DE2429633A1 - TRANSMISSION DEVICE - Google Patents

TRANSMISSION DEVICE

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DE2429633A1
DE2429633A1 DE19742429633 DE2429633A DE2429633A1 DE 2429633 A1 DE2429633 A1 DE 2429633A1 DE 19742429633 DE19742429633 DE 19742429633 DE 2429633 A DE2429633 A DE 2429633A DE 2429633 A1 DE2429633 A1 DE 2429633A1
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DE19742429633
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Robert Joseph Strain
Karvel Kuhn Thornber
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    • G11C27/04Shift registers
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C19/00Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers
    • G11C19/28Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
    • G11C19/282Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements with charge storage in a depletion layer, i.e. charge coupled devices [CCD]
    • G11C19/285Peripheral circuits, e.g. for writing into the first stage; for reading-out of the last stage

Description

BLUMBAOH -WESER · BARGEN & !{RBLUMBAOH -WESER · BARGEN & ! {R

PATENTANWÄLTE 1 N V/l ESBAD EN UND MÜNCHENPATENTANWÄLTE 1 N V / l ESBAD EN AND MUNICH

DIPL-ING. P. G. BLUMBACH · DiPL-PHYS. DR. W. WESER ■ DlPL-ING. DE. JUK. P. BERGEN DIPL-ING. K. KRAMERDIPL-ING. P. G. BLUMBACH · DiPL-PHYS. DR. W. WESER ■ DIPL-ING. DE. JUK. P. BERGEN DIPL-ING. K. KRAMER

WIESBADEN; · SÖNNENBEKGER STRASSE 43 ■ TEL (06121) 5ί2ίΊ3, 5Ä199S MCNCHfNWIESBADEN; · SÖNENBEKGER STRASSE 43 ■ TEL (06121) 5ί2ίΊ3, 5Ä199S MCNCHfN

Western Electric Company GermanyWestern Electric Company Germany

Incorporated Strain-12-1Incorporated Strain-12-1

New York, N. Y. .New York, N.Y.

"ÜBERTRAGUNGSVORRICHTUNG""TRANSMISSION DEVICE"

Die Erfindung bezieht sich auf eine Übertragungsvorrichtung mit einem erstenThe invention relates to a transmission device having a first

Abschnitt m'ft N aufeinanderfolgenden Übertragungsstufen (e eKI) zumSection m'ft N successive transmission stages (ee KI ) to

O INO IN

sequentiellen Übertragen einer Übertragungssignaleinheit von Stufe zu Stufe in einer Übertragungsrichtung.sequentially transmitting a transmission signal unit from stage to stage in one direction of transmission.

Es ist bekannt, einen Schieberegisterbetrieb in Halbleiterbauelementen dadurch zu realisieren, daß lokalisierte Ladungsansammlungen in einem HaIbleifermedium elektrisch gesteuert verschoben v/erden. Solche Ladungen werden durch den Halbleiter steuerbar mit Hilfe zugeführter Taktspannungen übertragen, die elektrische Ladungen von einer zur nächsten Speicherstelle im Halbleiterbauelement übertragen. Sonach ist ein derartiges Halbleiter-Schieberegister im Effekt ein Lädungsübertragungsbauelement (charge transfer device CTD).It is known to thereby operate a shift register in semiconductor components to realize that localized accumulations of charge in a semiconductor medium electrically controlled shifted v / earth. Such charges are controllably transmitted through the semiconductor with the help of supplied clock voltages, the electrical charges from one storage location to the next in the Transferring semiconductor component. Such a semiconductor shift register is accordingly effectively a charge transfer device CTD).

.409883/098?.409883 / 098?

Ladungsübertragungsvorrichtungen auf dem Halbleitergebief fallen in zwei Hauötkategorien, in die sogenannte ladungsgekoppelte Vorrichtung (chargecoupled device CCD) und integrierte Schaltungsversionen der Eimerkettenvorrichfung (bucket-brigate-device BBD). Bei jeder Version ist ein räumlich periodisches Elektroden-Metallisierungsmuster auf einer Hauoffläche eines mit Oxyd beschichteten Halbleiferköroers vorgesehen, das eine Folge integrierter MOS-Kondensatoren (meta I -oxide-semi conductor) definieren, so daß lokalisierte elektrische Ladungsansammlungen im Halbleiter zwischen benachbarten MOS-Kondensatoren durch sequentielle elektrische Spannungsimpulse (Taktimpulse), die den Elektroden zugeführt werden, durch den Halbleiter sequentiell geschoben weiden können. Diese Ladungen werden anfänglich am Eingangsende einer Kette solcher MOS-Kondensatoren injiziert, und zwar entsprechend mit einem digitalen oder analogen Informationsfluß, beispielsweise in Form injizierter oder nicht injizierter Ladungen zu den entsprechenden Zeitpunkten der Takfspannungsimpulsfofge. Im allgemeinen sind so viele MOS-Kondensatoren (Speicherstellen) pro Speicherzelle vorgesehen, wie Phasen in gerade einem Zyklus der das CTD steuernden Spannungsimpulsfolgen vorhanden sind.Charge transfer devices on the semiconductor field fall into two Hauöt categories, in the so-called charge-coupled device (chargecoupled device CCD) and integrated circuit versions of the bucket-brigate-device BBD. With each version there is a spatial periodic electrode metallization pattern on a building surface an oxide-coated semi-conductor body provided that a consequence define integrated MOS capacitors (meta I -oxide-semi conductor), so that localized accumulations of electrical charge in the semiconductor between adjacent MOS capacitors by means of sequential electrical voltage pulses (Clock pulses) supplied to the electrodes by the Semiconductors can graze pushed sequentially. These charges are initial injected at the input end of a chain of such MOS capacitors, with a corresponding digital or analog information flow, for example in the form of injected or uninjected charges to the corresponding Points in time of the output voltage pulse sequence. Generally are as many MOS capacitors (storage locations) are provided per storage cell, how phases exist in just one cycle of the voltage pulse trains controlling the CTD.

