DE2238662C2 - Monochromator - Google Patents

Monochromator

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DE2238662C2
DE2238662C2 DE19722238662 DE2238662A DE2238662C2 DE 2238662 C2 DE2238662 C2 DE 2238662C2 DE 19722238662 DE19722238662 DE 19722238662 DE 2238662 A DE2238662 A DE 2238662A DE 2238662 C2 DE2238662 C2 DE 2238662C2
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Michel Vanves Hauts-de-Seine Poey
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/12Generating the spectrum; Monochromators
    • G01J3/18Generating the spectrum; Monochromators using diffraction elements, e.g. grating
    • G01J3/1838Holographic gratings

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Description

ε =ε =

-j- (C21+ 2 C4)-j- (C 21 + 2 C 4 )

ergibt, wobeiresults, where

W0 die Gitterbreite, W 0 is the grid width,

C4, Qm und C22 die Aberrationskoeffizienten 4. Ordnung undC 4 , Qm and C22 are the 4th order aberration coefficients and

ρ das Verhältnis von Höhe zu Breite des Gitters ρ is the ratio of the height to the width of the grid

sind.are.

2. Monochromator nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Antrieb (25) zur Drehung des Beugungsgitters (Λ) vorgesehen ist.2. Monochromator according to claim 1, characterized in that a drive (25) for rotation of the diffraction grating (Λ) is provided.

3. Monochromator nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß zwei Austrittsspalte (SO unter verschiedenen Winkeln, bezogen auf den einfallenden Strahl, angeordnet sind und daß für jeden der beiden Austr''^spalte (SO die Bedingung T+ T' = f erfüllt ist.3. Monochromator according to claim 2, characterized in that two exit slits (SO at different angles, based on the incident beam, are arranged and that for each of the two Austr '' ^ column (SO the condition T + T ' = f is met.

Die Erfindung betrifft einen Monochromator mit einem konkaven sphärischen Beugungsgitter, einem feststehenden Eintrittsspalt und einem feststehenden Austrittsspalt.The invention relates to a monochromator with a concave spherical diffraction grating, a fixed entry slit and a fixed exit slit.

Derartige Monochromatoren sind bekannt (DE-AS 10 56 854). Sie dienen dazu, aus polychromatischem Licht solches mit einem schmalen Wellenlängengebiet auszusondern. Durch ein sphärisches Beugungsgitter werden gleichzeitig Dispersion und Abbildung bewirkt.Such monochromators are known (DE-AS 10 56 854). They are used to make from polychromatic Weed out light with a narrow range of wavelengths. Through a spherical diffraction grating dispersion and imaging are effected at the same time.

Der Strahlengang eines derartigen Monochromator ist in Fig. 1 angegeben. Das Bild einer im Eintrittsspalt 5 angenommenen Quelle, die sich im Abstand r von dem Gitter befindet, wird am Gitter in verschiedene Richtungen^/?, dispcrgiert. Die auseinanderlaufenden Strahlen werden in Abständen /■' vom Gitterscheitel gebündelt. Diese Abstände sind von der Wellenlänge X1 abhängig. Die Ebene, die an den Gitterscheitel angrenzt, ist gekennzeichnet durch den Krümmungsradius R, die Strichzahl iY pro mm, die gestrichelte Breite W und die vertikale gestrichelte Höhe L. Die Strichrichtung definiert die Ortsvertikale. Die Drehachse des Gitters verläuft parallel zur Ortsvertikalen durch den Gitterscheitel. Der Eintrittsspalt S verläuft parallel zu den Strichen des Gitters. Der Austrittsspalt S' (bzw. in Fig. 1 die Austrittsspalte S\.S'„ S'„ Tür die verschiedenen Wellenlängen) ist parallel zur Richtung der astigmatischen, tangentialen Brennweiten angeordnet. Im allgemeinen befindet sich die Mitte des Eintrittsspaltes in der horizontalen Ebene, die die Gitternormaie NO enthält, und der Austrittsspalt verläuft parallel zu den Strichen des Gitters. Die Fokussierung erfolgt entweder durch Verschieben eines Empfängers in Abhängigkeit von Veränderungen der Richtung des Ausgangsbündels oder durch Drehung und gleichzeitige Verschiebung des Strichgitters.The beam path of such a monochromator is shown in FIG. 1. The image of a source assumed in the entrance slit 5, which is located at a distance r from the grid, is dispersed in different directions on the grid. The diverging rays are bundled at a distance / ■ 'from the lattice apex. These distances are dependent on the wavelength X 1. The plane adjoining the lattice apex is characterized by the radius of curvature R, the number of lines iY per mm, the dashed width W and the vertical dashed height L. The direction of the line defines the local vertical. The axis of rotation of the grid runs parallel to the local vertical through the grid apex. The entrance slit S runs parallel to the lines of the grating. The exit slit S ' (or in FIG. 1 the exit slit S \ .S'"S'" door the different wavelengths) is arranged parallel to the direction of the astigmatic, tangential focal lengths. In general, the center of the entrance slit is in the horizontal plane containing the grid norm NO , and the exit slit runs parallel to the lines of the grating. Focussing is done either by moving a receiver depending on changes in the direction of the output beam or by rotating and simultaneously moving the grating.

Bei einem Monochromator für den praktischen Gebrauch sollten die Richtungen der einfallenden und ausfallenden Strahlen fest sein. Wenn außerdem aus Gründen der Herstellungskosten nur eine einfache Gitterdrehung vorgenommen werden soll, dana zeigt die klassische Theorie, daß zur Erzielung einer gutenIn the case of a monochromator for practical use, the directions of the incident and failing rays must be solid. In addition, if only a simple grid rotation for reasons of manufacturing cost to be made, dana shows the classical theory that to achieve a good

ίο Fokussierung eine Verschiebung des Austrittsspaltes erforderlich ist In diesem Fall werden die engen Verschiebungstoleranzen des Gitters durch die Verschiebungstoleranzen der Spalte ersetztίο focusing a shift of the exit slit In this case, the tight displacement tolerances of the grid are dictated by the displacement tolerances the column replaced

Versuch von SEYA (Sei. Light, Vol. 2 [1952], S. 8) hüben gezeigt, daß ein Monochromator mit stationären Spalten realisiert werden kann, wenn der Winkel 2 Θ, unter dem man vom Gitterscheitel aus die beiden Spalte sieht, zu 7O°3O' gemacht wird. In diesem Fall erhält man feste Werte für r und r1, die gleich R cos θ gemacht werden. Der entsprechende in Fig. 2 dargestellte .Aufbau liefert jedoch keine zufriedenstellende optische Qualität. Er ergibt eine geringe Auflösung und eine geringe Helligkeit. Da Einfallswinkel α und Brechungswinkel./? groß sind, ergibt sich außerdem ein starker Polarisationsgrad und ein erhöhter Astigmatismus. Dieses Ergebnis zeigt, daß bei Durchführung einer Fokussierung mit einsm rotierenden konkaven Gitter einerseits die sehr genaue Einhaltung eines bestimmten Winkels θ erforderlich ist, andererseits aber AuflösungAn experiment by SEYA (Sei. Light, Vol. 2 [1952], p. 8) has shown that a monochromator with stationary slits can be realized if the angle 2 Θ at which you can see the two slits from the top of the grating closes 7O ° 3O 'is made. In this case one obtains fixed values for r and r 1 which are made equal to R cos θ . However, the corresponding structure shown in FIG. 2 does not provide a satisfactory optical quality. It gives low resolution and low brightness. Since angle of incidence α and angle of refraction./? are large, there is also a strong degree of polarization and increased astigmatism. This result shows that when focusing is carried out with a rotating concave grating , it is necessary, on the one hand, to maintain a certain angle θ very precisely, and, on the other hand, to require resolution

jo und Helligkeit dennoch sehr zu wünschen übrig lassen. Dies liegt daran, daß bei den bekannten Monochromatoren die Aberrationen nicht berücksichtigt werden. Man vernachlässigt die Tatsache, daß sich ohne Berücksichtigung der Aberrationen eine ungünstige Bezugs-Sphäre ergibt. Daher muß ein entsprechend schmales Beugungsgitter benutzt werden.jo and brightness still leave a lot to be desired. This is because the known monochromators the aberrations are not taken into account. One neglects the fact that without taking into account of the aberrations results in an unfavorable reference sphere. Therefore a correspondingly narrow Diffraction grating can be used.

