DE2707023A1

DE2707023A1 - Eddy current measurement of surface roughness of nonferrous metals - uses Clapp oscillator and compensates conductivity effect using test coil and adjustable capacitor

Info

Publication number: DE2707023A1
Application number: DE19772707023
Authority: DE
Inventors: Gerd Dipl Ing Roedel; Dietmar Dipl Ing Dr Schab; Werner Dipl Ing Dr Willmann
Original assignee: Mansfeld Kombinat Wilhelm Pieck VEB
Current assignee: Mansfeld Kombinat Wilhelm Pieck VEB
Priority date: 1976-02-20
Filing date: 1977-02-18
Publication date: 1977-08-25
Also published as: DD124326A1

Abstract

The device uses the eddy current method to measure the surface roughness of non-ferrous metals, particularly electrolytically deposited copper. The analogue frequency measurement uses a Clupp oscillator, so adjusted that for a smooth surface the test probe registers a frequency of 1 MHz. To compensate for the oscillator is used in a feed back loop. Induction changes in the test cost (7) cause determining of the oscillator which is compensated by an adjustable capacitor (6). The capacitor is calibrated in terms of smoothness depth (Rp).

Description

Anordnung zur Messung der Oberflächenrauhigkeit vonArrangement for measuring the surface roughness of

NE-Metallen Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Messung der Oberflächenrauhigkeit von NE-Metallen, insbesondere elektrolytisch abgeschiedener KupferniederschitLge.Non-ferrous metals The invention relates to an arrangement for measuring the Surface roughness of non-ferrous metals, especially electrodeposited Copper precipitates.

Bekannt geworden sind eine Vielzahl von Rauhigkeitsmeßgeräten auf der Grundlage von optischen, mechanischen, elektrischen und pneumatischen Oberflächenmeßverfahren sowie Abdruck- und Immersionsverfahren.A large number of roughness measuring devices have become known the basis of optical, mechanical, electrical and pneumatic surface measurement methods as well as impression and immersion processes.

Nachteil der optischen, mechanischen und pneumatischen Verfahren ist, daß zur Durchführung der Messung umfangreiche Vorarbeiten notwendig sind und der Prüfling meist in eine feste Halterung eingespannt werden muß. Das bedeutet, daß diese Verfahren nur schnelle Betriebamessungen und fur große Prüfstücke ungeeignet sind. Bei den Abdruck- oder 1-nersionsverfahren wird von der Oberfläche eine Kopie angefertigt, die dann weiter nach eine optischen* mechanischen oder pneumatischen Verfahren ausgemessen werden kann.The disadvantage of the optical, mechanical and pneumatic processes is that extensive preparatory work is necessary to carry out the measurement and the The test object usually has to be clamped in a fixed holder. It means that these methods only provide rapid operational measurements and are unsuitable for large test pieces are. With the impression or 1-inversion process, a copy is made of the surface made, which then goes on to an optical * mechanical or pneumatic Procedure can be measured.

Als elektrisches Verfahren ist das Kondensatorverfahren bekannt geworden. Hierbei wird eine flächenförmige Meßelektrode mit einem bekannten Dielektrikum als Zwischenschicht auf den Prüfling aufgesetzt. Die Kapazität des Kondensators, den beide flächen gegeneinander bilden, berechnet man nach wobei A - die Fläche der Meßelektrode und d - der Abstand zwischen Meßelektrode und Prüfling sind.The capacitor method has become known as an electrical method. Here, a flat measuring electrode with a known dielectric as an intermediate layer is placed on the test object. The capacitance of the capacitor, which both surfaces form against each other, is recalculated where A - the area of the measuring electrode and d - the distance between the measuring electrode and the test object.

Weist der Prüfling eine Oberflächenrauhigkeit auf, dann wird d der mittlere Abstand zwischen beiden Elektroden. Dieser mittlere Abstand ist definitionsgemäß gleich der Glättungstiefe Rp als mittlerer Abstand zwischen Oberflächenprofil und Hüllinie (bzw. Hüllfläche). Allerdings bleibt hierbei der Einfluß des flächeninhaltes der wirksamen Elektrodenfläche noch ungeklärt.If the test object has a surface roughness, then d becomes the mean distance between both electrodes. This mean distance is by definition equal to the smoothing depth Rp as the mean distance between the surface profile and Envelope line (or envelope surface). However, the influence of the area remains the effective electrode area is still unclear.

