 14 Gt Butylacetat auf den oben beschriebenen Träger in der Weise aufgeschleudert, daß ein Trockengewicht von 3,7 - 4 g/m2 erhalten wurde. Dann wurde die Platte 2 Minuten bei 100"C im Umlufttrockenschrank getrocknet.A solution of: 2 pbw of a styrene-maleic anhydride copolymer was obtained with an average molecular weight of 20,000 and an acid number of 180-200 (Scripset 540 from Monsanto), 2 pbw of compound 4, 0.125 pbw of 9-phenyl-acridine and 0.06 pbw of des Azo dye from 2,4-dinitro-6-chlorobenzene diazonium salt and 2-methoxy-5-acetylamino-N-cyanoethyl-N-hydroxyethyl-aniline in 26 pbw of butanone and 14 pbw of butyl acetate on the carrier described above in the Centrifuged in a manner that a dry weight of 3.7-4 g / m2 was obtained. then the plate was dried for 2 minutes at 100 ° C. in a circulating air drying cabinet.

Die erhaltene Druckplatte wurde mittels einer 5 klff Iletal I.halonenidlampe im Abstand von 110 cm zwischen Lampe und Vakuumkopierrahmen unter einem 13-stufigen Belichtungskeil mit Dichteinkrementen von 0,15 40 Sekunden belichtet.The printing plate obtained was produced by means of a 5 klff Iletal I.halonenid lamp at a distance of 110 cm between the lamp and the vacuum frame under a 13-step Exposure wedge exposed with density increments of 0.15 for 40 seconds.

Anschließend wurde die Platte manuell mit einem Entwickler folgender Zusammensetzung entwickelt: 3,0 Gt Natriummetasilikat x 9 Wasser, Q,03 Gt nichtionogenes Netzmittel (Kokosfettalkohol-Polyoxyethylenether mit ca. 8 Oxyethyleneinheiten), 0,003 Gt Antischaummittel, 96,967 Gt vollentsalztes Wasser.Then the plate was manually made with a developer as follows Composition developed: 3.0 pbw sodium metasilicate x 9 water, Q, 03 pbw non-ionic Wetting agent (coconut fatty alcohol polyoxyethylene ether with approx. 8 oxyethylene units), 0.003 pbw of antifoam agent, 96.967 pbw of fully demineralized water.

Es wurden 5 vollvernetzte Keilstufen erhalten.5 fully crosslinked wedge steps were obtained.

Beispiel 2 Zu der in Beispiel 1 angegebenen Beschichtungslösung wurden 0,04 g amorphe, hochporöse Kieselsäure, mittlere Teilchengröße 8/um, (Syloid Al 1) hinzugefügt, und die Dispersion wurde auf den Schichtträger so aufgeschleudert, daß ein Schichtgewicht von 3,5 g/m2 erhalten wurde.Example 2 The coating solution given in Example 1 were used 0.04 g amorphous, highly porous silica, mean particle size 8 μm, (Syloid Al 1) was added, and the dispersion was spun onto the substrate in such a way that that a layer weight of 3.5 g / m2 was obtained.

Die Platte wurde in gleicher Weise wie in Beispiel 1 weiterverarbeitet.The plate was processed in the same way as in Example 1.

Es wurden 5 vollvernetzte Keilstufen erhalten.5 fully crosslinked wedge steps were obtained.

Die Druckplatte erreichte im konventionellen Feucht-erk eine Auflage von 180 000 Bogen, im Alkoholfeuchtwerk eine von 90 000 Bogen.The printing plate reached one print run in the conventional dampening system of 180,000 sheets, in the alcohol dampening unit one of 90,000 sheets.

Beispiel 3 Die beschichtete Platte aus Beispiel 2 wurde nach dem Trocknen mit einer 15%igen wäßrigen Lösung von Polyvinylalkohol (12 % Restacetylgruppen, K-Wert 4) beschichtet.Example 3 The coated plate from Example 2 was dried with a 15% aqueous solution of polyvinyl alcohol (12% residual acetyl groups, K value 4) coated.

Nach dem Trocknen wurde eine Deckschicht mit einem Gewicht von 5 g/m² erhalten.After drying, a top layer was made with a weight of 5 g / m² obtain.

Teile der Platte wurden dann mittels einer Metallhalogenidlampe 5, 10, 20 bzw. 40 Sekunden unter einem 13-stufigen Belichtungskeil mit Dichteinkrementen von 0,15 belichtet und danach mit der in Beispiel 1 beschriebenen Entwicklerlösung entwickelt.Parts of the plate were then measured using a metal halide lamp 5, 10, 20 or 40 seconds under a 13-step exposure wedge with density increments exposed by 0.15 and then with the developer solution described in Example 1 developed.