Im Stand der Technik werden Eintrittsspalt und Austrittsspalt so angeordnet, daß die Grundgleichung der Fokussierung T+T'—O erfüilt ist. Hierin stellt 7" die objektseitige Tangentialbrennweite und T die bildseitige Tangentialbrennweite dar. Die Tangentialbrennweiten sind definiert durch den Fokus des meridionalen Bündels, also desjenigen Bündels, das in der Meridionalebene (aufgespannt durch den Hauptstrahl und das Lot im Gitterscheitelpunkt) verläuft. Die Meridionalebene ist die Ebene des Rowlandkreises. Die Tangentialbrennweiten T und T' in der Fokussierungsbedingung T+ Γ'— Ο lauten:In the prior art, the entrance slit and exit slit are arranged in such a way that the basic equation of focusing T + T'-O is fulfilled. Here 7 ″ represents the tangential focal length on the object side and T the tangential focal length on the image side. The tangential focal lengths are defined by the focus of the meridional bundle, i.e. that bundle that runs in the meridional plane (spanned by the main ray and the perpendicular in the lattice vertex) The tangential focal lengths T and T ' in the focusing condition T + Γ'— Ο are:

•x· • x ·

cos σcos σ

T, _ cos2./? _ cosj?
r' R
T , _ cos 2 ./? _ cosj?
r 'R

(H. Greinerund E. Schäffer in »Optik« 16, Heft 5,1959, S. 288-293.) In diesen Gleichungen bedeuten α den Einfallswinkel, β den Ausfallswinkel, r den Abstand: Gitterscheitelpunkt-Eintrittsspalt, /-'den Abstand: Gitterscheitelpunkt-Bild des Eintrittsspaltes (Austritts-Spaltes) und R den Radius des Gitters in der Rowlandkreisebene. (H. Greiner and E. Schäffer in "Optik" 16, No. 5,1959, pp. 288-293.) In these equations, α means the angle of incidence, β the angle of reflection, r the distance: lattice vertex entry slit, / - 'the distance : Grid vertex image of the entrance slit (exit slit) and R the radius of the grid in the Rowland circle plane.

Setzt man hierin r = R · e und r' = R ■ e', so erhält man für die Tangentialbrennweiten:If one sets r = R · e and r '= R ■ e', one obtains for the tangential focal lengths:

ergibt, wobeiresults, where

Zur Lösung der Gleichung Γ+ T— 0 gibt es spezielle mathematijthe Methoden. SEYA (Sei. Light, Vol. 2 [1952], S. 8) und NAMIOKA (J. Opt Soc. Am. Vol. 51 [1961], S. 4; 13) haben gezeigt, daß nur ein einziger möglicher Wert (700SOO des Winkels 2 Θ existiert, unter dem man vom Gitterscheitelpunkt aus die beiden Spalte sieht, für den Bildabstand und Objektabstand gleich R cos θ sind.There are special mathematical methods for solving the equation Γ + T— 0. SEYA (Sei. Light, Vol. 2 [1952], p. 8) and NAMIOKA (J. Opt Soc. Am. Vol. 51 [1961], p. 4; 13) have shown that only one possible value ( 70 0 SOO of the angle 2 Θ exists, under which you can see the two columns from the grid vertex, for which the image distance and the object distance are equal to R cos θ .

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Monochromator der eingangs genannten Art zu schaffen, bei dem Eingangs- und Ausgangsspalte so angeordnet sind, daß bei Berücksichtigung von Breite und Höhe des Beugungsgitters eine möglichst hohe Auflösung erzielt wird.The invention is based on the object of creating a monochromator of the type mentioned at the beginning, in which the entrance and exit columns are arranged so that, taking into account the width and The highest possible resolution is achieved at the height of the diffraction grating.

Zur Lösung dieser Aufgabe ist erfindungsge;näß vorgesehen, daß der Eintrittsspalt und der Austrittsspalt in bezug auf das Gitter so angeordnet sind, daß die Summer der objektseitigen und bildseitigen Tangentialbrennweiten Γ und T den WertTo achieve this object, the invention provides that the entry slit and the exit slit are arranged with respect to the grating in such a way that the sum of the tangential focal lengths Γ and T on the object side and on the image side equals the value

,_W0 2 /6 , _W 0 2/6

"TlT"TlT

(C4 + C04) (C22+ 2C4)(C 4 + C 04 ) + γ (C 22 + 2C 4 )

cosgl 1 sircosgl 1 sir

W0 die Gitterbreite, W 0 is the grid width,

C4, C04 und C22 die AberrationskoefFizientenC 4 , C 04 and C 22 are the aberration coefficients

4. Ordnung und ρ das Verhältnis von Höhe zu Breite des Gitters4th order and ρ the ratio of height to width of the grid

sind.
Hieraus ergibt sich die Fokussierungsgleichung zu
are.
The focusing equation results from this

T+T'= ε,T + T '= ε,

wobei ε von α und β und von den Aberrationen des Bildes auf einer gegebenen Linie durch ein konkaves Gitter mit rechtwinkliger Pupille abhängt. Der erfindungsgemäße Monochromator erlaubt eine gute Fokussierung bei einfacher Drehung des Gitters und mit schmalen Spalten, wobei insbesondere das Auflösungsvermögen verbessert ist. Alternativ kann bei gleichbleibendem Auflösungsvermögen die Gitter!" reite verkleinert und der Strichabstand vergrößert werden. Insgesamt wird außer der Auflösung auch die Helligkeit verbessert. where ε depends on α and β and on the aberrations of the image on a given line through a concave grating with a rectangular pupil. The monochromator according to the invention allows good focusing with a simple rotation of the grating and with narrow gaps, the resolving power being improved in particular. Alternatively, while maintaining the same resolution, the grid width can be reduced and the line spacing increased. Overall, in addition to the resolution, the brightness is also improved.

Die Aberrationskoeffizienten C04, C4 und C22 ergeben sich aus der bekannten allgemeinen Gleichung für das Gitterspektrum (z. B. Journal of the Optical Society of America, Vol. 40, No. 3, March, 1950,153 ff., insbesondere 155). Hieraus lassen sich die Aberrationskoeffizienten wie folgt entnehmen:The aberration coefficients C 04 , C 4 and C 22 result from the known general equation for the grating spectrum (e.g. Journal of the Optical Society of America, Vol. 40, No. 3, March, 1950, 153 ff., In particular 155). The aberration coefficients can be derived from this as follows:

cos2j8 IT\ cos 2 j8 IT \

Γ 1 _ cosgH 1 Γ 1 _ cosjSH _ 1 Γ cos2 g _ cosg Γ 1 _ cosgH 1 Γ 1 _ cosjSH _ 1 Γ cos 2 g _ cosg

LrLr R J Ta2" LV Τ*] 77 L~r~ ~~R~. R J Ta 2 " LV Τ *] 77 L ~ r ~ ~~ R ~.

SR2 SR 2

1_ Γ cos2^ _1_ Γ cos 2 ^ _

8r' L r' 8r 'L r' Ä JÄ J

_ 1 sin2g fl cosffH 1 sin2j8 Γ 1 -osjffH , 1 Γ 1 cos a~\ _ 1 sin 2 g fl cosffH 1 sin 2 j8 Γ 1 -osjffH, 1 Γ 1 cos a ~ \

~C?2 —r~ —ϊ — — —r— + -τ- —τ>— —γ — —ξ— τ* — — —~— I~ C? 2 —r ~ —ϊ - - —r— + -τ- —τ> - —γ - —ξ— τ * - - - ~ - I

" 2 r2 Lr tR J 2 γ'2 Lr' tR J"2 r 2 Lr tR J 2 γ ' 2 L r' tR J

ΓΙ cosjSH 1 Γcos2 C cos ο 4Ä//?ΓΙ cosjSH 1 Γ cos2 C cos ο 4Ä //?

j Γ_1_ _ cosjgH _ 1 Γ cos2 g _ cosgH Γΐ _ cosgHj Γ_1_ _ cosjgH _ 1 Γ cos 2 g _ cosgH Γΐ _ cosgH

RtK [τ R J 17 L~r~ ~ίγ\ Lt "TjTj RtK [τ R J 17 L ~ r ~ ~ ίγ \ Lt "TjTj

_ _\_ Γ COS2^S _ COSjgH Tj_ _ COS^H 1 _ _ \ _ Γ COS 2 ^ S _ COSjgH Tj_ _ COS ^ H 1

4/-' L τ' ' R J Lr' '/Λ . -r = J Γ± - -£2££f| + ί Γ-L -4 / - 'L τ''R J Lr''/ Λ. -r = J Γ ± - - £ 2 ££ f | + ί Γ-L -

4 St2R2 Lr /Aj β/2«2 Ly 4 St 2 R 2 Lr / Aj β / 2 « 2 Ly

Hierbei ist Λ der Radius des Gitters in der horizontalen Ebene und tR bei einem Torusgitter der Krümmungsradius in der vertikalen Ebene. Für sphärische Gitter ist / = 1.Here Λ is the radius of the grating in the horizontal plane and tR for a toroidal grating is the radius of curvature in the vertical plane. For spherical grids / = 1.

Zur Erfindung führten folgende Überlegungen:
Das theoretische Auflösungsvermögen, das durch die Brechung gegeben ist, ist gleich KNW, wobei K die Brechungsordnung und W die gestrichelte Breite darstellt. Dieses Auflösungsvermögen ist begrenzt, denn wenn W wächst, wachsen die Aberrationen, und man muß eine Toleranz bestimmen, die an die Änderungen des Bildflecks gebunden ist. Das optimale Auflösungsvermögen ist also gleich KN W0. Man bestimmt im allgemeinen auch ein praktisches Auflösungsvermögen R„ das von der Breite/und/' des Eintritts- bzw.
The following considerations led to the invention:
The theoretical resolving power given by the refraction is equal to KNW, where K is the order of refraction and W is the dashed width. This resolving power is limited because as W increases , the aberrations increase and a tolerance must be determined which is tied to the changes in the image spot. The optimal resolution is therefore equal to KN W 0 . In general, one also determines a practical resolving power R " that depends on the width / and / 'of the entrance resp.