In der CCD-Version einesCTD sind die in den Halbleiter injizierten Signalladungen, wenn sie gerade nicht geschoben werden, als isolierte Inversionsschichten an der Oxyd-Halbleiter-Grenzfläche lokalisiert; und die Ladungen In the CCD version of a CTD, the signal charges injected into the semiconductor when they are not being pushed, localized as isolated inversion layers at the oxide-semiconductor interface; and the charges

409883/098?409883/098?

werden durch den Halbleiter unter dem Einfluß der Takisignale geschoben. Bei der BBD-Version sind die injizierten Ladungen (wenn sie gerade nicht geschoben werden) als überschüssige Mgjoritätsladungsträger in ein diffundierten (oder implantierten) Bereichen lokalisierter PN-Übergängen lokalisiert, die vorher an der Oxyd-Halbleiter-Grenzfläche hergestellt worden sind; und diese überschüssige Ladung (nicht notwendigerweise dieselben, ursprünglich injizierten Ladungsträger) v/ird durch den Halbleiter unter dem Einfluß der Taktimpulse geschoben.are pushed through the semiconductor under the influence of the Taki signals. In the BBD version of the injected charges are (if they are not being pushed) isolated as excess Mgjoritätsladungsträger in a diffused (or implanted) regions of localized PN junctions which have been prepared beforehand at the oxide-semiconductor interface; and this excess charge (not necessarily the same originally injected charge carriers) is pushed through the semiconductor under the influence of the clock pulses.

Es sollte sich verstehen, daß normalerweise bei den derzeitigen Halbleiter-Ladungsübertragungsvorrichtungen das Halbleitermedium Silicium ist und das Oxyd Silicium Dioxyd ist. Jedoch können allgemein auch andere geeignete Halbleiter-Isolator-Kombinationen benutzt werden. Sonach kann sich der Ausdruck "Oxyd" in Verbindung mit CTD's auf jeden geeigneten Isolator beziehen.It should be understood that normally in current semiconductor charge transfer devices the semiconductor medium is silicon and the oxide silicon is dioxide. However, in general, other suitable Semiconductor-insulator combinations are used. So can the term "oxide" in conjunction with CTD's refers to any appropriate one Refer to isolator.

Im allgemeinen tritt bei CTD's das Problem einer unvollsländigen Signalladungsübertragung von einer MOS-Kondensatorspeicherstelle zur nächsten auf, so daß am Ausgangsende einer solchen das CTD bildenden Kondensatorkette das Ausgangssignal eine verzerrte Darstellung des Eingangssignals in Form einer Folge lokalisierter Ausgangssignalladungsimoulse ist.In general, CTDs have the problem of incomplete signal charge transfer from one MOS capacitor storage location to the next so that at the output end of such a capacitor chain forming the CTD, the output signal is a distorted representation of the input signal in Is the form of a sequence of localized output signal charge impulses.

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-A--A-

AIs Ergebnis dieser Verzerrung sind Fehlerraten besonders störend bei vergleichsweise langkettigen CTD's, wo die Anzahl der Ubertragungsstufen N eiwaO, 1/£X übersteigt, wobei CK der Koeffezient unvollständiger Übertragung für jede praktisch identische Übertragungsstufe bedeutet, und wo jede Übertragungsstufe nur eine Speicherstelle (plus deren Übertragungszone) einschließt. Der Koeffezient O\ ist definiert als das Verhältnis des Signalladungsinkrementes (Ubertragungsladung), die in einer Ubertragungsstufe zurückbleibt, zum entsprechenden Inkrement der Signalladung, das von dieser Stufe auf die nächstfolgende Übertragungsstufe während eines einzigen Übertragungszyklus der zugeführten Taktsoannung übertragen worden ist. Es ist deshalb wünschenswert, ein Mittel zum Reduzieren der Fehler zu haben, die durch unvollständige Übertragung in CTD's verursacht werden.As a result of this distortion, error rates are particularly disturbing in the case of comparatively long-chain CTDs, where the number of transmission levels exceeds N eiwa0.1 / £ X, where CK means the coefficient of incomplete transmission for each practically identical transmission level, and where each transmission level only has one storage location (plus its Transmission zone). The coefficient O \ is defined as the ratio of the signal charge increment (transfer charge) that remains in a transfer stage to the corresponding increment of the signal charge that has been transferred from this stage to the next transfer stage during a single transfer cycle of the supplied clock voltage. It is therefore desirable to have a means of reducing the errors caused by incomplete transmission in CTDs.

Gemäß der Erfindung ist das vorstehende Problem bei einer Ladungsübertragungseinrichtung dadurch gelöst, daß ein mit dem Ausgang des ersten Abschnittes gekoppelter zweiter Abschnitt mit wenigstens zwei Übertragungsstufen vorgesehen ist, von denen eine Stufe (e*. ,) einen Koeffizienten unvollständiger Übertragung aufweist, der von der Größenordnung der Summe der Koeffizienten unvollständiger Übertragung aller auf der einen befindlichen Stufe Stufe ist.According to the invention, the above problem is with a charge transfer device solved in that a second section coupled to the output of the first section is provided with at least two transmission stages, of which one stage (e *.,) has a coefficient incomplete transfer, which is of the order of magnitude of the sum the coefficients of incomplete transmission of all located on the one Level is level.

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Entsprechend einer Ausführungsform der Erfindung wird eine Folge mehrerer Ubertragungsstufen als Hilfsladungs-Übertragungsvorrichtung dem ausgangsseitigen Ende eines Haupt-CTD mit N vorteilhaft praktisch gleichen Übertragungsstufen hinzugefügt. Das Ausgangssignal des Haupt-CTD wird dem Eingang des Hilfs-CTD zugeführt. Der oben definierte Koeffizient unvollständiger Übertragung,C\ , der letzten Hilfsübertragungsstufe des Hilfs-CTD wird vorteilhaft,wenigstens etwa gleich (innerhalb etwa 10 %) der Summe der Koeffizienten unvollständiger Übertragung aller Stufen des Haupt-CTD plus jener der anderen Hilfsstufen gemacht. Die Differenz der übertragenen elektrischen Ladung in einem vorbestimmten Zeitpunkt relativ zu dem steuernden Taktzyklus, die in einer anderen der Hilfsübertragungsstufen, bezogen auf die letzte Hilfsstufe, vorhanden ist, liefert ein korrigiertes Ausgangssignal für das N-stufige CTD.According to one embodiment of the invention, a sequence of several transmission stages is added as an auxiliary charge transmission device to the output-side end of a main CTD with N advantageously practically identical transmission stages. The output of the main CTD is fed to the input of the auxiliary CTD. The incomplete transmission coefficient, C \, of the last auxiliary transmission stage of the auxiliary CTD defined above is advantageously made at least about equal (within about 10 %) to the sum of the incomplete transmission coefficients of all the stages of the main CTD plus those of the other auxiliary stages. The difference in the transferred electrical charge at a predetermined point in time relative to the controlling clock cycle, which is present in another of the auxiliary transfer stages with respect to the last auxiliary stage, provides a corrected output signal for the N-stage CTD.

