DE2729694A1

DE2729694A1 - Continuous partial electrolytic plating - e.g. of band articles by passage through a vat, parallel to overflow weir opposite the anode

Info

Publication number: DE2729694A1
Application number: DE19772729694
Authority: DE
Inventors: Wilfried Denys; Johan Helder; James Piolon
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1977-06-30
Filing date: 1977-06-30
Publication date: 1979-01-04
Also published as: DE2729694C2

Abstract

Plant for the partial electrolytic plating of parts in a continuous flow, e.g. relay springs and other carriers for semiconductor modules, includes a vat with an anode along one side and an overflow weir for the electrolytic fluid. The parts are carried through the vat parallel to the weir, entering through slots in the vat side walls which allow a certain amt. of fluid to escape for recirculation. Plant is able to work continuously and to maintain high flow velocities, combined with an accurate control of the fluid level.

Description

Vorrichtung zum bereichsweisen elektrolytischen PlattierenDevice for electrolytic plating in areas

kontinuierlich durchlaufender Waren Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum bereichsweisen elektrolytischen Plattieren kontinuierlich durchlaufender Waren, insbesondere von Systemträgern für Halbleiterbauelemente, mit mindestens einer längs einer Warentransportbahn angecr dneten Behandlungswanne, deren Stirnwände Warendurchlaufschlitze aufweisen, mindestens einer in der Behandlungswanne angeordneten Anode und einer druckseitig an die Behandlungswanne angeschlossenen Umlaufpumpe zur Rückf8rderung der aus der Behandlungswanne austretenden Behandlungsflilssigkeit Eine derartige Plattiervorrichtung ist beispielsweise aus der DT-OS 1 796 017 bekannt. Die partiell zu plattierenden Waren wie Relaisfedern und dgl. werden mit Hilfe einer Transporteinrichtung durch mehrere längliche Behandlungswannen geführt, wobei lediglich die zu metallisierenden Bereiche in die entsprechenden Behandlungsflüssigkeiten eintauchen. Damit die Waren bei gleichbleibendem Transportniveau, d.h. mit konstanter Eintauchtiefe durch die Behandlungsflüssigkeiten geführt werden können, sind die Stirnwände der BehandlungswsF nen mit Warendurchlaufschlitzen versehen. Die Konstanthaltung der Pegelhöhen erfolgt mit Hilfe von Umlaufpumpen, welche die aus den Warendurchlaufschlitzen fließenden Behandlungsflüssigkeitenckontinuierlich in die entsprechenden Behandlungswannen zurückpumpen.continuously moving goods The invention relates to a device for area-wise electrolytic plating of continuously passing goods, in particular of system carriers for semiconductor components, with at least one longitudinal A treatment tub attached to a goods transport track, the end walls of which have goods flow slots have at least one anode arranged in the treatment tub and one Circulation pump connected to the treatment tub on the pressure side for return the treatment liquid emerging from the treatment tub Plating device is known from DT-OS 1,796,017, for example. The partial Goods to be plated, such as relay springs and the like. Are with the help of a transport device passed through several elongated treatment tubs, with only those to be metallized Immerse areas in the appropriate treatment fluids. So that the goods with constant transport level, i.e. with constant immersion depth through the Treatment fluids can be carried, the end walls of the treatment WSF provided with slots for goods to pass through. The level levels are kept constant with the help of circulation pumps, which the from the goods passage slots flowing treatment liquids continuously into the corresponding treatment tubs pump back.