'R J Austrittsspalts abhängt und ausgedrückt wird durch
/■' KNX
'R J depends on the exit slit and is expressed by
/ ■ ' KNX

6363 ' /' COS^ ' /' COS ^

Bei geringfügigen /Aberrationen ergibt sich die praktische Grenze des Auflösungsvermögens durch Rp = 0,8 KNW0, wobei der Wert W0 von W nach dem Kriterium von STREHL (Instrumentenkunde, VU. 22 [1902], S. 213) berechnet wird. In der geometrischen Hypothese (starke Aberrationen) ergibt ein Gütefaktor für jeden Wert des Paares' W, L eine Grenzauflösung <d X>, und somit die praktische Grenzauflösungskraft Rp = Xl<8 X>. Dieser Gütefaktor Q ist wie folgt definert: In the case of minor / aberrations, the practical limit of the resolving power results from R p = 0.8 KNW 0 , whereby the value W 0 of W is calculated according to the criterion of STREHL (Instrumentenkunde, VU. 22 [1902], p. 213). In the geometric hypothesis (strong aberrations), a quality factor results in a limit resolution <d X> for each value of the pair 'W, L , and thus the practical limit resolution power R p = Xl <8 X>. This quality factor Q is defined as follows:

Ul WIlUl WIl

_L Γ f (UL + UL)2 _L Γ f (UL + UL) 2

WL J J V Bw dl J WL JJV Bw dl J

-L/2 -W/7-L / 2 -W / 7

dnd/Sdnd / S

A' ist der abweichende optische Weg, der von den Gitterkoordinaten B' und / in Richtung der Gitterbreite W bzw. der Gitterhöhe L abhängt. A ' is the deviating optical path, which depends on the grid coordinates B' and / in the direction of the grid width W or the grid height L.

Wenn man den Abstand des Austrittsspaltes vom Git-•xrscheitel für ein gegebenes Spektralgebiet stationär macht, kann man davon ausgehen, daß die Abweichungen A(w, I) oder Aberrationen des optischen Weges, die durch die «Gleichung erster Ordnung« vorgegeben sind, kompensiert werden müssen. Nach der Erfindung weiden diese Abweichungen von dem Gütefaktor Q abgeleitet, der auch ausdrückt, daß die AberrationenIf one makes the distance of the exit slit from the grating apex stationary for a given spectral region, one can assume that the deviations A (w, I) or aberrations of the optical path, which are given by the "first order equation", will be compensated Need to become. According to the invention, these deviations are derived from the quality factor Q , which also expresses that the aberrations

cos2 a . cocos 2 a . co

bei einer Verschiebung der Bezugssphäre um C\W + C2W1 in bezug auf die Ausgangsbedingungen der genannten Gleichung erster Ordnung kompensiert werden, daß also die verallgemeinerte Fokussierungsgleichung (7*+ 7" = ε) ausreichend ist, wobei die noch verbleibende Abweichung A' in diesem Fall A (w, Γ) + C1 π- + C2 tv2 ist. C| und C2 sind Koeffizienten. Unter solchen Bedingungen ergibt sich die grundlegende Fokussierungsgleichung einer Vorrichtung mitare compensated for when the reference sphere is shifted by C \ W + C 2 W 1 with respect to the initial conditions of the first-order equation mentioned, so that the generalized focusing equation (7 * + 7 "= ε) is sufficient, with the remaining deviation A ' in this case A (w, Γ) + C 1 π- + C 2 tv 2. C | and C 2 are coefficients, and under such conditions the basic focusing equation of a device is given

is einfacher Drehung zuis easy rotation too

= cosa + cosjS + R^i-\4- (Q +C04) + 4" (C22 + 2 C4)P2I = H(X). = cosa + cosjS + R ^ i- \ 4- (Q + C 04 ) + 4 "(C 22 + 2 C 4 ) P 2 I = H (X).

In dieser Gleichung sind Q4, C4 und C22 die Aberr.itionskoeffizienten4. Ordnung und ρ = —. In der »Gleichung erster Ordnung« wäre das erste Glied gleich (cos a + cosß). In this equation, Q 4 , C 4, and C 22 are the aberration coefficients4. Order and ρ = -. In the "first-order equation" the first term would be the same (cos a + cos ß). °°

Ausgehend von diesen Resultaten muß die praktische Durchführung die Darstellung eines durchlaufenden Bandes A X, das so schmal wie möglich ist, in einer gegebenen Richtung ermöglichen, da die Richtung des einfallenden Bündels sowie die Position der Schlitze fest ist. Sie muß insbesondere die Bedingung (2) erfüllen. Diese kann im allgemeinen durch Iteration gelöst werden, da H(X) vom Wert der Parameter e und e' abhängt.On the basis of these results, practical implementation must enable a continuous band AX to be made as narrow as possible in a given direction, since the direction of the incident beam and the position of the slits are fixed. In particular, it must meet condition (2). This can generally be solved by iteration, since H (X) depends on the value of the parameters e and e '.

Gemäß dem oben definierten Gütefaktor Q muß der Fehler c λ inst bei der Durchführung unterhalb eines tolerierbaren Grenzwertes t liegen:According to the quality factor Q defined above, the error c λ inst must be below a tolerable limit value t when it is carried out:

B X inst S t BX inst S t

X>X>

Für das praktische Grenz^Auflösungsvermögen Rp = XI<IX> und die Steigung ρ der Kurve λ/? λ inst gilt:For the practical limit ^ resolving power R p = XI <IX> and the slope ρ of the curve λ /? λ inst applies:

SSOJLSSOJL

2/12/1

Das praktische Grenz-Auflösungsvermögen nach dem STREHL-Kriterium (Instrumentenkunde, Vol. 22 [1902], S. 213) ist gleich Rp = 0,8 N W0 K, und ρ muß die BedingungThe practical limit resolution according to the STREHL criterion (Instrumentenkunde, Vol. 22 [1902], p. 213) is equal to R p = 0.8 NW 0 K, and ρ must be the condition

erfüllen, wobei das zweite Glied dieser Ungleichung unabhängig ist von X. satisfy, where the second term of this inequality is independent of X.

Für einen gegebenen Winkel θ wird der eine oder der andere Aufbau der Fig. 3a bis 3d gewählt Wenn man diese Wahl trifft, muß man sich für jeden Fall vergewissern, ob die Lichtstärke (d. h. insbesondere ob der Wert der gestrichelten Fläche) unter Berücksichtigung der verlangten Auflösung Rp ausreichend ist Im Grenzfall, wenn man für W und L sehr kleine Werte annimmt, kann die Bedingung (3) immer noch erfüllt werden, die entsprechenden Geräte werden jedoch dann nicht von praktischem Interesse sein, da ihre Lichtstarke sehr schwach wäre, was sich insbesondere im Spektralbereich des entfernten Ultraviolett auswirkt, wo die Energien der Lichtquellen im allgemeinen im Vergleich zu den anderen Spektralbereichen nicht sehr hoch sind.One or the other structure of FIGS. 3a to 3d is chosen for a given angle θ Resolution R p is sufficient In the borderline case, assuming very small values for W and L , condition (3) can still be fulfilled, but the corresponding devices will then not be of practical interest, since their light intensity would be very weak, which has an effect particularly in the spectral range of the distant ultraviolet, where the energies of the light sources are generally not very high compared to the other spectral ranges.

Besondere Bedeutung für die praktische Realisierung von Einfach-Monochromatoren oder Doppel-Monochromatoren hat die Verwendung von sphärischen konkaven Beugungsgittern, die in der Anordnung »in piano« Steilen, d. h. bei denen die Mitten der Eintrittsund Austrittsspalten sich in einer Ebene befinden, dieThe use of spherical concave diffraction gratings, which are in the arrangement »in piano «steep, d. H. in which the centers of the entry and exit gaps are in a plane that die Gitternormale enthält und senkrecht zur Richtung der Striche des Git'ers verläuft, wobei die Eintritts- und Austrittsspalte eine feste Breite haben (d. h. unabhängig von der Wellenlänge X), so daß sich kein Flußverlust in der Ebene der Austrittsspalte ergibt.contains the grid normal and runs perpendicular to the direction of the lines of the grid, the entry and exit gaps having a fixed width (ie independent of the wavelength X), so that there is no loss of flux in the plane of the exit gaps.

