DE2238546A1

DE2238546A1 - METHOD FOR MANUFACTURING LUMINOUS SCREENS FOR COLOR TUBES

Info

Publication number: DE2238546A1
Application number: DE19722238546
Authority: DE
Inventors: Masahiro Nishizawa; Yoshifume Tomita
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1971-08-09
Filing date: 1972-08-04
Publication date: 1973-02-22
Also published as: JPS4826363A; FR2148573A1; GB1359948A

Description

Dr. Ing. H. Negandanle Dr. Ing.H. Negandanle

Pipf Ino. H. Hsu-.:': - Dipl. Hv. «ι. W. Schmitz Pipf Ino. H. Hsu- .: ': - Dipl. Hv. «Ι. W. Schmitz

Dip». Ing. E. Greclf-i ■ Γi,.>i. ;--.. V. Wehnert Dip ». Ing. E. Greclf-i ■ Γi,.>I.; - .. V. Wehnert

8 München '/, L.; . r;3e 25 8 Munich '/, L .; . r; 3e 25

Telefon 5JSOcCi
Hitachi Limited Telephone 5JSOcCi
Hitachi Limited

ι 5-1, 1-chomeι 5-1, 1-chome

jMarunouchi 2. August 1972jMarunouchi August 2, 1972

iChiyoda-ku, Tokyo, Japan Akte: M-2279 iChiyoda-ku, Tokyo, Japan File: M-2279

Verfahren zur Herstellung von Leuchtschirmen für FarbbildröhrenProcess for the production of fluorescent screens for color picture tubes

I -I -

j Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Leuchtschirmen einer Farbbildröhre, insbesondere einer Matrixfarbbildröhre. The invention relates to a method for producing luminous screens a color picture tube, in particular a matrix color picture tube.

* i* i

Eine. Farbbildröhre mit Lochmaske umfaßt gewöhnlich auch einen j an der Innenfläche der Frontplatte des luftleer gepumpten Röhren- ^! kolbens ausgeformten Leuchtschirm. Der Leuchtschirm enthält eine ! Anzahl von Pho^iiordreiern, wobei jeder Dreier aus drei Phosphor- ' punkten für Abstrahlung der Farben rot₉ blau und grün.besteht. i Nahe am Leuchtschirm und parallel zu ihm ist eine Lochmaske angeordnet. Die Lochmaske ist mit einer Anzahl von kleinen Perforation^ oder Sieblöchern versehen, um drei durch drei im Hals des Röhrenkolbens angeordnete Elektronenkanonen emittierte Strahlen zu übertragen, damit die Elektronenstrahlen auf die entsprechenden Phosphorpunkte aufprallen.One. Color picture tube with shadow mask usually also includes a j on the inner surface of the front panel of the evacuated tube ^! flask shaped luminescent screen. The fluorescent screen contains one! Number of Pho ^ iiordreiern, each triple of three phosphorus' score for radiation of the colors red and blue ₉ grün.besteht. i A perforated mask is arranged close to and parallel to the fluorescent screen. The shadow mask is provided with a number of small perforations ^ or sieve holes in order to transmit three beams emitted by three electron guns arranged in the neck of the tubular flask, so that the electron beams strike the corresponding phosphor points.

Um die Helligkeit und den Kontrast des am Leuchtschirm*erscheinenden Bildes zu verbessern, wurde jüngst eine sogenannte -2-To adjust the brightness and contrast of what appears on the luminescent screen * To improve the image, a so-called -2-

"² " 22385ΑΘ" ² " 22385ΑΘ

Schwarzmatrixbildröhre vorgeschlagen, die in Phosphorpunkten ;Black matrix picture tube proposed in phosphor dots;

einen Durchmesser haben, der kleiner ist als der der Perforations^ löcher der Lochmaske und auf der die Flächen zwischen den Phosphor* !punkten mit einem Belag aus einer schwarzen nichtleuchtenden Masse beschichtet sind.have a diameter smaller than that of the perforations ^ holes of the shadow mask and on which the areas between the phosphor * ! points are coated with a black, non-luminous mass.