Bei der vorstehend beschriebenen bekannten Plattiervorrichtung wird die elektrolytische Metallabscheidung auf die in die Behandlungsflüssigkeiten eintauchenden Bereiche der Waren beschränkt. Gegenüber einer ganzflächigen Metallabscheidung kann hierdurch der Metallverbrauch reduziert werden, was insbesondere bei Edelmetallen, wie Gold, zu erheblichen Kosteneinsparungen führt. Wenn die gewünschte Eintauchtiefe der Waren nur wenige Millimeter beträgt, so ist eine genaue Handhabung des Pegelstandes der Behandlungsflüssigkeit erforderlich. Insbesondere darf der Flüssigkeitsspiegel in der Mitte einer Behandlungswanne nicht merkbar höher sein als an den beiden Enden. Eine derartig genaue Handhabung des Pegelstandes könnte bei der bekannten Plattiervorrichtung jedoch allenfalls durch die Wahl kleiner Strömungsgeschwindigkeiten der Behandlungsflüssigkeiten bewerkstelligt werden. Kleine Strömungsgeschwindigkeiten führen jedoch zu Nachteilen, wie einer schlechten Qualität der aufplattierten Schicht oder einer kleineren zulässigen Stromdichte.In the above-described known plating device the electrolytic metal deposition on the immersed in the treatment liquids Areas of goods restricted. Compared to a metal deposition over the entire area this reduces the metal consumption, which is particularly important in the case of precious metals, like gold, leads to significant cost savings. When the desired immersion depth of the goods is only a few millimeters, an exact handling of the water level is essential the treatment liquid required. In particular, the liquid level not noticeably higher in the middle of a treatment tub than at both ends. Such an accurate handling of the level could be with the known plating device but at most by choosing low flow velocities of the treatment liquids be accomplished. However, small flow velocities lead to disadvantages, such as poor quality of the plated layer or a smaller allowable one Current density.

Ein bereichsweises elektrolytisches Plattieren derartiger Waren kann auch mit Hilfe einer aus der DT-OS 2 232 333 bekannten Vorrichtung vorgenommen werden. Bei dieser Vorrichtung werden die Waren auf einen Auflagetisch gepreßt, wobei die zu plattierenden Bereiche durch Öffnungen der Tischplatte hindurch über eine Spritzvorrichtung mit dem Elektrolyten beaufschlagt werden.A regional electrolytic plating of such goods can can also be made with the aid of a device known from DT-OS 2 232 333. In this device, the goods are pressed onto a support table, the Areas to be plated through openings in the table top using a spray device be acted upon with the electrolyte.

Diese bekannte Vorrichtung ermöglicht jedoch kein kontinuierliches Plattieren der Waren.However, this known device does not enable a continuous one Plating the goods.

Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine kontinuierlich betreibbare Vorrichtung der eingangs genannten Art so zu verbessern, daß eine genaue Handhabung des Pegelstandes bei relativ großen Strömungsgeschwindigkeiten ermöglicht wird.The present invention is therefore based on the object of a to improve continuously operable device of the type mentioned at the outset in such a way that that precise handling of the water level at relatively high flow velocities is made possible.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß auf der der Anode gegenüberliegenden Seite der Warentransportbahn ein im wesentlichen parallel zur Warentransportbahn ausgerichtetes Überfallwehr angeordnet ist. Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung wird durch die seitliche Anordnung des Überfallwehres eine auf die zu plattierende Funktionsseite der Waren gerichtete Strömung der Behandlungsflüssigkeit erzeugt. Insbesondere führt die zur Warentransportbahn im wesentlichen parallele Anordnung des Überfallwehres jedoch zu einem ebenen Verlauf des Flüssigkeitsspiegels und zu einer äußerst genauen Handhabung der Eintauchtiefe der zu plattierenden Waren. So können beispielsweise beim bereichsweisen elektrolytischen Plattieren von Systemträgerbändern für Halbleiterbauelemente Eintauchtiefen von 2 mm genau eingehalten werden. Die Geschwindigkeit der auf die Funktionsseite gerichteten Strömung kann über die Höhe des seitlichen Überfallwehres so gewählt werden, daß in Abstimmung mit der Stromdichte und der Durchlaufgeschwindigkeit der Waren optimale Bedingungen für die elektrolytische Metallabscheidung auf der Funktionsseite der Waren vorliegen.This object is achieved in that on the Anode opposite side of the goods transport path a substantially parallel Attack weir aligned with the goods transport path is arranged. In the inventive Device is due to the lateral arrangement of the weir to the Plating working side of the goods, directional flow of the treatment liquid generated. In particular, the one which is essentially parallel to the goods transport path leads Arrangement of the weir, however, to a level course of the liquid level and extremely precise handling of the immersion depth of the goods to be plated. For example, when electrolytically plating system carrier tapes in areas For semiconductor components, immersion depths of 2 mm must be adhered to. the The speed of the flow directed on the functional side can be determined by the height of the side weir can be chosen so that in coordination with the current density and the throughput speed of the goods optimal conditions for the electrolytic Metal deposition is present on the functional side of the goods.