Bei Vorhandensein einer Rauhigkeit des Pruflings ist bekanntlich die wirkliche Oberfläche nicht mehr gleich der geometrischen Fläche zu setsen. Da sich der Flächeninhalt der wirklichen fläche, abhängig von der Profilform, mit zunehmender Rauhigkeit ebenfalls vergrößert, ist diesee Verfahren nicht anwend~ bar.In the presence of a roughness of the test specimen is known to be the The real surface can no longer be set equal to the geometric surface. That I the area of the real area, depending on the profile shape, increases with If the roughness is also increased, this method cannot be used.

Bekannt ist auch das Wirbelstromverfahren sur Messung von Schichtdicken, dabei wird eine Meßspule, die einen ganz bestimmten Scheinwiderstand ZL = RL + jwLL (L = Luft) besitzt, von einem Wechselstrom durchflossen. Wird die Meßspule auf ein elektrisch leitendes Material aufgesetzt, so werden in derem Inneren Wirbelströme erzeugt. Diese Wirbelströme sind abhängig von der Frequenz des primären Wechselstromes, von der spezifischen Leitfähigkeit, der relativen Peraeabilität und der Dicke des Probematerials und vom Spulenabstand zum Probematerial. Die Wirbelatröme ihrerseits erzeugen ein sekundäres magnetisches Weohselfeld, welches auf die Meßspule zurückwirkt und somit die elektrischen Eigenschaften der Meßspule ändert. Die Größe der Rttokwirkung ist noch einmal abgängig vom Spulenabstand. Die Änderung der elektrischen Eigenschaften der Meßspule äußert sich in einer Änderung ihres Scheinwiderstandes, dieser wird jetzt Zµ = Rµ + jwLµ (µ = leitfähiges Material). Günstig ist hierbei, daß die obengenannten Faktoren, die die Ausbildung der Wirbelströme beeinflussen, jeweils eine andere, ihr spezifische Änderung des Scheinwiderstandes sur Polge haben. Man kann also in der Scheinwiderstandsebene Ortskurven konstruieren, die die Materialeigenschaften und den Spulenabstand als Parameter besitzen.The eddy current method for measuring layer thicknesses is also known, a measuring coil, which has a very specific impedance ZL = RL + jwLL (L = air) has an alternating current flowing through it. If the measuring coil is on When electrically conductive material is placed on it, eddy currents are generated inside generated. These eddy currents are dependent on the frequency of the primary alternating current, on the specific conductivity, the relative permeability and the thickness of the Sample material and from the coil distance to the sample material. The eddy currents for their part generate a secondary magnetic Weohselfeld, which reacts on the measuring coil and thus changes the electrical properties of the measuring coil. The size of the reaction is once again dependent on the coil spacing. The change in electrical properties the measuring coil manifests itself in a change in its impedance, this will now Zµ = Rµ + jwLµ (µ = conductive material). It is advantageous here that the above Factors that influence the formation of eddy currents, each a different one, their specific change in impedance sur Polge. So you can in Construct locus curves of the impedance level that reflect the material properties and have the coil spacing as a parameter.

Will man nur eine der angefhhrten Materialeigenschaften messen, dann müssen die Komponenten der restlichen in geeigneter Weise kompensiert werden.If you only want to measure one of the listed material properties, then the components of the rest must be compensated for in a suitable manner.

Rauhigkeitsmessungen sind mit diesem Verfahren bislang noch nicht beschrieben oder ausgeführt worden, im Gegenteil, die Rauhigkeit des Materials wird als Störgröße angegeben.This method has not yet been used to measure roughness described or executed, on the contrary, the roughness of the material becomes specified as a disturbance variable.

Zweck der Erfindung ist eine Anordnung, welche es gestattet, einfach und sicher Obertlichenrauhigkelten von NE-Metallen, insbesondere elektrolytisch abgeschiedener Kupferniederschläge, zu messen.The purpose of the invention is to provide an arrangement that allows simple and certainly the surface roughness of non-ferrous metals, especially electrolytic of deposited copper precipitates.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Anordnung zu schaffen, die es ermbglicht, auch große Oberflächenrauhigkeiten großer aus NE-Metallen bestehender Prüflinge ohne umfangreiche Vorarbeiten zur Durchführung der Messungen sowie unter Verzicht des Einspannens der Prüflinge in Halterungen zu bestimmen, wobei das Rauheitsmaß tiefe Risse und deren Häufigkeit berücksichtigt.The invention is based on the object of creating an arrangement which enables large surface roughness of large non-ferrous metals DUTs without extensive preparatory work to carry out the measurements as well as under Refrain from clamping the test specimens in brackets to determine the degree of roughness deep cracks and their frequency are taken into account.

