DE2420372A1 - LIGHT SENSITIVE MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF - Google Patents
LIGHT SENSITIVE MATERIAL AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOFInfo
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Description
Dipl.-lng. K. GU NSCHMANN Steinsdorfstraße ΙΟ Dipl.-Ing. K. GU NSCHMANN Steinsdorfstrasse ΙΟ
Dr.rer. nat. W. KÖRBER Dipl.-lng. J. SCHMIDT-EVERSDr.rer. nat. W. KÖRBER Dipl.-Ing. J. SCHMIDT-EVERS
26. April 1972*April 26, 197 2 *
VICKERS LIMITED
Vickers House
Millbank Tower, Millbank London SW 1 / EnglandVICKERS LIMITED
Vickers House
Millbank Tower, Millbank London SW 1 / England
PatentanmeldungPatent application
Lichtempfxndliches Material und Verfahren zu dessen HerstellungPhotosensitive material and process for its manufacture
Die Erfindung betrifft lichtempfindliches Material und insbesondere ein solches lichtempfindliches Materials, das sich zur Herstellung von Druckplatten eignet.The invention relates to photosensitive material and in particular such a photosensitive material which is suitable for making printing plates.
Durch die Erfindung wird ein lichtempfindliches Material geschaffen, das durch ein Produkt gebildet wird, welches' dadurch erhalten werden kann, daß ein Polymeres, welches eine Vielzahl von Epoxidgruppen, Hydroxylgruppen oder primären und/oder sekundären Aminogruppen enthälts mit der Halosulfonylgruppe mindestens einer Verbindung von derThe invention provides a light-sensitive material is provided which is formed by a product, which 'can be obtained in that a polymer which s includes a plurality of epoxy groups, hydroxyl groups or primary and / or secondary amino groups with the Halosulfonylgruppe at least one compound of the
— '2 —- '2 -
allgemeinen Formelgeneral formula
. ,COOH X:- R - (CR1 β CR2)a - CR =. , COOH X : - R - (CR 1 β CR 2 ) a - CR =
umgesetzt wird, wobei R ein aromatisches Radikal darstellt, das wahlweise mit einer oder mehreren Gruppen zusätzlich zu der X-Gruppe substituiert werden kann, a entweder 0 oder 1 ist, R^3 R2 und R3, die gleich oder verschieden sein können, je ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Cyangruppe, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Aryloxygruppe, eine Aralkylgruppe oder eine Ära lkoxy gruppe darstellt, R1^ ein Wasserstoffatom darstellt, wenn a gleich 1 ist oder wenn a = 0 oder 1, eine Alkyl- oder Alkoxycarbony!gruppe oder, noch mehr bevorzugt, eine Gruppe ausgewählt aus den Carboxyl-, Cyan-, entaktivierten Phenyl- und Halosulfonylphenylgruppen, und X eine Halosulfonylgruppe darstellt, oder in dem Falle, in welchem R1^ eine Halosulfonylpheny 1-gruppe darstellt und nur dann eine Entaktivierungsgruppe.is reacted, wherein R represents an aromatic radical which can optionally be substituted with one or more groups in addition to the X group, a is either 0 or 1, R ^ 3, R2 and R 3 , which can be the same or different, each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an aralkyl group or an alkoxy group, R 1 ^ represents a hydrogen atom when a is 1 or when a = 0 or 1, an alkyl or alkoxycarbony! group or, more preferably, a group selected from the carboxyl, cyano, deactivated phenyl and halosulfonylphenyl groups, and X represents a halosulfonyl group, or in the case in which R 1 ^ is a halosulfonylphenyl group. group and only then a deactivation group.
Wenn R1, eine Halosulf onylpheny lgruppe ist, muß eine Entaktivierungsgruppe, beispielsweise ein Halogensübstituent, an dem aromatischen Radikal R vorhanden sein, um das Eintreten einer Halosulfonylgruppe in R zu verhindern, was zu einer Vernetzung zwischen R und R4 führen würde. In ähnlicher Weise muß, wenn X eine Halosulfonylgruppe ist und R1^ eine Pheny!gruppe, R1^ eine Entaktivierungsgruppe enthalten.When R 1 is a halosulfonylphenyl group, a deactivating group, for example a halogen substituent, must be present on the aromatic radical R in order to prevent a halosulfonyl group from entering R, which would lead to crosslinking between R and R 4 . Similarly, when X is a halosulfonyl group and R 1 ^ is a pheny group, R 1 ^ must contain a deactivating group.
Es ist für R4 in der Formel besonders zu bevorzugen, daß es eine Carboxylgruppe enthält, da hierdurch die Alkali-It is particularly preferable for R 4 in the formula that it contains a carboxyl group, since this results in the alkali
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löslichkeit des lichtempfindlichen Materials verbessert wird. Es ist ferner besonders zu bevorzugen,.daß a in der Formel einen Wert von Eins statt von Null hat, da die resultierende erhöhte Ungesättigkeit die Lichtempfindlichkeit des Materials erhöht.solubility of the photosensitive material is improved. It is also particularly preferable that a in of the formula has a value of one instead of zero because the resulting increased unsaturation increases photosensitivity of the material increased.