Bisher wurde eine Anzahl von Verfahren zur Herstellung des schwarzen Matrix-Leuchtechirms für Farbbildröhren vorgeschlagen. Nach einem typischen Verfahren Wird ein Photowideretand durch Beimischung eines wasserlöslichen Polymers wie Polyvinylalkohol und Ammoniumbichromat aufbereitet, und die Phosphorteilchen von einer Farbe werden im Gemisch verteilt. Das daraus entstehende Gemisch wird auf die Innenfläche der Frontplatte aufgetragen, und diese Schicht wird dann getrocknet und bildet einen dünnen Photowiderstandfilm. Nachdem dieser Ehotowiderstandfilm durch die Perforationslöcher der Lochmaske belichtet wurde, wird diese abgenommen, und die nicht-belichteten Teile der Photowiderstandsschicht oder des Filmes werden durch einen Warmwasserstrahl entfernt, mit dem die Innenfläche der Frontplatte gespült wird, wobei sich die Phosphorpunkte für diese eine Farbe ausbilden. Der gleiche Prozeß wird für die anderen beiden Farben wiederholt j wodurch sich eine Anzahl von Phosphorpunktdreiern für die drei Farben bilden. Anschließend wird ein Gemisch aus einer schwarzen nichtleuchtenden Masse wie Graphit und einem Fotowiderstand auf die gesamte Oberfläche der Frontplatte aufgetragen und dann wird die Frontplatte einem sogenannten Rückprojektions- oder Rückbelichtungsverfahren ausgesetzt, wobei Licht auf die Außenfläch der Frontplatte projiziert wird. Anschließend wird ein Warmwasser·*Heretofore, a number of methods of manufacturing the black matrix lamp screen for color picture tubes have been proposed. A typical method is to create a photoresist by adding a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol and ammonium dichromate, and the phosphor particles of one color are dispersed in the mixture. The resulting Mixture is applied to the inside surface of the faceplate and this layer is then dried to form a thin layer Photoresist film. After this ehotoresist film has been exposed through the perforation holes of the shadow mask, it becomes removed, and the unexposed parts of the photoresist layer or the film are removed by a jet of warm water with which the inner surface of the front panel is rinsed, whereby the phosphor points are formed for this one color. The same process is repeated for the other two colors j whereby a number of phosphorus dot threes are formed for the three colors. Then a mixture of a black Non-luminous mass such as graphite and a photo resistor are applied to the entire surface of the faceplate and then the front panel is exposed to a so-called rear projection or back exposure process, with light on the outer surface the front panel is projected. Then a hot water *

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ί strahl auf die Innenfläche der Frontplatte geleitet, um die nichtbelichteten Teile der Beschichtung fortzuspülen, wodurch der Leuchtschirm, dessen zwischen den Phosphorpunkten liegende Flächen mit einer Schicht auf der schwarzen nichtleuchtenden Masse bedeckt sind, fertiggestellt ist.ί beam directed onto the inner surface of the front panel to avoid the Flush away unexposed parts of the coating, causing the luminescent screen, its lying between the phosphor points Areas covered with a layer of black non-luminous mass is finished.

!Nach einem anderen früheren Verfahren wird auf der Innenfläche der Frontplatte ein Fotowiderstand ausgeformt und nachdem er dreimal durch die Perforationslöcher der Lochmaske hindurch belichtet wurde, wird der belichtete Film im warmen Wasser wie !vorstehend beschrieben entwickelt und bildet damit die Fotowiderstandpunkte. Dann wird eine schwarze nichtleuchtende Masse, beispielsweise Graphit, auf die gesamte Oberfläche der Frontplatte aufgetragen und anschließend getrocknet. Dann wird die gesamte Oberfläche der Frontplatte mit einer Lösung befeuchtet, die nur den Fotowiderstand aufweicht, beispielsweise mit einer Wasserst off superoxy.dlösung, worauf ein Warmwasserstrahl über die gesamte Oberfläche der Frontplatte geleitet wird, um die Fotowiderstandspunkte fortzuspülen und damit Matrixöffnungen zu bilden, deren Durchmesser denen der Phosphorpunkte in der Schicht auf der !schwarzen nichtleuchtenden Masse entsprechen,. Dann werden nach [dem vorstehend beschriebenen Verfahren die Phosphordreier für die 'drei Farben in diesen Öffnungen ausgeformt, wodurch sich ein Leuchtschirm ergibt, bei dem die zwischen den PhosphorpunktenAnother previous method is applied to the inner surface the front plate formed a photo resistor and after it three times through the perforation holes of the shadow mask has been exposed, the exposed film is developed in warm water as described above and thus forms the photoresistance points. Then a black non-luminous mass, for example graphite, is applied to the entire surface of the faceplate applied and then dried. Then the entire surface of the faceplate is moistened with a solution that only the photoresistor is softened, for example with a hydrogen solution, which is followed by a jet of warm water over the entire surface Surface of the front plate is conducted to wash away the photoresistance points and thus to form matrix openings, their Diameters correspond to those of the phosphor dots in the layer on the black non-luminous mass. Then after [Using the method described above, the phosphorus triangles for the 'three colors are formed in these openings, whereby a Luminous screen results in which the between the phosphor points

!liegenden Flächen mit der Schicht aus der schwarzen nicht-! lying surfaces with the layer of the black non-

ι - . ■ι -. ■

¹ leuchtenden Masse bedeckt sind. ¹ luminous mass are covered.

