DE2218344A1

DE2218344A1 - GRID FOR REPRODUCTION PHOTOGRAPHY

Info

Publication number: DE2218344A1
Application number: DE19722218344
Authority: DE
Inventors: Hubert Sauermann
Original assignee: EFHA RASTER WERK GEORG HIEBER
Current assignee: EFHA RASTER WERK GEORG HIEBER
Priority date: 1972-04-15
Filing date: 1972-04-15
Publication date: 1973-10-25
Also published as: DE2218344B2; JPS4919903A; JPS551578B2; IT983806B

Description

Raster für die Reproduktions-Fotografie Für die autotypische Bildzerlegung bedient man sich heute in der Reproduktionstechnik überwiegend zweier verschiedener Raster, des sogenannten Distanzrasters oder des 1(ontaktrasters. er Distanzraster besteht aus einem opaken oder lasierenden Liniennetz, das auf einer Innenseite zweier optisch verkitteter Kristallglasplatten vorgesehen ist. Dieser wird ausschließlich in der Aufnahmetechnik eingesetzt. Der Kontaktraster besteht aus einem fotografischen Film, auf dem durch Belichtung und Entwicklung verlaufende, meist gegeneinander versetzte Dichtemaxima und Dichteminima angeordnet sind. Er wird sowohl in der Aufnahme- als auch in der Kopiertechnik eingesetzt. Grid for reproduction photography For autotypical image dissection Today, in reproduction technology, mainly two different ones are used Grid, the so-called distance grid or the 1 (contact grid. He distance grid consists of an opaque or translucent network of lines on the inside of two optically cemented crystal glass plates is provided. This will be exclusive used in recording technology. The contact grid consists of a photographic one Film on which exposure and development run, mostly against each other staggered density maxima and density minima are arranged. It is used both in the recording as well as used in copying technology.

Ein wesentlicher Nachteil des Distanzrasters besteht darin, daß die ihm eigene Wiedergabe-Charakteristik weder flr die sierstellung von Rasternegativen noch von Rasterpositiven als voll befriedigend bezeichnet werden kann. Ferner ist bei der Aufnahme jeweils nur ein einziger optimaler Rasterabstand gegeben, wodurch es nicht möglich ist, eine gezielte Gradationsveränderung herbeizuführen.A major disadvantage of the distance grid is that the His own reproduction characteristics neither for the setting of raster negatives still from Screen positives can be described as completely satisfactory can. Furthermore, there is only a single optimal grid spacing when recording given, whereby it is not possible to bring about a specific change in gradation.

Die Kontaktraster besitzen durch den Aufbau ihrer Einzelelemente zwar eine Wiedergabe-Charakteristik, die den Sollwerten ftir die Herstellung von Rasterpositiven oder Rasternegativen weitgehend entspricht, aber ihre Charakteristik ist weitgehend starr und kann nur in sehr engen Grenzen beeinflußt werden. Außerdem unterliegen die Kontaktraster in sich gewissen Dichteschwankungen, die sich bei der praktischen Arbeit bei glatten Tonerden in Form von Unruhe und Wolkigkeit sowie unterschiedlicher Punktqualität bemerkbar machen. Auch sind alle bisherigen Kontaktraster gegen äußere Einflüsse nicht widerstandsfähig.The contact grids have due to the structure of their individual elements a reproduction characteristic that defines the target values for the production of halftone positives or screen negatives largely corresponds, but their characteristic is largely rigid and can only be influenced within very narrow limits. Also subject the contact raster in itself certain density fluctuations, which are in the practical Work on smooth clays in the form of restlessness and cloudiness as well as different Make dot quality noticeable. All previous contact grids are also against the outside Influences not resistant.

Aufgabe der Erfindung ist es, die Nachteile der erwähnten Raster zu beseitigen und einen Raster zu schaffen, durch den die Sollwerte für die Herstellung von Rasternegativen oder Rasterpositiven optimal erzielt werden.The object of the invention is to address the disadvantages of the grid mentioned eliminate and create a grid through which the setpoints for manufacture can be optimally achieved by halftone negatives or halftone positives.

Es wird daher ein Raster für die Reproduktions-Fotografie, bei dem die Bildzerlegung durch vignettierte itasterelemente erzeugt ist, in Vorschlag gebracht, der erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet ist, daß die jtasterelemente auf eine fotografische Trägerschicht aufbelichtet, entwickelt und auf oder zwischen zwei transparenten Scheiben optisch eingekittet sind.It therefore becomes a grid for reproduction photography in which the image decomposition is generated by vignetted itaster elements, proposed, which is characterized according to the invention that the jtasterelemente on a photographic support layer exposed, developed and on or between two transparent panes are optically cemented.

In Abänderung können die Rasterelemente erfindungsgemäß auf eine lichtempfindliche Schicht aufbelichtet und entwickelt sein, wobei diese vorher auf eine Kunststoff-oder Kristallglasplatte nach Art fotografischer Platten aufgetragen worden ist.As a modification, the grid elements according to the invention can be based on a light-sensitive one Be exposed and developed layer, this previously on a plastic or Crystal glass plate has been applied in the manner of photographic plates.