Es wurde überraschenderweise gefunden, daß es möglich ist, mit Hilfe von Wirbelströmen die Oberflächenrauhigkeit von RE-Metallen zu messen. Dabei ist von folgenden Überlegungen ausgegangen wordens Mißt man zusätzlich die Scheinwiderstände fur verschiedene Rauhigkeiten, so ergibt sich eine Punkteschar, die in der Scheinwiderstandsebene zwischen der Abstandskomponente a und der Leitfähigkeitskomponente K liegt. Daraus wurde geschlußfolgert, daß sich der Rauhigkeitseinfluß aus einer Abstand komponente und einer Leitfähigskomponente zusammensetzt.It has surprisingly been found that it is possible to use of eddy currents to measure the surface roughness of RE metals. It is The following considerations are based on the assumption that the apparent resistances are also measured for different roughness, the result is a set of points in the impedance level between the spacing component a and the conductivity component K. From it it was concluded that the roughness influence is from a distance component and a conductive component.

Zur Abstandskomponente kommt es dadurch, daß die Meßspule, indem sio auf mindestens drei der höchsten Punkte aufsitzt, über der rauhen Metalloberfläche eine Hüllfläche bildet.The distance component occurs because the measuring coil by sio sits on at least three of the highest points, above the rough metal surface forms an envelope surface.

Durch Integrationswirkung erhält man nun ähnlich der Glittungstiefe den mittleren Abstand zwischen der Meßspule und der unter ihr liegenden Metalloberfläche ein Rauheitsmaß, das als elektrische Glättungstiete Rp* bezeichnet werden soll.Due to the integration effect, one now obtains a depth similar to that of the sliding depth the mean distance between the measuring coil and the metal surface below it is a measure of roughness which is to be referred to as the electrical smoothing surface Rp *.

Die Leitfähigkeitskomponente hat folgende Ursache: Bei sehr kleinen Eindringtiefen der Wirbelströme (abhängig von der Meßfrequenz) kommt es an der Metalloberfläche aufgrund der Rauhigkeit zu Störungen der Wirbelstromausbildung und damit zu einer Vergrößerung des elektrischen Widerstandes, was sich wiederum in einer Verkleinerung der Leitfähigkeit ausdrückt. Die Leitfähigkeitskomponente kann mit bereits bekannten magnetinduktiven Leitfahigkeitsmeßgeräten ermittelt werden, da hierbei die Abstandskomponente weitgehend unterdrUckt wird.The conductivity component has the following cause: With very small Penetration depths of the eddy currents (depending on the measuring frequency) occur on the metal surface due to the roughness to disturbances of the eddy current formation and thus to a Increase in electrical resistance, which in turn results in a reduction in size which expresses conductivity. The conductivity component can be with already known Magnetic inductive Leitfahigkeitsmeßgeräte be determined, since this is the distance component is largely suppressed.

ir die Abstandskomponente, der die elektrische Glättungstiefe Rp* gleichzusetzen ist, wurde nun ein Meßgerät entwickelt, welches einen breiteren Bereich der Leitfähigkeitskompensation besitzen muß, da die Leitfähigkeitskomponente für große Rauhigkeiten bis auf (10 ... 20 %) des Normalwertes absinken kann.ir is the distance component that defines the electrical smoothing depth Rp * is to be equated, a measuring device has now been developed which covers a broader range the conductivity compensation must have, since the conductivity component for large roughness can drop to (10 ... 20%) of the normal value.

F!ir die verwendete Meßspule wurde die Frequenz auf 1 MHz festgelegt. Hierbei kann gleichzeitig der Dickeneinfluß des Probematerials vernachlässigt werden, da bei hohen Frequenzen die Eindringtiefe der Wirbelströme sehr klein wird. Sie beträgt bei 1 XHz materialabhängig ca. (50 ... 200) ßxm. Für die Mindestdicke des Prüflings rechnet man dann etwa den zehnfachen Wert.The frequency for the measuring coil used was fixed at 1 MHz. At the same time, the influence of the thickness of the sample material can be neglected, because at high frequencies the penetration depth of the eddy currents becomes very small. she At 1 XHz, depending on the material, is approx. (50 ... 200) ßxm. For the minimum thickness of the The test item is then calculated about ten times the value.