■Bei beiden Verfahren zur Herstellung des Leuchtschirms wird die■ With both methods of manufacturing the luminescent screen, the

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Lochmaske in der folgenden Weise benutzt. Vor allem wird eine bestimmte Lochmaske verwendet, die mit einer Anzahl von Sieblöchern versehen ist, deren Durchmesser kleiner ist als der vorgeschriebene Wert. Nach der erforderlichen Belichtung oder nach Fertigstellung des gewünschten Leuchtschirms muß diese Lochmaske der sogenannten Nachätzung unterworfen werden, wobei sie mit einer Ätzlösung wie einer Ferrichloridlösung behandelt wird, um die Sieblöcher auf den vorgeschriebenen Wert zu vergrößern. Da jedoch die der Nachätzung unterworfene Lochmaske bereits für die Belichtung des Phosphorfilms zur Ausbildung der Phosphorpunkte auf der Innenfläche der Frontplatte verwendet wurde, besitzt sie bereits die Form einer fertiggestellten Anordnung, die sich zum Einbau in die Bildröhre eignet, d.h. die Lochmaske ist mit einem Halterahmen und [mit Federn versehen und besitzt die entsprechende Krümmung.Shadow mask is used in the following manner. Above all becomes a certain shadow mask is used, which is provided with a number of sieve holes, the diameter of which is smaller than the prescribed Value. After the required exposure or after completion of the desired luminescent screen, this shadow mask must be the so-called Post-etch, being treated with an etching solution such as a ferric chloride solution, around the screen holes to increase to the prescribed value. However, since the shadow mask subjected to post-etching is already used for the exposure of the Phosphor film for the formation of the phosphor dots on the inner surface the faceplate was used, it is already in the form of a finished assembly suitable for installation in the picture tube suitable, i.e. the shadow mask is provided with a holding frame and [with springs and has the corresponding curvature.

Daher ist es schwierig, die Lochmaske auf ihrer gesamten Ober-It is therefore difficult to apply the shadow mask over its entire upper

!fläche gleichmäßig zu ätzen. Außerdem müssen je nach der Art des Ätzverfahrens Einrichtungen vorgesehen werden, die verhindern, daß der Halterahmen und die Federn mitgeätzt werden. Weiterhin bedarf! to etch the surface evenly. In addition, depending on the type of etching process, devices must be provided to prevent the holding frame and the springs are also etched. Still needs

es peinlicher Sorgfalt bei den Vorschriften für die Formgebungit takes painstaking care with the rules for shaping

!und die mechanische Stärke der Lochmaske sowie für die genaue !Dimensionierung der Perforationslöcher.! and the mechanical strength of the shadow mask as well as for the exact ! Dimensioning of the perforation holes.

Anstelle des vorstehend erwähnten Fotoätzprozesses wurde auch ein !anderes Verfahren vorgeschlagen, nach welchem der FotowiderstandInstead of the above-mentioned photo-etching process, there has also been proposed another method by which the photo-resistor

!oder die Phosphorpunkte mit einer wässrigen Lösung aus einem !anorganischen Salz: oder mit einem wasserlöslichen organischen! or the phosphor points with an aqueous solution of a ! inorganic salt: or with a water-soluble organic

Lösemittel behandelt werden, um den Durchmesser der Phoshorpunkte !zu verkleinern. Jedoch bei diesem Verfahren zur VerkleinerungSolvent treated to reduce the diameter of the phosphorus dots! However, with this method of downsizing

