DE2461928A1 - Chemical laser with a combustion or reaction chamber - has pipes separately supplying reagents diluent and a fluorine compound - Google Patents
Chemical laser with a combustion or reaction chamber - has pipes separately supplying reagents diluent and a fluorine compoundInfo
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Abstract
Description
"Verbrennungs- bzw. Reaktionsenergie gepumpter chemischer Laser" Die Erfindung betrifft einen Laser, insbesondere einen durch Verbrennungs- bzw. Reaktionsenergie gepumpten HF oder DF chemischen Laser. "Combustion or reaction energy of pumped chemical lasers" The invention relates to a laser, in particular a by combustion or Reaction energy pumped HF or DF chemical laser.
In chemischen Lasern vom HF- und DF-Typ reagieren Wasserstoff oder Deuterium und atomarer Fluor in einem gasförmigen Verdünnungsmittel, beispielsweise Stickstoff, Helium, etc., zur Bildung von Wasserstoff- und Deuteriumhalogeniden. Derartige kontinuierliche Laser lasen bei einem Druck von ungefähr 20 Torr oder niedriger aufgrund der angeregten Schwingungszustände der HF- oder DF-Moleküle. Der Übergang dieser angeregten HFM und DFM Moleküle über intermediäre Zustände auf den Grundzustand bewirkt das Lasen, wobei das ausgesendete Spektrum zwischen etwa 3,6 - 4,0,u für DF-Moleküle und zwischen etwa 2,6 - 2,9/u für HF-MolekUle liegt.In chemical lasers of the HF and DF types, hydrogen or react Deuterium and atomic fluorine in a gaseous diluent, for example Nitrogen, helium, etc., to form hydrogen and deuterium halides. Such continuous lasers read at a pressure of about 20 torr or less lower due to the excited oscillation states of the HF or DF molecules. The transition of these excited HFM and DFM molecules via intermediate states on the basic state is caused by reading, whereby the emitted spectrum is between approx 3.6 - 4.0, u for DF molecules and between about 2.6 - 2.9 / u for HF molecules.
Chemische HF- und DF-Laser sind bekannt oder vorgeschlagen und umfassen Vorrichtungen, wie sie beispielsweise in der US-PS 3 560 876 (J.R. Airey) beschrieben worden sind. Die Vorrichtung gemäß der oben genannten US-PS bildet atomaren Fluor für die lasende Reaktion dadurch, daß zuerst HC1 gebildet wird und die bei der HC1-Herstellung erzeugte Wärme durch eine Rohrwand weitergeleitet wird, um molekulares Fluor (F2) in atomares Fluor zu dissoziieren. Zunächst besteht kein direkter Kontakt zwischen dem molekularen Fluor und der HC1.RF and DF chemical lasers are known or proposed and include Devices such as those described in U.S. Patent No. 3,560,876 (J.R. Airey) have been. The device according to the above-mentioned US patent forms atomic fluorine for the lasing reaction in that HCl is formed first and that during HCl production generated heat is passed through a pipe wall to form molecular fluorine (F2) to dissociate into atomic fluorine. At first there is no direct contact between molecular fluorine and HC1.