Der erfindungsgemäße Monochromator kann wahlweise entweder mit festem Beugungsgitter als auch mit rotierendem Beugungsgitter ausgebildet sein. Die zweite Ausführungsform kann in bekannter Weise als Spektrometer benutzt werden. In diesem Fall ist einThe monochromator according to the invention can optionally either with a fixed diffraction grating or with rotating diffraction grating. The second embodiment can be known as Spectrometer can be used. In this case is a Antrieb zur Drehung des Beugungsgitters vorgesehen. Gemäß einer zweckmäßigen Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, daß zwei Austrittsspalte unter verschiedenen Winkeln, bezogen auf den einfallenden Strahl, angeordnet sind und daß für jeden der beidenDrive provided for rotating the diffraction grating. According to an expedient development of the invention it is provided that two exit slits at different angles, based on the incident Beam, are arranged and that for each of the two Austrittsspalte die Bedingung Τ+Τ'—ε erfüllt ist. Damit ist es möglich, mit einem einzigen Monochromator gleichzeitig zwei unterschiedliche Wellenlängen zu separieren. Die verwendeten Konkavgitter können solche GitterExit column the condition Τ + Τ'— ε is fulfilled. This makes it possible to separate two different wavelengths at the same time with a single monochromator. The concave grids used can be such grids

so sein, die aus auf Glas aufgebrachten Strichen bestehen (oder Kopien von derartigen Gittern) oder ganz allgemein optische Elemente, die gleichzeitig die Fokussierung und die Beugung einer einfallenden Welle gewährleisten, unabhängig davon, nach welchen Verfahrenbe like this, which consist of lines applied to glass (or copies of such gratings) or, in general, optical elements that simultaneously ensure the focusing and diffraction of an incident wave, regardless of the method used diese Brechung durchgeführt wird, unter der Bedingung, daß, wenn d die Gitterteilung ist, welche über die gesamte Pupille des optischen Elementes konstant ist, die Grundgleichung für eine Anordnung dieses Typs lautet:this refraction is carried out under the condition that, if d is the grating which is constant over the entire pupil of the optical element, the basic equation for an arrangement of this type is:

(6)(6)

In diesem Ausdruck sind α und β die Einfalls- und Beugungswinkel, die ausgehend von der Gittemorma-In this expression, α and β are the angles of incidence and diffraction which, based on the lattice formula

len bewertet werden, N — -j ist die Zahl der Striche pro mm, K die Brechungsordnung und X die Wellenlänge; das negative Vorzeichen gilt für alle gebrochenen Strah-len, N - -j is the number of lines per mm, K is the order of refraction and X is the wavelength; the negative sign applies to all broken beam

len, die in dem Bildraum liegen und zwischen dem Zentralfleck (or = -ß) und der Tangente des Gitters eingeschlossen sind.len that lie in the image space and are enclosed between the central spot (or = -ß) and the tangent of the grid.

Diese Fokussierungen erfolgen vorwiegend mit holografischen Gittern des 1-Typs, bei denen die Striche des Gitters durch ein holografisches Verfahren erzeugt werden, und bei denen, wie in dem Fall der klassischen Strichgraer, die Fokussierungsgleichung erster Ordnung gekennzeichnet ist durch die Beziehung T+T' 0. Deshalb ist die entsprechende Beschreibung nur ι ο auf die Verwendung von sphärischen Konkavgittern bezogen, deren optische Merkmale denjenigen der üblichen Gitter äquivalent sind. Deren Striche sind definiert durch Überschneidung der Oberfläche eines Konkavspiegels mit parallelen Ebenen im gleichen Abstand.These focussing takes place predominantly with holographic gratings of the 1-type, in which the lines of the grating are generated by a holographic process, and in which, as in the case of the classic line grazers, the first-order focusing equation is characterized by the relationship T + T ' - 0. Therefore the corresponding description is only ι ο based on the use of spherical concave grids, the optical characteristics of which are equivalent to those of the usual grids. Their lines are defined by the intersection of the surface of a concave mirror with parallel planes at the same distance.

Weiter oben wurde ausgeführt, daß man, wenn man die Aberrationen berücksichtigt (d. h. Ausdrücke höherer Ordnung in den Gleichungen, die vom Fermat-Prinzip abgeleitet sind), und wenn man eine Kompensa- tionsmöglichkeit dieser Aberrationen durch eine Verschiebung der Bezugssphäre in Rechnung stellt, d. h. durch eine geeignete Wahl des Bildabstandes, Monochromatoren realisieren kann, bei denen die Objekt- und Bildabstände fest sind, und dies in einem größeren Spektralintervall, unter Drehung des Gitters um eine Achse, die durch den Gitterscheitel geht. Man hat festgestellt, daß solche Anordnungen, die einen geringen Gestehungspreis haben, da es keine Verschiebung des Gitters f ibt, außerdem den bedeutenden Vorteil für die Benutzer haben, daß die Richtung der einfallenden und gebrochenen Bündel absolut fest ist. Außerdem hat man festgestellt, daß es, entgegen der von SEYA und dann von NAMIOKA vorgeschlagenen Lösung, die für Ultraviolett auf einen einzigen Winkel nahe bei 70°30" begrenzt ist, möglich ist, Anordnungen mit beliebigen Werten von 2 θ zu treffen. Die Objekt- und Siidabstände werden durch eine verallgemeinerte Fokussierungsgleichung in Form der Gleichung (2) gegeben, in der Ausdrücke höherer Ordnung vorkommen. Die Gleichung hängt also von dem Wert der gestrichelten Breite W und der gestrichelten Höhe L (oder von der Beziehung ρ = L/W) ab. Es muß hinzugefügt werden, daß andere Werte von 2 θ von SEYA und NAMIOKA vorgesehen worden sind, aber diese waren mit einer beträchtlichen Herabsetzung der Auflösung (oder der Lichtstärke) verbunden, wenn der Bildabstand fest blieb, oder auch mit einer zusätzlichen mechanischen Komplikation, wenn der Wert r1 experimentell abhängig von der Wellenlänge justiert wurde. soAbove it was stated that if one takes into account the aberrations (ie higher order terms in the equations derived from Fermat's principle) and if one takes into account the possibility of compensating for these aberrations by shifting the reference sphere, ie through a suitable choice of the image distance, monochromators can be realized in which the object and image distances are fixed, and this in a larger spectral interval, with rotation of the grating around an axis that goes through the vertex of the grating. It has been found that such arrangements, which have a low cost price, since there is no displacement of the grating, also have the significant advantage for the user that the direction of the incident and broken bundles is absolutely fixed. It has also been found that, contrary to the solution proposed by SEYA and then by NAMIOKA, which for ultraviolet is limited to a single angle close to 70 ° 30 ", it is possible to make arrangements with any values of . The objects - and Siid distances are given by a generalized focusing equation in the form of equation (2), in which higher-order expressions occur. The equation thus depends on the value of the dashed width W and the dashed height L (or on the relationship ρ = L / W ) from. It must be added that other values of 2 θ have been provided by SEYA and Namioka, but these were associated with a considerable reduction in the resolution (or light intensity) when the image distance remained firm, or with an additional mechanical Complication when the value r 1 was adjusted experimentally as a function of the wavelength

Die Zeichnungen zeigen verschiedene Ausführungsformen der bekannten Technik sowie Kurven und Ausführungsformen zur Erläuterung der Erfindung. Es zeigenThe drawings show various embodiments of the known technology as well as curves and embodiments for explaining the invention. It demonstrate

F i g. 1 bis 3 d schematische Darstellungen von Monochromatoren nach der bekannten Technik,F i g. 1 to 3 d schematic representations of monochromators according to the known technology,

Fig. 4 eine Draufsicht eines Monochromator, teilweise geschnitten, mit schmalen, geraden oder gewölbten Spalten,4 shows a plan view of a monochromator, partially in section, with narrow, straight or curved columns,

F i g. 4a einen Vertikalschnitt,F i g. 4a a vertical section, Fig. 4b die Steuerung der Gitterdrehung,4b the control of the grid rotation,

Fi g. 4c ein Diagramm entsprechend dem Monochromator von Fig. 4, ■Fi g. 4c is a diagram corresponding to the monochromator of FIG

F i g. 5 die Werte der reduzierten Objekt- und Bildabständc e, e' in Abhängigkeit von θ bei verschiedenen ss Gittern,F i g. 5 the values of the reduced object and image distances e, e ' as a function of θ for different ss grids,

Fig. 6 ein Diagramm, das den Wertp für die verschiedenen Anordnungen von Fig. 3, jedoch bei korriFIG. 6 is a diagram showing the value p for the various arrangements of FIG. 3, but with corri gierten Tangentialbrennweiten angibt (für den Fall schwacher Abweichungen),the yawed tangential focal length (for the case of weak deviations),

Fig. 7 die Werte des Auflösungsvermögens in Abhängigkeit von θ für ein gegebenes Gitter (im Falle starker Abweichungen),7 shows the values of the resolving power as a function of θ for a given grating (in the case of large deviations),

Fig. 8 (8a bis 8d) das Prinzipschema der verschiedenen asymmetrischen Anordnungen für die Fokussierung mit einer einfachen Drehung des konkaven Gitters, wobei die Werte der Winkel or und./? für den Einfall und die Beugung erkennbar sind,Fig. 8 (8a to 8d) the basic diagram of the various asymmetrical arrangements for focusing with a simple rotation of the concave Grid, where the values of the angles or and./? are recognizable for incidence and diffraction,

F i g. 9 eine schematische Draufsicht eines Monochromator mit geraden Spalten fester Breite,F i g. 9 is a schematic top view of a monochromator with straight columns of fixed width;

Fig. 10a und 10b Diagramme, die für die beiden Beispiele der Tabelle 1 den Wert von <S λ> und den Wert der praktisch erlangten Auflösung d λρ = λ/Rp darstellen,10a and 10b are diagrams showing the value of <S λ> and the value of the practically achieved resolution d λ ρ = λ / Rp for the two examples in Table 1,

Fig. 11 schematisch einen Doppelmonochromator mit Z-förmigem Aufbau.11 schematically shows a double monochromator with Z-shaped structure.