Bei einem speziellen Äusführungsbeispie! der Erfindung ist ein N-stufiges übliches Zweiphasen-Eimerkettenbauelement (BBD) mit einem vierstufigen (filternden) Hilfs-BBD abgeschlossen. Sowohl das N-sfufige als auch das Hilfs-BBD sind in einem einzigen η-leitenden einkristallinen Halbleiterkörper integriert. Jede Ubertragungsstufe in beiden BBD's ist durch ein MOS-Kondensatorelement (zusammen mit einer p-leitenden Zone im Halbleiter an dessen Oberfläche), das durch eine Elektrode auf dem Oxyd gebildet ist,definiert. Alle Ubertragungsstufen in sowohl dem N-stufigen BBD als auch imWith a special execution example! of the invention is an N-ary Common two-phase bucket chain component (BBD) terminated with a four-stage (filtering) auxiliary BBD. Both the N-suffe and that Auxiliary BBD are in a single η-conductive single-crystal semiconductor body integrated. Each transmission stage in both BBD's is through a MOS capacitor element (together with a p-conductive zone in the semiconductor on its surface), which is formed by an electrode on the oxide. All transmission stages in both the N-stage BBD and in the

Hilfs-BBD sind weitgehend identisch ausgeführt und werden durch eine zweiphasige Takfsoannungsimpulsfolge elektrisch gesteuert, die den Elektroden der entsprechenden Stufe zugeführt v/ird. Lediglich die letzte Stufe des (filternden) Hilfs-BBD ist einer Halbleiterzone zugeordnet, die von einer Elektrode gesteuert wird, deren Breite (gesehen in Ladungsübertragungsrichtung) viel größer ist als die (gleichen) Breiten der anderen MOS-Kondensatorelektroden in sowohl dem filternden Hilfs-BBD als auch dem N-Stufen-BBD. Dadurch sind vorteilhaft die Koeffizienten unvollständiger Übertragung aller Stufen in sowohl dem N-Stufen- als auch dem Hilfs-BBD (ausgenommen der letzten Stufe) im wesentlichen gleich gemacht, und zwar auf innerhalb IO % für Analogsignale und auf innerhalb 50 % für Digitalsignale. Insbesondere wird durch das Verbreitern der Elektrode, die der letzten Hilfsübertragungsstufe zugeordnet ist, der Koeffizient für unvollständige Übertragung,οζ , der letzten Stufe des Hilfs-BBD im wesentlichen (auf innerhalb 10 %) gleich der Summe der praktisch unter sich gleichen Koeffizienten unvollständiger Übertragung aller übrigen Stufen des N-sfufigen und der restlichen Stufen
des Hilfs-BBD gemacht. Vorteilhaft sind die einzelnen cC-Werte so klein, daß diese Summe den Wert von 0,1 nicht überschreitet. Dadurch ist die Differenz in der übertragenen Ladungsansammlung (zu einem geeigneten Festste! Izeitpunkt im Takfzyklus) in der letzten Stufe des filternden Hilfs-BBD gegenüber der vorletzten Stufe dieses selben BBD das gewünschte korrigierte
Auxiliary BBD are designed largely identically and are electrically controlled by a two-phase pulse voltage pulse train, which is fed to the electrodes of the corresponding stage. Only the last stage of the (filtering) auxiliary BBD is assigned to a semiconductor zone which is controlled by an electrode whose width (viewed in the charge transfer direction) is much larger than the (same) widths of the other MOS capacitor electrodes in both the filtering auxiliary BBD as well as the N-stage BBD. This advantageously makes the incomplete transmission coefficients of all stages in both the N-stage and the auxiliary BBD (excluding the last stage) essentially the same, to within 10 % for analog signals and to within 50 % for digital signals. In particular, by widening the electrode associated with the last auxiliary transmission stage, the coefficient for incomplete transmission, οζ , of the last stage of the auxiliary BBD essentially (to within 10 %) becomes equal to the sum of the virtually identical coefficients of incomplete transmission for all remaining levels of the N-level and the remaining levels
made by the auxiliary BBD. The individual cC values are advantageously so small that this sum does not exceed 0.1. As a result, the difference in the transferred charge accumulation (at a suitable fixed point in time in the cycle) in the last stage of the filtering auxiliary BBD compared to the penultimate stage of this same BBD is the desired corrected

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Ausgangssignal für das N-stufige BBD.Output signal for the N-stage BBD.

Nach einem anderen Aspekt der Erfindung wird ein N-stufiges Schieberegister, dessen Übertragungsstufen sämtlich durch unvollständige Übertragung CK gekennzeichnet sind, mit einem HilfsSchieberegister abgeschlossen. Die letzte Stufe des Registers hat einen Koeffizienten unvollständiger Übertragung für eine Signaleinheit, der von der Größenordnung, vorteilhaft auf innerhalb etwa 10 °/o, von der Summe (die wiederum vorteilhaft weniger als etwa 0,1 beträgt) aller Koeffizienten aller anderen Zellen der kombinierten Vorrichtung (N-stufiges Schieberegister plus Hilfsschieberegisfer) ist. Dieser Koeffizient^ ist in derselben Weise anhand von Signaleinheiten (Übertragungseinheiten) wie vorher anhand einer Signalladung definiert. Dann ist die Differenz in der Speicherung einer Ubertragungssignaleinheit in einer der Stufen im Hilfsregister relativ zur letzten Stufe dieses Hilfsregisters zu einem vorbestimmten Zeitpunkt ein korrigiertes Ausgangssignal für das N-stufige Register, d. h. ein Ausgangssignal, das sich durch reduzierte Fehler infolge unvollständiger Übertragung auszeichnet. Der Grund für diese Fehlerreduktion ist der Reflexion und praktischen Duplizierung von Fehlern wegen unvollständiger Übertragung in der N-stufigen Anordnung durch die letzte Stufe des HilfsSchieberegisters und der Subtraktion dieses Fehlers vom Ausgangssignal zuzuschreiben.According to another aspect of the invention, an N-stage shift register, the transmission stages of which are all characterized by incomplete transmission CK , is terminated with an auxiliary shift register. The last stage of the register has an incomplete transmission coefficient for a signal unit which is of the order of magnitude, advantageously to within about 10 %, of the sum (which in turn is advantageously less than about 0.1) of all the coefficients of all the other cells of the combined Device (N-stage shift register plus auxiliary shift register) is. This coefficient ^ is defined on the basis of signal units (transmission units) in the same way as previously on the basis of a signal charge. Then the difference in the storage of a transmission signal unit in one of the stages in the auxiliary register relative to the last stage of this auxiliary register at a predetermined point in time is a corrected output signal for the N-stage register, ie an output signal that is characterized by reduced errors due to incomplete transmission. The reason for this error reduction is attributable to the reflection and practical duplication of errors due to incomplete transmission in the N-stage arrangement by the last stage of the auxiliary shift register and the subtraction of this error from the output signal.