Beim nachfolgenden Durchmischen und Reagieren der HC1 mit dem atomaren Fluor in dem Laserraum bzw. -hohlraum wird das lasende HF gebildet. In der oben genannten US-PS läuft die allgemeine Reaktion wie folgt ab: Vor dem Laserraum: Laserraum: Ein Nachteil der genannten Vorrichtung besteht darin, daß eine Temperatur von nur ungefähr 1275 0K postuliert wird; diese Temperatur liegt unterhalb der erforderlichen Temperatur zur vollständigen Dissoziation von Fluor. Ein weiterer Nachteil liegt darin, daß keine Materialien bekannt sind, die über einen langen Zeitraum den korrodierenden Wirkungen des Fluors und des atomaren Fluors bei den erforderlichen Dissoziationstemperaturen beim Wärmetransfer widerstehen. Ein alternatives Schema, das in der genannten US-PS beschrieben worden ist, ist von Airey in dem Artikel "A Supersonic Mixing Chemical Laser" von J.R. Airey und S.F.McKay, Applied Physics Letters, Seite 401, 15. Dezember 1969, veröffentlicht worden. Hierbei wird zur Herstellung von atomarem Fluor ein Stoßrohr (shock tube) verwendet, wobei jedoch der kontinuierliche Betrieb begrenzt ist. In der Veröffentlichung wird festgestellt, daß die Dauer des kontinuierlichen Betriebes auf ungefähr 1,8 Millisekunden begrenzt ist, und eine konstante Leistung etwa 1 Millisekunde lang abgegeben wird.During the subsequent mixing and reaction of the HC1 with the atomic fluorine in the laser space or cavity, the lasing HF is formed. In the US-PS mentioned above, the general reaction is as follows: In front of the laser room: Laser room: A disadvantage of the device mentioned is that a temperature of only approximately 1275 ° K is postulated; this temperature is below the temperature required for complete dissociation of fluorine. Another disadvantage is that no materials are known which withstand the corrosive effects of fluorine and atomic fluorine over a long period of time at the required dissociation temperatures during heat transfer. An alternative scheme, which is described in said US-PS, has been published by Airey in the article "A Supersonic Mixing Chemical Laser" by JR Airey and SFMcKay, Applied Physics Letters, p. 401, December 15, 1969. A shock tube is used to produce atomic fluorine, but continuous operation is limited. The publication states that the duration of continuous operation is limited to about 1.8 milliseconds and constant power is delivered for about 1 millisecond.
Kontinuierliche chemische Laser, die zur Herstellung von atomarem Fluor einen elektrischen Bogen verwenden, sind in "Comparison of HF and DF Continuous Chemical Laser" von Donald J. Spencer, Harold Mirels und Theodore A. Jacobs, Applied Physics Letters, 15. Mai 1970, veröffentlicht worden.Continuous chemical lasers used to produce atomic Fluorine using an electric arc are described in "Comparison of HF and DF Continuous Chemical Laser "by Donald J. Spencer, Harold Mirels, and Theodore A. Jacobs, Applied Physics Letters, May 15, 1970.
Der Nachteil der von Spencer et al. veröffentlichten Vorrichtung liegt darin, daß elektrische Energie zur Bereitstellung der Dissoziationsenergie für das Fluor benötigt wird; für bestimmte Zwecke mag es wünschenswert sein, eine Vorrichtung von kleinerer Größe und kleinerem Aufbau als der beschriebenen zur Verfügung zu haben.The disadvantage of the Spencer et al. published device lies in that electrical energy to provide the dissociation energy for the Fluorine is needed; for certain purposes it may be desirable to have a device of a smaller size and structure than the one described to have.
Deswegen liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen chemischen Laser und ein Verfahren für dessen Betrieb bereitzustellen, in dem durch Verbrennung bzw. chemische Reaktion atomares Fluor durch inniges Mischen mit und Dissoziation einer Fluorverbindung hergestellt wird.Therefore, the invention is based on the object of a chemical Laser and a method for its operation to provide, in which by combustion or chemical reaction of atomic fluorine through intimate mixing with and dissociation a fluorine compound is produced.
Weiterhin liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen durch Verbrennungs- bzw. Reaktionsenergie gepumpten chemischen Laser mit einem einfachen und kompakten Aufbau bereitzustellen.Furthermore, the invention is based on the object of providing a combustion or reaction energy pumped chemical laser with a simple and compact To provide structure.
Weiterhin liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen durch Verbrennungs- bzw. Reaktionsenergie gepumpten chemischen Laser bereitzustellen, der sich kontinuierlich und unter hoher Leistungsabgabe betreiben läßt.Furthermore, the invention is based on the object of providing a combustion or reaction energy pumped chemical Provide lasers, which can be operated continuously and with high power output.