Bei einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindunggstreckt sich das Überfallwehr über die gesamte Länge der Behandlungswanne. Hierdurch können die Funktionsseiten der Waren fast über die gesamte Länge des Transportweges senkrecht angeströmt werden. Nur in den stirnseitigen Endbereichen der Behandlungswanne werden die Funktionsseiten nicht mehr senkrecht angeströmt, da sich hier der relativ geringe Ausfluß der Behandlungsflüssigkeit durch die Warendurchlaufschlitze auswirkt.In a preferred embodiment of the invention, this extends Weir over the entire length of the treatment tub. This allows the function pages the goods are flown against almost vertically over the entire length of the transport route. The functional sides are only in the front end areas of the treatment tub the flow is no longer perpendicular, since the relatively low outflow of the treatment liquid is here through the goods flow slots.

Bei einer weiteren bevorzugten Ausgestaltung der Erfindung wird eine Verdoppelung bzw. Vervielfachung des Warendurchsatzes dadurch erreicht, daß mindestens eine zusätzliche Warentransportbahn mit den zugehörigen Warendurchlaufschlitzen in den Stirnwänden der Behandlungswanne vorgesehen ist und daß auf gegenüberliegenden Seiten der zusätzlichen Warentransportbahn eine zusätzliche Anode und ein im wesentlich parallel zur zusätzlichen Warentransportbahn ausgerichtetes zusätzliches Überfallwehr angeordnet sind. Vorzugsweise weisen hierbei das Uberfallwehr und das zusätzliche ÜbeSaLwehr zur Bildung eines abgestuften Pegelstandes unterschiedliche Höhen auf. Eine derartige Kaskadenanordnung ist insbesondere für bandförmige Waren geeignet, da die Transporteinrichtungen ohne sich zu stören in unterschiedlichen Höhen angeordnet werden können.In a further preferred embodiment of the invention, a Doubling or multiplying the throughput of goods achieved in that at least an additional goods transport track with the associated goods passage slots is provided in the end walls of the treatment tub and that on opposite sides Sides of the additional goods transport track an additional anode and one oriented essentially parallel to the additional goods transport path additional hold-up weir are arranged. Preferably, the overflow weir and the additional training weir to create a graduated water level Heights up. A cascade arrangement of this type is particularly useful for strip-shaped goods suitable because the transport facilities in different without disturbing each other Heights can be arranged.

Entsprechend den Unteransprüchen 6 und 7 können die bereits beschriebenen bevorzugten Ausführungsformen der einfachen Anordnung auch vorteilhaft für die Doppel- bzw. Mehrfachanordnung angewendet werden.According to the dependent claims 6 and 7, the already described preferred embodiments of the simple arrangement also advantageous for the double or multiple arrangement can be used.

Im folgenden werden Ausführungsbeispiel der Erfindung an Hand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt Figur 1 und Figur 2 eine Behandlungswanne einer Plattiervorrichtung mit einer Warentransportbahn im Querschnitt bzw. in der Draufsicht, Figur 3 und Figur 4 eine Behandlungswanne einer Plattiervorrichtung in Kaskadenanordnung mit zwei Warentransp ortbahnen im Querschnitt bzw. in der Draufsicht, Figur 5 einen Querschnitt durch eine Behandlungswanne einer Plattiervorrichtung mit zwei niveaugleichen Warentransportbahnen.In the following embodiment of the invention are based on the Drawing explained in more detail. It shows Figure 1 and Figure 2, a treatment tub Plating device with a goods transport path in cross section or in plan view, FIG. 3 and FIG. 4 show a treatment tub of a plating device in a cascade arrangement with two goods transport tracks in cross section and in plan view, Figure 5 is a Cross section through a treatment tub of a plating device with two level Goods transport lanes.