■ -5- ■ -5-

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des Durchmessers der Phosphorpunkte wird das anorganische Salz in den durch die Belichtung erhärteten Fotowiderstand eingeschlossen und bewirkt damit ein ungleichmäßiges Aussehen. Wenn andererseits 'das anorganische Salz durch ein wasserlösliches organisches Löse-the diameter of the phosphor dots, the inorganic salt is included in the photoresistor hardened by the exposure and thus causes an uneven appearance. On the other hand, if 'the inorganic salt is replaced by a water-soluble organic solvent

mittel ersetzt wird, läßt sich eine wirksame Verkleinerung des Durehmessers der Phosphorpunkte nicht erreichen. Um außerdem bei jedem Verfahren den Durchmesser der.Phosphorpunkte wirksam zu verkleinern, muß eine Punktlichtquelle verwendet werden, wobei sich in den Lichtpunkten Interferenzstreifen bilden und damit eine Verformung der Phosphorpunkte bewirken.Medium is replaced, an effective reduction of the diameter of the phosphor points cannot be achieved. To moreover in any method to effectively reduce the diameter of the phosphor dots, a point light source must be used, wherein Interference fringes form in the light points and thus cause the phosphor points to deform.

Somit besteht die Aufgabe der Erfindung darin, ein neuartiges Verfahren zur Herstellung eines Schwarzmatrixleuchtschirms ohne I
Notwendigkeit für die Vergrößerung der Perforationslöcher der ■Lochmaske durch Nachätzung zu schaffen, die bisher zur Ausformung 'der Phosphordreier für die drei Farben verwendet wurde. Erfindungs-' gemäß ist ferner ein neues und verbessertes Verfahren zur Herstellung eines Schwarzmatrixleuchtschirms ohne Notwendigkeit fürThe object of the invention is therefore to provide a novel method for producing a black matrix fluorescent screen without an I
Necessity for the enlargement of the perforation holes of the ■ shadow mask to create by post-etching, which was previously used to shape the phosphorus three for the three colors. Also in accordance with the invention is a new and improved method of manufacturing a black matrix phosphor screen without the need for

die Verkleinerung des Durchmessers der Phoshorpunkte für die dreithe reduction in diameter of the phosphorus dots for the three

Farben vorgesehen, nach dem sie auf der Innenfläche der Frontplatte lausgeformt worden sind. Ferner soll erfindungsgemäß ein neuartiges Verfahren zur Herstellung eines Schwarzmatrixleuchtschirms geschaffen werden, nach dem Phosphorpunkte gebildet werden können, deren Durchmesser kleiner ist als der der Sieblöcher der Lochmaske. ^Schließlich ist erfindungsgemäß ein neues und verbessertes Verfahren !zur Herstellung eines Schwarzmatrixleuchtschirms zur VerwendungColors provided according to them on the inner surface of the faceplate have been lousy shaped. Furthermore, according to the invention, a novel A method for manufacturing a black matrix phosphor screen is provided after which phosphor dots can be formed, the diameter of which is smaller than that of the screen holes of the shadow mask. ^ Finally, the invention is a new and improved method ! for the production of a black matrix fluorescent screen for use

!für eine Farbbildröhre vorgesehen, nach welchem die durch die · j Verwendung einer Punktlichtquelle für die Belichtung verursache! provided for a color picture tube, after which the through the · j Using a point light source for exposure cause

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Verformung der Phosphorpunkte vermieden wird.Deformation of the phosphor points is avoided.

Erfindungsgemäß ist ein Verfahren zur Herstellung eines Leuchtschirms für eine Farbbildröhre vorgesehen, nach welchem der Leuchtschirm durch Belichtung unter Verwendung einer Lochmaske ausge-According to the invention is a method for producing a luminescent screen intended for a color picture tube, according to which the luminescent screen is designed by exposure using a perforated mask.

,formt wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Perforationslöcher der Lochmaske mit einer Löaung aus einem Film bedeckt werden, der eine durchsichtige Masse von hohem Molekulargewicht bildet und damit eine Belicntungslochmaske mit einer durchsichtigen organischen Schicht entstehen läßt, die in jedem Perforationsloch mit einer konkaven Linse versehen ist, daß die Belichtungsmaske zur Belichtung der Innenfläche der Frontplatte der Röhr· dient, daß Phosphorpunkte für die drei Farben auf der belichteten Innenfläche ausgeformt werden und, daß die durchsichtige organische Schicht an der belichteten Lochmaske entfernt wird, wodurch der Ursprung- | liehe Zustand der Lochmaske wiederhergestellt wird. j, is formed, characterized in that the perforation holes the shadow mask can be covered with a solution of a film which forms a transparent mass of high molecular weight and thus a Belicntungslochmaske with a transparent organic Layer can arise in each perforation with a concave lens is provided that the exposure mask is used to expose the inner surface of the front plate of the tube Phosphor dots for the three colors are formed on the exposed inner surface and that the transparent organic layer on the exposed shadow mask is removed, whereby the original | lent state of the shadow mask is restored. j

