Claims (9)
Patentansprüche:Patent claims:
Ein nichtflüchtiges Speichersystem mit einem Substrat (18),
das Potentialtöpfe (16) eines erstell Verunreinigungstyps
enthält, in denen Feldeffektvorrichtungen (21) eines zweiten
Verunreinigungstyps angeordnet sind, die nichtflüchtige Speicherzellen bilden, wobei das Substrat (18) vom zweiten
Verünreinigungstyp ist, dadurch gekennzeichnet, daß im Substrat (18) eine Bezu^spotentialgeneratorvorrichtung (6) ausgebildet
ist, die geeignet ist, ein Bezugspotential zu erzeugen; und daß eine Steuerschaltung (11) zum Prüfen der Schwellenwerte und des
Lesebezugspotentials der nichtflüchtigen Speicherzellen (21) vorgesehen ist, wobei die Steuerschaltung (11) enthält:
Kopplungsvorrichtungen, die geeignet sind, selektiv das Bezugspotential zu den Gate-Elektroden gewählter Speicherzellen
(21) in zeitlicher Korrespondenz mit einer Verbindung von gewählten Potentialtöpfen (16) für die gewählten Speicherzellen
(21) mit einem ersten Substratknoten (VW) zu koppeln, der ein erstes Potential bietet; erste Befähigungsvorrichtungen, die
geeignet sind, die Messung des Bezugspotentials an einem zweiten Substratknoten (IN2) zu ermöglichen, der auf ein
Steuersignal anspricht, das durch einen dritten Substratknoten (&Igr;&Ngr;&Idigr;) angelegt wird; und zweite Befähigungsvorrichtungen, dieA non-volatile memory system with a substrate (18)
which contains potential wells (16) of a first impurity type
in which field effect devices (21) of a second
impurity type are arranged, which form non-volatile memory cells, the substrate (18) being of the second
impurity type, characterized in that a reference potential generator device (6) is formed in the substrate (18)
which is suitable for generating a reference potential; and that a control circuit (11) is provided for checking the threshold values and the
read reference potential of the non-volatile memory cells (21), the control circuit (11) comprising:
coupling devices suitable for selectively coupling the reference potential to the gate electrodes of selected memory cells
(21) in temporal correspondence with a connection of selected potential wells (16) for the selected memory cells
(21) to a first substrate node (VW) offering a first potential; first enabling devices suitable for enabling the measurement of the reference potential at a second substrate node (IN2) responsive to a
control signal applied by a third substrate node (�I�N�Idigr;); and second enabling devices which
auf ein Speicherschwellenwert-Testbetriebsarteinschaltsignal an einem vierten Substratknoi:en (IN3) ansprechen und geeignet
sind, selektiv die Messung von Speicherzellen-Schwellenwertpotentialen
eines ersten Polaritättyps zu ermöglichen entsprechend einem ersten in einer Zelle (21)
gespeicherten Binärzustand durch Anlegen,eines ersten
PotentialtopfVorspannpotentials durch den dritten
Substratknoten (INI) an ausgewählte Potentialtöpfe (16) und
durch Anlegen eines Schwellenwertprüfpotentials durch den zweiten Substratknoten (IN2) an die Gate-Elektrode von
gewählten Speicherzellen (21), und zum selektiven Ermöglichen der Messung von Speicherzellen-Schwellenwertpotentialen eines
zweiten Polaritätstyps entsprechend einem zweiten in einer Zelle (21) gespeicherten Binärzustand durch Anlegen eines
zweiten Potentialtopfvorspannungspotentials über den dritten Substratknoten (INI) an ausgewählte Potentialtöpfe (16) und
durch Anlegen eines Schwellenwertprüfpotentials durch den zweiten Substratknoten (IN2) an die Gate-Elektroden gewählter
Speicherzellen (21).responsive to a memory threshold test mode enable signal at a fourth substrate node (IN3) and adapted to selectively enable measurement of memory cell threshold potentials of a first polarity type corresponding to a first binary state stored in a cell (21) by applying a first well bias potential through the third substrate node (INI) to selected wells (16) and by applying a threshold test potential through the second substrate node (IN2) to the gate electrode of selected memory cells (21), and to selectively enable measurement of memory cell threshold potentials of a second polarity type corresponding to a second binary state stored in a cell (21) by applying a second well bias potential through the third substrate node (INI) to selected wells (16) and by applying a threshold test potential through the second substrate node (IN2) to the gate electrodes of selected
memory cells (21).