Figur 1 und Fig. 2 zeigen im Querschnitt bzw. in der Draufsicht eine Behandlungswanne 1 einer Plattiervorrichtung zum bereichsweisen elektrolytischen Plattieren einer bandförmigen Ware 2. Diese bandförmige Ware 2 wird an einer Transport- und Kontaktiereinrichtung hängend entlang einer in der Draufsicht strichpunktiert dargestellten Warentransportbahn 3 mit konstanter Geschwindigkeit so durch die Behandlungswanne 1 ge- führt, daß nur der zu plattierende Bereich in die darin enthaltene Behandlungsflüssigkeit 4 eintaucht. Die Transport- und Kontaktiereinrichtung besteht aus Transportwagen 5, welche in einer Schiene 6 geführt und zu einer endlosen Transportkette gelenkig verbunden sind, wobei die Aufnahme der bandförmigen Ware 2 durch lösbare Haltezangen 7 erfolgt. Zur Kontaktierung der bandförmigen Ware 2 sind die Haltezangen 7 über Kohlebürsten 8 und eine Kathodenschiene 9 an Masse gelegt.FIG. 1 and FIG. 2 show a cross section and a plan view, respectively Treatment tub 1 of a plating device for electrolytic treatment in areas Plating of a belt-shaped product 2. This belt-shaped product 2 is transported to a transport and contacting device hanging along a dash-dotted line in plan view goods transport path 3 shown at constant speed through the treatment tub 1 ge leads that only the area to be plated into that contained therein Treatment liquid 4 is immersed. The transport and contacting device exists from trolley 5, which is guided in a rail 6 and an endless transport chain are articulated, the recording of the band-shaped goods 2 by releasable Holding tongs 7 takes place. The holding tongs are used to make contact with the band-shaped goods 2 7 placed via carbon brushes 8 and a cathode bar 9 to ground.

Damit die bandförmige Ware 2 bei gleichbleibendem Transportniveau durch die Behandlungsflüssigkeit 4 geführt werden kann, sind die Stirnwände 100 der Behandlungswanne 1 mit Warendurchlaufschlitzen 101 versehen, deren Abmessungen so gewählt sind, daß ein ungehinderter Warendurchlauf ermöglicht wird. Die beiden Seitenwände 102 der Behandlungswanne 1 stehen beidseitig über die Stirnwände 100 über und bilden zusammen mit dem Boden 108 und zusätzlichen Endwänden 103 Überlaufkammern 104, wobei die zusätzlichen Endwände 103 für einen ungehinderten Warendurchlauf mit den Warendurchlaufschlitzen 101 entsprechenden Schlitzen 105 versehen sind. Die durch die Warendurchlaufschlitze 101 in die Überlaufkammern 104 gelangende Behandlungsflüssigkeit 4 fließt über Abfluß leitungen 106 in einen in der Zeichnung nicht dargestellten Vorrats- und Pufferbehälter und wird dann über eine ebenfalls nicht dargestellte Umlaufpumpe und eine Druckleitung 107 in die Behandlungswanne 1 zurückgefördert. Die Druckleitung 107 mündet in eine am Boden 108 der Behandlungswanne 1 angebrachte Hohlrippe 109, welche mehrere zur Anode 11 hinweisende Austrittsöffnungen 110 besitzt. Der Strömungsverlauf der aus der Hohlrippe 109 austretenden Behandlungsflüssigkeit 4 ist in der Draufsicht der Fig. 2 durch nicht näher bezeichnete Pfeile angedeutet.So that the band-shaped goods 2 with a constant transport level can be passed through the treatment liquid 4, the end walls 100 the treatment tub 1 is provided with goods passage slots 101, the dimensions of which are chosen so that an unhindered flow of goods is made possible. The two Side walls 102 of the treatment tub 1 protrude on both sides over the end walls 100 above and together with the floor 108 and additional end walls 103 form overflow chambers 104, with the additional end walls 103 for an unhindered passage of goods are provided with slots 105 corresponding to the goods passage slots 101. The treatment liquid passing through the goods passage slots 101 into the overflow chambers 104 4 flows through drain lines 106 in a not shown in the drawing Storage and buffer container and is then also not shown via a Circulation pump and a pressure line 107 are fed back into the treatment tub 1. The pressure line 107 opens into one attached to the bottom 108 of the treatment tub 1 Hollow rib 109, which has several outlet openings 110 pointing towards the anode 11. The course of the flow of the treatment liquid emerging from the hollow rib 109 4 is indicated in the plan view of FIG. 2 by arrows which are not designated in any more detail.

