DE29816588U1 - Vorrichtung zum Trocknen von mit Lack überzogenen Substraten, beispielsweise für schutzlackierte Compact Disks innerhalb einer Fertigungslinie - Google Patents
Vorrichtung zum Trocknen von mit Lack überzogenen Substraten, beispielsweise für schutzlackierte Compact Disks innerhalb einer FertigungslinieInfo
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Description
16-09-9S
LEYBOLD SYSTEMS GmbH
Wilhelm-Rohn-Straße 25
63450 Hanau
Die Neuerung betrifft eine Vorrichtung zum Trocknen von mit Lack überzogenen Substraten, beispielsweise
für schutzlackierte Compact Disks innerhalb einer Fertigungslinie, bestehend aus einem
Förderer, beispielsweise einem Kreisförderer mit Handhabungseinrichtung mit Greifern und mehreren
an der Peripherie des Förderers angeordneten Behandlungsgeräten zum Metallisieren, Lackieren,
Trocknen, Kontrollieren und Stapeln der Substrate.
Bekannt ist eine Vorrichtung (DOS 41 27 341) zum selbsttätigen Gießen, Beschichten, Lackieren,
Trocknen, Prüfen und Sortieren von Werkstücken insbesondere von kreisscheibenförmigen, flachen
Substraten aus Kunststoff, wie beispielsweise optischen oder magneto-optischen Datenspeichern
&iacgr;&idigr;
mit mindestens einer die Substrate von einer Herstellstation, beispielsweise einer Spritzgießmaschine,
zu den Bearbeitungsstationen weiterbefördernden Transporteinrichtung und mit jeweils einer
Ablagestation zur getrennten Ablage von fertig bearbeiteten und als einwandfrei befundenen und von
mit Fehlern behafteten Werkstücken, die gekennzeichnet ist durch eine Substrattransporteinrichtung
mit einem längs einer geraden Linie hin und her bewegbaren Transportschlitten mit jeweils drei
beiderseits des Schlittens angeordneten Transportarmen mit Substrathaltern, einer auf der einen
Seite des Transportschlittens vorgesehenen Vakuumbeschichtungsvorrichtung und einer auf der anderen
Seite des Transportschlittens angeordneten Ablageeinrichtung mit mindestens je einer Ablage für gut
befundene und für auszusondernde Substrate und einer Vorrichtung zur Qualitätsprüfung und mit einer
in der Bewegungsrichtung des Transportschlittens der Spritzgießmaschine gegenüberliegend angeordneten
Karussell-Transporteinrichtung oder einem Drehtisch mit verschiedenen, an seinen Umfang angeordneten
Lackier-, Trocknungs-, Bedruckungs-, Bildkontroll- und Zentriereinrichtungen, wobei der
Drehtisch die Substrate in einer Vielzahl von Transportschritten auf einer Kreisbahn um die vertikale
Rotationsachse des Drehtisches bewegt und wobei der Transportschlitten bei seiner Bewegung
in der einen Richtung mit seinem ersten Arm ein erstes Substrat in einem einzigen Transportschritt
von der Übernahmestation der Abgabestation zur Ein- bzw. Ausschleusstation der Vakuumbeschichtungsvorrichtung
transportiert und ebenso gleich-
zeitig mit dem Transportarm ein zweites Substrat von der Beschichtungsstation zu einer Lackierstation
und ebenso ein drittes Substrat von der Lakkierstation zum Drehtisch bewegt, der sich
schrittweise und im gleichen Takt dreht, und wobei der Transportschlitten bei seiner anschließenden
Bewegung in entgegengesetzter Richtung ein fertig bearbeitetes Werkstück zur Prüfvorrichtung und ein
bereits geprüftes Werkstück von hier aus zur zweiten Ablage transportiert.
Bekannt ist weiterhin eine Vorrichtung für den Transport von Substraten von einer Ausgangsstation
über mehrere Prozeßstationen wie eine Beschichtungs-, eine Lackier-, eine Trocknungs- und
eine Prüfstation zurück zu dieser Ausgangsstation (DOS 44 08 537) mit drei mit Substrathaltern versehenen
Karussells und fünf Manipulatoren, wobei im Raum zwischen dem dritten Karussell und der
Ausgangsstation ein Manipulator angeordnet ist, dessen einer um eine vertikale Achse schwenkbarer
Arm während einer Schwenkbewegung ein Substrat vom dritten Karussell zu einer im. Schwenkbereich
vorgesehenen Sammelstation für fehlerhafte oder einwandfreie Substrate befördert.