In dem Falle, in welchem das Polymere eine Vielzahl von Hydroxylgruppen enthält, kann es beispielsweise sein ein. Epoxy- oder Phenoxyharz (abgeleitet von einem Bisphenol und Epichlorhydrin); Poly(vinylalkohol); ein teilweise hydrolysiertes Poly(vinylester) wie PοIy(vinylalkoholacetat); ein natürlich vorkommendes Material wie Cellulose oder Stärke und Derivate hiervon, die durch eine teilweise Veresterung oder Verätherung, z.B. Hydroxypropy!cellulose, gebildet worden sind; Poly(hydroxyäthylacrylat) oder PoIy(hydroxyäthylmethacrylat); teilweise hydrolysierte Acetale, wie teilweise hydrolysiertes Poly(vinylbutyral), teilweise hydrolysiertes Poly(vinylcinnamal) und Gemische hiervon; ein Kondensationsprodukt von Phenol oder ein substituiertes Phenol mit einem Aldehyd z.B. Phenolformaldehydharz, Resorcinolformaldehydharz.und 2,4-dihydroxybenzoesäure-formaldehydharz; oder ein Kondensationsprodukt aus einem substituierten oder nicht substituierten Phenoxyalkanol mit einem Aldehyd, z.B. das durch Kondensieren von 2-Phenoxyäthanol mit Formaldehyd gebildete Harz. Die Kondensationsprodukte von Phenolen und Phenoxyalkanolen mit Aldehyden unterscheiden sich durch den folgenden MolekülbauIn the case where the polymer has a variety of Contains hydroxyl groups, it can be, for example, a. Epoxy or phenoxy resin (derived from a bisphenol and epichlorohydrin); Poly (vinyl alcohol); a partially hydrolyzed poly (vinyl ester) such as PοIy (vinyl alcohol acetate); a naturally occurring material such as cellulose or starch and derivatives thereof that are partially produced by a Esterification or etherification, e.g. hydroxypropyl cellulose, have been formed; Poly (hydroxyethyl acrylate) or Poly (hydroxyethyl methacrylate); partially hydrolyzed Acetals such as partially hydrolyzed poly (vinyl butyral), partially hydrolyzed poly (vinyl cinnamal), and mixtures of this; a condensation product of phenol or a substituted phenol with an aldehyde e.g. phenol-formaldehyde resin, Resorcinol formaldehyde resin and 2,4-dihydroxybenzoic acid formaldehyde resin; or a condensation product of a substituted or unsubstituted one Phenoxyalkanol with an aldehyde, e.g. the resin formed by the condensation of 2-phenoxyethanol with formaldehyde. The condensation products of phenols and phenoxyalkanols with aldehydes differ in the following Molecular construction
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wobei η mindestens 2 ist; R5 von 0 bis 3 Substituenten darstellt, die aus den Alkyl-, Halogen-, Alkoxy-, Hydroxy-, Aryl- und Aralkylgruppen ausgewählt sind; Rg eine Hydroxy- oder Hydroxyalkoxygruppe darstellt; und R7 eine Wasserstoff- oder eine niederere Alkyl-, Aryl-oder Aralkylgruppe dars te11t.where η is at least 2; R 5 represents from 0 to 3 substituents selected from the alkyl, halogen, alkoxy, hydroxy, aryl and aralkyl groups; R g represents a hydroxy or hydroxyalkoxy group; and R 7 represents a hydrogen or a lower alkyl, aryl or aralkyl group.
In dem Falle, in welchem das Polymere eine Vielzahl von primären und/oder sekundären Aminogruppen enthält, kann es beispielsweise sein Poly(äthylenimin); Poly(vinylamin); ein Anilin-formaldehydharz; oder das Produkt, das erhalten wird durch Kondensieren eines Styrolmaleinsäureanhydrid-Copolymeren oder eines Alkylvinyläthermaleinsäureanhydrid-Copolymeren mit einem Überschuß an einem aliphatischen oder aromatischen Diamin, welches Produkt durch die folgende sich wiederholende Einheit gekennzeichnet ist:In the case where the polymer contains a multiplicity of primary and / or secondary amino groups, can it is, for example, poly (ethyleneimine); Poly (vinylamine); an aniline-formaldehyde resin; or the product that received is made by condensing a styrene maleic anhydride copolymer or an alkyl vinyl ether maleic anhydride copolymer with an excess of an aliphatic or aromatic diamine, which product through the following repeating unit is labeled:
CH CH GH— OEt-.CH CH GH - OEt -.
ι - ι ?- ι - ι ? -
C=O COOHC = O COOH
0
ο 0
ο
wobei Rg eine aliphatische oder aromatische Gruppe darstellt und R eine Alkoxy- oder Phenoxygruppe ist.where Rg represents an aliphatic or aromatic group and R is an alkoxy or phenoxy group.
In dem Falle, in welchem das Polymere Epoxidgruppen enthält, kann es ein Epoxyharz sein, hergestellt durch Kondensieren von Epichlorhydrin und beispielsweise Bisphenol A oder ein Novolak-Epoxyharz hergestellt durch Kondensieren eines Phenol- (oder Cresol-)formaldehyd-Novolakharz und Epichlorhydrin.In the case where the polymer contains epoxy groups, it may be an epoxy resin made by Condensation of epichlorohydrin and, for example, bisphenol A or a novolak epoxy resin produced by Condensing a phenol (or cresol) formaldehyde novolak resin and epichlorohydrin.
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Geeignete Verbindungen, die eine Halosulphonylgruppe enthalten, sind:Suitable compounds that have a halosulphonyl group included are:
ti)ti)
/1.1 /^r/1.1 / ^ r
C U cC U c
ChlorsulfonylcinnamylidenmalonsäureChlorosulfonylcinnamylidene malonic acid
coo\\coo \\
Chlorsulf onyl- <& -chlor-cinnamyliderimalonsäureChlorosulfonyl- <& -chlorocinnamyliderimalonic acid
c\-\ =' CA- CU-CL c \ - \ = ' CA- CU-CL
ChlorsulfonylcinnamylidencyanessxgsäureChlorosulfonylcinnamylidenecenetic acid
r jr j
CH=CCH = C
COOHCOOH
et - (Chlorosulf onylphenyl)-chlorζ imtsäureet - (Chlorosulfonylphenyl) -chlorζ imtic acid
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μ cooHμ cooH
Chlor sulfonyl- <λ - (chlorphenyl) zimtsäure Chlorine sulfonyl- <λ - (chlorophenyl) cinnamic acid
Solche Verbindungen können einzeln, in Kombination miteinander oder in Kombination mit einem oder mehreren Halogeniden oder anderen aromatischen Sulfonsäuren und von aliphatischen und aromatischen Carbonsäuren verwendet werden, welche Halogenide keine freien Carbonsäuregruppen enthalten. So kann beispielsweise die Verbindung bzw. können die Verbindungen, welche die angegebene Halosulfonylgruppe enthalten, in Kombination mit den Halogeniden verwendet werden, beispielsweise Chloride von p-Toluolsulfonsäure, Essigsäure, Propionsäure, Benzoesäure, p-Azidbenzoesäure oder Zimtsäure. Die Reaktion von solchen sauren Halogeniden, die nicht freie Carbonsäuregruppen enthalten, mit dem Polymeren kann nicht nur gleichzeitig mit der Reaktion der angegebenen eine Halosulfonylgruppe enthaltenden Verbindung von der obigen allgemeinen Formel stattfinden, sondern auch vorher oder nachher.Such compounds can be used individually, in combination with one another or in combination with one or more Halides or other aromatic sulfonic acids and of aliphatic and aromatic carboxylic acids are used which halides have no free carboxylic acid groups contain. For example, the compound or compounds containing the specified halosulfonyl group contain, can be used in combination with the halides, for example chlorides of p-toluenesulphonic acid, Acetic acid, propionic acid, benzoic acid, p-azidbenzoic acid or cinnamic acid. The reaction of such acidic Halides that do not contain free carboxylic acid groups with the polymer can not only simultaneously with the Reaction of the specified halosulfonyl group-containing compound of the above general formula take place, but also before or after.