Bei dem in den Fig. 4,4a und 4b dargestellten Ausführungsbeispiel ruht der Monochromator auf einem Vakuumständer, der eine Platte A trägt, auf der die verschiedenen Elemente gemäß den Fig. 4,4a,4b und4c angeordnet sind.In the embodiment shown in FIGS. 4, 4a and 4b, the monochromator rests on a vacuum stand which carries a plate A on which the various elements according to FIGS. 4, 4a, 4b and 4c are arranged.

Der Vakuumständer, der nicht dargestellt ist, trägt eine Platte A, auf der einerseits ein Zentralblock 2 montiert ist, in dem das Konkavgitter R und der Rotationsmechanismus des Gitters angeordnet sind. Andererseits sind an der Platte A ein Block 4, der den Eintrittsspalt trägt, und schließlich Blöcke 5 und 5' mit den Austrittsspalten befestigt. Die Blöcke 4, 5 und 5' sind mit Block 1 durch Rohre 6 verbunden, welche mit vakuumdichten Balgmembranen 7 versehen sind. Diese ermöglichen die Einstellung der Spalte mit Hilfe der Schrauben 8, welche auf jedem Block 4, 5 und 5' vorgesehen sind, und die entsprechenden Verschiebungen der Blöcke in nicht dargestellten Führungen der Platte A gestatten. Bei jedem Block 4, 5, 5' kann die Breite der Spalte durch eine Vorrichtung 9 verstellt werden.The vacuum stand, which is not shown, carries a plate A on which, on the one hand, a central block 2 is mounted, in which the concave grating R and the rotating mechanism of the grating are arranged. On the other hand, a block 4, which carries the entry slit, and finally blocks 5 and 5 'with the exit slits are attached to the plate A. The blocks 4, 5 and 5 'are connected to block 1 by pipes 6 which are provided with vacuum-tight bellows membranes 7. These make it possible to adjust the gaps by means of the screws 8 provided on each block 4, 5 and 5 'and allow the blocks to be displaced accordingly in guides of the plate A , not shown. In the case of each block 4, 5, 5 ', the width of the column can be adjusted by a device 9.

Die Platte A trägt ferner einen Steuermechanismus 10 für die Steuerung der Wellenlänge, der später beschrieben wird.The disk A also carries a control mechanism 10 for controlling the wavelength, which will be described later.

Gemäß F i g. 4 a weist der Block 2, der in dem Block 1 durch Mutternschrauben Γ befestigt ist, ein konisches Teil 11 auf, das mit vertikaler Axialbohrung angeordnet ist, deren Achse 12 die Drehachse des Gitters R bildet. An ihrem unteren Ende ist die Achse 12 mit dem Gitter R fest verbunden, das in einem Lager 13, das mit geeigneten Mitteln am Block 2 montiert ist, befestigt ist. Die Achswelle 12 wird mechanisch durch zwei Kugellager exakt ausgerichtet gehalten. Das erste Kugellager 14, das auf die Drehachse aufgepreßt ist, wird durch eine Schulter 15 der Welle in Position gehalten und durch ein Teil 16 gegen eine Innenschulter 17 des konischen Teiles 11 gedrückt, während das andere Kugellager 18 durch zwei Zwischenstücke 21' gegen eine Innenschulter 19 des Teiles 11 und eine Schulter 20 der Weile gedrückt wird. Die Klemmung ist durch den Aufbau 21 mit Mutter und Bremse 22 gewährleistet Das freie Ende der Achse 12 springt über den Aufbau 22 hinaus hervor und trägt einen horizontalen Ann 23, der fest an der Welle angebracht istAccording to FIG. 4 a, the block 2, which is fastened in the block 1 by nut bolts Γ, has a conical part 11 which is arranged with a vertical axial bore, the axis 12 of which forms the axis of rotation of the grid R. At its lower end, the axis 12 is firmly connected to the grid R , which is fixed in a bearing 13 which is mounted on the block 2 by suitable means. The axle shaft 12 is kept mechanically precisely aligned by two ball bearings. The first ball bearing 14, which is pressed onto the axis of rotation, is held in position by a shoulder 15 of the shaft and is pressed by a part 16 against an inner shoulder 17 of the conical part 11, while the other ball bearing 18 is pressed against an inner shoulder by two intermediate pieces 21 ' 19 of the part 11 and a shoulder 20 of the while is pressed. The clamping is ensured by the structure 21 with nut and brake 22. The free end of the axle 12 protrudes beyond the structure 22 and carries a horizontal ann 23 which is firmly attached to the shaft

Der Arm 23 verläuft hier parallel zur Tangente am Scheitel des Gitters R (s. Fig. 4b und 4c), man kann ihm aber jede andere gewünschte oder vorteilhafte feste Richtung in bezug auf das fest mit der Platte A verbundene Gitter geben. Eine Druckvorrichtung 24 trägt einen Antrieb 25, um die Verschiebung einer Rolle 26 entsprechend der Achse der Druckvorrichtung vor-The arm 23 here runs parallel to the tangent at the apex of the grid R (see FIGS. 4b and 4c), but it can be given any other desired or advantageous fixed direction with respect to the grid firmly connected to the plate A. A printing device 24 carries a drive 25 to advance the displacement of a roller 26 according to the axis of the printing device.

zunehmen. Die Rolle 26 wirkt gegen den Arm 23. Der Kontakt zwischen Rolle und Arm ist durch eine auf den Arm einwirkende Rückzugfeder 27 sichergestellt. Unter diesen Bedingungen wirkt die Verschiebung der Rolle 26 auf ihrer Druckvorrichtung 24 auf den Arm 23 ein und verursacht eine Drehung um den Winkel y, die den Durchtritt -«er Wellen durch den Austrittsspalt ermöglicht. Außerdem kann man auf diese Weise mit ausreichender Annäherung die Wellenlänge A messen, die sich in folgender Formel ausdrückt:gain weight. The roller 26 acts against the arm 23. The contact between the roller and the arm is ensured by a return spring 27 acting on the arm. Under these conditions, the displacement of the roller 26 on its pressure device 24 acts on the arm 23 and causes a rotation through the angle γ, which enables the passage of waves through the exit gap. In addition, in this way one can measure the wavelength A with sufficient approximation, which is expressed in the following formula:

A = — cos θ siny.A = - cos θ siny.

(7)(7)

Die beschriebene einfache Bewegung resultiert aus einem Stoß auf den Arm 23 mittels der Rolle 26, die aus einem Kugellager mit dem Radius u gebildet wird, das sich linear abhängig von der Zeit in Richtung HoZ bewegt und einen Winkel θ in bezug auf eine Paraiieie zur Richtung der Normalen für den Wert γ = 0 der Drehung bildet, d. h. Tür den zentralen Fleck (A = 0).The simple movement described results from an impact on the arm 23 by means of the roller 26, which is formed by a ball bearing with the radius u , which moves linearly as a function of time in the direction HoZ and an angle θ with respect to a parallel to the direction the normal for the value γ = 0 of the rotation, ie door forms the central spot (A = 0).

Nachstehend werden im einzelnen die Fälle zweier Gitter untersucht, nämlichIn the following, the cases of two grids will be examined in detail, viz

/{,(Radius«
A2 (Radius R
/{,(Radius"
A 2 (radius R

■■ 500 mm, /V ■■ 500 mm, N ■■ 500 mm, / V ■■ 500 mm, N

1831,8 Striche/mm), ; 1221,2 Striche/mm).1831.8 lines / mm); 1221.2 lines / mm).

Die entsprechenden Aufbauten wurden mit geraden Spalten von 10 mm Höhe und einer Breite vonThe corresponding structures were made with straight columns 10 mm high and wide

rNKX
cos a R.
rNKX
cos a R.

r'NK cosßR. r'NK cosßR.

-- f für den Eintrittsspalt und - f for the entrance slit and

= /' für den Austrittsspalt= / 'for the exit slit

für einfache Monochromatoren und solche mit Mehrfachausgängen versehen. Es gibt Werte von 2 θ (ungefähr 28°), bei denen die Breite/' des Austrittsspalts für alle Wellenlängen gleichbleiben kann, ohne daß Licht von den Spalträndern abgefangen wird.for simple monochromators and those with multiple outputs. There are values of (approximately 28 °) at which the width / 'of the exit slit can remain the same for all wavelengths without light being intercepted by the slit edges.

Bei Einfach-Monochromatoren hat man zuerst die Resultate und Bedingungen gemäß dem STREHL-Kriterium geprüft.With single monochromators you first have the results and conditions according to the STREHL criterion checked.