Bekannt ist außerdem eine Transportvorrichtung zur Beförderung von Substraten, zu der eine Ausgangsstation
und mehrere in Reihe oder kreisförmig angeordnete Prozeßstationen wie Beschichtungs-,
Lackier-, und Trocknungsstationen zur Aufnahme des Substrats gehören, zu denen das
Substrat mittels der als Drehtisch ausgebildeten
Transportvorrichtung geleitet und dann an eine Aufnahme- und/oder Übergabestation abgegeben
wird, wobei die Aufnahme und die Übergabe des Substrats vom Drehtisch mittels antreibbaren
Substratgreifern erfolgt (DE 195 14 037), wobei der Drehtisch in einer gleichbleibenden Taktfrequenz
angetrieben wird und die Taktfrequenz sich nach der längsten Arbeitszeitdauer einer beliebigen
Prozeßstation richtet, wobei das Substrat mittels des drehbar gelagert ausgebildeten
Substratgreifers einer oder mehreren außerhalb des Drehtisches vorgesehenen Prozeßstationen bzw.
Satelliten-Prozeßstationen und/oder eine Ausgangsstation bzw. einer Ablagestation zugeführt
werden kann.
Bekannt ist schließlich eine Vorrichtung für den Transport von flachen Substraten, beispielsweise
von Tabletts von und nach verschiedenen Bearbeitungsstationen (GB 2 250 495 A) mit zwei Drehtellern
und mit auf diesem angeordneten Stellmotoren mit Stellgliedern, deren freie Enden mit Saugnäpfen
versehen sind, wobei die .Saugnäpfe die Substrate von einem Zuführförderer übernehmen und
dazu jeweils eine geradlinige Hubbewegung in radialer Richtung ausführen, die Substrate danach
in den Bereich von Bearbeitungsstationen schwenken und die Substrate schließlich an einen Rückförderer
abgeben.
Aufgabe der vorliegenden Neuerung ist es, eine Vorrichtung des eingangs genannten Typs mit einer
Trocknungseinrichtung zu versehen, mit der zuvor
lackierte Substrate besonders rasch getrocknet werden können, so daß der Trockner - in eine Fertigungslinie
eingebaut - auf die im allgemeinen vom rasch arbeitenden Metallizer vorgegebene
Taktfrequenz eingestellt werden kann.
Diese Aufgabe wird gemäß der Neuerung gelöst durch einen rotierbar gelagerten, plattenförmigen
Substrathalter, eine den Substrathalter bewegende Motoreinheit, eine im Schwenkbereich des
Substrathalters vorgesehene Strahlungsquelle, beispielsweise eine UV-Lampe, und eine den Trockner
überdeckende und sich zumindest teilweise im Schwenkbereich des Substrathalters erstreckende
Haube, wobei die Haube mit einer schlitzförmigen Öffnung oder Schacht versehen ist, durch die der
Substrathalter hindurchbewegbar ist, wobei der Substrathalter eine Querschnittskonfiguration
aufweist, die derjenigen des Schlitzes oder Schachts angepaßt ist.
Weitere Einzelheiten und Merkmale sind in den Schutzansprüchen näher beschrieben und gekennzeichnet.
Die Neuerung läßt die verschiedensten Ausführungsformen zu; eine davon ist rein schematisch
in den anhängenden Zeichnungen dargestellt, die in Figur 1 eine Vorrichtung für den Transport von
Compact Disks in der Draufsicht und in Figur 2 den Trockner gemäß Figur 1 in vergrößerter Darstellung
und in der Draufsicht und in Figur 3 im Längsschnitt zeigen.
Die Vorrichtung besteht im wesentlichen aus einem Drehtisch 3 mit mehreren an seinem radial äußeren
Bereich angeordneten, sich radial erstreckenden Armen 2,2',..., mit einem Substratgreifer 4, 4',..., 14
am jeweils freien Ende jedes Arms 2,2',..., einer Substrat-Zuführstation 5, einem auf der Unterseite
des Drehtisches 3 gelagerten, sich längs eines Armes 2X erstreckenden, in etwa radialer Richtung
bewegbaren Transportglied 6 und einem zweiten Drehtisch 7 mit sechs auf einer Kreislinie angeordneten,
sich jeweils lotrecht erstreckenden Spindeln 8,8',... zur Aufnahme von für gut befundenen
Substraten 1,1',... und einer zentralen Spindel 9 zur Aufnahme der als Ausschuß erkannten
Substrate 1,1' ,....
Der Drehtisch 3 wird im Takt der Bearbeitung der Substrate um &agr; = 60° hin- und hergedreht
(Richtung A-B), wobei ein von der Zuführstation 5 übernommenes Substrat 1 bei einer ersten Schwenkbewegung
von A nach B in den unmittelbaren Bereich der Beschichtungsstation 10, bei der folgenden
Drehbewegung von A nach B von der Beschichtungsstation 10 zur Lackierstation 11 und
bei der nächstfolgenden Drehbewegung von A nach B von der Lackierstation 11 zur Trockenstation 12
usw. befördert wird, bis das Substrat 1 die Position oberhalb des Drehtisches 7 erreicht hat.