Das erfindungsgemäße lichtempfindliche Material ist alkalilöslich und besitzt ein polymeres "Rückgrat", mit dem lichtempfindliche Seitenketten mit endständigen Carbonsäuregruppen durch SuIfonyloxygruppen oder Sulfonamidgruppen verbunden sind. In dem Falle, in welchem die Gruppe X eine Halosulfonylgruppe ist und das Polymere eine Vielzahl von Hydroxylgruppen enthält, wird das lichtempfindliche MaterialThe photosensitive material of the present invention is soluble in alkali and has a polymeric "backbone" with which light-sensitive side chains with terminal carboxylic acid groups by sulfonyloxy groups or sulfonamide groups are connected. In the case where the group X is a halosulfonyl group and the polymer is a plurality of Contains hydroxyl groups, the photosensitive material becomes
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durch Gruppen von der folgenden Formel gebildet:formed by groups of the following formula:
COOHCOOH
-0-SO2-R-(CR1 =-0-SO 2 -R- (CR 1 =
gebunden an Kohlenstoffatome des Polymeren, wobei R, R^, R2, R3 und a die vorstehend angegebenen Bedeutungen haben und R1^ eine Alkylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Cyangruppe, eine Phenylgruppe substituiert.mit einer Endaktivierungsgruppe oder einem Wasserstoffatom ist.bonded to carbon atoms of the polymer, where R, R ^, R 2 , R 3 and a have the meanings given above and R 1 ^ an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a phenyl group substituted with a terminal activating group or a hydrogen atom is.
In dem Falle, in welchem die Gruppe X eine Halosulfonylgruppe ist und das Polymere eine Vielzahl von primären und/oder sekundären Aminogruppen enthält., umfaßt das erfin« dungsgemäße lichtempfindliche Material Gruppen von der folgenden Formel:In the case where the group X is a halosulfonyl group and the polymer contains a large number of primary and / or secondary amino groups. Appropriate photosensitive material groups of the following formula:
COOH i COOH i
— N — SO0 —· R — W-"vi ~ ^1-11O J n '' s-ilxy - N - SO 0 - · R - W- "vi ~ ^ 1 - 11 O J n " s - ilx y
eLeL ! c.. Θ. J ! c .. Θ. J "V^"V ^
gebunden an Kohlenstoffatome des Polymeren, wobei R, R., R0, R- und a die vorstehend angegebenen Bedeutungen haben, und R1, eine Alkylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Cyangruppe, eine Phenylgruppe substituiert mit einer Entaktivierungsgruppe oder ein Wasserstoff atom ist.bonded to carbon atoms of the polymer, where R, R., R 0 , R- and a have the meanings given above, and R 1 , an alkyl group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, a cyano group, a phenyl group substituted with a deactivating group or a hydrogen atom is.
In dem Falle, in welchem die Gruppe R^ eine halosulfonylsubstituierte Phenylgruppe ist und das Polymere eine Vielzahl von Hydroxylgruppen enthält, umfaßt das lichtempfind-In the case where the group R ^ is a halosulfonyl substituted one Is phenyl group and the polymer contains a large number of hydroxyl groups, the photosensitive
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liehe Material Gruppen von der folgenden Formel:borrowed material groups from the following formula:
HOOCHOOC
= OR3-(CB2 *= OR 3 - (CB 2 *
gebunden an Kohlenstoffatome des Polymeren, wobei R, R^9 R2 $ R3 und a die vorstehend angegebenen Bedeutungen haben j Ph eine Phenylgruppe ist und X eine Entaktivierungsgruppe .bonded to carbon atoms of the polymer, where R, R ^ 9 R 2 $ R 3 and a have the meanings given above, j Ph is a phenyl group and X is a deactivating group.
In dem Falle, in welchem die Gruppe R^ eine Halosulf onylphenylgruppe ist und das Polymere eine Vielzahl von primären und/oder sekundären Aminogruppen enthälts umfaßt das erfindungsgeiTilße lichtempfindliche Material Gruppen von folgender Formel?In the case where the group R ^ is a Halosulf onylphenylgruppe and the polymer containing a plurality of primary and / or secondary amino groups s comprises erfindungsgeiTilße photosensitive material groups of the following formula?
HOOCV HOOC V
β s CR2-(CH2 « CR1 )a -RX β s CR2- (CH 2 «CR 1 ) a -RX
gebunden an Kohlenstoffatome des Polymeren 9 wobei R9 R1 9 R2 9 R3 und a die vorstehend angegebenen Bedeutungen haben j Ph eine Phenylgruppe ist und X eine Entaktivierungsgruppe· bonded to carbon atoms of polymer 9 where R 9 R 1 9 R 2 9 R 3 and a have the meanings given above j Ph is a phenyl group and X is a deactivating group ·
Obwohl das erfindungsgemäße lichtempfindliche Material9 welches die vorerwähnten Gruppen gebunden an Kohlenstoffatomen enthält«, gewöhnlich durch Umsetzen der Halosulfony!verbindung Hiit Epoxid-5 Hydroxy- oder Amingruppen eines Polymeren hergestellt wird9 kann das Material durch andereAlthough the photosensitive material 9 of the present invention which contains the aforementioned groups bonded to carbon atoms is usually produced by reacting the halosulfonyl compound with epoxy-5, hydroxy or amine groups of a polymer 9 , the material can be produced by others
Verfahren hergestellt werden, wie in Beispiel 9 erläutert wird.Procedures can be prepared as illustrated in Example 9.