In einem weiteren Versuch wurde die Platte nach dem Belichten 5 Sekunden bei 100°C im Umlufttrockenschrank erhitzt und anschließend entwickelt.In a further experiment, the plate was 5 seconds after exposure heated at 100 ° C in a circulating air drying cabinet and then developed.

Die folgende Tabelle zeigt, daß die Schicht streng reziprok arbeitet und daß der Nacherhitzungsschritt eine deutliche Zunahme der Anzahl der vollvernetzten Keilstufen zur Folge hat: Belichtungszeit (Sekunden) 5 5 10 20 40 Keilstufen ohne Nach- 7 erhitzung 3 5 7 9 Keilstufen mit Nach- 11 erhitzung 8 9 11 13 Schichten mit anderen r1Onomeren (z. B. Trimethylolethantriacrylat) vernetzen unter Sauerstoffeinfluß (d. h. ohne Deckschicht) wesentlich weniger als mit Deckschicht (3 Keilstufen ohne Deckschicht, 9 Keilstufen mit Deckschicht bei 40 Sekunden Belichtungszeit).The following table shows that the layer works strictly reciprocally and that the post-heating step results in a significant increase in the number of fully crosslinked wedge steps: Exposure time (seconds) 5 5 10 20 40 Wedge steps without 7 heating 3 5 7 9 Wedge steps with 11 heating 8 9 11 13 Layers with other monomers (e.g. trimethylolethane triacrylate) crosslink under the influence of oxygen (ie without a top layer) much less than with a top layer (3 wedge steps without a top layer, 9 wedge steps with a top layer at 40 seconds exposure time).

Beispiel 4 Eine Beschichtungslösung wurde aus 1 Gt eines Methylmethacrylat-rlethacrylsäure-Ilischpolymerisats mit dem Molekulargewicht 30 000 und der Säurezahl 117, 1 Gt des in Beispiel 1 angegebenen Styrol-Maleinsäureanhydrid-Mischpolymerisats, 2 Gt der Verbindung 3, 0,125 Gt 9-Phenyl-acridin, 0,07 Gt des in Beispiel 1 beschriebenen blauen Farbstoffs und 0,04 Gt der in Beispiel 2 angegebenen Kieselsäure in 21 Gt Butanon und 11 Gt Butylacetat hergestellt und auf den in Beispiel 1 beschriebenen Aluminiumträger so aufgeschleudert, daß ein Schichtgewicht von 5 g/qm erhalten wurde.Example 4 A coating solution was obtained from 1 part by weight of a methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer with a molecular weight of 30,000 and an acid number of 117.1 pbw of that given in Example 1 Styrene-maleic anhydride copolymer, 2 pbw of compound 3, 0.125 pbw 9-phenyl-acridine, 0.07 pbw of the blue dye described in Example 1 and 0.04 pbw of that in Example 2 specified silica in 21 pbw butanone and 11 pbw butyl acetate produced and spun onto the aluminum carrier described in Example 1 so that a Layer weight of 5 g / m² was obtained.

Belichtung, Entwicklung und Beurteilung erfolgten wie in Beispiel 1.Exposure, development and evaluation were carried out as in Example 1.

Es wurden 4 vollvernetzte Keilstufen erhalten.4 fully crosslinked wedge steps were obtained.

Beispiel 5 Auf den in Beispiel 1 angegebenen Schichtträger wurden Lösungen folgender Zusammensetzung so aufgeschleudert, daß ein Schichtgewicht von 3,5 g/qm erhalten wurde: 2 Gt des in Beispiel 1 angegebenen Mischpolymerisats, 1,8 Gt einer der in Tabelle IV angegebenen Verbindungen, 0,5 Gt 9-Phenyl-acridin und 0,05 Gt des Azofarbstoffs aus Beispiel 1 in 23 Gt Butanon, 12 Gt Butylacetat und 12 Gt Ethylenglykolmonomethylether.Example 5 On the support given in Example 1 were Solutions of the following composition are centrifuged so that a layer weight of 3.5 g / m2 was obtained: 2 pbw of the copolymer specified in Example 1, 1.8 Gt one of the compounds listed in Table IV, 0.5 Gt 9-phenyl-acridine and 0.05 pbw of the azo dye from Example 1 in 23 pbw butanone, 12 pbw butyl acetate and 12 pbw of ethylene glycol monomethyl ether.