Die Erfindung ist nachstehend näher erläutert. Alle in der Be- i Schreibung enthaltenen Merkmale und Maßnahmen können von erfindungßwesentlicher Bedeutung sein. In den Zeichnungen ist:The invention is explained in more detail below. All of the features and measures contained in the description can be essential to the invention Be meaning. In the drawings is:

IFig. 1 ein vergrößerter Schnitt durch das Perforationsloch einer j Lochmaske.
Fig. 2 ein vergrößerter Schnitt durch das Perforationsloch einer ! Lochmaske zur Zeit der Belichtung nach dem erfindungsgemäßenIig. 1 shows an enlarged section through the perforation hole of a shadow mask.
Fig. 2 is an enlarged section through the perforation of a! Shadow mask at the time of exposure according to the invention

j ■ ■ ' ■j ■ ■ '■

j Verfahren.j procedure.

JFig. 3 ein Kurvenbild für die Beziehung zwischen der KonzentrationJFig. 3 is a graph showing the relationship between concentration

, i, i

der erfindungsgemäßen Polyvinylalkohollösung und demthe polyvinyl alcohol solution according to the invention and the

Durchmesser der Phosphorpunkte. -7-Diameter of the phosphor points. -7-

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Zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die Lochmaske 10 mit einer Anzahl von Perforationslöchern 11 (Fig. 1) und den vorgeschriebenen Abmessungen sowie der Formgebung für eine ^fertiggestellte, in eine Farbbildröhre eingebaute Lochmaske aufbereitet. Die obere Fläche 12 der Lochmaske 10 ist die dem nichtgeizeigten Leuchtschirm gegenüberstehende Fläche, wogegen die untere :Fläche 13 der nichtgezeigten Elektronenkanone gegenübersteht. !Auf die Fläche 12 der Lochmaske 10 wird eine Lösung aus einer Masse mit hohem Molekulargewicht aufgetragen, deren Konzentration !ca. 0,8 - 8,0% beträgt und die einen Film oder eine Sfchieht bilden :kann; beispielsweise wird eine wässrige Lösung aus Polyvinylalkohol oder einer Toluollösung aus Polyisobut^l-Methacrylsäureester Idurch Aufgießen oder Eintauchen aufgebracht. Dann wird die Loch-,maske 10 uia-ihre Mittelachse gedreht, während die Fläche 12 nach oben gerichtet ist, wodurch sich die Dicke der aufgetragenen !Lösung gleichmäßig verteilt'. Dann wird die Lochmaske bei Wärme, beispielsweise unter einer Infrarotlampe getrocknet, wobei sich ' ein durchsichtiger organischer Film oder eine organische SchichtThe shadow mask is used to carry out the method according to the invention 10 with a number of perforation holes 11 (Fig. 1) and the prescribed dimensions and the shape for a ^ finished perforated mask built into a color picture tube prepared. The upper surface 12 of the shadow mask 10 is that of the undisguised The surface opposite the fluorescent screen, whereas the lower surface 13 of the electron gun, not shown, is opposite. ! A solution of a Applied mass with a high molecular weight, the concentration of which! Approx. 0.8 - 8.0% and which form a film or layer :can; for example, an aqueous solution of polyvinyl alcohol or a toluene solution of polyisobutene-1-methacrylic acid ester I applied by pouring or dipping. Then the hole mask 10 uia-its central axis rotated, while the surface 12 after directed upwards, whereby the thickness of the applied 'solution is evenly distributed'. Then the shadow mask is warm, for example dried under an infrared lamp, whereby 'a transparent organic film or an organic layer

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;in jedem Perforationsloch bildet.; forms in each perforation hole.

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,Fig. 2 zeigt einen Querschnitt durch ein Perforationsloch der !nach dem vorstehend beschriebenen· Verfahren behandelten Belichtungs-.lochmaske. Der organische Film 14 bedeckt gleichmäßig die obere IFläche 12 und füllt auch das Perforationsloch 11 der Lochmaske auf., Fig. 2 shows a cross section through a perforation hole in FIG ! The exposure mask treated according to the method described above. The organic film 14 evenly covers the upper surface 12 and also fills the perforation hole 11 of the shadow mask.