0 988 3/0 9 870 988 3/0 9 87

Nachstehend ist die Erfindung anhand der Zeichnung beschrieben;, es zeigen:The invention is described below with reference to the drawing;, it demonstrate:

FIG. 1 eine schematische Draufsicht auf eine Halbleiter-Eimerketten-Übertragungsvorrichtung mit einer Hilfs-Eimerketten-Übertragungsvorrichtung entsprechend der Erfindung,FIG. 1 is a schematic plan view of a semiconductor bucket string transfer device with an auxiliary bucket chain transfer device according to the invention,

FIG. 2 ein Diagramm zur Darstellung des zeitlichen Ladungsverhai- !FIG. 2 is a diagram showing the temporal charge ratio!

tens zur Erläuterung der Wirkungsweise der Ausführungsform nach FIG. 1,least to explain the mode of operation of the embodiment according to FIG. 1,

FIG. 3 eine Zweiphasen-Ubertragungsvorrichtung mit einem Ubertragungsfilter entsprechend der Erfindung und ·FIG. 3 shows a two-phase transmission device with a transmission filter according to the invention and

FIG. 4 eine Dreiphasen-Ubertragungsvorrichtung mit einem Übertragungsfilter entsprechend der Erfindung.FIG. 4 shows a three-phase transmission device with a transmission filter according to the invention.

Entsprechend FIG. 1 ist eine N-Stufen-Eimerkettenvorrichtung 10 in einen η-leitenden Siliciumhalbleiter-Einkrisfall Π integriert. Die Vorrichtung 10 v/eist eine Reihe vorteilhaft praktisch identischer Elektroden e., e„.... eN V eN au^ ^'e au^ e'ner Oxydschicht auf einer Hauptfläche des Kristalls Π angeordnet sind. Jede Elektrode ist einer verschiedenenAccording to FIG. 1, an N-stage bucket chain device 10 is integrated into an η-conductive silicon semiconductor single crystal case Π. The device 10 v / eist a series advantageously virtually identical electrodes e., E "e .... NV e au N ^ ^ 'e au ^ e' ner oxide layer are arranged on a main surface of the crystal Π. Each electrode is different

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Ladungsübertragungsstufe des Haupt-BBD zugeordnet, das durch diese N-Stufen gebildet ist* Jede Ubertragungsstufe weistauch eine zugeordnete p-leitende Zone p(T), p(2) .... p(N-l), ρ(N) auf, die sämtlich weitgehend identisch.sind, wie dieses für Eimerkettenvorrichtungen bekannt ist. Diese Ubertragungsstufen werden durch eine zweiphasige Taktspannung· ( Φ·,;, *Ρη)/ die von einer Spannungsquelle 20 geliefert werden. Eingangssignale zu diesem N-Stufen-BBD werden gleichfalls von der Quelle 20 einer Elektrode e zugeführt, die die Oxydschicht durchdringt, um eine zugeordnete ρ -leitende Zone p(o) im Halbleiter Π auf der linken Seife der Elektrode'&. zu kontaktieren. Diese Eingangssignale verursachen eine Injektion lokalisierter elektronischer Löcher (DefekteIektronen) in den Halbleiter, die dann sequentiell von links nach rechts in FlG. 1 durch die N-Sfufen, entsprechend auf die zügeführfen zweiphasigen Taktsoannungen (^1, 4P-J entsprechend den bekannten Ladungsübertragungsprinzipien geschoben werden.Assigned to the charge transfer stage of the main BBD, which is formed by these N stages * Each transfer stage also has an associated p-conductive zone p (T), p (2) .... p (Nl), ρ (N), the all largely identical, as is known for bucket chain devices. These transmission stages are provided by a two-phase clock voltage · ( Φ ·,;, * Ρη) / which are supplied by a voltage source 20. Input signals to this N-stage BBD are also fed from the source 20 to an electrode e which penetrates the oxide layer to form an associated ρ -conducting zone p (o) in the semiconductor Π on the left soap of the electrode '&. to contact. These input signals cause localized electronic holes (defective electrons) to be injected into the semiconductor, which then sequentially from left to right in FIG. 1 through the N-steps, corresponding to the two-phase clock voltages (^ 1 , 4 PJ according to the known charge transfer principles).

Entsprechend der Erfindung sind nun-zusätzliehe Hilfsladungsübertragungsstufen auf der rechten Seite der N-stufigen Vorrichtung TO zwecks Bildung eines Hilfs-BBD vorgesehen. Dieses HMfs-BBD erlaubt die Reduktion von Fehlern im Ausgang des N-Stufen-BBD, die durch unvollständige Ladungsübertragung verursacht sind. Dieses in seiner Wirkung als Filter anzusehendeIn accordance with the invention, there are now additional auxiliary charge transfer stages on the right side of the N-stage device TO for the purpose of formation an auxiliary BBD provided. This HMfs-BBD allows the reduction of Errors in the output of the N-stage BBD caused by incomplete charge transfer are caused. This can be seen in its effect as a filter