Weiterhin liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Aufrechterhaltung eines kontinuierlichen Betriebs eines HF/DF-Lasers, insbesondere eines transversalen Lasers, bereitzustellen.Another object of the invention is to provide a method to maintain continuous operation of an HF / DF laser, in particular a transverse laser.
Die Erfindung wird nun anhand eines Ausführungsbeispiels und anhand einer beigefügten schematischen Darstellung näher erläutert.The invention will now be based on an exemplary embodiment and on the basis an attached schematic representation explained in more detail.
Ein chemischer, für den kontinuierlichen Betrieb geeigneter, kompakter HF- oder DF-Laser kann dadurch hergestellt werden, daß erfindungsgemäß Deuterium oder Wasserstoff mit einem Überschuß von molekularem Fluor (F2) zur Bildung von DF oder HF in einem Verbrennungs- bzw. Reaktionsraum zur Reaktion gebracht wird. Die Reaktionswärme bzw. -energie dissoziiert das Fluor hauptsächlich in atomares Fluor, wobei eine geringe Menge von undissoziiertem Fluor, d.h. F2, übrig bleibt. Diese Gase werden alle vom Reaktionsraum in den Laserraum bzw.A chemical, more compact, suitable for continuous operation HF or DF laser can be produced by using deuterium according to the invention or hydrogen with an excess of molecular fluorine (F2) to form DF or HF is caused to react in a combustion or reaction chamber. The heat or energy of the reaction dissociates the fluorine mainly into atomic form Fluorine, leaving a small amount of undissociated fluorine i.e. F2. These gases are all from the reaction chamber into the laser room resp.
-hohlraum weitergeleitet und weiter mit zusätzlichem H2 oder D2 zur Bildung von lasendem HF oder DF zur Reaktion gebracht, wobei das H2 oder D2 gesondert in den Laserraum injiziert wird. Für ein HF-Lasen wird DF und für ein DF-Lasen wird HF als ein Verbrennungs- bzw. Reaktionsraumprodukt verwendet. In beiden Fällen wird das Einführen eines im Grundzustand lasenden Stoffes in den Laserraum vermieden. Es können auch andere Wasserstoff-oder Fluorverbindungen für dieses Verfahren verwendet werden, wobei jedoch darauf geachtet werden muß, daß die im Reaktionsraum hergestellten Produkte die ausgesandte Laserwellenlänge nicht absorbieren oder anderweitig nachteilig auf die im Laserraum ablaufenden Prozesse bezüglich der Laserstrahlung einwirken. Weiterhin können auch andere Verbindungen als Wasserstoff- und Fluorverbindungen als Reaktionsteilnehmer zur Herstellung von atomarem Fluor in dem Reaktionsraum verwendet werden. So kann auch ein von HF oder DF verschiedenes Reaktionsnebenprodukt verwendet werden, und sowohl Wasserstoff-und Deuteriumverbindungen können in den Laserraum injiziert werden, um gleichzeitig Laserstrahlen von HF und DF zu erhalten.-Cavity forwarded and further with additional H2 or D2 to the Formation of lasing HF or DF caused to react, with the H2 or D2 separately injected into the laser room. For HF lasing it becomes DF and for DF lasing it becomes HF is used as a combustion or reaction space product. In both cases will the introduction of a substance that reads in the basic state into the laser room is avoided. Other hydrogen or fluorine compounds can also be used for this process be, but care must be taken that the prepared in the reaction chamber Products do not absorb or otherwise detrimentally affect the emitted laser wavelength on the processes taking place in the laser room regarding the laser radiation act. Furthermore, compounds other than hydrogen and fluorine compounds can also be used as a reactant for the production of atomic fluorine in the reaction space be used. A reaction by-product other than HF or DF can also be used can be used, and both hydrogen and deuterium compounds can be used in the Laser room can be injected to receive laser beams of HF and DF at the same time.