(Infolge der Oberflächenspannung bildet der durchsichtige organische Film 14- eine konkave Linse 14 a im Per for at ions loch. Wie eine 'gewöhnliche konkave Linse verringert auch die konkäVe Linse 14a -die Licntintensität am Umfangsteil der Linse mehr als in ihrer :(As a result of surface tension, the transparent organic Film 14- a concave lens 14 a in the perforation hole. As a Ordinary concave lens also reduces the concave lens 14a -the light intensity on the peripheral part of the lens more than in its:

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Mitte.Center.

Erfindungsgemäß dient die mit einer Konkavlinfe in jedem Perforationsloch versehene Lochmaske als Belichtungslochmaske zur Ausformung der Phosphorpunkte des Leuchtschirms nach dem bekannten Verfahren. Daher ist die Fläche eines jeden durch die Konkavlinsen 11 a auf dem Lichtschirm projizierten Lichtpunktes kleiner als die Fläche eines durch ein Perforations loch 11 pro j liierten Lichtpunktes, das Licht mit der Konkavlinse 14 a versehen ist,According to the invention, the one with a concave line in each perforation hole is used provided shadow mask as an exposure shadow mask for shaping the phosphor dots of the luminescent screen according to the known Procedure. Therefore, the area of each light point projected onto the light screen through the concave lenses 11a is smaller than the area of a hole 11 projected through a perforation Point of light, the light is provided with the concave lens 14 a,

wodurch sich Phosphorpunkte von kleinerer Fläche bilden können. Die Ausformung der Phosphorpunkte sowie der Auftrag der schwarzen nicht-leuchtenden Masse erfolgen nach dem bekannten Verfahren, ίNach-dem der gewünschte Leuchtschirm für drei Farben aufgebaut j worden ist, werden die Konkavlinsen des durchsichtigen organischen Films ausgewaschen. Wenn der organische Stoff ein Acrylharz ist, dann wird Toluol verwendet und im Falle von Polyvinylalkohol dient Wasser oder warmes Wasser zum Auswaschen der konkaven Linse, wodurch der ursprüngliche Zustand der Perforationslöcher der !Lochmaske wieder hergestellt wird. Die Konkavlinsen können auch auf einfache Weise durch Erwärmen abgebaut werden, nach-dem die Lochmaske mit den Linsen in die Röhre eingebaut worden ist. Wo die Konkavlinsen ausgewaschen wurden, wird die entsprechende Lochmaske in einer bestimmten Lage in der Bildröhre angeordnet, worauf die Röhre abgedichtet und luftleer gepumpt wird, um sie fertigzustellen. Zur näheren Erläuterung der Erfindung werden die nachfolgenden Beispiele gegeben, die jedoch nicht als Einschränkun-whereby phosphorus dots of a smaller area can form. The formation of the phosphor points and the application of the black Non-luminous masses take place according to the known process, after which the desired luminescent screen is built up for three colors j has become the concave lenses of the transparent organic Washed out films. If the organic material is an acrylic resin then toluene is used and in the case of polyvinyl alcohol Water or warm water is used to wash out the concave lens, restoring the original state of the perforation holes ! The shadow mask is restored. The concave lenses can also be easily dismantled by heating after the Shadow mask with the lenses has been built into the tube. Where the concave lenses were washed out, the corresponding one will be Shadow mask placed in a certain position in the picture tube, whereupon the tube is sealed and evacuated to it to finish. To explain the invention in more detail, the following examples are given, which, however, are not intended to be limiting.

■gen für den Erfindungsrahmen gelten dürfen.■ genes may apply to the scope of the invention.

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Beispiel 1 :Example 1 :