Das bereichsweise elektrolytische Plattieren der bandsörmigen Ware 2 erfolgt in dem in die Behandlungsflüssigkeit 4 eintauchenden Bereich. Damit über die gesamte Länge der Behandlungswanne 1 eine gleichbleibende Eintauchtiefe der Ware 2 gewähr- leistet wird, ist parallel zur Warentransportbahn 3 ein Uberfallwehr 12 angeordnet. Die Warentransportbahn 3 verläuft also im Bereich der Behandlungswanne 1 zwischen der an einer Anodenstange 10 aufgehängten Anode 11 und dem Uberfallwehr 12. Eine mit dem Uberfallwehr 12 und den Stirnwänden 100 verbundene Rippe 13 dient zur Erhöhung der mechanischen Stabilität. Die über das Uberfallwehr 12 strömende Behandlungsflüssigkeit 4 gelangt in eine zusätzliche Überlaufkammer 111 und von dort aus über eine Abflußleitung 112, den bereits erwähnten Vorrats- und Pufferbehälter, die Umlaufpumpe und die Druckleitung 107 zurück in die Behandlungswanne 1. Die zusätzliche Uberlaufkammer 111 wird durch das Uberfallwehr 12, eine Seitenwand 102 und die Stirnwände 100 begrenzt. Anstelle der Uberlaufkammern 104 und 111 kann jedoch auch eine gemeinsame Uberlaufkammer mit einer gemeinsamen Abflußleitung verwendet werden. Da das Uberfallwehr 12 im Vergleich zu den Warendurchlaufschlitzen 101 sehr breit ist, kann der Pegelstand der Behandlungsflüssigkeit 4 innerhalb der Behandlungswanne 1 ohne merkliche Schwankungen konstant gehalten werden. Hierdurch ist es möglich, die Eintauchtiefe der bandförmigen Ware 2 über höhenverstellbare Füße 14 der Behandlungswanne 1 genau einzustellen und konstant zu halten.The electrolytic plating of the strip-shaped goods in certain areas 2 takes place in the area immersed in the treatment liquid 4. So over the entire length of the treatment tub 1 has a constant immersion depth Goods 2 guaranteed is performed is parallel to the goods transport line 3 an overflow weir 12 is arranged. The goods transport path 3 thus runs in the area of the treatment tub 1 between the anode suspended from an anode rod 10 11 and the overflow weir 12. One with the overflow weir 12 and the end walls 100 connected rib 13 is used to increase the mechanical stability. The ones about that Treatment liquid 4 flowing over weir 12 passes into an additional overflow chamber 111 and from there via a drain line 112, the already mentioned storage and buffer tank, the circulation pump and the pressure line 107 back into the treatment tank 1. The additional overflow chamber 111 is through the overflow weir 12, a side wall 102 and the end walls 100 are limited. Instead of the overflow chambers 104 and 111 can however, a common overflow chamber with a common drainage line is also used will. Since the overflow weir 12 in comparison to the goods passage slots 101 is very is wide, the level of the treatment liquid 4 within the treatment tub 1 can be kept constant without noticeable fluctuations. This makes it possible the immersion depth of the band-shaped goods 2 via height-adjustable feet 14 of the treatment tub 1 can be set precisely and kept constant.