2. Nichtflüchtiges Speichersystem nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das Schwellenwertprüfpotential sowohl
positiv als auch negativ bezüglich Substratmasse variiert.2. A non-volatile memory system according to claim 1, characterized in that the threshold test potential varies both positively and negatively with respect to substrate mass.
3. Nichtflüchtiges Speichersystem nach Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß eine Vielzahl von Speicherzellen in einem gemeinsamen Potentialtopf (16) angeordnet ist, welcher
Potentialtopf elektrisch verbunden ist mit dem ersten
Substratknoten (VW) durch eine erste Feldeffekt-Schaltvorrichtung (M21).3. Non-volatile memory system according to claim 2, characterized in that a plurality of memory cells are arranged in a common potential well (16), which potential well is electrically connected to the first substrate node (VW) through a first field effect switching device (M21).
4. Nichtflüchtiges Speichersystem nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die erste Feldeffektschaltvorrichtung (M21) auf das Potential des Speicherschwellenwert-Testbetriebsartbefähigungssignals
an dem vierten Substratknoten (IN3) anspricht.4. Non-volatile memory system according to claim 3, characterized in that the first field effect switching device (M21) is responsive to the potential of the memory threshold test mode enable signal at the fourth substrate node (IN3).
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5. Nichtflüchtiges Speichersystem nach Anspruch 4, dadurch
gekennzeichnet, daß die eräte Feldeffektschaltvorrichtung ein
Transistor (M21) ist, der in Reihe zwischen den ersten Substratknoten (VW) und die Potentialtöpfe (16) geschaltet ist,
welcher Transistor (M21) getrieben wird durch eine Schmitttrigger-schaltung
(33), die auf das Speicherschwellenwert-Testbetriebsartbefähigungssignal anspricht.5. Non-volatile memory system according to claim 4, characterized in that the field effect switching device is a transistor (M21) connected in series between the first substrate node (VW) and the potential wells (16), which transistor (M21) is driven by a Schmitt trigger circuit (33) responsive to the memory threshold test mode enable signal.
6. leichtflüchtiges Speichersystem nach Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die erste Befähigungsvorrichtung eine zweite Feldeffektschaltvorrichtung (M3) aufweist, die zwischen
der Bezugspotentialgeneratorvorrichtung (16) und den Gate-Elektröden
der Speicherzellen (2l) angeordnet ist und auf ein Befähigungssignal an dem vierten Substratknoten (IN3)
anspricht»6. volatile memory system according to claim 3, characterized in that the first enabling device comprises a second field effect switching device (M3) which is arranged between the reference potential generator device (16) and the gate electrodes of the memory cells (2l) and responds to an enabling signal at the fourth substrate node (IN3)
7. Nichtflüchtiges Speichersystem nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Befähigungsvorrichtung eine
dritte Feldeffektschaltvorrichtung (M8) aufweist, die Zwischen
den dritten Substratknoten (INI) und einem Potentialtopf (16) *
geschaltet ist, wobei die dritte Feldeffektschaltvorrichtung ;
(M8) auf ein Befähigungssignal an dem vierten Substratknoten (IN3) anspricht.7. Non-volatile memory system according to claim 6, characterized in that the second enabling device comprises a third field effect switching device (M8) connected between the third substrate node (INI) and a potential well (16) *, the third field effect switching device ( M8) responsive to an enabling signal at the fourth substrate node (IN3).
8. Nichtflüchtiges Speichersystem nach Anspruch 7, dadurch
gekennzeichnet, daß das erste Potentialtopf-Vorspannüngspbtential im wesentlichen Substratmasse und das
zweite Potentialtopf-Vorspannungssignal für die p-Typ-Verunreinigungspötentialtöpfe
negativ und für die n-Typ-Verünreinigun^spotentialtöpfe positiv ist.8. A non-volatile memory system according to claim 7, characterized in that the first potential well bias signal is substantially substrate ground and the second potential well bias signal is negative for the p-type impurity potential wells and positive for the n-type impurity potential wells.
9. Nichtflüchtiges Speichersystem nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Größe des zweiten Potentialtopf-Vorspannungspotentials
gleich oder größer als das Schwellenwertprüfpotential ist.9. The non-volatile memory system of claim 8, wherein the magnitude of the second well bias potential is equal to or greater than the threshold test potential.