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Hilfs-BBD weist Elektroden e*. ., e». _, e.. _, &κι,λ auf der Oberfläche des Oxydes auf demselben Kristall 11 auf, v/obei wiedoaim zugeordnete p-leitende Zonen p(N+l), p(N+2), p(N+3), p(N+4) vorgesehen sind. Die Elektroden ej, ., eN+9 υη^ eN+? s'n<^ νθΓϊ?'Ιηα^ praktisch identisch mit den Elektroden e,, e~ ..., wohingegen die Elektrode e^.^ in Ladungsübertragungsrichtung gesehen (von links nach rechts) langer ausgebildet ist, um den Wert des KbeffTzienten für unvollständige Übertragung einer Signal ladung von der der Elektrode e^. „ zugeordneten Stufe aus zu erhöhen. Die p-leitende Zone p(N+l) unter der Elektrode e^. . ist typischerweise weitgehend identisch mit pO), p(2), .. gemacht. Andererseits sind die p-leitenden Zonen p(N+2) und p(N+3) quer zur Ladungsübertragungsrichtung verlängert, um dort zu Anschlußkontakten 21 und 22 zu führen, die das Oxyd auf dem Siliciumkristall 11 durchdringen. Gleichzeitig verläuft eine ρ -leitende Zone p(N+4) unterhalb der Elektrode e>,^ längs der Oberfläche des Siliciumkristalls llzu einer Abflußelektrode e- (Senke), die zu Anschiußzwecken an die Zone p(N+4) das Oxyd durchdringt. Es sei bemerkt, daß die Zonen P(o) und p(N+4) zumeist höhere p-Leitfähigkeit als die anderen p-Zonen p(l) , p(2), .... o(N+2)„ p(N+3) haben. Eine Batterie 25 liefert ausreichend negative Spannung zur Elektrode βς zum Sammeln (Auslöschen) der elektronischen Löcher, die während des Betriebs von unterhalb der Elektrode e>, „ auf unterhalb der Elektrode βν, . übertragen worden sind.Auxiliary BBD has electrodes e *. ., e ». _, e .. _, & κι, λ on the surface of the oxide on the same crystal 11, v / obei wiedoaim assigned p-conductive zones p (N + 1), p (N + 2), p (N + 3) , p (N + 4) are provided. The electrodes ej,., E N + 9 υη ^ e N +? s ' n < ^ νθΓ ϊ?' Ι ηα ^ practically identical to the electrodes e ,, e ~ ..., whereas the electrode e ^. ^ seen in the direction of charge transfer (from left to right) is longer by the value of the KbeffTzienten for incomplete transfer of a signal charge from that of the electrode e ^. "To increase assigned level. The p-conductive zone p (N + l) under the electrode e ^. . is typically made largely identical to pO), p (2), ... On the other hand, the p-conductive zones p (N + 2) and p (N + 3) are elongated transversely to the direction of charge transfer in order to lead there to connection contacts 21 and 22 which penetrate the oxide on the silicon crystal 11. At the same time a ρ -conducting zone p (N + 4) runs below the electrode e>, ^ along the surface of the silicon crystal ll to a drain electrode e- (sink), which penetrates the oxide for connection purposes to the zone p (N + 4). It should be noted that the zones P (o) and p (N + 4) mostly have a higher p-conductivity than the other p-zones p (1), p (2), .... o (N + 2) " have p (N + 3). A battery 25 supplies sufficient negative voltage to the electrode β ς to collect (extinguish) the electronic holes that occur during operation from below the electrode e>, “to below the electrode βν,. have been transferred.

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Die Elekirodenkontakte 21 und 22 sind mit elektrischen Signalladungssensoren Q1 bzw. Q9 Verbunden, die auf die Ubertragungssignalladung Q in den Zonen p(N+2) bzw. p(N+3) ansprechen. Diese Sensoren liegen am Eingang eines Differenzversiärkers 23., dessen Ausgang zu einem hierauf ansprechenden Detektor zur Weiterverwendung führt.The electrode contacts 21 and 22 are connected to electrical signal charge sensors Q 1 and Q 9 , respectively, which respond to the transmission signal charge Q in the zones p (N + 2) and p (N + 3), respectively. These sensors are at the input of a differential amplifier 23, the output of which leads to a detector which responds to this for further use.

Da alle Übertragungsstufen im Halbleiter 11, die den Elektroden e , e„ ... e». ., eKijo/ eKj.q zugeordnet sind, typischerweise weitgehend gleich sind (außer der Zuordnung zu den verschiedenen Phasen Q--.. und ^t λ der Taktspannungen), wird der Koeffizient für unvollständige Ladungsübertragung, der diesen Stufen zugeordnet ist, gleichfalls weitgehend identisch sein. Andererseits ist gemäß der Erfindung die Elektrode eM-i_/T m'* 'nrer zugeordneten p-Zone p(N+4) vergleichsweise lang in LadungsUbertragungsrichtung ausgebildet (und/oder quer zur Übertragungsrichtung, gegebenenfalls vergleichsweise schmal gehalten), um den zugeordneten Koeffizienten (A für unvollständige Übertragung so einzustehen, daß er von der Größenordnung, vorteilhafterweise wenigstens annähernd gleich, der Summe der Koeffizienten für unvollständige Übertragung der Ubertragungsstufen ist, die den Elektroden e , e„, e_ ... e.., e , eK|4.o "'1^ eKi.q zugeordnet sind. Beispielsweise da unvollständige Ladungsübertragung annähernd direkt proportional zum Quadrat derSince all transmission stages in the semiconductor 11, which the electrodes e, e "... e". ., e Kijo / e Kj.q are typically largely the same (except for the assignment to the various phases Q-- .. and ^ t λ of the clock voltages), the coefficient for incomplete charge transfer assigned to these stages is also be largely identical. On the other hand, according to the invention, the electrode e M-i_ / T m '*' nr associated p-zone p (N + 4) is made comparatively long in the charge transfer direction (and / or transversely to the transfer direction, possibly kept comparatively narrow) around the assigned Coefficients (A to be responsible for incomplete transmission in such a way that it is of the order of magnitude, advantageously at least approximately equal to the sum of the coefficients for incomplete transmission of the transmission stages, which the electrodes e, e ", e_ ... e .., e, e K | 4.o "' 1 ^ e Ki.q. For example, since incomplete charge transfer is almost directly proportional to the square of the

40 9683/098 740 9683/098 7

Elektrodenlänge in Ladungsübertragungsrichtung ist, wird unter der Annahme gleicher Koeffizienten (X für die vorausgehenden (N+3) Stufen beispiels-Electrode length in the charge transfer direction is assumed equal coefficients (X for the preceding (N + 3) stages, for example

1/2 weise die Länge der Elektrode e. ■ . vorteilhaft um den Faktor (N+3) langer gemacht, während die Breite dieser Elektrode quer zur Ladungstransportnehrung gleich gehalten wird wie die der anderen E lektroden.1/2 wise the length of the electrode e. ■ . advantageously made longer by the factor (N + 3), while the width of this electrode is kept the same transverse to the charge transport mitigation as that of the other electrodes.