Die Platten wurden 40 Sekunden belichtet und mit der in Beispiel 1 angegebenen Entwicklerlösung entwickelt.The plates were exposed for 40 seconds and with that in Example 1 specified developer solution.

Es wurde die folgende Anzahl vollvernetzter Keilstufen erhalten: Tabelle IV Verb.-Nr. Keilstufen Verb.-Nr. Keilstufen 1 2 20 4 2 1 - 2 21 4 3 3 - 4 22 4 4 4 23 1 2 5 5 24 2 6 3 25 2 7 2 26 1 - 2 8 4 27 3 9 4 28 2 - 3 10 3 29 2 11 3 30 1 - 2 12 4 31 2 13 2 - 3 32 3 14 3 33 2 - 3 15 2 - 3 34 4 16 3 35 3 - 4 17 2 36 2 18 3 37 3 19 5 38 2 - 3 Beispiel 6 6,5 Gt eines Terpolymerisats aus n-Hexylmethacrylat, Methacrylsäure und Styrol (60 : 30 : 10 Gt) mit einem mittleren Molekulargewicht von ca.The following number of fully cross-linked wedge steps was obtained: Tabel IV connection no. Wedge steps connection no. Wedge steps 1 2 20 4 2 1 - 2 21 4 3 3 - 4 22 4 4 4 23 1 2 5 5 24 2 6 3 25 2 7 2 26 1 - 2 8 4 27 3 9 4 28 2 - 3 10 3 29 2 11 3 30 1 - 2 12 4 31 2 13 2 - 3 32 3 14 3 33 2 - 3 15 2 - 3 34 4 16 3 35 3 - 4 17 2 36 2 18 3 37 3 19 5 38 2 - 3 Example 6 6.5 pbw of a terpolymer from n-hexyl methacrylate, methacrylic acid and styrene (60: 30: 10 by weight) with an average Molecular weight of approx.

35.000, 5,6 Gt des in Beispiel 1 beschriebenen Monomeren, 0,2 Gt 9-Phenyl-acridin, 0,03 Gt des ,blauen Azofarbstoffs aus Beispiel 1 in 25 Gt Butanon, 2 Gt Ethahol und 1 Gt Butylacetat wurden auf eine biaxial verstreckte und thermofixierte Polyethylenterephthalatfolie der Stärke 25/um so aufgeschleudert, daß nach dem Trocknen bei 100°C ein Schichtgewicht von 35 g/qm erhalten wurde. 35,000, 5.6 pbw of the monomer described in Example 1, 0.2 pbw 9-phenyl-acridine, 0.03 pbw of the blue azo dye from Example 1 in 25 pbw of butanone, 2 pbw of ethanol and 1 pbw of butyl acetate were biaxially drawn and heat-set Polyethylene terephthalate film with a thickness of 25 / um spin-coated so that after drying a layer weight of 35 g / m2 was obtained at 100 ° C.

Die so hergestellte Trockenresistfolie wurde mit einer handelsüblichen Laminiervorrichtung bei 1200C auf eine mit 35/um starker Kupferfolie kaschierte Phenoplast-Schichtstoffplatte laminiert und 20 Sekunden mit einem handelsüblichen Belichtungsgerät belichtet. Als Vorlage diente eine Strichvorlage mit Linienbreiten und Abständen bis herab zu 80/um.The dry resist film produced in this way was coated with a commercially available Laminating device at 1200C on a copper foil laminated with 35 µm thick Phenolic laminate laminated and 20 seconds with a commercially available Exposure device exposed. A line template with line widths served as a template and distances down to 80 / µm.

Nach der Belichtung wurde die Polyesterfolie abgezogen und die Schicht mit der in Beispiel 1 beschriebenen Entwicklerlösung in einem Sprühentwicklungsgerät 90 Sekunden lang entwickelt.After the exposure, the polyester film was peeled off and the layer with the developer solution described in Example 1 in a spray developer Developed for 90 seconds.