Gleichzeitig mit dem Fördern des fertig bearbeiteten Substrats 1 bis über eine Position oberhalb
des Drehtellers 7 kann der das Substrat 1 haltende Substratgreifer 14, der am freien Ende des
Transportglieds 6 angeordnet ist, das Substrat 1 auf der zentralen Spindel 9 - je nach einem vom
Fehler-Prüfgerät 13 erhaltenen Signal - oder auf einer der Spindeln 8,8',... ablegen.
Wie die Figuren 2 und 3 zeigen, weist der Trockner 12 einen Substratträger 17 auf, der um eine
sich vertikal erstreckende Achse 18 um einen Winkel &bgr; von etwa 135° motorisch hin- und herbewegbar
ist, so daß das Substrat I1'1 aus der dargestellten
Position zusammen mit dem Substrathalter 17 in die in Figur 2 strichliert eingezeichnete
Position schwenkbar ist. Der Substrathalter 17 tritt dabei durch einen Kanal 19 der Haube 20, in
die eine Blende 21 mit Öffnung 22 eingebaut ist, unterhalb der das Substrat l'11 positionierbar
ist, in die Trockenkammer 25 ein. Oberhalb der Blendenöffnung 22 ist eine UV-Lampe 23 an der
Haube 20 gehalten, deren Strahlung auf die auf das Substrat l'1' aufgebrachte Lackschicht einwirkt
und diese innerhalb sehr kurzer Zeit aushärtet. Die Haube 20 sowie die Drehachse 18 mit
Motor 24 sind auf einer Basisplatte 26 gehalten. Unterhalb des Substrats I1'' in der in Figur 3
gezeigten Position des Substratträgers 17 ist eine Hub-/Dreheinrichtung 27 auf der Basisplatte 26
angeordnet, mittels der über ein auf dem Substrathalter 17 in einer Vertiefung 28 gehaltenes
Mittelstück 29 das Substrat I1'' angehoben
und gedreht werden kann, so daß der Trocknungsprozeß besonders gleichmäßig erfolgen kann. Nach
erfolgter Trocknung wird der Substratträger 17 mittels des Motors 24 in seine in Figur 2 gezeig-
te Ausgangslage zurückgeschwenkt, so daß das Substrat l111 wie weiter oben beschrieben zum
Fehler-Prüfgerät 13 weitertransportiert werden kann.
11 . ■:■ ■ . 98557
1,1V" Substrat
2,2',... Arm
3 Drehtisch
4,4',.·· Substratgreifer
5 Zuführstation
6 Transportglied
7 Drehtisch 8,8',... Aufnahmespindel 9 zentrale Spindel
10 Beschichtungsstation
11 Lackierstation
12 Trockenstation
13 Fehler-Prüfgerät
14 Substratgreifer
15 Drehachse
16 Drehachse
17 Substratträger
18 Drehachse
19 Kanal
20 Haube
21 Blende
22 Öffnung
23 UV-Lampe
24 Motor
25 Trockenkammer
26 Basisplatte
27 Hub-/Dreheinrichtung
28 Ausnehmung, Vertiefung
29 Mittelstück, Teller
Claims (2)
1. Vorrichtung zum Trocknen von mit Lack überzogenen Substraten (1,1',...), beispielsweise für
schutzlackierte Compact Disks innerhalb einer Fertigungslinie, bestehend aus einem Förderer,
beispielsweise einem Kreisförderer mit Handhabungseinrichtung (3) mit Greifern (4,4',..., 14)
und mehreren an der Peripherie des Förderers angeordneten Behandlungsgeräten (10,11,12,13)
zum Metallisieren, Lackieren, Trocknen, Kontrollieren und Stapeln der Substrate (1,1',...),
gekennzeichnet durch einen rotierbar gelagerten, plattenförmigen Substrathalter (17), eine
den Substrathalter bewegende Motoreinheit (24), eine im Schwenkbereich des Substrathalters
(17) vorgesehene Strahlungsquelle (23), beispielsweise eine UV-Lampe, und eine den
Trockner überdeckende und sich zumindest teilweise im Schwenkbereich des Substrathalters
(17) erstreckende Haube (20),,wobei die Haube (20) mit einer schlitzförmigen Öffnung oder
Schacht (19) versehen ist, durch den der Substrathalter (17) hindurchbewegbar ist, wobei
der Substrathalter (17) eine Querschnittskonfiguration aufweist, die etwa derjenigen
des Schlitzes oder Schachtes (19) entspricht.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der plattenförmige Substrathalter
(17) als flacher Kreiszylinderausschnitt
■ 10 , ·■■ ■ ■ 98557
ausgebildet ist und um seine lotrechte Mittelpunktsachse (18) um etwa &bgr; = 135° hin- und
herschwenkbar auf der Basisplatte (26) des Trockners gelagert ist, wobei der Substrathalter
(17) an seiner radial äußeren Partie mit einer Vertiefung oder Aussparung (28) zur Aufnahme
des Substrats (1,1',...) versehen ist.
Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet,
daß in der Vertiefung oder Aussparung (28) ein in ihr drehbar und vertikal verschiebbar gelagerter Teller (29)
gehalten ist, auf dem das Substrat (1,1',...) aufliegt, wobei der Teller (29) mit einer unterhalb
des Substrathalters (17) auf der Basisplatte (26) angeordneten Motoreinheit zusammenwirkt,
wenn sich der Substrathalter (17) im Wirkbereich der Strahlungsquelle (23) befindet,
der das Substrat (1,1',...) in einer angehobenen Position rotieren läßt.
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Publications (1)
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DE29816588U1 true DE29816588U1 (de) | 1998-12-24 |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE29816588U1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1098153A1 (de) * | 1999-11-05 | 2001-05-09 | Dr. Hönle AG | UV-Bestrahlungsvorrichtung |
DE20206899U1 (de) | 2002-04-30 | 2002-08-14 | HLS Galvanotechnik Leipzig Nachfolger GmbH, 04158 Leipzig | Anlage zur Oberflächenbehandlung von Teilen |
US6756598B2 (en) | 1999-12-22 | 2004-06-29 | Erwin Behr Automotive Gmbh | Unit for irradiating a workpiece with ultraviolet radiation |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4127341A1 (de) | 1991-08-19 | 1993-02-25 | Leybold Ag | Vorrichtung zum selbsttaetigen giessen, beschichten, lackieren, pruefen und sortieren von werkstuecken |
DE19543354A1 (de) | 1995-11-21 | 1997-05-22 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Trocknen einer Lackschicht |
WO1997020313A1 (en) | 1995-11-27 | 1997-06-05 | M2 Engineering Ab | A machine for manufacturing compact discs, for instance |
DE19545573A1 (de) | 1995-12-07 | 1997-06-12 | Leybold Ag | Vorrichtung zum gleichmäßigen Aufbringen einer Lackschicht auf ein Substrat |
US5779855A (en) | 1995-08-30 | 1998-07-14 | Kitano Engineering Co., Ltd. | Apparatus for curing an optical disc |
DE19706594A1 (de) | 1997-02-20 | 1998-08-27 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
DE19729525A1 (de) | 1997-03-11 | 1998-09-17 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
DE19721689A1 (de) | 1997-05-23 | 1998-11-26 | Steag Hama Tech Gmbh Machines | Vorrichtung zum Trocknen von Substraten |
-
1998
- 1998-09-16 DE DE29816588U patent/DE29816588U1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4127341A1 (de) | 1991-08-19 | 1993-02-25 | Leybold Ag | Vorrichtung zum selbsttaetigen giessen, beschichten, lackieren, pruefen und sortieren von werkstuecken |
US5779855A (en) | 1995-08-30 | 1998-07-14 | Kitano Engineering Co., Ltd. | Apparatus for curing an optical disc |
DE19543354A1 (de) | 1995-11-21 | 1997-05-22 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Trocknen einer Lackschicht |
WO1997020313A1 (en) | 1995-11-27 | 1997-06-05 | M2 Engineering Ab | A machine for manufacturing compact discs, for instance |
DE19545573A1 (de) | 1995-12-07 | 1997-06-12 | Leybold Ag | Vorrichtung zum gleichmäßigen Aufbringen einer Lackschicht auf ein Substrat |
DE19706594A1 (de) | 1997-02-20 | 1998-08-27 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
DE19729525A1 (de) | 1997-03-11 | 1998-09-17 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung für den Transport von Substraten |
WO1998040884A1 (de) | 1997-03-11 | 1998-09-17 | Leybold Systems Gmbh | Vorrichtung für den transport von substraten |
DE19721689A1 (de) | 1997-05-23 | 1998-11-26 | Steag Hama Tech Gmbh Machines | Vorrichtung zum Trocknen von Substraten |
WO1998053452A1 (de) | 1997-05-23 | 1998-11-26 | Steag Hamatech Ag | Vorrichtung zum trocknen von substraten |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1098153A1 (de) * | 1999-11-05 | 2001-05-09 | Dr. Hönle AG | UV-Bestrahlungsvorrichtung |
US6756598B2 (en) | 1999-12-22 | 2004-06-29 | Erwin Behr Automotive Gmbh | Unit for irradiating a workpiece with ultraviolet radiation |
DE20206899U1 (de) | 2002-04-30 | 2002-08-14 | HLS Galvanotechnik Leipzig Nachfolger GmbH, 04158 Leipzig | Anlage zur Oberflächenbehandlung von Teilen |
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