Die allgemeine Reaktion läuft folgendermaßen ab: Im Reaktionsraum: Statt dessen: (Überschuß) (Überschuß) Im Laserraum: (lasender Stoff) Nach dem Vorgang des Lasens werden die Gase schnell vom Laserraum durch Ausstoßen, mechanisches, chemisches oder kryogenisches (cryogenic) Pumpen entfernt. Der erfindungsgemäße chemische Laser ist nicht nur einfach, sondern auch insoweit wirkungsvoll, daß mit ihm eine Temperatur oberhalb 16000K leicht erreicht wird; bei diesen Temperaturen dissoziiert elementares Fluor mehr oder weniger vollständig in atomares Fluor. Im Gegensatz dazu erreicht der durch Reaktionsenergie gepumpte Laser gemäß der US-PS 3 560 876 nur eine Temperatur von etwa 1275 0K.The general reaction proceeds as follows: In the reaction space: Instead: (Excess) (excess) In the laser room: After the laser process, the gases are quickly removed from the laser room by ejection, mechanical, chemical or cryogenic pumping. The chemical laser according to the invention is not only simple, but also effective in that a temperature above 16000K can easily be reached with it; at these temperatures elemental fluorine dissociates more or less completely into atomic fluorine. In contrast, the laser pumped by reaction energy according to US Pat. No. 3,560,876 only reaches a temperature of about 1275 ° K.
Diese Temperatur liegt unterhalb der, die für eine vollständige Dissoziation des Fluors benötigt wird. Der erfindungsgemäße Laser ist dadurch vereinfacht, daß der Verbrennungs- bzw.This temperature is below that required for complete dissociation of the fluorine is required. The laser according to the invention is simplified in that the combustion or
Reaktions- und Dissoziations-Vorgang in einem einzigen Raum stattfindet. Da außerdem die Dissoziation des Fluors nicht von dem Wärmetransfer durch Wände abhängt, können bei Bedarf die Wände des Reaktionsraums gekühlt werden, ohne daß dabei nachteilige Auswirkungen auf die Bildung von atomarem Fluor auftreten. Bei lang andauerndem kontinuierlichem Betrieb ist eine Kühlung natürlich äußerst wünschenswert, um Reaktionen zwischen dem äußerst korrodierenden Fluor und den Reaktionsraumwänden zu vermeiden.Reaction and dissociation process takes place in a single room. In addition, since the dissociation of the fluorine does not depend on the heat transfer through walls depends, the walls of the reaction chamber can be cooled if necessary without adverse effects on the formation of atomic fluorine occur. at Long-term continuous operation, of course, cooling is extremely desirable, about reactions between the extremely corrosive fluorine and the reaction chamber walls to avoid.
Der erfindungsgemäße und schematisch dargestellte chemische Laser umfaßt einen Verbrennungs- oder Reaktionsraum 10, der mit Einlaßstutzen 11, 12 und 13 für die Reaktionsteilnehmer Wasserstoff, Deuterium und Fluor bestückt ist. Die Reaktionsteilnehmer können auch andere, sich exotherm verbindende Verbindungen, die mit den Anforderungen an den Laserraum konsistent sind, und ein Halogenid sein, das eine Substanz enthält, die zur Bildung von freien Halogenatomen dissoziieren kann.The chemical laser according to the invention and shown schematically comprises a combustion or reaction chamber 10, which with inlet ports 11, 12 and 13 is equipped for the reactants hydrogen, deuterium and fluorine. the Reaction participants can also use other exothermic compounds, which are consistent with the requirements of the laser room, and be a halide, that contains a substance that dissociates to form free halogen atoms can.