Die Platte wurde dann 30 Sekunden mit Leitungswasser gespült, 30 Sekunden in einer 15 teigen Ammoniumperoxydlsulf-at-Lösung angeätzt und sodann nacheinander in den folgenden Elektrolytbädern galvanisiert: 1) 30 rlinuten in einem Kupferelektrolytbad der Firma Schlötter, Geislingen/Steige, Typ "Glanzkupfer-Bad" Stromdichte: 2,5 A/dm2 Pletallaufbau: ca. 14/um 2) 10 Minuten in einem Nickelbad Typ "Norma" der Firma Schlötter, Geislingen/Steige Stromdichte: 4 A/dm2 tletallaufbau: 9/um Die Platte zeigte keinerlei Unterwanderungen oder Beschädigungen.The plate was then rinsed with tap water for 30 seconds, 30 seconds Etched in a 15 dough ammonium peroxydlsulfate solution and then one after the other Galvanized in the following electrolyte baths: 1) 30 rinsing in a copper electrolyte bath from Schlötter, Geislingen / Steige, type "shiny copper bath", current density: 2.5 A / dm2 Metal build-up: approx. 14 / around 2) 10 minutes in a "Norma" type nickel bath from the company Schlötter, Geislingen / Steige Current density: 4 A / dm2 metal structure: 9 / um The plate showed no infiltration or damage.

Die Platte konnte sodann in 5 %iger KOH-Lösung bei 50"C entschichtet und das freigelegte Rupfer in den üblichen Ätzmedien weggeätzt werden.The plate could then be stripped in 5% KOH solution at 50.degree and the exposed pluckers are etched away in the usual etching media.

Beispiel 7 Die in Beispiel 6 beschriebene Photoresistlösung wurde wie dort beschrieben auf eine mit 35/um starker Kupferfolie kaschierte Phenoplast-Schichtstoffplatte aufgeschleudert und getrocknet (30 g/qm).Example 7 The photoresist solution described in Example 6 was made as described there on a laminated phenoplastic laminate board with a 35 μm thick copper foil centrifuged and dried (30 g / m2).

Analog zu Beispiel 6 wurde die Platte belichtet, entwickelt und galvanisiert, wobei anstelle der Vernickelung wie folgt verfahren wurde: 15 Minuten in einem Bleizinnbad LA der Firma Schlötter, Geislingen/Steige Stromdichte: 1 A/qdm Metallaufbau: 15/um Auch diese Platte zeigte keinerlei Unterwanderungen oder Beschädigungen und ließ sich mit KOH-Lösung entschichten und mit üblichen Ätzmitteln ätzen.Analogously to Example 6, the plate was exposed, developed and electroplated, instead of nickel plating, the following procedure was used: 15 minutes in a lead-tin bath LA from Schlötter, Geislingen / Steige Current density: 1 A / qdm Metal structure: 15 / um This plate also showed no infiltration or damage and left remove the coating with KOH solution and etch with common etchants.

Tabelle V Verbindungs-Nr. Keilstufen 4 4 5 5 19 5 21 4 Beispiel 8 Auf den in Beispiel 1 angegebenen Schichtträger wurde eine Lösung folgender Zusammensetzung so aufgeschleudert, daß ein Schichtgewicht von 3,5 g/qm erhalten wurde: 2,6 Gt der Verbindung 19, 6,5 Gt eines Styrol-Maleinsäureester-Mischpolymerisats mit einer Säurezahl von 145 - 160 und einem Erweichungspunkt von 140 - 1600C, 70 Gt Ethylenglykolmonomethylether, 0,1 Gt 9-Phenyl-acridin, 0,035 Gt des in Beispiel 1 angegebenen Azofarbstoffs und 1,0 Gt des Umsetzungsprodukts aus 1 mol 2,2,4-Trimethyl-hexamethylendiisocyanat und 2 mol 2-Hydroxy-ethylmethacrylat. Table V Connection no. Wedge steps 4 4 5 5 19 5 21 4 example 8 A solution of the following composition was applied to the support given in Example 1 centrifuged in such a way that a layer weight of 3.5 g / m² was obtained: 2.6 pbw Compound 19, 6.5 pbw of a styrene-maleic ester copolymer with a Acid number of 145 - 160 and a softening point of 140 - 1600C, 70 pbw of ethylene glycol monomethyl ether, 0.1 pbw of 9-phenyl-acridine, 0.035 pbw of the azo dye indicated in Example 1 and 1.0 pbw of the reaction product from 1 mol of 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate and 2 moles of 2-hydroxy-ethyl methacrylate.

Die beschichtete Platte wurde anschließend 2 Minuten bei 100"C im Umlufttrockenschrank getrocknet und mit einer Deckschicht wie in Beispiel 3 versehen. An einem Laserite(R)-Gerät 150 R der Firma Eocom Corp., das mit einem Argon-Ionen-Laser ausgerüstet war, wurde die Platte mit 200 mW und 1200 L/2,54 cm (5,3 mJ/cm2) bestrahlt. Der Bildkontrast nach der Bestrahlung war gut.The coated plate was then 2 minutes at 100 "C im The circulating air drying cabinet was dried and provided with a top layer as in Example 3. On a Laserite (R) device 150 R from Eocom Corp., which works with an argon-ion laser was equipped, the plate was irradiated with 200 mW and 1200 L / 2.54 cm (5.3 mJ / cm2). The image contrast after irradiation was good.