Die Werte von e und e' für die beiden Gitter R1 und R2 sind in Fig. 5 in Abhängigkeit von θ dargestellt. Wenn man den Krümmungsradius verändert, ändern sich die Werte von e und e' praktisch nicht.The values of e and e ' for the two grids R 1 and R 2 are shown in FIG. 5 as a function of θ. If you change the radius of curvature, the values of e and e ' practically do not change.

Bei einer gestrichelten Höhe von 25 mm liegen die Werte von W zwischen 10 und 14 mm für Änderungen von B zwischen 6 und 45° und einer Bezugswellenlänge von 75 nm. Es sei daran erinnert, daß das STREHL-Kriterium in der Tat für jeden Wert von A andere Werte von Wangibt Für eine praktische Durchführung wählt man einen mittleren Wert entsprechend einem bestimmten Wert der Wellenlänge. Man wird feststellen, daß der STREHL-Test jenseits von θ = 50° für die betrachtete gestrichelte Höhe unzureichend ist, und daß unterhalb von θ = 6° die Werte von e' (Aufbauten Fig. 3a, 3d) oder von e (Aufbauten F i g. 3 b, 3 c) zu hoch sind, um zu praktischen Durchführungen zu führen. F i g. 6 gibt den Wert ρ =f(ß) für das Gitter R1 und die verschiedenen Anordnungen. Die ausgezogene Kurve zeigt Rp /1,54, wobei der breite Strich den Bereich θ bestimmt, für denWith a dashed height of 25 mm, the values of W are between 10 and 14 mm for changes in B between 6 and 45 ° and a reference wavelength of 75 nm. It should be remembered that the STREHL criterion is indeed for any value of A indicates other values of W For a practical implementation, one chooses an average value corresponding to a certain value of the wavelength. It will be found that the STREHL test beyond θ = 50 ° is inadequate for the dotted height considered, and that below θ = 6 ° the values of e ' (structures Fig. 3a, 3d) or of e (structures F i g. 3 b, 3 c) are too high to lead to practical implementations. F i g. 6 gives the value ρ = f (ß) for the grid R 1 and the various arrangements. The solid curve shows R p / 1.54, the broad bar determining the range θ for the

die Grenzauflösunq Rp in einem Spektralbereich von 20 bis 320 nm erreicnt wird. Bei den Anordnungen der Fig. 3a und 3d erstreckt sich der Bereich etwa von 32° bis 36°3O', während er sich bei Fig. 3b und 3c von 26° bis 36° erstreckt. Bei Gilter R1 liegt der Bereich θ zwischen 30° und 40° für die Aufbauten Fig. 3a und Fig. 3d.the limit resolution R p is reached in a spectral range from 20 to 320 nm. In the arrangements of FIGS. 3a and 3d, the range extends approximately from 32 ° to 36 ° 30 ', while in FIGS. 3b and 3c it extends from 26 ° to 36 °. In the case of gilter R 1 , the range θ is between 30 ° and 40 ° for the structures in FIGS. 3a and 3d.

Die Bedingung (5) begrenzt also den möglichen Bereich Tür den Winkel 0, der im übrigen den Werten von e und e' entspricht, die vollkommen mit der handlichen Realisierung eines Monochromators vereinbar sind.Condition (5) thus limits the possible door area to the angle 0, which otherwise corresponds to the values of e and e ' , which are completely compatible with the handy realization of a monochromator.

Wenn man sich mit einem Auflösungsvermögen in der Größenordnung von 5000 begnügt, dann können die Anordnungen von F i g. 3 a und F i g. 3 d (Gitter Rx) zwischen 27°3O' und 39°30', die beiden anderen zwischen etwa 20°30' und 39° verwendet werden.If one is satisfied with a resolution of the order of 5000, then the arrangements of FIG. 3 a and F i g. 3 d (grid R x ) between 27 ° 3O 'and 39 ° 30', the other two between about 20 ° 30 'and 39 °.

Zusammengefaßt kann gesagt werden, daß die Verwendung des Gitter» S1 rnii einer optimalen gestrichelten Fläche von 11 x 25 mm" es gestattet, ein Grenz-Auflösungsvermögen von 7500 Tür 26° < θ < 36°30' zu erhalten. Doch ist es aus Gründen der Helligkeit vorzuziehen, den GütefaktorQ zu berücksichtigen.
Daher werden die Ergebnisse und Bedingungen gemäß dem Gütefaktor Q untersucht.
In summary it can be said that the use of the grating "S 1 rnii of an optimal dashed area of 11 x 25 mm" allows a limit resolution of 7500 door 26 ° < θ < 36 ° 30 'to be obtained. But it is over For reasons of brightness, it is preferable to take the quality factor Q into account.
Therefore, the results and conditions are examined according to the figure of merit Q.

Die Berechnung zeigt, daß die Werte von e und e' nach Fig. 5 für W = 30 mm und L = 54 mm (p = 1,8) praktisch noch gültig sind. Das Grenz-Auflösungsveimögen Λ, für die verschiedenen Werte von ρ ist in Fig. 7 inThe calculation shows that the values of e and e ' according to FIG. 5 for W = 30 mm and L = 54 mm (p = 1.8) are still practically valid. The limit resolving power Λ, for the various values of ρ is shown in FIG. 7 in

ίο Abhängigkeit von θ für die beiden ausgewählten Wellenlängen A1 und A/ dargestellt. Ihre Werte ergeben δ λ inst, minim, in dem betrachteten Spektralbereich. Für ρ = 1,8 und für θ zwischen 6 und 50° wäre das praktische Grenz-Auflösungsvermögen 30 bis 75 nm und 800 bis 250 nm. Wie vorher wird der Gültigkeitsbereich durch den gewünschten Wert von Rp begrenzt. Wenn man die vorstehenden Werte erhalten will, zeigen die Berechnungen, daß das Intervall von θ einerseits wächst, wenn man von der Anordnung der Fig. 3b zur Anordnung der F i g. 3 a übergeht, und andererseits mit p. Fürp = 1,8 kann das Gitter R1 verwendet werden für Werte von θ zwischen 22° und 40° und Gitter R1 zwischen etwa 20° und 50°. Zusammengefaßt: die Verwendung des Gitters R1 mit einer optimalen gestricheltenίο Dependence on θ for the two selected wavelengths A 1 and A / are shown. Their values result in δ λ inst, minim, in the observed spectral range. For ρ = 1.8 and for θ between 6 and 50 ° the practical limit resolving power would be 30 to 75 nm and 800 to 250 nm. As before, the range of validity is limited by the desired value of R p. If the above values are to be obtained, the calculations show that, on the one hand, the interval of θ increases when one moves from the arrangement of FIG. 3b to the arrangement of FIGS. 3 a passes, and on the other hand with p. For p = 1.8 the grating R 1 can be used for values of θ between 22 ° and 40 ° and grating R 1 between about 20 ° and 50 °. In summary: the use of the grid R 1 with an optimal dashed line

Fläche von 30 x 54 mm2 erlaubt es, ein Grenz-Auflösungsvermögen zwischen etwa 3000 und 8000 zu erhalten, für 22° < θ < 40°. Bei gleicher Auflösung erweist sich die zweite Lösung als viel interessanter, weil sie einem Helligkeitsgewinn mit einem Faktor 5,9 entspricht. An area of 30 x 54 mm 2 allows a limit resolution between about 3000 and 8000 to be obtained for 22 ° <θ <40 °. With the same resolution, the second solution turns out to be much more interesting because it corresponds to a brightness gain of a factor of 5.9.

Aus diesen letztgenannten Feststellungen, basierend auf der Verwendung des Selektionskriteriums ρ =/(θ), geht hervor, daß die Anordnung von F χ g. 3 a allein aufrechterhalten werden soll und daß es eine Grenze des Bereiches θ gibt, die im wesentlichen vom gewünschten Wert Rp abhängt Letztere wird für jeden Wert von θ zwischen 22° und 40° bei Gitter R1 und 20° und 50° bei Gitter Äj maximal sein.
Die folgende Tabelle zeigt die verschiedenen Werte der Parameter W, L, e und e' für die Gitter R1 und R2 und die beiden besonderen Werte von Θ.
From these last-mentioned findings, based on the use of the selection criterion ρ = / (θ), it follows that the arrangement of F χ g. 3a alone is to be maintained and that there is a limit to the range θ , which essentially depends on the desired value R p , the latter becomes for each value of θ between 22 ° and 40 ° for grid R 1 and 20 ° and 50 ° for grid Be maximal.
The following table shows the various values of the parameters W, L, e and e ' for the grids R 1 and R 2 and the two particular values of Θ.