Die erfindungsgemäßen" lichtempfindlichen Materialien sind von besonderem Wert bei der Anfertigung von photographisch hergestellten Druckplatten u. dgl.. Die Erfindung umfaßt daher ferner eine lichtempfindliche Platte mit einem Träger aus einem Material, an welchem eine Folie des lichtempfindlichen Materials haftet, beispielsweise Glas, Papier, harzimprägniertes Papier, Kunstharzfolie, oder Metall, wie Aluminium, Zink, Magnesium oder Kupfer, welcher Träger eine Schicht des lichtempfindlichen Materials trägt.The "photosensitive materials of the present invention are of particular value in the manufacture of photographically made printing plates and the like .. The invention therefore further comprises a photosensitive plate having a support made of a material on which a The film of the photosensitive material adheres, for example glass, paper, resin-impregnated paper, Resin film, or metal, such as aluminum, zinc, magnesium or copper, which is a layer of the carrier photosensitive material.
Zum Aufbringen der lichtempfindlichen Schicht auf den Träger wird das lichtempfindliche Material in einem geeigneten Lösungsmittel oder in einem Gemisch von Lösungsmitteln, wie Dimethylformamid, Dioxan, 2-Äthoxyäthanol, 2-Äthoxyäthylacetat oder Äthylmethylketon, gelöst und die erhaltene Lösung wird auf den Träger in herkömmlicher Weise aufgebracht, beispielsweise durch Tauchen, Aufsprühen oder durch ein Wirbelschichtverfahren. Sodann wird das Lösungsmittel entweder durch Trocknen an der Luft oder durch Erwärmen verdampft, so daß eine Schicht des lichtempfindlichen Materials auf dem Träger bleibt. Das Beschichtungsgewicht je Quadratmeter beträgt im allgemeinen zwischen 0,2 und 2,0 g.To apply the photosensitive layer to the The support is the photosensitive material in a suitable solvent or in a mixture of solvents, such as dimethylformamide, dioxane, 2-ethoxyethanol, 2-ethoxyethyl acetate or ethyl methyl ketone, dissolved and the resulting solution is applied to the support in a conventional manner, for example by Immersion, spraying or by a fluidized bed process. Then the solvent either through Dry in air or evaporated by heating, leaving a layer of the photosensitive material on remains with the wearer. The coating weight per square meter is generally between 0.2 and 2.0 g.
In der Industrie kann es für Beschichtungszwecke wünschenswert sein, dem erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Material Farbstoffe, Pigmente, Weichmacher, Benetzungsmittel, Sensibilisatoren, Stabilisatoren, nicht reaktionsfähige Polymere u. dgl. zuzusetzen.In industry it can be desirable for coating purposes be, the photosensitive material according to the invention dyes, pigments, plasticizers, wetting agents, To add sensitizers, stabilizers, non-reactive polymers and the like.
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Im Gebrauch wird die lichtempfindliche Platte Bild für Bild über einen Zeitraum belichtet, der von der Zusammensetzung der Schicht, der Schichtdicke, dem Träger, der Helligkeit der Lichtquelle und dem beabsichtigten Produkt abhängt. Die nicht von Licht beaufschlagten Flächen bleiben in Alkali löslich, während die von Licht beaufschlagten Flächen unlöslich werden. Das Bild auf der belichteten Platte ist daher durch ein Alkali entwickelbar. In use, the photosensitive plate is exposed image by image for a period of time that depends on the composition the layer, the layer thickness, the carrier, the brightness of the light source and the intended one Product depends. The areas not exposed to light remain soluble in alkali, while the surfaces exposed to light become insoluble. The picture on the exposed plate is therefore developable by an alkali.
Die zum Entwickeln der belichteten Platte verwendete alkalische wässerige Lösung soll eine gute Lösungsmittelwirkung auf die nicht von Licht beaufschlagten Bereiche haben, jedoch eine geringe Wirkung auf das lichtgehärtete Bild. Ein alkalischer Entwickler, der zweckmässig verwendbar ist, ist eine wässerige Lösung eines Phosphats oder eines Metasilicats eines Alkalimetalls. Dieser Lösung können 5 - 30 % eines mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel, z.B. ein Alkohol, zugesetzt werden, um das vollständige Entfernen allen unbelichteten Materials zu erleichtern.The alkaline aqueous solution used for developing the exposed plate is said to have a good solvent action on the areas not exposed to light have little effect on the photohardened image. An alkaline developer that can be used appropriately is an aqueous solution of a phosphate or a metasilicate of an alkali metal. This solution 5 - 30% of a water-miscible organic solvent, e.g. an alcohol, can be added to to facilitate the complete removal of all unexposed material.
Bevorzugte Anwendungsgebiete für das erfindungsgemäße lichtempfindliche Material sind die Herstellung lithographischer Druckplatten, die Herstellung von Ätzdruckplatten (etch resists), die Herstellung von gedruckten Schaltungen u. dj-., zum chemischen Fräsen, und die Erzeugung ornamentaler Wirkungen.Preferred fields of application for the photosensitive material according to the invention are the production of lithographic materials Printing plates, the production of etch resists, the production of printed circuits u. dj-., for chemical milling, and the production of ornamental Effects.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung:The following examples illustrate the invention:
(a) Die Herstellung von Chlorsulfonylcinnamylidenmalonsäure (Formel i)(a) The preparation of chlorosulfonylcinnamylidene malonic acid (formula i)
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Cinnamaldehyd und Malonsäure wurden miteinander in Eisessig bei 1000C kondensiert, Das Kondensat wurde aus Äthanol rekristallisiert und ein Schmelzpunkt von 2O6°C ermittelt. Das Kondensat wurde mit Chlorsulfonsäure bei 600C umgesetzt und die erhaltene Chlorsulfonylcinnamylidenmalonsäure wurde dadurch isoliert, daß das Reaktionsgemisch langsam unter Umrühren in Heißwasser gegossen wurde.Cinnamaldehyde and malonic acid were condensed in glacial acetic acid at 100 0 C with each other, the condensate was recrystallized from ethanol and a melting point of at 2O6 ° C determined. The condensate was reacted with chlorosulfonic acid at 60 ° C. and the chlorosulfonylcinnamylidenemalonic acid obtained was isolated by slowly pouring the reaction mixture into hot water with stirring.
(b)" Die Herstellung von Resorcinol/Formaldehydharz (b) " The manufacture of resorcinol / formaldehyde resin
Resorcinol, Formaldehyd im Überschuß und Natriumsulfat wurden in Wasser gelöst und unter Umrühren auf einem Wasserbad erwärmt. Nach dem Trübewerden der Lösung wurde die Reaktion durch Zusetzen eines großen Volumens-kalten Wassers beendet. Der Niederschlag wurde abgefiltert, mit Wasser gewaschen und bei Raumtemperatur getrocknet.Resorcinol, excess formaldehyde and sodium sulfate were dissolved in water and placed on a water bath with stirring warmed up. After the solution became cloudy, the reaction was made cold by adding a large volume Water ends. The precipitate was filtered off, washed with water and dried at room temperature.