Anschließend wurde die Platte mit dem Entwickler von Beispiel 1 entwickelt. Die Zahl der vollvernetzten Keilstufen eines Halbtonstufenkeils betrug bei Belichtung und unmittelbar folgender Entwicklung 3.The plate was then developed with the developer of Example 1. The number of fully crosslinked wedge steps of a halftone step wedge was on exposure and immediately following development 3.

Wenn die gleiche Platte in gleicher Weise verarbelWet wurde, jedoch zwischen Belichten und Entwickeln in einem Erhitzungsgerit 7 Sekunden auf 80°C erhitzt wurde, so wurden Keilstufen erhalten.If the same plate was processed in the same way, however between exposure and development in one Heating device 7 seconds was heated to 80 ° C, wedge steps were obtained.

Andruck und Auflagendruck wurden in einer Heidelberger Offsetdruckmaschine GTO mit Dahlgren-Feuchtwerk durchgeführt und betrugen 100.000 Bogen. Bei der -zwischenerhitzten Platte erhöhte sich die Auflage auf 150.000 Bogen.The proof and edition printing were done in a Heidelberg offset printing machine GTO carried out with Dahlgren dampening system and totaled 100,000 sheets. In the case of the reheated Plate, the print run increased to 150,000 sheets.

Claims (5)

Patentansprüche Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch, das als wesentliche Bestandteile a) eine polymerisierbare Verbindung mit endständigen Acryl- oder Methacrylsäureestergruppen, b) ein polymeres Bindemittel.Radiation-polymerizable mixture which is used as a essential components a) a polymerizable compound with terminal acrylic or methacrylic ester groups, b) a polymeric binder. c) einen durch Strahlung aktivierbaren Polymerisationsinitiator enthält, dadurch gekennzeichnet, daß es als polymerisierbare Verbindung (a) eine Verbindung einer der Formeln enthält, worin R1 eine Phenylen-, Biphenyldiylgruppe oder eine aus zwei über eine Brücke verbundenen Phenylenresten gebildete Gruppe ist, wobei die Brücke ein Sauerstoff- oder Schwefelatom, eine Sulfongruppe, eine gegebenenfalls substituierte Alkylen- oder Cycloalkylengruppe oder eine Gruppe der Formel (0-Alkylen)nO mit n = 1-3 ist, R2 ein Sauerstoffatom oder die Gruppe CH2-CH2-C0, R3 ein Wasserstoffatom oder ein Methylrest und R4 ein Wasserstoffatom oder der Rest ist.c) contains a polymerization initiator which can be activated by radiation, characterized in that it is a compound of one of the formulas as polymerizable compound (a) contains, where R1 is a phenylene, biphenyldiyl group or a group formed from two phenylene radicals linked by a bridge, the bridge being an oxygen or sulfur atom, a sulfonic group, an optionally substituted alkylene or cycloalkylene group or a group of the formula (O-alkylene ) nO with n = 1-3, R2 is an oxygen atom or the group CH2-CH2-C0, R3 is a hydrogen atom or a methyl radical and R4 is a hydrogen atom or the radical is. 2. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Verbindungeiner der Formeln I oder II enthält, worin R3 eine Methylgruppe ist. 2. Mixture according to claim 1, characterized in that it is a compound of a of formulas I or II, in which R3 is a methyl group. 3. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Verbindung einer der Formeln I oder II enthält, worin R1 eine Diphenylethergruppe ist. 3. Mixture according to claim 1, characterized in that there is a compound contains one of the formulas I or II in which R1 is a diphenyl ether group. 4. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Verbindung einer der Formeln I oder II enthält, serin R1 eine Diphenylalkansäureestergruppe ist. 4. Mixture according to claim 1, characterized in that there is a compound one of the formulas I or II contains, serine R1 is a diphenylalkanoic acid ester group is. 5. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es ein polymeres Bindemittel enthält, das in wäßrig-alkalischer Lösung löslich oder mindestens quellbar ist. 5. Mixture according to claim 1, characterized in that it is a polymer Contains binder that is soluble or at least swellable in aqueous alkaline solution is.
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