Gitter/?,Grid / ?,

If0 = 30 mmIf 0 = 30 mm

I0 = 54 mmI 0 = 54 mm

θ = 40°
θ = 30°
θ = 40 °
θ = 30 °

β = 0,80386
e = 0,82789
β = 0.80386
e = 0.82789

e' = 0,72306
s' = 0,91332
e '= 0.72306
s' = 0.91332

Gitter/?2Grid /? 2

-Q = 30 mm-Q = 30 mm

54 mm54 mm

Θ = 50°
θ = 20°
Θ = 50 °
θ = 20 °

e = 0,76897
f = 0,85117
e = 0.76897
f = 0.85117

e' = 0,51620
e' = 1,0557
e ' = 0.51620
e ' = 1.0557

Die Vorteile eines solchen Fokussierungsverfahrens sind zahlreich. In optischer Hinsicht: die maximalen Leistungen des Gitters in dieser Anordnung können erreicht werden. Die einfallenden und gebrochenen Bündel sind fest und es ist also möglich, vor oder hinter den Spalten eine zusätzliche Optik anzubringen, deren Achse nicht in Abhängigkeit von der Wellenlänge geändert werden muß.The advantages of such a focusing technique are numerous. In optical terms: the maximum Performances of the grating in this arrangement can be achieved. The invading and broken ones Bundles are solid and it is therefore possible to attach an additional optic in front of or behind the gaps, their Axis does not have to be changed depending on the wavelength.

In mechanischer Hinsicht: Eine einfache Rotation ist immer leichter durchzuführen als eine Translation, besonders dar.p., wenn die Toleranzen des Psrslleüsmus eng sind, wie es bei den Beugungsgittern der Fall ist. Insbesondre ist der Aufbau dann günstig, wenn Gitter mit großen Krümmungsradien verwendet werden.In mechanical terms: a simple rotation is always easier to perform than a translation, especially dar.p., if the tolerances of the psrleüsmus are narrow, as is the case with the diffraction gratings. In particular, the structure is favorable when grids with large radii of curvature can be used.

Bei Monochromatoren mit mehrfachen Ausgängen, d. h. mit einer festen Richtung des einfallenden Bündels und mehreren festen Richtungen, die gleichzeitig verschiedene Wellenlängen liefern, kann man sicherstellen, daßFor monochromators with multiple outputs, d. H. with a fixed direction of the incident beam and several fixed directions that are different at the same time Supply wavelengths, one can ensure that

a) die gleichzeitige Realisierung von zwei Austrittsspalten mit hohem Auflösungsvermögen in jedem der beiden Spektralbereiche möglich ist,a) the simultaneous realization of two exit slits with high resolution in each of the two spectral ranges is possible,

b) die gleichzeitige Realisierung von zwei Eintrittsspalten für Licht unterschiedlicher Spektralbereiche und mit einem einzigen Austrittsspalt möglich ist, und daßb) the simultaneous realization of two entry slits for light of different spectral ranges and with a single exit gap is possible, and that

c) gleichzeitig fotometrische Messungen in unterschiedlichen Spektralbereichen mit einem Gera:c) Simultaneous photometric measurements in different spectral ranges with one device:

ίο möglich sind.ίο are possible.

a - Die Untersuchung der Kurven der Fig. 5 zeigt, daß zwei Werte von θ einem Wert von e entsprechen. Für diese beiden Werte kann eine gute Auflösung erreicht werden, wenn die Werte der Bildabstände diejenigen sind, die durch die Kurve e' = /(©) gegeben sind. Wenn eine Auflösung von 0,03 pm verlangt wird (Gitter Ä| in der Anordnung der Fig. 3a), kann bei einem Objektabstand vQn O-RP R dieser Objektabstanda - Examination of the curves of Figure 5 shows that two values of θ correspond to one value of e. A good resolution can be achieved for these two values if the values of the image distances are those given by the curve e ' = / (©). If a resolution of 0.03 pm is required (grid λ | in the arrangement of FIG. 3a), this object distance can be used with an object distance v Qn O RP R

2ß zwei Ausgängen entsprechen, einem bei einem Winkel von 2 θ = 44° (f - 1,08 R) und dem anderen bei einem Winkel von 2 θ = 68° (r1 = 0,84 R). 2SS two outputs correspond to one at an angle of 2 θ = 44 ° (f - 1.08 R) and the other at an angle of 2 θ = 68 ° (r 1 = 0.84 R).

b - Wenn man für das Gitter Λ, im Aufbau nach Fig. 3a einen Objektabstand r = Re gleich 0,81 Λ nimmt, kann man θ wählen, um einen Spektralbereich von 8 bis 340 nm für die Werte dd, e, e\ θ wie folgt zu erhalten: b - If one takes an object distance r = Re equal to 0.81 Λ for the grating Λ, in the structure according to Fig. 3a, one can choose θ to cover a spectral range of 8 to 340 nm for the values dd, e, e \ θ as follows:

Gestrichelte Fläche 30 x 54 mm2 Dashed area 30 x 54 mm 2 Θ= 14°Θ = 14 ° θ = 35° θ = 35 ° θ = 75° θ = 75 ° e =e = 0,810.81 0,810.81 0,810.81 e' —e '- 1,3911.391 0,8330.833 0,42030.4203 Mittlere AuflösungMedium resolution 0,5 nm0.5 nm 0,03 nm0.03 nm 0,5 nm0.5 nm SpektraibereichSpectrum range 550-430550-430 nm 3u—juu nninm 3u-juu nni 80-75 nm80-75 nm 'alle von fotometrischen Reflexions- oder'all of photometric or reflective diesem Fallethis case

Polarisationsmessungen ist eine Auflösung von einigen 0,1 nm annehmbar. Dagegen ist es sehr oft vorteilhaft, diese Messungen in einem großen Bereich von Wellenlängen durchzuführen, was tatsächlich die Verwendung von zwei verschiedenen Aufbauten mit unterschiedlichen schwer vergleichbaren Charakteristiken verlangt. Das Gitter A1 im Aufbau von Fig. 3a kann zwischen 150 und 430 nm arbeiten, wenn 2 θ = 29° (r1 = 1,44 R) und zwischen 20 und 200 nm, wenn 2 θ = 100° (/■= 0,518 R), bei einem einzigen Objektabstand von 0,77 R. Außerdem kann sich ein ähnlicher Aufbau als interessant erweisen, einerseits für die Messung der Gitterleistung in Abhängigkeit von der Interferenzordnung und andererseits für die Eichung der Quellen und Empfänger.For polarization measurements, a resolution of a few 0.1 nm is acceptable. On the other hand, it is very often advantageous to carry out these measurements in a large range of wavelengths, which in fact requires the use of two different set-ups with different characteristics that are difficult to compare. The grating A 1 in the structure of FIG. 3a can operate between 150 and 430 nm when 2 θ = 29 ° (r 1 = 1.44 R) and between 20 and 200 nm when 2 θ = 100 ° (/ ■ = 0.518 R), with a single object distance of 0.77 R. In addition, a similar setup can prove to be of interest, on the one hand for measuring the grating performance depending on the interference order and on the other hand for calibrating the sources and receivers.

Da die Werte von e im Aufbau 3a (oder 3d) gleich denjenigen von e' im Aufbau 3 b (oder 3 c) und reziprok gegenüber e' sind, kann man auf gleiche Weise einen Aufbau mit zwei Eingängen und einem Ausgang realisieren. Since the values of e in structure 3a (or 3d) are equal to those of e ' in structure 3 b (or 3 c) and are reciprocal to e' , a structure with two inputs and one output can be implemented in the same way.

Wenn die auf dem ersten Bündel beobachtete Wellenlänge If the wavelength observed on the first beam

Κι λι = 2 siny ccis ΘΧΙΝ
beträgt, muß diejenige auf dem zweiten Bündel in
Κι λι = 2 siny ccis Θ Χ ΙΝ
the one on the second bundle must be in

K2X2 =2 sin γ cos Θ2/Ν = Κλ A, cos 82lcos θχ K 2 X 2 = 2 sin γ cos Θ 2 / Ν = Κ λ A, cos 8 2 lcos θ χ

betragen. Eine Wellenlänge λ kann in der Ordnung 1 (Ki = 1) und in der Ordnung 2 (K2 = 2) gleichzeitigbe. A wavelength λ can be in order 1 (Ki = 1) and in order 2 (K 2 = 2) at the same time

so beobachtet werden, wenn cos Q2 = 2 cos θ\. Die Verwendung des Gitters R2 im Aufbau von Fig. 3a, mit einem Objektabstand r = 0,6 R erlaubt die Realisierung dieser Bedingung, wenn ungefähr 0, = 60°45' (f = 0,38 R), und wenn θ2 = 4° (r1 = 2,1 R) ist, wobei lediglich ein breites durchgehendes (Frequenz-)Band (S 1 nm) erforderlich ist.so observed when cos Q 2 = 2 cos θ \. The use of the grid R 2 in the structure of FIG. 3a, with an object distance r = 0.6 R, allows this condition to be implemented if approximately 0, = 60 ° 45 ' (f = 0.38 R), and if θ 2 = 4 ° (r 1 = 2.1 R) , with only a wide, continuous (frequency) band (S 1 nm) being required.

Das Ausführungsbeispiel der Fig. 9 entspricht weitgehend demjenigen der Fig.4, jedoch ist nur ein Block 4 mit Eintrittsspalt und ein Block 5 mit Austrittsspalt vorhanden.The embodiment of FIG. 9 largely corresponds that of Fig.4, but is only one Block 4 with an entry gap and a block 5 with an exit gap.

Nachfolgend sind einige Resultate angegeben, die mit Einfach- und Doppelmonochromatoren gemäß Fig. 9 und 4 erzielt wurden, die mit den beschriebenen Mechanismen und festen Eintritts- und Austrittsspalten versehen sind.Below are some results that can be achieved with Single and double monochromators according to FIGS. 9 and 4 were achieved with the described Mechanisms and fixed entry and exit slits are provided.

In der nachstehenden Tabelle 1 sind zwei Beispiele angegeben, für die der Wert von θ mit /· = 10 μπι bestimmt worden istIn Table 1 below, two examples are given for which the value of θ with / · = 10 μπι has been determined

NN »Ό»Ό 1313th L0 L 0 ΓΓ 22 3822 38 662662 hH 1414th X min X min λ maxλ max xAxA Str/mmStr / mm nunwell mmmm mmmm mmmm nmnm ηπίηπί ιι Tabelle 1Table 1 12001200 3838 3030th 152,28152.28 66th 55 110110 11 RR. 1221,21221.2 5454 5454 412,06412.06 88th mmmm 3535 400400 II. mmmm mmmm 0,1950.195 11 400,7400.7 94,4794.47 144°52'144 ° 52 ' 0,0070.007 500500 594,51594.51 28°28 °

1. Einfachmonochromatoren1. Single monochromators

In den F i g. 10a und 10b sind für die beiden betrachteten Fälle (Tabelle 1) einerseits der Wert/' in Abhängigkeit von der Wellenlänge und andererseits die Werte der theoretischen Auflösung <δλ> und der praktischen Auliosung δ λρ dargestelltIn the F i g. 10a and 10b are shown for the two cases under consideration (Table 1) on the one hand the value / 'as a function of the wavelength and on the other hand the values of the theoretical resolution <δλ> and the practical solution δ λ ρ

Bei dem Gitter von 500 mm (Fig. 10b), das mit 2Θ = 28° arbeitet, ist die Differenz zwischen <δλ> und δ λρ vernachlässigbar für die betrachteten Spalthöhen, obwohl die öffnung groß ist.With the grid of 500 mm (FIG. 10b), which works with 2Θ = 28 °, the difference between <δλ> and δ λ ρ is negligible for the gap heights considered, although the opening is large.

Bei dem Gitter von 400,7 mm (Fig. 10a) beträgt die Differenz obwohl sie zwischen <δ λ> und δ λρ Hegt und größer ist (—0,05 nm) nur ungefähr ein Zehntel der Grenzauflösung, wobei die Apertur 1/4 ist. Diese Apertur ist für das betrachtete Spektralgebiet sehr groß im Vergleich zu derjenigen der augenblicklichen handelsüblichen Geräte, wo sie gleich 1/75 ist Man sieht also, daii es möglich ist, einfache Monochromatoren zu realisieren, bei denenIn the case of the 400.7 mm grating (Fig. 10a) the difference is only about a tenth of the limit resolution, although it is between <δ λ> and δ λ ρ and larger (-0.05 nm), the aperture 1 / 4 is. This aperture is very large for the spectral region under consideration in comparison to that of the current commercially available devices, where it is equal to 1/75. It can therefore be seen that it is possible to realize simple monochromators in which

die einfallenden und gebeugten Bündel fest sind, die Eintritts- und Austrittsspalte fest in Lage und Breite sind,the incident and flexed bundles are fixed, the entry and exit slits are fixed in position and Width are

das Gitter von einer Drehbewegung durch einen Mechanismus angeregt wird, der gleichzeitig die Wellenlängenmessung ermöglicht.the grid is excited by a rotary movement by a mechanism that simultaneously controls the Wavelength measurement enables.

Bei einer Drehung γ des Gitters erhält man am Austrittsspalt der Breite /J durchlaufende Bänder δ X1n deren Länge von/'abhängt, und deren Intensitätsmaximum in Richtung β + Aß liegt:With a rotation γ of the grating, at the exit slit of width / J, continuous bands δ X 1n whose length depends on / 'and whose intensity maximum lies in the direction of β + Aß:

C1 C 1

cos;? Δ β = - (cm + -^p- A -^- = KNA X, cos ;? Δ β = - (c m + - ^ p- A - ^ - = KNA X,

was einer Wellenlänge K {λ + A X) entspricht.which corresponds to a wavelength K {λ + AX) .

Praktisch kann man in den Aufbauten mit schwacher Dispersion A X nicht beobachten, und man beobachtet bei einer gegebenen Drehung des Gitters Wellenlängen In practice, AX cannot be observed in the weak dispersion structures, and wavelengths are observed for a given rotation of the grating

X, j, j erster, zweiter und dritter Ordnung. Es ergibt sich X, j, j first, second and third order. It surrenders

also eine Überlagerung der Ordnungen in der Ebene des Austrittsspaltes. Diese Erscheinung, die bekannt ist, kann einzig und allein vermieden werden, entweder durch Verwendung von Filtern oder durch einen Aufbau, der eine Vörfilierung sicherstellt, d. h. insbesondere mit Doppelmonochromatoren.thus a superposition of the orders in the plane of the exit slit. This phenomenon that is known can only be avoided, either by using filters or by a structure that ensures pre-filing, i.e. H. especially with double monochromators.

2. Doppelmonochromatoren2. Double monochromators

Da man bei Ultraviolett nur über eine begrenzte Zahl von Filtern verfügt, ist es nötig, um die Ordnungen zu trennen, Doppelmonochromatoren zu realisieren. Dabei spielt der Austrittsspalt S\ des ersten Aufbaues die Rolle des Eintrittsspaltes des zweiten Aufbaus (AusSince only a limited number of filters are available for ultraviolet, it is necessary to implement double monochromators in order to separate the orders. The exit slit S \ of the first structure plays the role of the entry slit of the second structure (Aus trittsspalt S2). Hierbei offenbart sich deutlich das für die Einfachmonochromatoren an einem solchen Aufbau gezeigte Interesse, bei dem der mittlere Spalt S\ in Lage und Breite fest ist. Man kann also Aufbauten in »Z«-Form mit zwei Gittern R1, R2 realisieren (Fig. 11),step S 2 ). This clearly reveals the interest shown for the single monochromators in such a structure, in which the central gap S \ is fixed in position and width. You can therefore create structures in "Z" shape with two grids R 1 , R 2 (Fig. 11), wobei man einen Aufbau M\ (Fig. 8a) an einen Aufbau M] (Fig. 8c) anfügt, oder indem man einen Aufbau M2 (Fig. 8b) mit einem Aufbau Λ/4 (Fig. 8d) verbindet. Es ist also möglich, Doppelmonochromatoren zuwhere a construction M (Fig. 8a) is added to a construction M] (Fig. 8c), or by connecting a construction M 2 (Fig. 8b) with a construction Λ / 4 (Fig. 8d). So it is possible to use double monochromators too bauen, wobei die Trennung der Ordnungen gewährleistet ist und die Spektraleinheit erhöht ist. Dabei arbeitet man mit sehr großer Helligkeit und erhöhter Auflösung und mit einem Winkel von 2 θ zwischen den beiden beträchtlich unter 70° liegenden Winkeln. Ferner werbuild, whereby the separation of the orders is guaranteed and the spectral unit is increased. One works with very high brightness and increased resolution and with an angle of between the two angles which are considerably below 70 °. Furthermore who den starke Intensitätsverluste durch Astigmatismus und Polarisation vermieden.the strong loss of intensity due to astigmatism and Polarization avoided.

Hierzu 7 Blatt ZeichnungenIn addition 7 sheets of drawings

Claims (1)

Patentansprüche:Patent claims: 1. Monochromator mit einem konkaven sphärischen Beugungsgitter, einem feststehenden Eintrittsspalt und einem feststehender! Austrittsspalt, dadurch gekennzeichnet, daß der Eintrittsspalt (S) und der Austrittsspalt (SO in bezug auf das Gitter (R) so angeordnet sind, daß die Summe der objektseitigen und bildseitigen Tangentialbrennweiten Γ und T' den Wert1. Monochromator with a concave spherical diffraction grating, a fixed entrance slit and a fixed one! Exit slit, characterized in that the entry slit (S) and the exit slit (SO with respect to the grating (R) are arranged in such a way that the sum of the object-side and image-side tangential focal lengths Γ and T ' equals the value
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4175864A (en) * 1978-02-21 1979-11-27 The Foxboro Company Astigmatic illuminating system in an internal reflection spectometer
AU547873B2 (en) * 1980-02-22 1985-11-07 Sonic Tape Plc A sonar distance sensing apparatus
FR2531213A1 (en) * 1982-07-28 1984-02-03 Centre Nat Rech Scient METHOD FOR FOCUSING REFERENCE WORKING HOLOGRAPHIC SPHERICAL DIFFRACTION NETWORKS, DISPERSIVE OBJECTIVES AND SPECTROMETERS USING THE SAME
JPS59162472A (en) * 1983-03-07 1984-09-13 Yokogawa Medical Syst Ltd Reflected wave receiving system for sector electronic scan type ultrasonic diagnosing equipment

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1056854B (en) * 1958-05-09 1959-05-06 Erich Schaeffer Dipl Phys Monochromator (spectrometer) with concave diffraction grating

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