Cc) Die Herstellung des lichtempfindlichen Materials Cc) The manufacture of the photosensitive material
Äquivalente Gewichte von Chlorsulfonylcxnnamylidenmalonsäure und Resorcinol-Formaldehyd-Harz, hergestellt wie vorangehend beschrieben9 wurden in Aceton relöst und eine Natriumcarbonat lösung zuge;>-etzt. Das Gemisch wurde bei 200C eine Stunde lang gerührt. Die erhaltene lichtempfindliche Ester wurde abgefiltert j von neuem in Wasser gelöst und dann durch Zusetzen von Salzsäure ausgefällt»Equivalent weights of chlorosulfonyl monomylidene malonic acid and resorcinol-formaldehyde resin, prepared as described above 9 , were dissolved in acetone and a sodium carbonate solution was added. The mixture was stirred at 20 ° C. for one hour. The photosensitive ester obtained was filtered off, dissolved again in water and then precipitated by adding hydrochloric acid »
Cd)- Die Herstellung einer Druckplatte Cd) - The manufacture of a printing plate
Eine 3 %ige Lösung des vorstehend angegebenen lichtempfindlichen Materials in einem Gemisch von Dimethylformamid und 2-Äthoxyäthanol wurde mittels eines Schleuderapparats auf die Oberfläche einer Folie aus elektrogekörntem (electrograinedj und eloxiertem Aluminium so aufgebracht, daß einA 3% solution of the above photosensitive Material in a mixture of dimethylformamide and 2-ethoxyethanol was applied by means of a centrifugal apparatus the surface of a sheet of electro-grained (electrograinedj and anodized aluminum so that a
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2 Beschichtungsgewicht von etwa 0,5 g/m erhalten wurde. Nach dem Trocknen wurde die erhaltene lichtempfindliche Platte 2 Minuten lang in Kontakt mit einem Negativ einer 4000 Watt Impulsxenonlampe in einem Abstand von 0,65 m ausgesetzt. Die belichtete Platte wurde mit einer 2,5-.%igen Lösung von Trinatriumphosphat entwickelt, um diejenigen Bereiche der lichtempfindlichen Beschichtung zu entfernen, die während der Belichtung nicht von Licht beaufschlagt worden sind. Die Platte wurde dann mit Wasser und 2 %igea? Schwefelsäure gewaschen und mit einer Fettfarbe eingefärbt.2 coating weight of about 0.5 g / m 2 was obtained. After drying, the photosensitive plate obtained was exposed to a 4000 watt pulse xenon lamp at a distance of 0.65 m for 2 minutes in contact with a negative. The exposed plate was developed with a 2.5% strength solution of trisodium phosphate in order to remove those areas of the photosensitive coating which were not exposed to light during the exposure. The plate was then washed with water and 2% igea? Sulfuric acid washed and colored with a fat dye.
(a) Die Herstellung von lichtempfindlichem Material (a) The manufacture of photosensitive material
6,3 g des Epoxidharzes "Epikote 1009" von Shell Chemicals (hergestellt durch die Polykondensation von 2,2-bis(p_-hydroxyphenyl )propan mit überschüssigem Epichlorhydrin in Gegenwart von Natriumhydroxid und mit einem Molekulargewicht von etwa 3750) wurden in 33 ml wasserfreiem Dioxan gelöst und 11,9 g Chlorsulfonylcinnamylidenmalonsäure, hergestellt wie vorangehend beschrieben, unter Umrühren zugesetzt. Das Gemisch wurde unter Rückfluß 8 Stunden lang erwärmt, gekühlt, mit einem gleichen Volumen Dioxan verdünnt und tropfenweise in 1500 ml Wasser eingegeben. Das ausgefällte Harz wurde abgefiltert und mit mehr Wasser auf dem Filter gewaschen.6.3 g of "Epikote 1009" epoxy resin from Shell Chemicals (produced by the polycondensation of 2,2-bis (p_-hydroxyphenyl ) propane with excess epichlorohydrin in the presence of sodium hydroxide and with a molecular weight of about 3750) were dissolved in 33 ml of anhydrous dioxane and 11.9 g of chlorosulfonylcinnamylidene malonic acid were prepared as described above, added with stirring. The mixture was heated under reflux for 8 hours, cooled, diluted with an equal volume of dioxane and added dropwise to 1500 ml of water. The precipitated one Resin was filtered off and washed with more water on the filter.
(b) Die Herstellung einer Druckplatte (b) Making a printing plate
Das Verfahren von Beispiel Kd) wurde unter Verwendung desThe procedure of Example Kd) was carried out using the
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obigen lichtempfindlichen Materials mit der Ausnahme wiederholt, daß der Entwickler für die belichtete Platte durch ein Gemisch von vier Teilen 12 %iges wässeriges Natriummetasilicat und 1 Teil von 2-Äthoxyäthanol gebildet wurde.above photosensitive material with the exception repeats that the developer for the exposed plate by a mixture of four parts of 12% aqueous Sodium metasilicate and 1 part of 2-ethoxyethanol was formed.
(a) Die Herstellung; von lichtempfindlichem Material (a) The manufacture; of photosensitive material
·+ g 2-Phenoxyäthanol-formaldehydharz, hergestellt durch die säurekatalysierte Kondensation von 2-Phenoxyäthanol und Formaldehyd, und 15 g Chlorsulfonylcinnamyliden-Malonsäure, hergestellt wie voranstehend angegeben, wurden in Dioxan während 8 Stunden bei der Rückflußtemperatur umgesetzt. Das Produkt wurde dadurch isoliert, daß das abgekühlte Reaktionsgemisch tropfenweise, in einen Liter Wasser eingegeben wurde.· + G 2-phenoxyethanol-formaldehyde resin, manufactured by the acid-catalyzed condensation of 2-phenoxyethanol and formaldehyde, and 15 g of chlorosulfonylcinnamylidene malonic acid, prepared as indicated above were in dioxane for 8 hours at reflux temperature implemented. The product was isolated by pouring the cooled reaction mixture dropwise into one liter Water was entered.