FIG. 2 zeigt ein typisches Diagramm des Signal ladungsverha I tens Q der Signa Iladungssensoren Q. und GL in FIG. 1 als Funktion der Zeit. Der Ausgang dieser Sensoren ist mit einem Differenzverstärker 23 (FIG. 1) verbunden, um ein Ausgangssignal für den Verbraucher 24 zu erhalten, das proportional zu Q,-GL ist. Vorteilhaft wird das Ausgangssignal Q1-Q- zu Weiterverwendungszwecken nur während eines ausgewählten Zeitintervalls innerhalb einer Zeitlage t. bis tR abgetastet, wobei diese letztere Zeitlage t. bis tR definiert ist als jene Zeitlage, während derer das Ladungsverhalten Q. wenigstens nahezu (innerhalb 10 %) seinem Maximalwert ist. Das ausgewählte Zeitintervall zum Abtasten von Q,-Q„ kann durch Auftasten des Differenzverstärkers 23 während des ausgewählten Zeitintervalls innerhalb der Zeitlage f. bis tR nach üblichen Methoden gesteuert werden. Dadurch wird das Signal Q-Q- während eines ausgewählten Zeitintervalles (innerhalb t. t„) ein korrigiertes Ausgangssignal für die N-stufige Vorrichtung 10. Während Q„ das Fehlersignal darstellt, ist Q1 das unkorrigierteFIG. 2 shows a typical diagram of the signal charge behavior Q of the signal charge sensors Q. and GL in FIG. 1 as a function of time. The output of these sensors is connected to a differential amplifier 23 (FIG. 1) in order to obtain an output signal for the consumer 24 which is proportional to Q, -GL. The output signal Q 1 -Q- is advantageously only used for purposes of further use during a selected time interval within a time slot t. to t R , this latter time slot t. to t R is defined as that time slot during which the charge behavior Q. is at least almost (within 10%) of its maximum value. The selected time interval for sampling Q, -Q “can be controlled by keying in the differential amplifier 23 during the selected time interval within the time slot f to t R according to conventional methods. As a result, the signal QQ- becomes a corrected output signal for the N-stage device 10 during a selected time interval (within t. T "). While Q" represents the error signal, Q 1 is the uncorrected one

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Ausgangssignal, so daß Q1-Q,. das korrigierte Ausgangssignal darstellt. Es sei bemerkt, daß das maximale Ladungsverhalten von Q- kleiner ist als das von Q| wegen des vergleichsweise großen Koeffizienten für unvollständige Ladungsübertragung von unterhalb der Elektrode e^ « auf e^· ,j 'm Vergleich zu der Übertragung von unterhalb der Elektrode e». „ auf e>.,„.Output signal so that Q 1 -Q ,. represents the corrected output signal. It should be noted that the maximum charge behavior of Q- is smaller than that of Q | because of the comparatively large coefficient for incomplete charge transfer from below the electrode e ^ "to e ^ ·, j ' m compared to the transfer from below the electrode e". "On e>.,".

Während die Vorrichtung 10als N-Stufen-BBD dargestellt ist, sollte es sich verstehen, daß auch andere Halbleiter-Ladungsüberfragungsvorrichtungen, beispielsweise ein CCD, benutzt werden können. Beispielsweise eignet sich für die Vorrichtung 10 auch ein CCD mit abgestufter Oxydschicht. Außerdem können CCD's gleichfalls als die als Filter wirkende Hilfsvorrichtung (die den Elektroden e^,,., eKi,or eM+T βκ·^ zugeordnet sind) benutzt werden. Da jedoch CCD's generell keine p-Zonen haben, sollten die entsprechenden Elektroden e., _, e^. _ und &K,_y, ausreichend Abstand von einander haben, um p-Zonen als Ladungsfestsfel!mittel einführen zu können, die dann mit den Ladungssensoren Q. und Q~ über die Elektrodenkontakte 21 bzw. 22 zu verbinden wären.While device 10 is illustrated as an N-stage BBD, it should be understood that other semiconductor charge transfer devices, such as a CCD, may also be used. For example, a CCD with a graded oxide layer is also suitable for the device 10. In addition, CCDs can also be used as the auxiliary device acting as a filter (which are assigned to the electrodes e ^ ,,., E Ki, or e M + T βκ · ^). However, since CCDs generally have no p-zones, the corresponding electrodes should e., _, E ^. _ and & K, _y, have sufficient distance from one another to be able to introduce p-zones as fixed charge fields, which would then have to be connected to the charge sensors Q. and Q ~ via the electrode contacts 21 and 22, respectively.

Vorteilhaft sind alle Koeffizienten für unvollständige Übertragung in der Vorrichtung 10 und für alle Übertragungen außer der letzten (von e^. „ auf OKj rJ der Hilfsladungsübertragungsvorrichtung untereinander gleichAll coefficients are advantageous for incomplete transmission in the Device 10 and for all transmissions except the last one (from e ^. " on OKj rJ of the auxiliary charge transfer device are equal to each other

A 0 988 3/0987A 0 988 3/0987

auf innerhalb 10 % auf Analogsignalübertragung und auf innerhalb 50 °/o für Digitalsignalübertragung, und weiterhin ist vorteilhaft der Koeffizient bei der letzten Übertragung auf innerhalb etwa 10 °/o gleich der Summe alier dieser Koeffizienten, um eine brauchbare Korrektur im Ausgangssignal Q, -GL zu haben.to within 10% to analog signal transmission, and to within 50 ° / o for digital signal transmission, and is further advantageous, the coefficient for the last transmission to within about 10 ° / o equal to the sum alier these coefficients to a useful correction in the output signal Q, -GL to have.

FIG. 3 zeigt eine N-stufige Zweiphasen-Ubertragungsvorrichtung zusammen mit einer (filternden) Hilfsübertragungsvorrichtung. Die η-stufige Über tragungsvorrichtung ist durch N-Übertragungsstellen T-, T-, L, .... T. . zusammen mit N-Überfragungen gebildet, wobei jede Übertragung durch einen Koeffizienten für unvollständige Übertragung (Ä,., O(~r <X .. bzw. oC γ. der Übertragungseinheit (Signa!einheit) gekennzeichnet ist, die von Stelle zu Stelle unter dem Einfluß einer Zweiphasen-Takfquelle 30 übertragen wird. Dieser Koeffizient ^ ist auf dieselbe Weise anhand der Übertragungssignaleinheit Q definiert, wie vorheriX anhand einer elektrischen SignaIladung bei CTD's definiert wurde. Die Hi^übertragungsvorrichtung ist durch Übertragungssfelien Tv.., Τκι,ολ Tj, „ und T>,^ mit Koeffizienten für unvollständige Übertragung CK ^+1, 0 gebildet.FIG. 3 shows an N-stage two-phase transmission device together with an auxiliary (filtering) transmission device. The η-stage over transmission device is through N-transmission points T, T, L, .... T.. formed together with N-transmissions, each transmission being characterized by a coefficient for incomplete transmission (Ä,., O (~ r <X .. or oC γ the influence of a two-phase clock source 30. This coefficient is defined in the same way on the basis of the transmission signal unit Q as was previously defined on the basis of an electrical signal charge at CTDs. „And T>, ^ formed with coefficients for incomplete transmission CK ^ +1 , 0 .