Fig. 3 und Fig. 4 zeigen im Querschnitt bzw. in der Draufsicht eine Behandlungswanne 20 einer Plattiervorrichtung, bei welcher zur Verdoppelung des Warendurchlaufs zwei parallel zueinander verlaufende in der Draufsicht strichpunktiert dargestellte Warentransportbahnen 21 und 22 vorgesehen sind. Entlang dieser Warentransportbahnen 21, 22 können gleichartige oder verschiedene Waren 23 bzw. 24 mit Hilfe von in der Zeichnung nicht dargestellten Kontaktier- und T>nsporteinrichtungen mit gleicher oder verschiedener Transportgeschwindigkeit durch die Behandlungswanne 20 geführt werden. Die Behandlungswanne 20 besteht aus einem Boden 200, zwei Seitenwänden 201 und Stirnwänden 202, wobei der Boden 200 und die Seitenwände 201 beidseitig über die Stirnwände 202 hinausragen und zusammen mit zusätzlichen Endwänden 203 Überlaufkammern 204 bilden. Die Stirnwände 202 besitzen im Bereich der Warentransportbahnen 21 und 22 Warendurchlaufschlitze 205 bzw. 206, während in die zusätzlichen Endwände 203 entsprechende Schlitze 207 bzw. 208 eingebracht sind. Den Warentransportbahnen 21 und 22 sind jeweils Anoden 25 bzw. 26 sowie Uberfallwehre 27 bzw. 28 zugeordnet. Anden Stirnwänden 202 und den Überfallwehren 27 bzw. 28 sind zur Erhöhung der mechanischen Stabilität Verstärkungsrippen 32 bzw. 30 angeordnet. Die in der Behandlungswanne 20 enthaltene Behandlungsflüssigkeit 31 gelangt von einem in der Zeichnung nicht dargestellten Vorrats-und Pufferbehälter über eine ebenfalls nicht dargestellte Umlaufpumpe und eine Druckleitung 209 in eine Hohlrippe 210, welche am Boden 200 der Behandlungswanne 20 angebracht ist. Die Hohlrippe 210 besitzt mehrere zur Anode 25 hinweisende Austrittsöffnungen 211, durch welche die Behandlungsflüssigkeit 31 austritt und dann über das Uberfallwehr 27 fließt. Im Anschluß an das Überfallwehr 27 weist die Behandlungsflüssigkeit 31 einen niedrigeren Pegelstand auf, da die Wehrkrone des Überfallwehres 28 niedriger ist als die Wehrkrone des Überfallwehres 27. Die Strömung der Behandlungsflüssigkeit 31 nimmt somit einen kaskadenförmigen Verlauf und strömt nach dem Überlauf über das Uberfallwehr 27 die Funktionsseiten der Waren 24 senkrecht an und fließt dann über das Überfallwehr 28 in eine Überlaufkammer 212, welche durch den Boden 200, die Stirnwände 202, eine Seitenwand 201 und das Überfallwehr 28 gebildet wird. Aus der Überfallkammer 212 gelangt die Behandlungsflüssigkeit 31 dann über eine AbfluBleitung 213 in den Vorrats- und Pufferbehälter zurück. Desgleichen wird die durch die Warendurchlaufschlitze 205 und 206 in die Überlaufkammern 204 strömende Behandlungsflüssigkeit 31 über Abflußleitungen 214 in den Vorrats- und Pufferbehälter zurückgeführt. Da ein Teil der über das Überfallwehr 27 in den niederen Teil der Behandlungswanne 20 strömenden Behandlungsflüssigkeit 31 durch die Warendurchlaufschlitze 206 wegfließt, muß, um eine stetige Strömung über das ;Uberfallwehr 28 zu gewähr- leisten, eine zusätzliche Menge der Behandlungsflüssigkeit 31 in den niederen Teil zurückgeführt werden. Dies erfolgt über eine weitere Druckleitung 219, welche in eine mit mehreren Austrittsöffnungen 221 versehene Hohlrippe 220 einmündet. Der Gesamtumlauf der Behandlungsflüssigkeit 31 wird hierdurch nicht beeinträchtigt.Fig. 3 and Fig. 4 show in cross section and in plan view a Treatment tub 20 of a plating device, in which to double the Two parallel to each other running in the plan view with dash-dotted lines Goods transport tracks 21 and 22 shown are provided. Along these goods transport lanes 21, 22 can identify similar or different goods 23 or 24 with the help of in the Drawing not shown contacting and sports facilities with the same or guided through the treatment tub 20 at different transport speeds will. The treatment tub 20 consists of a base 200 and two side walls 201 and end walls 202, the bottom 200 and the side walls 201 on both sides over the End walls 202 protrude and together with additional end walls 203 form overflow chambers 204. The end walls 202 have in the area of the goods transport tracks 21 and 22 goods passage slots 205 and 206 respectively, while in the additional end walls 203 corresponding slots 207 and 208 are introduced. The goods transport railways 21 and 22 are assigned anodes 25 and 26, respectively, and weirs 27 and 28, respectively. Anden end walls 202 and the raid weirs 27 and 28 are to increase the mechanical Stability reinforcement ribs 32 and 30, respectively. The one in the treatment tub Treatment liquid 31 contained in 20 does not come from one in the drawing shown storage and buffer container via a also not shown Circulation pump and a pressure line 209 in a hollow rib 210, which at the bottom 200 the treatment tub 20 is attached. The hollow rib 210 has several to the anode 25 indicating outlet openings 211 through which the treatment liquid 31 exits and then flows over the weir 27. Following the raid weir 27, the treatment liquid 31 has a lower level, since the The weir crown of the weir 28 is lower than the weir crown of the weir 27. The flow of the treatment liquid 31 thus takes on a cascade Course and flows after the overflow over the overflow weir 27 the functional sides of the goods 24 vertically and then flows over the weir 28 into an overflow chamber 212, which through the bottom 200, the end walls 202, a side wall 201 and the Weir 28 is formed. The treatment liquid passes from the hold-up chamber 212 31 then back into the storage and buffer container via an outflow line 213. Likewise is through the goods passage slots 205 and 206 into the overflow chambers 204 flowing treatment liquid 31 via drain lines 214 in the storage and Buffer tank returned. As part of the overflow weir 27 in the lower Part of the treatment tub 20 treatment liquid 31 flowing through the goods passage slots 206 flows away, must in order to ensure a steady flow over the; overfall weir 28 Afford, an additional amount of the treatment liquid 31 is returned to the lower part will. This takes place via a further pressure line 219, which is divided into one with several Hollow rib 220 provided with outlet openings 221 opens. The total circulation of the treatment liquid 31 is not affected by this.