Eine Lochmaske mit einer Anzahl von Perforationslöchern von 0,32 mm Durchmesser wurde mit der konvexen Seite (die dem Leuchtschirm gegenübersteht) der Lochmaske nach unten in eine 3%ige wässrige Lösung von Polyvinylalkohol eingetaucht, um ihre gesamte Oberfläche damit zu beschichten. Dann wurde die Lochmaske um ihre Mittelachse 3 Minuten lang mit einer Drehzahl von 100 U/min gedreht, wobei die konvexe Seite nach oben gerichtet war, um eine gleichmäßige Dicke des aufgetragenen Films zu erzielen. Dann wurde die Oberfläche der Lochmaske 10 Minuten lang einer Temperatur von etwa 40⁰C einer infraroten Lampe ausgesetzt, um den aufgetragenen Film zu trocknen. Wenn diese Belichtungsmaske zur Belichtung und zum Aufbau der Fotowiderstandspunkte an der Innenfläche der Frontplatte verwendet wurde, konnten sich Fotowxderstandspunkte bei einer Belichtung von ein kLux-min mit einem Durchmesser von 0,24 mm bilden. Im Gegensatz hierzu betrug der Durchmesser der Fotowider- ;standspunkte bei Verwendung einer nicht-erfindungsgemäßen herkömm-A shadow mask having a number of perforation holes of 0.32 mm in diameter was immersed in a 3% aqueous solution of polyvinyl alcohol with the convex side (facing the phosphor screen) of the shadow mask down to coat its entire surface. Then, the shadow mask was rotated about its central axis for 3 minutes at a speed of 100 rpm with the convex side facing upwards in order to achieve a uniform thickness of the applied film. The surface of the shadow mask was then ^{exposed to a temperature of approximately 40 °} C. in an infrared lamp for 10 minutes in order to dry the applied film. When this exposure mask was used for the exposure and for building up the photoresist points on the inner surface of the front panel, photowxd points with a diameter of 0.24 mm could be formed at an exposure of one kLux-min. In contrast to this, the diameter of the photoresist points when using a conventional not according to the invention

'liehen Maske 0,31 mm bei einem Durchmesser des Perforationsloches von 0,32 mm.'Borrowed mask 0.31 mm with a diameter of the perforation hole of 0.32 mm.

Example 2:

Die obere Fläche einer mit Perforationslöchern des gleichen Durchmessers wie in Beispiel 1 versehene Lochmaske wurde mit einer 2%igen Toluollösung aus Polyisobutyl-Methacrylsäureester Übergossen, und die Lochmaske wurde mit einer Drehzahl von 100 U/min um ihre Mittelachse gedreht, um den aufgetragenen Film gleichmäßig zu verteilen. Dann wurde die Oberfläche der Lochmaske bei einer Temperatur von etwa M-O⁰C acht Minuten lang in einem Mantelheiz-rA 2% toluene solution of polyisobutyl methacrylic acid ester was poured over the upper surface of a shadow mask provided with perforation holes of the same diameter as in Example 1, and the shadow mask was rotated around its central axis at a speed of 100 rpm to uniformly cover the applied film to distribute. The surface of the shadow mask was then heated in a jacket heater for eight minutes ^{at a temperature of about MO 0 C}

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" ¹⁰ ' 22385A6" ¹⁰ '22385A6

gerät erwärmt und damit der Film getrocknet. Bei Verwendung der Lochmaske zur Belichtung und zum Aufbau der Fotowiderstandspunkte ^konnten sich bei einer Belichtung von ein kLux/min Punkte 0,23 mm !Durchmesser bilden.The device is heated and the film is thus dried. When using the shadow mask for exposure and for building up the photo resistance points ^ With an exposure of one kLux / min, points 0.23 mm ! Form diameter.

!Fig. 3 ist ein Kurvenbild für die Beziehung zwischen der Konzentration der Polyvinylalkohol-Lösung und dem Durchmesser der Punkte.! Fig. 3 is a graph showing the relationship between concentration the polyvinyl alcohol solution and the diameter of the dots.

Wie die dargestellte Kurve eindeutig zeigt, ist eine Lösung in einer Konzentration von 0,8 - 8 % in Hinsicht des Durchmessers und der Form der aufgebauten Punkte und der Bearbeitungsmöglichkeit in der Praxis von Vorteil. Eine Verstärkung der Konzentration auf jetwa 10% verringert den Durchmesser der Punkte noch mehr, wodurchAs the curve shown clearly shows, a solution is in a concentration of 0.8-8% in terms of diameter and the shape of the built-up points and the processing options are advantageous in practice. An increase in focus on jetwa 10% reduces the diameter of the points even more, which