Der Einfluß der relativen Permeabilität verschwindet ohnehin fUr alle NE-Metalle. Es bleibt vorerst lediglich ein kleiner Leitfähigkeitsanteil.The influence of the relative permeability disappears for all anyway Non-ferrous metals. For the time being, only a small amount of conductivity remains.

In Abweichung zu den üblicherweise verwendeten Meßanordnungen, wo die Scheinwiderstandsänderung der Meßspule mit Hilfe einer Meßbrücke ermittelt wird, ist erfindungsgemu eine andere Methode angewendet worden. Da die Änderung der Blindkomponente des Scheinwiderstandes, was einer Induktivitätsänderumg der Meßspule gleichkommt, bereits eine ausreichende Aussage bringt, wurde das Prinzip des Oszillators ausgewählt, bei dem die Meßspule Teil des Schwingkreises ist. Die frequenz liegt nach der Beziehung rest und kann einfach mit einem Digital zähler auf t 1 Hz genau gemessen werden.In contrast to the measuring arrangements usually used, where the change in impedance of the measuring coil is determined with the aid of a measuring bridge, a different method has been used according to the invention. Since the change in the reactive component of the impedance, which is equivalent to a change in the inductance of the measuring coil, already provides sufficient information, the principle of the oscillator was selected in which the measuring coil is part of the resonant circuit. The frequency is according to the relationship rest and can easily be measured with a digital counter with an accuracy of t 1 Hz.

Als Oszillator wurde ein Clapp-Oszillator gewählt, der 80 eingestellt ist, daß bei glatter Oberfläche RpOu (Vergleichsprobe) die Frequenz genau 1 MHz beträgt. Wird nun die Meßspule auf eine rauhe Probe aufgesetzt, so vergrößert sich ihre Induktivität entsprechend der Rauhigkeitskomponente in der Scheinwiderstandsebene, und die angezeigte Frequenz wird kleiner sein. Mit Hilfe des Rückkoppelnetzwerkes kann erreicht werden, daß die Wirkkomponente der Meßspule als Teil des Schwingkreises ebenfalls eine Prequengänderung bewirkt. Dieser Effekt, der bei Oszillatoren eigentlich unerwunsoht ist, wurde hier durch geeignete Wahl des RUekkoppeltaktors zur Kompensation des Leitfähigkeitseffektes ausgenutzt. Die Verkleinerung der Prequenz durch den Blind anteil der Leitfähigskomponente wird infolge Frequenzerhöhung durch den Wirkanteil der Leitfähigkeitskomponente wieder aufgehoben, so daß nur noch die Abatandakomponente und damit die elektrische Glättungstiefe zur Anzeige kommen.A Clapp oscillator was chosen as the oscillator and set to 80 is that with a smooth surface RpOu (comparison sample) the frequency is exactly 1 MHz amounts to. If the measuring coil is now placed on a rough sample, it increases in size their inductance according to the roughness component in the impedance level, and the displayed frequency will be smaller. With the help of the feedback network can be achieved that the active component of the measuring coil as part of the resonant circuit also causes a prequing change. This is the effect that actually works with oscillators is undesirable, a suitable choice of the feedback actuator was used for compensation the conductivity effect exploited. The reduction of the frequency by the The reactive component of the conductive component becomes due to the frequency increase due to the active component the conductivity component is canceled again, so that only the abatanda component and thus the electrical smoothing depth is displayed.

Die Vorteile der erfindungsgemäßen Lösung gegenüber bekannten Verfahren liegen darin, daß die Messung der Oberflächenrauhigkeit (elektrische Glättungstiefe Rp*) von NE-Metallen nach der Wirbelstrommethode schnell und sicher, ohne besondere Vorbereitungen, im Betrieb möglich ist. Iußerda ist die Vorrichtung als Schichtidickenmeßgerät fur nichtleitende Schichten auf NE-Metallen anwendbar. In beiden Pällen macht die Art des Probematerials keine besondere Kalibrierung erforderlich.The advantages of the solution according to the invention over known methods lie in the fact that the measurement of the surface roughness (electrical smoothing depth Rp *) of non-ferrous metals using the eddy current method quickly and safely, without any special Preparations, in operation is possible. Outside there is the device as Layer thickness measuring device for non-conductive layers on non-ferrous metals. In The type of sample material does not require any special calibration for both balls.