Verdünnungsmittel, beispielsweise Stickstoff, Helium etc., können mit oder in die Reaktionsteilnehmer durch die gleichen oder gesonderte Einlaßstutzen entweder in den Reaktionsraum 10 oder den Laserraum injiziert werden. Im Reaktionsraum 10 wird ein gasförmiges Gemisch von Halogenatomen und Molekülen, beispielsweise F und F2, erzeugt. Wasser-Kühlspiralen 15 sind entlang des äußeren Umfangs des Reaktionsraums 10 angeordnet und sorgen dafür, daß die mit den Reaktionsteilnehmern im Reaktionsraum 10 in Kontakt stehende Wandung gekühlt wird. Es können auch andere Kühltechniken verwendet werden, bei denen beispielsweise luftgekühlt und die Reaktionsteilnehmer wieder erhitzt werden. In den Laserraum führende Injektionsdüsen 16 sorgen dafür, daß F-Atome und F2-Moleküle in heißem Zustand vom Reaktionsraum 10 austreten und sich mit H2, D2 oder H2 und/oder D2 enthaltenden Stoffen, die direkt in die Injektionsdüsen injiziert werden, verbinden, um die angeregten Schwingungszustände der HF- und DF -Moleküle zu erzeugen. Ein Abgasrohr 17 ist zentrisch und achsgleich mit dem Reaktionsraum 10 angeordnet und legt den Laserraum bzw.Diluents such as nitrogen, helium, etc., can with or into the reactants through the same or separate inlet ports be injected into either the reaction space 10 or the laser space. In the reaction room 10 is a gaseous mixture of halogen atoms and molecules, for example F and F2. Water cooling coils 15 are along the outer periphery of the reaction space 10 arranged and ensure that with the reactants in the reaction chamber 10 wall standing in contact is cooled. It others can too Cooling techniques are used in which, for example, air cooled and the reactants be reheated. Injection nozzles 16 leading into the laser room ensure that that F atoms and F2 molecules emerge from the reaction chamber 10 in a hot state and dealing with substances containing H2, D2 or H2 and / or D2, which are fed directly into the injection nozzles are injected, connect to the excited vibrational states of the HF and DF -Create molecules. An exhaust pipe 17 is centric and coaxial with the reaction space 10 and lays the laser room resp.
-hohlraum 21, der sich direkt an die Injektionsdüsen 16 anschließt, fest. Das Lasen findet entlang einer zur Gasströmung transversal liegenden lasenden Achse 21a statt. Es wird dadurch hervorgerufen, daß das vom Reaktionsraum 10 in den Laserraum 21 eingeführte atomare Fluor mit dem direkt in den Laserraum 21 durch die Injektionsdüsen 16 injizierten H2 und/ oder D2 reagiert.-cavity 21, which is directly connected to the injection nozzles 16, fixed. The lasing takes place along a lasing lying transversely to the gas flow Axis 21a instead. It is caused by the fact that the reaction chamber 10 in the atomic fluorine introduced into the laser room 21 with the directly into the laser room 21 the injection nozzles 16 injected H2 and / or D2 reacts.
Ein hinterer Spiegel 22 und ein vorderer bzw. Auslaßspiegel 23 sind an gegenüberliegenden Seiten des Laserraums 21 zur Verstärkung und Emission von Laserstrahlung, die aufgrund der HF und DF -Stimulation im Laserraum 23 entsteht, angeordnet.A rear mirror 22 and a front or outlet mirror 23 are respectively on opposite sides of the laser room 21 for amplification and emission of Laser radiation that arises due to the HF and DF stimulation in the laser room 23, arranged.