Fig. 5 zeigt als weitere Variante einen Querschnitt durch eine Behandlungswanne 40 einer Plattiervorrichtung mit niveaugleichen Warentransportbahnen. Entlang dieser parallel zueinander und auf gleicher Höhe verlaufenden Warentransportbahnen werden Waren 41 bzw. 42 durch die Behandlungswanne 40 geführt, wobei ihre den Behälterwandungen zugewandten Funktionsseiten plattiert werden. Den Waren 41 sind eine Anode 43 und ein Überfallwehr 44 und den Waren 42 eine Anode 45 und ein Überfallwehr 46 zugeordnet.As a further variant, FIG. 5 shows a cross section through a treatment tub 40 of a plating device with level goods transport tracks. Along this Goods transport tracks running parallel to each other and at the same height are Were 41 or 42 passed through the treatment tub 40, with their the container walls facing functional sides are plated. The goods 41 are an anode 43 and an overflow weir 44 and an anode 45 and an overflow weir 46 assigned to the goods 42.

Die beiden Überfallwehre 44 und 46 sind so angeordnet, daß die Behandlungswanne in drei Kammern unterteilt wird. In den beiden äußeren Kammern werden die Waren 41 bzw. 42 plattiert, während die mittlere Kammer eine gemeinsame Überlaufkammer 400 mit einer Abflußleitung 401 bildet. Die über die Uberfallwehre 44 und 46 strömende Behandlungsflüssigkeit 47 wird über die Abflußleitung 401 in einen in der Zeichnung nicht dargestellten Vorrats- und Pufferbehälter geleitet und gelangt von dort aus über eine ebenfalls nicht dargestellte Umlaufpumpe und Druckleitungen 402 bzw.The two weirs 44 and 46 are arranged so that the treatment tub is divided into three chambers. The goods are in the two outer chambers 41 and 42, respectively, while the middle chamber has a common overflow chamber 400 forms with a drain line 401. The one flowing over the weirs 44 and 46 Treatment liquid 47 is via the drain line 401 into one in the drawing not shown storage and buffer container passed and arrives from there Via a circulation pump, also not shown, and pressure lines 402 or

403 in die beiden äußeren Kammern zurück. Anstelle einer gemeinsamen Umlaufpumpe können auch zwei verschiedene an die Druckleitungen 402 bzw. 403 angeschlossene Umlaufpumpen verwendet werden.403 back into the two outer chambers. Instead of a common Circulation pumps can also have two different ones connected to the pressure lines 402 and 403, respectively Circulation pumps are used.

Die Druckleitungen 402 und 403 münden in am Boden der Behandlungswanne 40 befestigte Hohlrippen 404 bzw. 405 ein, welche mehrere seitliche auf das Überfallwehr 44 bzw. das Uberfallwehr 46 gerichtete Austrittsöffnungen 406 bzw. 407 besitzen. Die durch die stirnseitigen Warendurchlaufschlitze 408 und 409 austretende Behandlungsflüssigkeit 47 wird über in der Zeichnung nicht dargestellte ttberlaufkammern und entsprechende Abflußleitungen in den vorstehend erwähnten Vorrats- und Pufferbehälter geleitet und somit über die Druckleitungen 402 und 403 in die Behandlungswanne 40 zurUckgeführt.The pressure lines 402 and 403 open into the bottom of the treatment tub 40 attached hollow ribs 404 and 405, which several lateral on the weir 44 and the overflow weir 46 have directed outlet openings 406 and 407, respectively. The treatment liquid exiting through the goods passage slots 408 and 409 on the end face 47 is via overflow chambers, not shown in the drawing, and corresponding Drain lines passed into the aforementioned storage and buffer tank and thus returned to the treatment tub 40 via the pressure lines 402 and 403.