Die Erfindung soll nachstehend an drei Ausführungsbeispielen näher erläutert werden.The invention is to be described in more detail below using three exemplary embodiments explained.

Die zugehörigen Zeichnungen zeigen: fig. 1: Ortskurven des Scheinwiderstandes der Meßspule bei konstanter Frequenz des primären Wechselstromes; Pig. 2s Veranschaulichung zur Formel Fig. 3t Schaltung zur Messung der elektrischen Glättungstiefe durch Anzeige an einem Drehkondensator; Pig. 4a Prinzipschaltbild zur direkten Anzeige der elektrischen Glättungstiefe.The accompanying drawings show: fig. 1: Locus curves of the impedance of the measuring coil at a constant frequency of the primary alternating current; Pig. 2s illustration of the formula 3t circuit for measuring the electrical smoothing depth by display on a variable capacitor; Pig. 4a Schematic diagram for direct display of the electrical smoothing depth.

Beispiel 1 (Fig. 1 und 2): Der Scheinwiderstand einer Meßspule fUr Luft ist ZT. = RT. + jwlT. 1.Example 1 (Fig. 1 and 2): The impedance of a measuring coil for Air is ZT. = RT. + jwlT. 1.

Nach dem Aufsetzen auf ein NE-Metall wird der Scheinwiderstand der Meßspule für leitfähige Mateiralien Zµx = Rµx + jwLµx 2; 2'; 2''. In der Scheinwiderstandseben sind die Punkte durch verschiedene Ortskurven, abhängig vom Jeweiligen Parameter, miteinander verbunden. Von den Punkten Zµx 21 2'; 2" gelangt man mit zunehmendem Abstand a entlang den Abstandeortekurven 31 3'1 3'' zum Punkt ZL 1 und entsprechend bei abnehmender Leitfähigkeit K entlang den Leitfähigkeisortskurven 4; $ 4'; $''. bei zunehmender Rauhigkeit ergibt sich nun, vom Jeweiligen Grundmaterial Zµx 2; 2'; 2" ausgehend, eine gemittelte Ortakurve für die Rauhigkeit 5. Die Meßpunkte 5' für verschiene Probekörper selbst liegen in der Soheinwiderstandeebene zwischen der Abstandsrichtung und der Leitfähigkeitsrichtung statisch verteilt, da der Jeweilige Meßpunkt durch geometrische Addition der Abstandskomponente 3"' und der Leitfähigkeitskomponente 4"' entsteht und abhängig von der Profilform Abstandseffekt und Leitfähigkeitseffekt unterschidliche Größernverhältnisse aufweisen kann. Zur Messung der Abstandskomponente 3''' als elektrische Glättungstiefe muß nun die Leitfähigkeitskomponente 4''' in der bereits angegebenen Weise kompensiert werden, indem die Verkleinerung der Frequenz durch den Blindanteil 4** der Leitfähigkeitskomponente 4''' infolge Frequenzerhöhung durch den Wirkanteil 4* der Leitfähigkeitskomponente 4''' wieder aufgehoben wird.After placing it on a non-ferrous metal, the impedance becomes the Measuring coil for conductive materials Zµx = Rµx + jwLµx 2; 2 '; 2 ''. In the impedance level the points are represented by different locus curves, depending on the respective parameter, connected with each other. From the points Zµx 21 2 '; 2 "is reached with increasing Distance a along the distance location curves 31 3'1 3 "to point ZL 1 and accordingly with decreasing conductivity K along the conductivity locus 4; $ 4 '; $ ''. with increasing roughness it now results from the respective base material Zµx 2; 2 '; 2 ", an averaged Ortakurve for the roughness 5. The measuring points 5 'for various test specimens themselves lie between in the level of resistance the direction of distance and the direction of conductivity statically distributed because the respective Measuring point by geometrically adding the distance component 3 "'and the conductivity component 4 "'arises and, depending on the profile shape, spacing effect and Conductivity effect may have different size ratios. For measuring the distance component 3 '' 'as the electrical smoothing depth must now be the conductivity component 4' '' in the way already indicated can be compensated by reducing the frequency by the reactive portion 4 ** of the conductivity component 4 '' 'as a result of an increase in frequency is canceled again by the active component 4 * of the conductivity component 4 '' '.