Der hintere und der vordere Spiegel 22 und 23 bestehen im wesentlichen aus 10,16 x 10,16 cm (4" x 41l) quadratischen, sphärischen, konkav-geschliffenen Spiegeln mit einem Krümmungsradius von 299,72 cm (118 inch). Ihr gegenseitiger Abstand beträgt 76,2 cm (30 inch). Der vordere Spiegel 23 ist eine optische Fläche (optical flat) mit einer Durchlässigkeit von ungefähr 10 %. Der hintere Spiegel 22 hat einen Reflexionsgrad von ungefähr 98 %. Vorteilhafterweise können auch andere optische Systeme einschließlich veränderlicher Oszillatoren verwendet werden.The rear and front mirrors 22 and 23 consist essentially Made of 10.16 x 10.16 cm (4 "x 41l) square, spherical, concave-ground Mirrors with a radius of curvature of 299.72 cm (118 inches). Their mutual distance is 76.2 cm (30 inches). The front mirror 23 is an optical surface (optical flat) with a permeability of about 10%. The rear mirror 22 has one Reflectance of about 98%. Advantageously, other optical Systems including variable oscillators can be used.
Beim typischen Laserbetrieb werden D2 oder H2 in einer Stickstoffgas-Verdünnung kontinuierlich mit einem stöchiometrischen Überschuß von F2 in den Reaktionsraum 10 gepumpt. Das resultierende Gemisch erreicht aufgrund hypergolischer Reaktion eine Temperatur zwischen 16000K und 30000K. Bei dieser Temperatur dissoziiert das überschüssige Fluor. Hierbei ist im Reaktionsraum 10 ein Druck zwischen 413,68 bis 2585,5 Torr (8-50 psi) typisch. Die Gase strömen dann durch die Injektionsdüsen 16, wobei sie auf Überschallgeschwindigkeiten expandiert werden, in den Laserraum 21, in den H2 oder D2 injiziert wird.In typical laser operation, D2 or H2 are in a nitrogen gas dilution continuously with a stoichiometric excess of F2 into the reaction space 10 pumped. The resulting mixture reached due to hypergolic reaction a temperature between 16000K and 30000K. At this temperature it dissociates excess fluorine. Here, a pressure between 413.68 bis is in the reaction chamber 10 2585.5 torr (8-50 psi) typical. The gases then flow through the injection nozzles 16, expanding to supersonic speeds, into the laser room 21, into which H2 or D2 is injected.
Hierauf findet die Bildung von HFH oder DF und das Lasen statt. Im Laserraum bauen sich typischerweise Drücke zwischen 1 bis 20 Torr auf. Diese Drücke eignen sich für den Laserbetrieb. Im Laserraum 21 können die statischen Temperaturen (static temperatures) der Überschallströmung zwischen etwa 2000C und 9000C variieren.This is followed by the formation of HFH or DF and the reading. in the Laser room typically build pressures between 1 to 20 Torr. These pressures are suitable for laser operation. In the laser room 21, the static temperatures (static temperatures) of the supersonic flow vary between about 2000C and 9000C.
Die vom Laserraum 21 austretenden Abgase werden entlang des Ab gas rohres 17 und bei Bedarf durch einen sich verengenden Abschnitt 24, der wie eine Venturi-Düse oder ein Diffusor zur Druckherstellung stromabwärts wirkt, geführt. Die Abgase können dann durch Pumpen in die Atmosphäre abgeführt werden.The exhaust gases exiting from the laser room 21 are along the exhaust gas pipe 17 and, if necessary, by a narrowing portion 24, which like a Venturi nozzle or a diffuser for pressure production downstream acts, guided. The exhaust gases can then be discharged into the atmosphere by pumping.
Stattdessen können die Abgase auch durch chemische Reaktion, beispielsweise mit Titan, oder durch eine Kombination von Kondensation (um HF und/oder DF zu entfernen), chemische Reaktion (um H2 und D2 zu entfernen) und cryogenische Absorption zur Entfernung des Stickstoffs, entfernt werden.Instead, the exhaust gases can also be produced by chemical reaction, for example with titanium, or by a combination of condensation (to remove HF and / or DF), chemical reaction (to remove H2 and D2) and cryogenic absorption to remove of nitrogen.