jes aber schwierig wird, einen Film von gleichmäßiger Dicke und Punkte von gleichmäßigem Durchmesser aufzubauen. Außerdem weicht die Form der Punkte von einem genauen Kreis ab und der Umfang eines jeden Punktes ist nicht genau begrenzt, wodurch er eine unregelmäßige Form erhält. Andererseits wird es auch bei einer Lösung mit einer Konzentration von etwa 0,5% schwierig, einen einwandfreien Film auszuformen, so daß auch diese Lösung nicht in der Praxis verwendet werden kann. Aus den vorstehend beschriebenen Gründen liegt der wünschenswerte Konzentrationsbereich jzwischen 0,8 und 8%, vorzugsweise zwischen 2 und 5%, und die vorteilhafteste Konzentration liegt bei etwa 3%. Obwohl in den vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispxelen der Erfindung die iDicke des durchsichtigen organischen Films etwa 0,k - 0,5 .uHowever, it becomes difficult to build up a film of uniform thickness and dots of uniform diameter. In addition, the shape of the points deviates from a precise circle, and the circumference of each point is not precisely limited, thereby giving it an irregular shape. On the other hand, even with a solution having a concentration of about 0.5%, it becomes difficult to form a proper film, so that this solution cannot be used in practice either. For the reasons described above, the desirable concentration range j is between 0.8 and 8%, preferably between 2 and 5%, and the most advantageous concentration is around 3%. Although in the above-described Ausführungsbeispxelen the invention, the iDicke of the transparent organic film about 0, k - 0,5 .u

betrug, sei betont, daß es leicht möglich ist, diese Dicke durch j eine Änderung der Konzentration der organischen Lösung zu verändern; oder auch durch eine Drehzahländerung der Lochmaske, nachdemit should be emphasized that it is easily possible to use j change a change in the concentration of the organic solution; or by changing the speed of the shadow mask after

-11--11-

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- ii -- ii -

die Lösung auf diese aufgetragen wurde. Somit können durch die Erhöhung der Dicke des aufgetragenen Films Phosphorpunkte von kleinerem Durchmesser aufgebaut werden.the solution was applied to this. Thus, by increasing the thickness of the applied film, phosphor points can be increased from smaller diameter can be built.

- 12 -- 12 -

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Claims

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Dr. Ing. H. Ntrjendank DIpI. !no. H Η«πιώ - Diol Pr.ye. W.Schmlti Hitachi Limited _{Dip) )n}; _E g^-Hs ■ n_;>». ig. W. W#hf»ottDr. Ing. H. Ntrjendank DIpI. ! no. H «πιώ - Diol Pr.ye. W.Schmlti Hitachi Limited _{Dip)) n} ; _E g ^ -Hs ■ n _; > ». ig. W. W # hf »ott

I MUri: t: ?, Γ Γ ?-: r't ir«·· 21 5-1, 1-chome lelefcn L38O5MI MUri: t:?, Γ Γ? -: r't ir «·· 21 5-1, 1-chome lelefcn L38O5M

Marunouchi August 2nd, 1972

Chiyoda-ku, Tokyo, Japan File: M-2279

Claims

IJ A method of manufacturing a fluorescent screen for a color picture tube, according to which the fluorescent screen is formed by exposure using a shadow mask, characterized in that the perforation holes of the shadow mask are covered with a solution of a film-forming transparent mass of high molecular weight, whereby an exposure shadow mask is built up with a transparent organic film, which has a concave lens around each perforation hole, that the exposure mask is used to expose the inner surface of the front plate of the tube, further that phosphor dots for three colors are built up on the exposed inner surface and finally that the transparent organic film of the exposure shadow mask is removed, whereby its original state is restored.

2. A method for producing a luminescent screen according to claim 1, characterized in that the exposure mask by application a solution of a high molecular weight translucent film forming substance at a concentration of

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0.8 to 8% to cover the perforation holes of the shadow mask it is created that the shadow mask is rotated about its central axis and heated to dry the applied film, whereby a translucent organic film in the shape of a concave lens is formed in each perforation hole.

3. A method for producing a shadow mask according to claim 1, characterized characterized in that the organic film is washed out with a solution dissolving it, after which the exposure hole mask.-; has fulfilled its task of exposing the inner surface of the faceplate.

4. The method for producing a luminescent screen according to claim 1, characterized in that the translucent organic

: Film on the exposure shadow mask degraded by heat and j is removed, after which the exposure shadow mask in the ■ Color picture tube has been installed.

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5. A method for producing a luminescent screen according to claim 1, characterized in that the solution of a substance with high molecular weight on the surface of the shadow mask for Cover the perforation holes of the mask by dipping the mask with its convex side facing downwards is applied into the solution.

6. A method for producing a luminescent screen according to claim 1, characterized in that the solution of a substance with a high molecular weight over the entire convex surface ₁ ^

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the shadow mask is poured and thus the perforation holes the mask covered.

7. A method for producing a luminescent screen according to claim 1, characterized in that the substance forming the film with high molecular weight from the group of polyvinyl alcohols

: and the polyisobutyl methacrylic acid ester is selected.

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