(b) Die Herstellung einer Druckplatte (b) Making a printing plate
Das Verfahren nach Beispiel Kd) wurde mit der Ausnahme wiederholt, daß eine Belichtungszeit von 5 Minuten und ein Entwickler aus drei Teilen 15 %igem wässerigem Trinatriumphosphat und 1 Teil 2-Äthoxyäthanol verwendet wurden.The procedure according to Example Kd) was repeated with the exception that an exposure time of 5 minutes and a three part 15% aqueous trisodium phosphate developer and 1 part of 2-ethoxyethanol were used.
(a) Die Herstellung von Ol-CchlorsulfonylphenyD-Ctilor-Zimsäure (Formel iv)(a) The production of ol-chlorosulfonylphenyD-ctilor-zimic acid (formula iv)
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Ein Gemisch von 56,2 g 4-Chlorbenzaldehyd, 54 94 g
Phenylessigsäure, 80 ml Essigsäureanhydrid und 40 ml
Triäthylamin wurde 5 Stunden lang als Rückstrom geleitet.
Nicht umgesetztes 4-Chlorben ζ aldehyd .wurde
durch Wasserdampfdestillation entfernt und der Rückstand wurde in wässerigem Alkohol gelöst und mit bleichendem
Kohlenstoff behandelt. Kristalle vonoi.~Phenyl-4-chlorzimtsäure
wurden durch Ansäuerung der Lösung erhalten. Das Produkt wurde aus Alkohol rekristallisiert und ermittelt,
daß es einen Schmelzpunkt von 202-40C hat.
Das Chlorsulfonyl-Derivat wurde nach dem in Beispiel 1 beschriebenen Verfahren hergestellt.A mixture of 56.2 g 4-chlorobenzaldehyde, 54 9 4 g
Phenylacetic acid, 80 ml acetic anhydride and 40 ml
Triethylamine was refluxed for 5 hours. Unreacted 4-chlorobenzene aldehyde .wurde
removed by steam distillation and the residue dissolved in aqueous alcohol and treated with bleaching carbon. Crystals of phenyl-4-chlorocinnamic acid were obtained by acidifying the solution. The product was recrystallized from alcohol and determines that it has a melting point of 202-4 0 C.
The chlorosulfonyl derivative was prepared according to the procedure described in Example 1.
b) Herstellung von lichtempfindlichem Material b) Manufacture of photosensitive material
Einer Lösung von24 g Resorcinol-Formaldehyd-Harz (hergestellt
wie in Beispiel 1) in 400 ml Dimethylformamid
wurden 36 g <&-(chlorsulf onylphenyD-chlorzimtsäure, hergestellt
wie vor, und 32 g Chlorsulfonylcinnamyliden-Malonsäure
wie in Beispiel 1 hergestellt, zugesetzt. Das Gemisch wurde auf etwa 500C gekühlt und eine gesättigte
Lösung von Natriumcarbonat tropfenweise zugesetzt, bis der pH-Wert zwischen 8 und 10 betrug. Nach 4-stündigem
Stehen wurde der Feststoff abgefiltert, in Wasser gelöst und durch Ansäuern der Lösung mit Salzsäure wieder
ausgefällt.A solution of 24 g of resorcinol-formaldehyde resin (prepared as in Example 1) in 400 ml of dimethylformamide
36 g of <& - (chlorosulfonylphenyD-chlorocinnamic acid, prepared as above, and 32 g of chlorosulfonylcinnamylidene-malonic acid as prepared in Example 1. The mixture was cooled to about 50 ° C. and a saturated one was added
Solution of sodium carbonate added dropwise until the pH was between 8 and 10. After standing for 4 hours, the solid was filtered off, dissolved in water and reprecipitated by acidifying the solution with hydrochloric acid.
(c) Herstellung einer Druckplallte (c) Production of a printing plate
Das Verfahren von Beispiel l(d)wurde mit der Ausnahme
wiederholt, daß der Entwickler durch eine 7,5 %ige
Trinatriumphosphatlösung gebildet wurde.The procedure of Example 1 (d) was followed with the exception
repeats that the developer by a 7.5%
Trisodium phosphate solution was formed.
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(a) Herstellung von lichtempfindlichem Material (a) Manufacture of photosensitive material
10,6 g Wresinoid R751 (ein Phenolformaldehydharz, hergestellt von der Resinous Chemicals Ltd.) wurde in 40 ml wasserfreiem Dioxan gelöst und zu 4,2 g p_-Azidbenzoylchlorid zugesetzt. 2,5 ml Pyridin wurden zugesetzt und das Gemisch 4 Stunden lang auf 5 00C erwärmt. Der Ester wurde durch das Zusetzen von Wasser ausgefällt und bei Raumtemperatur luftgetrocknet. Das Produkt wurde in 200 ml Dimethylformamid gelöst und 24 g Chlorsulfonylcinnamyliden-Malonsäure (hergestellt wie in Beispiel 1) wurden unter Umrühren zugesetzt. Die Lösung wurde auf 5°C abgekühlt und eine gesättigte Natriumcarbonatlösung wurde tropfenweise zugesetzt, bis der pli-Wert zwischen 8 und 10 betrug. Nach einem etwa 8-stündigen Stehen wurde der Feststoff abgefiltert, von neuem in Wasser gelöst und das Produkt durch Ansäuern mit Salzsäure ausgefällt.10.6 g of Wresinoid R751 (a phenol-formaldehyde resin manufactured by Resinous Chemicals Ltd.) was dissolved in 40 ml of anhydrous dioxane and added to 4.2 g of p-azide benzoyl chloride. 2.5 ml of pyridine were added and the mixture heated to 5 0 0 C for 4 hours. The ester was precipitated by adding water and air dried at room temperature. The product was dissolved in 200 ml of dimethylformamide and 24 g of chlorosulfonylcinnamylidene malonic acid (prepared as in Example 1) were added with stirring. The solution was cooled to 5 ° C and a saturated sodium carbonate solution was added dropwise until the pli value was between 8 and 10. After standing for about 8 hours, the solid was filtered off, redissolved in water and the product was precipitated by acidification with hydrochloric acid.
(b) Herstellung einer Druckplatte (b) Making a printing plate
Das Verfahren nach Beispiel Kd) wurde mit der Ausnahme wiederholt, daß der Entwickler durch eine 7,5 %ige Trinatriumphosphatlösung gebildet wurde.The process according to Example Kd) was repeated with the exception that the developer was replaced by a 7.5% strength trisodium phosphate solution was formed.