Bei den vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispielen wurde Jeweils nur der Aufbau einer Behandlungswanne erläutert. Meist werden jedoch mehrere derartiger Behandlungswannen hintereinander angeordnet, so daß die Waren nacheinander verschiedene Vorbehandlungs- und Galvanisierbäder durchlaufen können. Sämtliche Bauteile, die mit den Behandlungsflüssigkeiten in Berührung kommen, bestehen aus badresistenten Werkstoffen. Ein geeigneter Werkstoff für die Behandlungswannen, Uberfallwehre, Leitplatten und Rohrleitungen, welcher gegen die üblichen Bäder wie Gold- oder Nickelbäder resistent ist, ist beispielsweise Polypropylen. Als Werkstoff für die Anoden wird bei einem Au-Bad beispielsweise platiniertes Titan verwendet. Anstelle der in den Zeichnungen dargestellten Anodenplatten können jedoch auch sogenannte Anodenkörbe in die jeweiligen Behandlungswannen eingehängt werden. So werden beispielsweise bei der Plattierung mit Nickel Anodenkörbe aus Titan verwendet, welche mit Nickelkugeln gefüllt sind.In the above-described exemplary embodiments, in each case only the structure of a treatment bath is explained. Usually, however, there are several of these Treatment tubs arranged one behind the other, so that the goods are different one after the other Can pass through pretreatment and electroplating baths. All components that that come into contact with the treatment fluids consist of bath-resistant Materials. A suitable material for the treatment tanks, hold-up weirs, Guide plates and pipelines, which against the usual baths such as gold or nickel baths resistant is, for example, polypropylene. The material used for the anodes is in an Au bath, for example, platinum-coated titanium is used. Instead of the However, the anode plates shown in the drawings can also be referred to as anode baskets be hung in the respective treatment tubs. For example When plating with nickel, anode baskets made of titanium are used, those with nickel balls are filled.

Die vorstehend beschriebenen Plattiervorrichtungen sind für das bereichsweise elektrolytische Plattieren von Systemträgerbändern für Halbleiterbauelemente besonders geeignet. So können beispielsweise mit der in den Fig. 3 und 4 dargestellten Plattiervorrichtung 14800 Systemträgereinheiten pro Stunden partiell plattiert werden.The plating devices described above are for the regional electrolytic plating of system carrier tapes for semiconductor components in particular suitable. For example, with the plating device shown in FIGS 14800 system carrier units can be partially clad per hour.

7 Patentansprüche 5 Figuren L e e r s e i t e7 claims 5 figures L e r s e i t e

Claims

Claims 1. Device for electrolytic in areas Plating of continuously moving goods, in particular system carriers for Semiconductor components, with at least one arranged along a goods transport path Treatment tub, the end walls of which have slots for goods to pass through, at least one anode arranged in the treatment tank and one on the pressure side of the treatment tank connected circulation pump to reclaim the emerging from the treatment tub Treatment liquid, that is, that on the der Anode (11, 25, 26) opposite side of the goods transport path (3, 21, 22) Overflow weir aligned essentially parallel to the goods transport path (3, 21, 22) (12, 27, 28) is arranged.

2. Apparatus according to claim 1, characterized in that the Overflow weir (12, 27, 28) extends over the entire length of the treatment tub (1, 20).

3. Apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the circulation pump on the pressure side to one arranged in the treatment tub (1, 20) Deflection element (109, 210) is connected, the deflection element (109, 210) at least has an outlet opening (110, 211) directed towards the anode (11, 25).

4. Device according to one of the preceding claims, characterized in that that at least one additional goods transport path (22) with the associated goods passage slots (206, 409) is provided in the end walls (202) of the treatment tub (20, 40) and that on opposite sides of the additional goods transport path (22) one additional anode (25, 45) and one essentially parallel to the additional goods transport path (22) aligned additional overflow weir (28, 46) are arranged.

5. Apparatus according to claim 4, characterized in that the weir (27) and the additional overflow weir (28) to form a graduated water level have different heights.

6. Apparatus according to claim 4 or 5, characterized in that the additional weir (28, 46) over the entire length of the treatment tub (20, 40) extends.

7. Device according to one of claims 4 to 6, characterized in that that the circulation pump is also connected to a pressure side in the treatment tank (40) additional deflection element (405) is connected, the additional deflection element (405) at least one outlet opening directed towards the additional anode (45) (407) possesses.