In vielen einzelnen Experimenten wurde eine kontinuierliche Laserstrahlung erhalten, wobei der Betrieb in einigen Fällen 2 Stunden aufrechterhalten wurde.In many individual experiments a continuous laser radiation was used obtained, maintaining operation for 2 hours in some cases.
Gemäß der Erfindung wird ein chemischer Laser vorgeschlagen, in dem atomares Fluor dadurch hergestellt wird, daß heiße Verbrennungs- bzw. Reaktionsprodukte mit einer Fluorverbindung innig vermischt werden, die dann dissoziiert. Es wird kein Wärmetransfer über Hochtemperatur-Wände (Airey) oder ein elektrischer Bogen (Spencer et aL) benötigt. Auf diese Weise wird einmal eine mit Hilfe eines elektrischen Bogens gepumpte Einheit überflüssig. Zum anderen wird die Schwierigkeit der Vergrößerung eines derartigen Systems zur Anpassung an höhere Durchsatzraten umgangen.According to the invention, a chemical laser is proposed, in atomic fluorine is produced by hot combustion or reaction products be intimately mixed with a fluorine compound, which then dissociates. It will no heat transfer via high temperature walls (Airey) or an electric arc (Spencer et aL) needed. This way, one time is made with the help of an electric No need for arc-pumped unit. Second is the difficulty of enlarging circumvented such a system to adapt to higher throughput rates.
Weiterhin ist der durch Verbrennungs- bzw. Reaktionsenergie gepumpte Laser unabhängig von einem Wärmetransfer durch Hochtemperatur-Wände. Ein kontinuierlicher Betrieb ist mit bekannten Materialien und Kühltechniken der Wände eines Reaktionsraums für beachtliche Zeiträume herstellbar. Wie bereits erwähnt, wird außerdem eine Vereinfachung des Aufbaus und eine Verringerung der Gesamtgröße und des Gesamtgewichts erhalten.Furthermore, the is pumped by combustion or reaction energy Laser independent of heat transfer through high temperature walls. A continuous one Operation is with known materials and cooling techniques for the walls of a reaction space can be produced for considerable periods of time. As already mentioned, there is also a simplification construction and a reduction in overall size and weight.
Deswegen stellt die Erfindung einen mit Hilfe von Verbrennungs- bzw. Reaktionsenergie gepumpten chemischen Laser und ein Verfahren zu dessen Betrieb bereit, der für lange Zeit kontinuierlich mit hohen Durchsatzraten betrieben werden kann, ohne daß dabei die Schwierigkeiten auftauchen, die sich beim Betrieb mit Hilfe eines elektrischen Bogens oder eines Wärmetransfers ergeben. Dies wiederum erlaubt eine Vereinfachung der Vorrichtung und eine Kühlung derselben an kritischen Stellen. Tatsächlich ergeben sich erheblich verbesserte Durchsatzraten und eine Verlängerung der kontinuierlichen Betriebsdauer um einige Größenordnungen.Therefore, the invention provides a with the help of combustion or Reaction energy-pumped chemical laser and a method for its operation ready to be operated continuously at high throughput rates for a long time can help without the difficulties that arise when operating with electrical arc or heat transfer. This in turn allows a simplification of the device and a cooling of the same at critical points. In fact, this results in significantly improved throughput rates and an extension the continuous operating time by several orders of magnitude.
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DE19742461928 DE2461928A1 (en) | 1974-12-31 | 1974-12-31 | Chemical laser with a combustion or reaction chamber - has pipes separately supplying reagents diluent and a fluorine compound |
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DE (1) | DE2461928A1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2578110A1 (en) * | 1982-06-28 | 1986-08-29 | Comp Generale Electricite | CHEMICAL LASER WITH HYDROCHLORIC ACID |
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1974
- 1974-12-31 DE DE19742461928 patent/DE2461928A1/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR2578110A1 (en) * | 1982-06-28 | 1986-08-29 | Comp Generale Electricite | CHEMICAL LASER WITH HYDROCHLORIC ACID |
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