Ein Eingangssignal zur Stelle T, (FIG. 3) wird von einer Eingangsquelle I eingespeist, die eine Folge von Signalen in der Form der UbertragungseinheitAn input signal to point T, (FIG. 3) is from an input source I. fed in a sequence of signals in the form of the transmission unit

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Q an diese erste Übertragungssielle T. für eine nachfolgende Übertragung auf T~, T„ usw. unter dem Einfluß der Taktquelle 30 liefert. Ein Paar Sensoren Q, und Q„, die je auf die Ubertragungssignaleinheit Q bei den Stellen L „ bzw. T\, „■ während einer geeigneten gemeinsamen Zeitlage relativ zu den Taktphasen Cp, und 9^« (beispielsweise empirisch zu ermitteln) ansprechen, liefern diese gleichzeitig erhaltenen Signale zu einem Differenzdetektor D zur Feststellung und Weiterverwendung des gewünschten Ausgangsdifferenzsignals Q-GL. Entsprechend der Erfindung wird C'^ , gleich der Summe aller (J\-Werte der vorangegangenen Stufen gemacht, d.h.Q supplies this first transmission line T. for a subsequent transmission on T 1, T 1, etc. under the influence of the clock source 30. A pair of sensors Q 1 and Q ", which each respond to the transmission signal unit Q at the points L" and T \, "■ during a suitable common time slot relative to the clock phases Cp, and 9 ^" (to be determined empirically, for example), deliver these simultaneously received signals to a difference detector D for the determination and further use of the desired output difference signal Q-GL. According to the invention, C '^, is made equal to the sum of all (J \ values of the previous stages, ie

a NH-3 = °S + <V V ·- + «N + * + *W a NH-3 = ° S + <VV · - + «N + * + * W

Außerdem wird der Koeffizient für unvollständige Übertragung (X Kl . derIn addition, the coefficient for incomplete transmission (X Kl . Der

* " In+4* "In + 4

Einheit Q von der letzten Stelle Tt>j4i zu einer Senke S (zur Vernichtung jeglicher übertragenen Einheit) kleiner gemacht als CKK, .Q f um eine unerwünschte Ladungseinheit-Ansammlung an der Übertragungsstelle T». . zu vermeiden.Unit Q from the last digit T t> j4 i to a sink S (to destroy any transmitted unit) made smaller than CK K,. Q f about an undesired accumulation of charge units at the transfer point T ». . to avoid.

Es sei bemerkt, daß jede der Übertragungsstellen T., T^ ,... (FIG. 3) einer Speicherzone im Halbleiter 11 (FIG. 1) unterhalb den entsprechenden Elektroden e,, e~,.... entspricht. Außerdem sei bemerkt, daß das Signal Q1 das unkorrigierte Ausgangssignql ist und daß das Signal Q_ die Korrektur für das Signal Q, ist, so daß Q, -Q_ das korrigierte Ausgangssignal, wiegewünscht,It should be noted that each of the transfer points T., T ^, ... (FIG. 3) of a memory area in the semiconductor 11 (FIG. 1) corresponds to below the corresponding electrode e ,, e ~ ..... It should also be noted that the signal Q 1 is the uncorrected output signal and that the signal Q_ is the correction for the signal Q i, so that Q, -Q_ is the corrected output signal, as desired,

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-Ιό--Ιό-

darstellt. Der Grund für die gesonderte Ubertragungsstelle T. . . zwischen Τ», und Tj. « ist der, das υ nkorri gierte Signal Q1 und folglich das korrigierte Signal Q1-Q. in Phase mit der zweiten Taktphase Cp^ zu erzeugen;, es kann also die Stelle T. . 1 weggelassen werden, wenn das Signal Q1 und damit die Differenz Q1-Q9 in Phase mit der ersten Taktphase Cp , sein soll und nicht in Phase mit der zweiten Taktphaserepresents. The reason for the separate transmission point T.. . between Τ », and Tj. «Is that, the corrected signal Q 1 and consequently the corrected signal Q 1 -Q. in phase with the second clock phase Cp ^ ; so the point T.. 1 can be omitted if the signal Q 1 and thus the difference Q 1 -Q 9 should be in phase with the first clock phase Cp and not in phase with the second clock phase

FIG. 4 zeigt eine Dreiphasen-Übertragungsvorrichtung mit einer (filternden) Hilfsübertragungsvorrichtung entsprechend einer weiteren Ausführungsform der Erfindung. Die Anordnung ähnelt in vielerlei Hinsicht der nach FIG. 3, deshalb sind entsprechende Elemente mit entsprechenden Bezugsziffern versehen. Wiederum ist jede Ubertragungsstufe durch eine Ubertragungsstelle T und einen Koeffizienten ^Λ für unvollständige Übertragung gekennzeichnet, in Verbindung mit FIG. 4 ist zu bemerken, daß entsprechend der Erfindung CK^. c wenigstens von der Größenordnung von, und vorteilhaft annähernd gleich 0( + 0( + Pi ist und daßFIG. 4 shows a three-phase transmission device with an auxiliary (filtering) transmission device according to a further embodiment of the invention. The arrangement is similar in many respects to that of FIG. 3, therefore corresponding elements are provided with corresponding reference numbers. Again, each transmission stage is characterized by a transmission point T and a coefficient ^ Λ for incomplete transmission, in conjunction with FIG. 4 it should be noted that according to the invention, CK ^. c of at least the order of magnitude of, and advantageously approximately equal to 0 (+ 0 (+ Pi i s t and that

vorteilhaft kleiner als ^Xki.c ist. is advantageously less than ^ Xki.c.

Offensichtlich kann der Sensor Q. (FlG. 4) so angeschaltet werden, daß er auf die Ubertragungseinheif Q an der Stelle Τ». , oder L, « statt anObviously, the sensor Q. (FlG. 4) can be switched on so that it to the transfer unit Q at the point Τ ». , or L, «instead of an

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der Stelle "L. _ mit einer begleitenden Phasenänderung im Ausgang anspricht und daß dann der Sensor GL mit der Übertragungsstufe zu verbinden ist, die um eine Übertragungsstufe entfernt, und zwar auf der Ausgangsseife der Übertragungskette, von jener Ubertragungsstufe gelegen ist, an welche der Sensor Q, angeschlossen ist. In jedem Fall ist GL das Ausgangssignal jener Ubertragungsstufe, deren Koeffizient (X gleich der Summe der übrigen ist.the point "L. _ responds with an accompanying phase change in the output and that the sensor GL is then to be connected to the transmission stage which is one transmission stage away, namely on the output soap of the transmission chain, from that transmission stage to which the sensor is located Q. In each case, GL is the output signal of that transmission stage whose coefficient (X is equal to the sum of the others.