Ca) Herstellung von Chlorsulfonylcinnamylidencyanessigsäure (Formel iii) Ca) Preparation of chlorosulfonylcinnamylidenecyanacetic acid (formula iii)
Cinnamaldehyd und Cyanessigsäure wurden kondensiert und das Produkt in das entsprechende Chlorsulfony!-DerivatCinnamaldehyde and cyanoacetic acid were condensed and convert the product into the corresponding Chlorsulfony! derivative
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unter Anwendung des in Beispiel Ka) beschriebenen Verfahrens umgewandelt. Der Schmelzpunkt der Säure lag bei 210 bis 212 °C.converted using the procedure described in Example Ka). The melting point of the acid was 210 to 212 ° C.
(b) Herstellung von lichtempfindlichem Material (b) Manufacture of photosensitive material
Einer Lösung von 1,09 g Resorcinol-Formaldehyd-Harz (hergestellt wie in Beispiel 1) in 21 ml Dimethylformamid wurde eine Lösung von 3,5 g der obigen Chlorsulfonylcinnamylidencyanessigsäure in 20 ml Dimethylformamid zugesetzt. Das Gemisch wurde auf 50C abgekühlt und der pH-Wert auf etwa durch eine gesättigte Natriumcarbonatlösung eingestellt. Nach 8-stündigem Stehen wurde das Gemisch angesäuert und das Produkt abgefiltert.To a solution of 1.09 g of resorcinol-formaldehyde resin (prepared as in Example 1) in 21 ml of dimethylformamide was added a solution of 3.5 g of the above chlorosulfonylcinnamylidenecyanoacetic acid in 20 ml of dimethylformamide. The mixture was cooled to 5 ° C. and the pH value was adjusted to approximately by means of a saturated sodium carbonate solution. After standing for 8 hours, the mixture was acidified and the product filtered off.
(c) Herstellung einer Druckplatte (c) Making a printing plate
Das Verfahren von Beispiel Kd) wurde mit der Ausnahme wiederholt, daß der Entwickler durch eine 0,5 %ige Trinatriumphosphatlösung gebildet wurde.The procedure of Example Kd) was repeated with the exception that the developer was replaced by a 0.5% trisodium phosphate solution was formed.
(a) Herstellung von Chlorsulfonyl- 6 -chlorcinnamyliden-Malonsäure (Formel ii) (a) Preparation of chlorosulfonyl- 6- chlorocinnamylidene-malonic acid (formula ii)
80 g Phosphorylchlorid wurden tropfenweise 80 ml gekühltem Dimethylformamid zugesetzt. M-8 g Azetophenon wurden über H 5 Minuten zugesetzt und das Gemisch bei 00C während weiteren 60 Minuten gerührt. Das Gemisch wurde über Nacht bei Raumtemperatur stehengelassen und dann in eine Lösung von 600 g Natriumacetat in 1500 ml Wasser gegossen. ß-Chlorcinnamaldehyd wurde als rotes Öl abgetrennt. Das Gemisch wurde80 g of phosphoryl chloride was added dropwise to 80 ml of chilled dimethylformamide. M-8 g acetophenone were added 5 minutes more than H and the mixture stirred at 0 0 C for another 60 minutes. The mixture was left to stand overnight at room temperature and then poured into a solution of 600 g of sodium acetate in 1500 ml of water. β-chlorocinnamaldehyde was separated off as a red oil. The mixture was
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mit Äther extrahiert und die ätherische Lösung über wasserfreiem Natriumsulfat getrocknet. Die Verdampfung des Äthers ergab 44 g β -Chloreinnamaldehyd. β -Chlorcinnamaldehyd und Malonsäure wurden kondensiert, um £ -Chlorcinnamyliden-Malonsäure zu erhalten und diese wurde zu dem entsprechenden Chlorsulfonyl-Derivat unter Anwendung des in Beispiel Ka) beschriebenen Verfahrens umgewandelt.extracted with ether and the ethereal solution dried over anhydrous sodium sulfate. Evaporation of the ether yielded 44 g of β-chloroformaldehyde. β- Chlorcinnamaldehyde and malonic acid were condensed to give β-chlorcinnamylidene-malonic acid and this was converted to the corresponding chlorosulfonyl derivative using the procedure described in Example Ka).
(b) Herstellung von lichtempfindlichem Material (b) Manufacture of photosensitive material
1,09 g Resorcinol-Formaldehydharz (hergestellt wie in Beispiel 1) und 3,33 g <$ -Chlorsulfonylcinnamyliden-Malonwäure, hergestellt wie vor, wurden nach dem in Beispiel 6Ca) beschriebenen Verfahren kondensiert.1.09 g resorcinol-formaldehyde resin (manufactured as in Example 1) and 3.33 g of <$ -chlorosulfonylcinnamylidene-malonic acid, prepared as before, were according to the example 6Ca) process described condensed.
(c) Herstellung einer Druckplatte (c) Making a printing plate
Es wurde das Verfahren nach Beispiel 6(c)-wiederholt.The procedure of Example 6 (c) was repeated.
(a) Herstellung von lichtempfindlichem Material (a) Manufacture of photosensitive material
5,0 g Chlorsulfonylcinnamyliden-Malonsäure (hergestellt wie in Beispiel 1) und 3,3 g des Produkts, das durch gemeinsames Kondensieren von Lytron 822 (ein Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymeres, das von Monsanto in den Handel gebracht wird) und überschüssigem Äthylendiamin erhalten wurde, wurden zusammen in Gegenwart von wässerigem NaOH umgesetzt, um ein blaßgelbes alkalilösliches Harz zu erhalten. Das Produkt wurde durch Eingießen das Gemisches in Wasser, Abfiltern des ausgefällten Materials und Lufttrocknen bei Raumtemperatur isoliert.5.0 g of chlorosulfonylcinnamylidene malonic acid (prepared as in Example 1) and 3.3 g of the product obtained by common Condensation of Lytron 822 (a styrene-maleic anhydride copolymer, which is marketed by Monsanto) and excess ethylene diamine were reacted together in the presence of aqueous NaOH to give a pale yellow alkali-soluble resin obtain. The product was made by pouring the mixture into water, filtering off the precipitated material, and air drying isolated at room temperature.