BeisDiel 2 (Fig. 3) Bei dieser Anordnung wird ein Schwingkreis mit einem Drehkondensator 6 ausgelegt. Dadurch kann die Verstimmung des Oszillators, hervorgerufen durch die Induktivitätsänderung der Meßspule 7, mit Hilfe des Drehkondensators 6 wieder ausgeglichen werden. Das heißt, der Drehkondensator 6 wird so lange verstellt, bis die Frequenz, an einem Prequenzmesser (8) angezeigt, wieder 1 MEz beträgt. Durch Eichung des Kondensatordrehwinkels auf R?-Werte kann so die Ablesung erfolgen.BeisDiel 2 (Fig. 3) With this arrangement, an oscillating circuit is used a variable capacitor 6 designed. This can cause detuning of the oscillator, caused by the change in inductance of the measuring coil 7, with the aid of the variable capacitor 6 can be balanced again. That is, the variable capacitor 6 is adjusted as long as until the frequency, displayed on a frequency meter (8), is 1 MEz again. By The reading can then be calibrated to the R? Values.

Beisniel 3 (fig. 4) Für diese Anordnung werden zwei Oszillatoren benötigt. Ein Meßoszillator 9, dessen Frequenz beim Aufsetzen der Meßspule auf eine glatte Oberfläche (Vergleichsprobe) auf 1 MEz eingestellt wird. Bei einer rauhen Probe bewirkt nun die Induktivitätsänderung entsprechend der Abstandskomponente der Rauhigkeit eine Verkleinerung der Frequenz. Bin zweiter Oszillator 10, dessen Frequenz fest auf 1 MHz eingestellt ist, liefert die Vergleichsfrequenz. Aus beiden Frequenzen wird mit Hilfe einer Mischstufe 11 die Differenzfrequenz gebildet. Diese Differenzfrequenz f wird nach der Ausfilterung durch einen Tiefpaß 12 an einem Frequenzmesser 8 angezeigt. Der Frequenzmesser 8 kann näherungsweise durch die Beziehung Bp« = k .Example 3 (fig. 4) Two oscillators are required for this arrangement. A measuring oscillator 9, the frequency of which when the measuring coil is placed on a smooth Surface (comparison sample) is set to 1 CET. With a rough sample now causes the change in inductance according to the distance component of the roughness a decrease in frequency. Am second oscillator 10, the frequency of which is fixed is set to 1 MHz, provides the comparison frequency. From both frequencies the difference frequency is formed with the aid of a mixer 11. This difference frequency After filtering out, f is displayed on a frequency meter 8 by a low-pass filter 12. The frequency meter 8 can approximately by the relationship Bp «= k.

auf Werte der elektrischen Glättungstiefe geeicht werden.be calibrated to values of the electrical smoothing depth.

Die Auflösung betrug für die verwendete Meßspule 150 pH 1/k = 300 Hz/µm.The resolution for the measuring coil used was 150 pH 1 / k = 300 Hz / µm.

Allerdings ist auch eine genaue Eichung mit Abstandslehren möglich.However, an exact calibration with distance gauges is also possible.

Claims

Claims 1. Arrangement for measuring the surface roughness of non-ferrous metals, in particular electrolytically deposited copper deposits, according to the eddy current method, characterized in that the measurement is frequency-analog takes place by means of a Clapp oscillator, the Clapp oscillator is set in such a way that that with a smooth surface of a reference sample, the frequency is 1 XHz; the compensation of the conductivity effect takes place in that the active component an Xeßspule (7) as part of the resonant circuit by means of the feedback network also causes a frequency change and the detuning of the oscillator caused due to changes in the inductance of the measuring coil (7) by means of a variable capacitor (6), whose angle of rotation is calibrated to smoothing depth values is compensated.

2. Arrangement for measuring the surface roughness of non-ferrous metals, in particular electrolytically deposited copper deposits, using the eddy current method, characterized in that the frequency of a measuring oscillator (9) and the frequency a fixed frequency oscillator (10) in a mixer (11) the difference frequency and this on a frequency meter calibrated to smoothing depth values (8) is displayed.