Aus dem Vorstehenden ergibt sich, daß die Erfindung insbesondere auf dreiphasige (oder mehrphasige) HaIbleiter-Ladungsübertragungsvorrichtungen anwendbarist, es muß hierzu nur jede der Speicherstellen T-, T„ ... (FIG. A) als einer Halbleiterzone unterhalb einer Elektrode e., e_ ... (FIG. 1) auf einer Oxydschichi auf der Oberfläche eines Halbleiterkristalls zugeordnet betrachtet werden, d. h. jede Übertragungsstelle T (FIG. 3 oder FIG. 4) ist eine Verallgemeinerung jedes MOS-Kondensatorelementes der FIG. 1.From the above it follows that the invention is particularly applicable to three-phase (or multiphase) semiconductor charge transfer devices; for this purpose, each of the storage locations T-, T "... (FIG. A) need only be used as a semiconductor zone below an electrode e., e_. 1.

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Claims (9)

24298332429833 BLUsViBACH ■ WESER > LSERG:^; & Ki^viER PATENTANWÄLTE ΪΝ WIESBADEN UND MÜNCHENBLUsViBACH ■ WESER> LSERG: ^; & Ki ^ viER PATENTANWÄLTE ΪΝ WIESBADEN AND MUNICH DlPL-ING. P. G. BLUMBACH - DiPL-PHYS. DR. W. WESER - DIfL-ING. DR. JUR. F. BERGEN DlPL-ING. R. KRAMERDlPL-ING. P. G. BLUMBACH - DiPL-PHYS. DR. W. WESER - DIfL-ING. DR. JUR. F. BERGEN DIPL-ING. R. KRAMER WIESBADEN · SONNENBERGER STRASSE 43 - TEL. (06121) 562?<3, 5S1?98 MÜNCHENWIESBADEN · SONNENBERGER STRASSE 43 - TEL. (06121) 562? <3, 5S1? 98 MUNICH PATENTANSPRÜCHEPATENT CLAIMS Übertragungsvorrichtung mit einem ersten Abschnitt mit N aufeinanderfolgenden Übertragungsstufen (e ... ej zum sequentiellen Übertragen einer Übertragungssignaleinheit von Stufe zu Stufe in einer Übertragungsrichtung, dadurch gekennzeichnet, daß ein mit dem Ausgang des ersten Abschnittes gekoppelter zweiter Abschnitt mit wenigstens zwei Übertragungsstufen vorgesehen ist, von denen eine Stufe (e.. ,) einen Koeffizienten unvollständiger Übertragung (/X) aufweist, der von der Größenordnung der Summe der Koeffizienten unvollständiger Überfragung aller vor der einen Stufe befindlichen Stufen ist.Transfer device having a first section with N consecutive Transmission stages (e ... ej for sequential transmission a transmission signal unit from stage to stage in a transmission direction, characterized in that a second section coupled to the output of the first section and having at least two transmission stages is provided, one of which is a stage (e ..,) a coefficient incomplete transfer (/ X) that is of the order of magnitude is the sum of the coefficients of incomplete questioning of all stages before the one stage. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Koeffizient unvollständiger Übertragung wenigstens annähernd (auf innerhalb etwa 10 %) gleich der Summe ist.2. Apparatus according to claim 1, characterized in that the coefficient of incomplete transmission is at least approximately (to within about 10 %) equal to the sum. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch auf die eine Stufe ansprechende Mittel (GL) zum Feststellen der Differenz in3. Apparatus according to claim 1, characterized by responsive to the one stage means (GL) for determining the difference in 409883/0987409883/0987 der Größe, der Übertragungseinheit in der einen Stufe gegenüber einer anderen Stute (e. .■ _) während eines vorbestimmten Zeitintervalls.the size of the transmission unit in one stage versus another Mare (e.. ■ _) during a predetermined time interval. 4. Vorrichiung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,, daß die andere Stufe (e. . «) in der zweiten Übertragungsvorrichtung gelegen ist.4. Vorrichiung according to claim 3, characterized in, that the other stage (e.. «) is located in the second transmission device. 5. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 3, gekennzeichnet durch mit der ersten Übertragungsstufe der ersten Übertragungsvorrichtung verbundene Mittel (20) zum Einführen eines Eingangssignals zur ersten Übertragungsstufe für eine nachfolgende Übertragung durch die erste und zweite Übertragungsvorrichtung. 5. Apparatus according to claim 1 or 3, characterized by with means (20) connected to the first transmission stage of the first transmission device for introducing an input signal to the first transmission stage for subsequent transmission by the first and second transmission devices. 6 . Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und zweite Übertragungsvorrichtung je Ladungsübertragungs-Halbleitervoirichtungen (11) sind, die in einen einzigen Halbleiterkristall integriert sind.6th Device according to claim 1 or 2, characterized in that that the first and second transfer devices each have charge transfer semiconductor reservoirs (11) are incorporated into a single semiconductor crystal are integrated. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, gekennzeichnet durch eine Taktimpulsquelle (20, Φ,, Φ*jlι die sequentiell an die Übertragungsstufen in wenigstens der eisten Übertragungsvorrichtung zum Übertragen lokalisierter elektrischer Ladungsansammlungen von einer Stufe zur nächsten durch die erste und zweiIo Übertragungsvorrichtung hindurch.7. The device according to claim 6, characterized by a clock pulse source (20, Φ ,, Φ * jlι the sequential to the transfer stages in at least the eisten transfer device for transferring localized accumulations of electrical charge from one stage to the next through the first and two transfer device through. 409883/0 98 7409883/0 98 7 8. Übertragungsvorrichtung nach Anspruch 6r dadurch gekennzeich net, daß die Koeffizienten unvollständiger Übertragung aller Übertragungsstufen in der ersten Vorrichtung einschließlich des der anderen Stufe in der zweiten Vorrichtung wenigstens annähernd (auf innerhalb etwa 10 °/o) einander gleich sind.8. Transmission device according to claim 6 r characterized in that the coefficients of incomplete transmission of all transmission stages in the first device including that of the other stage in the second device are at least approximately (to within about 10 %) equal to each other. 9. Übertragungsvorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeich net, daß die zweite Übertragungsvorrichtung eine Eimerkettenvorrichtung
(FIG. 1) ist.
9. Transfer device according to claim 6, characterized in that the second transfer device is a bucket chain device
(FIG. 1).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0025167A2 (en) * 1979-09-11 1981-03-18 Siemens Aktiengesellschaft Input stage for a monolithic integrated charge transfer device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0025167A2 (en) * 1979-09-11 1981-03-18 Siemens Aktiengesellschaft Input stage for a monolithic integrated charge transfer device
EP0025167A3 (en) * 1979-09-11 1984-02-01 Siemens Aktiengesellschaft Input stage for a monolithic integrated charge transfer device

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