Auch können die Nasterelemente durch ein fotochemisches Auswaschverfahren ggf. mit anschließender Einfärbung hergestellt sein.The naster elements can also be washed out by a photochemical process possibly produced with subsequent coloring.

Schließlich wird noch erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die Rasterlemente auf fotografischem Stripping-Material hergestellt sind und die die Struktur tragende Emulsion abgezogen und auf transparente Platten übertragen ist.Finally, it is proposed according to the invention that the grid elements are made on photographic stripping material and which support the structure Emulsion is drawn off and transferred to transparent plates.

Durch den erfindungsgemäßen Raster wird die für die Herstellung von Rasternegativen oder Rasterpositiven optimale Gradation automatisch erreicht. Im Gegensatz zum herkömmlichen flistanzraster kann der Rasterabstand unabhängig von itasterfeinheit und Abbildungsmaßstab in weiten Grenzen zur Gradationsbeeinflussung verändert werden. Ebenso kann die Blendeneinstellung in freier Wahl so vorgenommen werden, daß das bestmögliche Auflösungsvermögen des verwendeten Objektives erzielt wird. In der ltegel geht damit eine ganz erhebliche Verkürzung der Belichtungszeiten einher0 Auch für Vorbelichtungen kann die für die angemessene Belichtungszeit günstigste Blendeneinstellung gewählt werden, ohne dadurch die Punktqualität zu beeinträchtigen.The grid according to the invention is used for the production of Screen negatives or screen positives automatically achieve optimal gradation. in the In contrast to the conventional spacing grid, the grid spacing can be independent of Itaster fineness and image scale within wide limits to influence gradation to be changed. The aperture setting can also be freely selected that the best possible resolution of the used Objective is achieved. As a rule, this results in a considerable shortening of the exposure times In addition, the most favorable for the appropriate exposure time can also be used for pre-exposures Aperture setting can be selected without affecting the dot quality.

In der Zeichnung ist die Erfindung beispielsweise und schematisch im Schnitt und in stark vergrößertem Maßstabe wiedergegeben, und zwar zeigen: Fig. 1 einen bekannten Distanzraster und Fig. 2 den erfindungsgemäßen Raster.In the drawing, the invention is exemplified and schematic shown in section and on a greatly enlarged scale, namely show: Fig. 1 shows a known spacing grid and FIG. 2 shows the grid according to the invention.

Gemäß Fig. i weisen die Kristallglasplatten i auf ihren Innenflächen die Rasterlinien 4 auf. Diese erscheinen auf der oberen Glasplatte i zeichnerisch nicht, weil der Schnitt zwischen zwei opaken Rasterlinien liegt. Die Rasterlinien der oberen Glasplatte kreuzen sich nämlich mit denen der unteren Platte und bilden das Rasternetz 2.According to FIG. I, the crystal glass plates i point on their inner surfaces the grid lines 4 on. These appear graphically on the upper glass plate i not because the cut lies between two opaque grid lines. The grid lines namely, the upper glass plate cross with those of the lower plate and form the grid 2.

Die Kristallglasplatten werden durch eine optische Verkittung 3 miteinander vereinigt. Wie ersichtlich, wechseln sich transparente Rasterfenster 5 mit opaken Linien 4 in gleichen Abständen beiderseitig ab.The crystal glass plates are connected to one another by means of an optical cement 3 united. As can be seen, transparent grid windows 5 alternate with opaque ones Lines 4 at equal intervals on both sides.

Gemäß Fig. 2 ist die fotogratisch hergestellte lLasterträgerschicht 6 beiderseitig mittels optischen Verkittungen 7 mit den Kristallglasplatten 1 verbunden. Mit 8 ist das Dichtemaximum und mit 9 das Dichteminimum je eines Rasterelementes bezeichnet, die im-Aufbau dem bekannten Kontaktraster gleichen.According to Fig. 2, the photo-graphically produced l is the laster carrier layer 6 connected to the crystal glass plates 1 on both sides by means of optical cementing 7. At 8 it is Density maximum and with 9 the density minimum each one Designated grid element, which are similar in structure to the known contact grid.

Patentansprüche:Patent claims:

Claims

P a t e n t a n s p r ii c h e 1. Grid for reproduction photography, in which the image decomposition is generated by vignetted raster elements, thereby characterized in that the raster elements are exposed onto a photographic carrier layer, developed and optically cemented on or between two transparent panes are.

2. Grid according to claim i, characterized in that the grid elements are exposed and developed on a photosensitive layer, these beforehand on a plastic or crystal glass plate in the manner of photographic plates has been applied.

3. Grid according to claim 1, characterized in that the grid elements produced by elil photochemical washing process, possibly with subsequent coloring are.

4. Grid according to claim 1, characterized in that the grid elements are made on photographic stripping material and which support the structure Emulsion is drawn off and transferred to transparent plates.