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(b) Herstellung einer Druckplatte (b) Making a printing plate
Das Verfahren nach Beispiel Kd) wurde wiederholt, jedoch bestand der Entwickler aus einer 12 %igen Natriummetasilicatlösung. The procedure according to Example Kd) was repeated, but the developer consisted of a 12% sodium metasilicate solution.
(a) Herstellung von lichtempfindlichem Material (a) Manufacture of photosensitive material
Das lichtempfindliche Material von Beispiel 8 wurde dadurch hergestellt» daß das. Styrol-Maleinsäureanhydrid-Copolymere mit dem Kondensationsprodukt von Chlorsulfonylcinnamyliden-Malonsäure und überschüssigem Äthylendiamin umgesetzt wurde. Dies geschah durch Auflösen von 12 g Chlorsulfonylcinnamyliden-Malonsäure (hergestellt wie in Beispiel 1) in 24Ό ml Dioxan und langsames tropfenweises Eingeben der Lösung in eine heftig gerührte Lösung von 6 g Äthylendiamin in 24-0 ml Dioxan. Das gelbe Feststoffprodukt wurde in Wasser gelöst und verdünnte Salzsäure bis zum vollständigen Niederschlagen des Aminoäthylsulfonamideinnamyliden-Malonsäure-Hydrochlorids, 2 g Lytron 822 wurden in wasserfreiem Dimethylformamid gelöst, um eine 20 %ige Lösung zu erhalten, und 2,t g des Hydrochlorids in 1Ö ml Dimethylformamid wurden zugesetzt. Das· Gemisch wurde geschüttelt j um eine klare Lösung zu geben. 1,0 ml Triäthylamin wurden zugesetzt und das Gemisch wurde während weiterer 30 Minuten gerührt. Das Produkt wurde durch Eingießen des Gemisches in Wasser, Abfiltern des ausgefällten Materials und Lufttrocknen bei Raumtemperatur isoliert.The light-sensitive material of Example 8 was prepared by using the styrene-maleic anhydride copolymer with the condensation product of chlorosulfonylcinnamylidene malonic acid and excess ethylenediamine was implemented. This was done by dissolving 12 g of chlorosulfonylcinnamylidene malonic acid (prepared as in Example 1) in 24 ml Dioxane and slowly adding the solution drop by drop into a vigorously stirred solution of 6 g of ethylenediamine in 24-0 ml Dioxane. The yellow solid product was dissolved in water and diluted hydrochloric acid until it was completely precipitated of Aminoäthylsulfonamideinnamyliden malonic acid hydrochloride, 2 g Lytron 822 was dissolved in anhydrous dimethylformamide to make a 20% solution and 2. t g des Hydrochloride in 10 ml of dimethylformamide was added. The mixture was shaken to give a clear solution. 1.0 ml of triethylamine was added and the mixture was stirred for an additional 30 minutes. The product was through Pour the mixture into water, filter off the precipitated material, and air dry at room temperature.
(b) Herstellung einer Druckplatte (b) Making a printing plate
Das Verfahren nach Beispiel 8(b) wurde wiederholt.The procedure of Example 8 (b) was repeated.
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(a) Herstellung von lichtempfindlichem Material (a) Manufacture of photosensitive material
1,4t g eines Polyäthylenimins mit einem Molekulargewicht von 50 - 100 χ 10 (geliefert von der Dow Chemical Co.Ltd.) wurden in 30 ml 2N Natriumhydroxid gelöst und zu 10,5 g Chlorsulfonylcinnamyliden-Malonsäure {hergestellt wie in Beispiel 1) in 50 ml Cyclohexanon zugesetzt. Das Gemisch wurde während 30 Minuten geschüttelt und angesäuert. Das Produkt wurde abgefiltert und mit Wasser gewaschen.1.4t g of a polyethyleneimine with a molecular weight from 50 - 100 χ 10 (supplied by Dow Chemical Co. Ltd.) were dissolved in 30 ml of 2N sodium hydroxide and 10.5 g of chlorosulfonylcinnamylidene-malonic acid {prepared as in Example 1) added in 50 ml of cyclohexanone. The mixture was shaken and acidified for 30 minutes. That Product was filtered off and washed with water.
'Cb) Herstellung einer Druckplatte Cb) making a printing plate
2 g des obigen Produkts wurden mit einem heissen Gemisch von Dimethylformamid und Dimethylsulfoxid gerührt und das ungelöste Material durch Filtern entfernt. 0,1 g Neozapon Blue FLE (Badische Anilin & Soda-Fabrik), ein Phthalocyaninblau-Farbstoff und 0,1 g 5-Nitroacenaphthen wurden zugesetzt und in die Lösung eingerührt. Die Lösung wurde dann zur Herstellung einer lichtempfindlichen Platte in der in Beispiel 1 beschriebenen Weise verwendet und die Platte wurde belichtet und in der in diesem Beispiel beschriebenen Weise behandelt.2 g of the above product were mixed with a hot mixture stirred by dimethylformamide and dimethyl sulfoxide and that undissolved material removed by filtering. 0.1 g Neozapon Blue FLE (Badische Anilin & Soda-Fabrik), a phthalocyanine blue dye and 0.1 g of 5-nitroacenaphthene was added and stirred into the solution. The solution then became used to produce a photosensitive plate in the manner described in Example 1 and the plate was exposed and treated as described in this example.
latent an Sprüche; latent in sayings ;
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2053186A1 (en) * | 1969-10-30 | 1971-11-04 | Fuji Photo Film Co. Ltd., Ashigara-Kamigun, Kanagawa (Japan) | High molecular weight compounds and processes for their preparation |
DE2124047A1 (en) * | 1970-05-15 | 1971-11-25 | Fuji Chemicals Industrial Co., Ltd., Tokio | Photosensitive polymers, methods of making the same, and compositions containing these polymers |
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1973
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2053186A1 (en) * | 1969-10-30 | 1971-11-04 | Fuji Photo Film Co. Ltd., Ashigara-Kamigun, Kanagawa (Japan) | High molecular weight compounds and processes for their preparation |
DE2124047A1 (en) * | 1970-05-15 | 1971-11-25 | Fuji Chemicals Industrial Co., Ltd., Tokio | Photosensitive polymers, methods of making the same, and compositions containing these polymers |
BE790383A (en) * | 1971-10-22 | 1973-02-15 | Howson Algraphy Ltd | Light sensitive material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8126 | Change of the secondary classification | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |