DE2065914A1 - Dry positive working photoresist compsn. - contg. curable hydroxy or amino substd. polymer and light-sensitive bis-diazonium salt - Google Patents

Dry positive working photoresist compsn. - contg. curable hydroxy or amino substd. polymer and light-sensitive bis-diazonium salt

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DE2065914A1 DE19702065914 DE2065914A DE2065914A1 DE 2065914 A1 DE2065914 A1 DE 2065914A1 DE 19702065914 DE19702065914 DE 19702065914 DE 2065914 A DE2065914 A DE 2065914A DE 2065914 A1 DE2065914 A1 DE 2065914A1
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    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/016Diazonium salts or compounds

Abstract

Flexible thermoplastic light-sensitive curable compsn. yielding positive images consists of a curable synthetic or natural polymer (I) with recurring OH or amino gps. and a light-sensitive bifunctional cpd. (II) effecting cure on treatment with basic substances. The improvement comprises the use of a bis-diazonium salt as (II), having a cation of the Formula +N triple bond N-R- (XR)q N-=N+ (in which q = 0 or 1. R is an aromatic hydrocarbon polynuclear quinone or heterocyclic ring of aromatic character, linked at its cyclic C atoms. X is alkylene with min. 2C, arylene, azo or sulphone and, if q = 1, X can also be an alylenedioxy or arylenedioxy gp. and R is aroyl or arylsulphonyl). (II) has an inorg. anion. This positive-working photoresist material can be used and transferred dry and has satisfactory thermal stability. A typical (I) is the Zn chloride salt of 1,4-butylene-(4,4'- tetradiazonium) dibenzate. E.g. 0.5 g this cpd. was incorporated in a photoresist coating based on poly(methyl methacryle/-hydroxyethyl methacrylate) for a Cu-plated glass fibre-reinforced epoxide resin panel. Exposure for 2 min through a process negative with C arc lamp, treatment with NH3 vapour.

Description

5 Köln ι . den 1. Apr. 19765 Cologne ι. April 1, 1976

DEiCHMAMNMZ-Uj Λ'.' MU»'.-1-1"^":·1 FDEiCHMAMNMZ-Uj Λ '.' MU »'.- 1 - 1 " ^ ": · 1 F

E.I. DuPont de Nemours and Company, Wilmington 19 393, Delaware, U.S.A.EGG. DuPont de Nemours and Company, Wilmington 19 393, Delaware, U.S.A.

Flexible, thermoplastische, lichtempfindliche Masse für die Herstellung positiver Aufzeichnungen Flexible, thermoplastic, photosensitive mass for the production of positive records

Bei der Verwendung lichtempfindlicher Materialien für die Herstellung reliefartiger Aufzeichnungen, z.B. auf dem Gebiet der Fotoresiste, ist es bekannt, Aufzeichnungsmaterialien in Form von Polymerüberzügen auf Trägermaterialien, wie Metallplatten, aufzubringen. Bei der bildmäßigen Belichtung werden üblicherweise die Aufzeichnungsmaterialien in den belichteten Bereichen unlöslich gemacht. Diese Bereiche werden dann bei der anschliei3Gnden Entwicklung der Platten mit Lösungsmitteln nicht ausgewaschen. Man bringt die üblicherweise für diesen Zweck eingesetzten Massen gewöhnlich als Flüssigkeiten auf oder sie erfordern zusätzlich zur Behandlung mit flüssigem Entwickler mindestens einen weiteren, meistens mehrere in flüssiger Form ablaufende Verfahrensschritte. Die Sensibilisierung der in den flüssigen Massen vorliegenden Polymeren erfolgt gewöhnlich durch die Mitverwendung von lichtempfindlichen Aziden, Jjichromaten oder Zimts'iureestern.When using light-sensitive materials for the production of relief-like records, e.g. in the field the photoresists, it is known to use recording materials in the form of polymer coatings on carrier materials, like metal plates. In the case of imagewise exposure, the recording materials are usually used made insoluble in the exposed areas. These areas are then used in the subsequent development of the Plates not washed out with solvents. The masses usually used for this purpose are usually brought as liquids or they require in addition to treatment with liquid developer at least a further, usually several process steps running in liquid form. Raising awareness in the liquid Polymers present in the mass is usually made through the use of light-sensitive azides, jichromates or cinnamon acid esters.

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ÖAO ORIGINALÖAO ORIGINAL

r - r -

In den Uo-PSeη 3 469 932 und 3 4l8 295 sind Materialien für die Herstellung von Fotoresisten beschrieben., die keine Sensibilisierung oder Anwendungsmethoden erfordern, dje in flüssiger Form ablaufen. Hierzu gehören trockene fotopolymerisierbar Mater ialschichten, die äthylenisch ungesättigte Verbindungen enthalten, mit mäßiger Haftfestigkeit auf einem temporären Schichtträger vorliegen und mit einem SchutzfUrn abgedeckt sein können, der eine geringere Haftung gegenüber der fotopolymerisierbaren Schicht aufweist. Die Materialien arbeiten negativ, d.h. bei der Entwicklung werden die nicht belichteten Stellen ausgewaschen.In the Uo-PSeη 3 469 932 and 3 4l8 295 are materials described for the production of photoresists. which no Require awareness or application methods, dje in run off in liquid form. These include dry photopolymerizable Material layers that contain ethylenically unsaturated compounds with moderate adhesive strength a temporary layer support and can be covered with a protective film, which has a lower adhesion has opposite the photopolymerizable layer. The materials work negatively, i.e. the unexposed areas are washed out during development.

In manchen Fällen ist es erwünscht, trockene lichtempfindliche Massen für die Herstellung reliefartiger Aufzeichnungen zu verwenden, die gerade in den unbelichteten Bereichen unlöslich werden, so daß ein positiv arbeitendes Aufzeichnungsmaterial vorliegt. Solche Massen sollten in der lichtempfindlichen Form hinreichend thermostabil sein, um den gewöhnlich unter Anwendung von Wärme erfolgenden tibertragungsvorgang der lichtempfindlichen Materialschicht vom temporären Träger auf den permanenten Träger unbeschadet zu überstehen.In some cases it is desirable to be dry photosensitive Use masses for the production of relief-like records, especially in the unexposed areas become insoluble, so that a positive-working recording material is present. Such masses should be in the photosensitive form be sufficiently thermostable, the process of transferring the photosensitive material layer, which is usually carried out with the application of heat to survive from the temporary carrier to the permanent carrier undamaged.

Aus der US-PS 3 274 166 sind Massen auf der Basis von Kohlenwasserstoff-Polymerisaten bekannt, die sich in Gegenwart von Polydiazoverbindungen, wie bis-Diazoniumsalzen, durch Erhitzen oder Bestrahlung mit ultra-violettem Licht modifizieren lassen, v.'obei die Vulkanisierung natürlicher und synthetischer Kautschukmassen im Vordergrund steht Die für diese Zwecke angewandten bis-Diazoniumsalze sind thermisch nicht stabil.US Pat. No. 3,274,166 discloses compositions based on hydrocarbon polymers known, which in the presence of polydiazo compounds, such as bis-diazonium salts, can be modified by heating or irradiation with ultra-violet light, v. whereby the vulcanization is more natural and synthetic rubber compounds are in the foreground The bis-diazonium salts used for these purposes are not thermally stable.

Aus der GB-PS 1 113 759 sind lichtempfindliche, fotografische Aufzeichnungsschichten bekannt, die lichtempfindliche, polymere Diazogruppen aufweisende Verbindungen des Phenoltyps enthalten. Die DT-AS 1 120 273 beschreibtFrom GB-PS 1 113 759 light-sensitive, photographic recording layers are known, the light-sensitive, contain polymeric diazo group-containing compounds of the phenol type. The DT-AS 1 120 273 describes

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£A ORfGiNAL£ A ORfGiNAL

ebenfalls lichtempfindliche, fotografische Aufzeichnungsschichten, insbesondere für die Herstellung von Druckformen. Diese Schichten bestehen ganz oder teilweise aus einem oder mehreren, mindestens eine freie Hydroxylgruppe enthaItenden Naphthochinon-(l,2)-diazid-sulfonsäureester von Hydroxy!verbindungen des Diphenyl, Naphthalins oder Dinaphthyls, wobei die Hydroxylgruppen substituiert sein können. Kopierschichten für Druckformen aus Naphthochinon-(l,?)-diazidsulfonsäureestern sind aus der DT-AS 1 124 bekannt.also light-sensitive, photographic recording layers, especially for the production of printing forms. These layers consist in whole or in part one or more naphthoquinone- (1,2) -diazide-sulfonic acid esters containing at least one free hydroxyl group of hydroxyl compounds of diphenyl, naphthalene or Dinaphthyls, it being possible for the hydroxyl groups to be substituted. Copy layers for printing forms made from naphthoquinone (l,?) Diazide sulfonic acid esters are known from DT-AS 1 124.

Bei der Anwendung der Beschichtungsgemische entsprechend der GB-PS 1 1Γ3 759 sowie der beiden DT-AS 1 120 273" und 1 124 8l7 werden diese unmittelbar in flüssiger Form auf eine Unterlage aufgebracht, die das Trägermaterial der Druckform darstellt, beispielsweise auf vorbehandelte Aluminium- oder Zinkplatten oder Spezialpapier. Um eine ausreichende Haftung auf diesem Trägermaterial, das bei der Belichtung und der gesamten Weiterbehandlung als solches erhalten bleibt, sicherzustellen, ist dessen spezielle Vorbehandlung vor dem Aufbringen des Gemisches erforderlich. Dieses soll außerdem zwecks Haftungsverbesserung ein Lösungsmittel enthalten. Aufzeichnungsschichten aus den drei bekannten Gemischen liefern positive Bilder, bei Belichtung werden die belichteten Schichtbereiche löslich, während die unbelichteten Bereiche unlöslich bleiben.When using the coating mixtures according to GB-PS 1 1Γ3 759 and the two DT-AS 1 120 273 "and 1 124 8l7 these are applied directly in liquid form to a base, which is the carrier material of the Representing printing form, for example on pretreated aluminum or zinc plates or special paper. To be adequate Adhesion on this carrier material, which is obtained as such during exposure and all further processing remains to ensure, its special pretreatment is required before applying the mixture. This should also contain a solvent to improve adhesion. Recording layers from the three known Mixtures produce positive images; when exposed, the exposed areas of the layer become soluble, while the unexposed areas Areas remain insoluble.

Die beschriebenen, lichtempfindlichen Schichten besitzen den Nachteil, daß sie unter Einhaltung besonderer Vorsichtsmaßnahmen möglichst festhaftend auf einen Schichtträger aufgebracht werden müssen, auf dem sie während der Belichtung und der gesamten Weiterbehandlung verbleiben. Die aus für Druckformen geeigneten Metallplatten, Metallfolien oder Spezialpapieren bestehenden permanenten Schichtträger sind mit der aufgebrachten Schicht allen bei Verpackung, Versand und Weiterbehandlung möglichen Beschädigungen zugang- \ The photosensitive layers described have the disadvantage that, taking special precautionary measures, they have to be applied as firmly as possible to a layer support on which they remain during the exposure and the entire further processing. The existing from suitable for printing forms metal plates, metal foils or specialty papers permanent support are access- with the applied layer at all packaging, shipping and follow-up possible damage \

lich* 609853/0851 ' lich * 609853/0851 '

BAO ORIGINALBAO ORIGINAL

Die GB-PC ;IÜ1 898 schildert ein negativ arbeitendes Verfahren, bei dem Schichten aus einem kolloiden Material, wie Gelatine, mittels eingearbeiteter Diazoverbindungen bei der Belichtung in den belichteten Bereichen unmittelbar gegerbt und damit in den belichteten Bereichen unlöslich gemacht werden. Als Diazoverbindungen sind unter anderem solche der Formel R-X-R-, aufgeführt, in denen X eine -CHp-Gruppe bedeuten kann und die Reste R und R, aromatische oder hydroaromatische Reste sind, von denen wenigstens einer eine Diazogruppe aufweist. Irgendwelche Hinweise auf direkt positiv arbeitende lichtempfindliche Fotoresistschichten lassen sich diesem Vorschlag des Standes der Technik nicht entnehmen. Die GB-PS 1 001 821 schildert schließlich die Herstellung lithographischer Positivbilder, wobei als lichtempfindliches Material eine Mischung einer hydrophoben harzartigen Kupplungskomponente hohen Molekulargewichts mit Hunderten von Kupplungsfunktionen zusammen mit bestimmten Diazokömplexsalzen eingesetzt werden, die insbesondere Äthergruppen oder SuI-fonamidgruppen aufweisen. Als harzartige hydrophobe Kupplungskomponenten sind insbesondere Polyvinylacetacetat, Acetacetatester von HydroxyäthylcelIuIöse, Polyvinylacetat Acetacetat und das Umsetzungsprodukt eines Copolymeren von Vinylmethyläther und Maleinsäureanhydrid mit einer aromatischen Hydroxycarbonsäureamidverbindung genannt. Nach der Belichtung werden die Materialschichten mit feuchtem Ammoniakdampf entwickelt, wobei in den nicht belichteten Bereichen die Kupplungsreaktion ausgelöst wird. Diese Bereiche sollen dann als farbannehmende positive Druckstöcke Verwendung finden.The GB PC ; IÜ1 898 describes a negative-working process in which layers of a colloidal material such as gelatin are tanned directly in the exposed areas during exposure by means of incorporated diazo compounds and thus made insoluble in the exposed areas. Diazo compounds listed include those of the formula RXR- in which X can represent a —CHp group and the radicals R and R are aromatic or hydroaromatic radicals, at least one of which has a diazo group. Any indications of directly positive photosensitive photoresist layers cannot be inferred from this suggestion of the prior art. GB-PS 1 001 821 finally describes the production of lithographic positive images, the photosensitive material used being a mixture of a hydrophobic, resinous coupling component of high molecular weight with hundreds of coupling functions together with certain diazo complex salts which in particular have ether groups or sulfonamide groups. As resinous hydrophobic coupling components, in particular polyvinyl acetacetate, acetoacetate ester of hydroxyethyl cellulose, polyvinyl acetate acetacetate and the reaction product of a copolymer of vinyl methyl ether and maleic anhydride with an aromatic hydroxycarboxamide compound are mentioned. After exposure, the material layers are developed with moist ammonia vapor, the coupling reaction being triggered in the unexposed areas. These areas should then be used as ink-accepting positive printing blocks.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, durch Auswahl geeigneter Komponenten ein lichtempfindliches Material zur Direktherstellung positiver Fotoresistbilder zu schaffen. Das auszuwählende lichtempfindliche Material soll dabei als Trokkenschicht einsetzbar und übertragbar sein, wobei insbesondere eine hinreichende Thermostabilität zur Durchführung des Übertragungsvorganges gewährleistet sein soll.The invention is based on the object by selecting suitable ones Components to create a photosensitive material for making positive photoresist images directly. That The photosensitive material to be selected should be used as a dry layer be usable and transferable, with in particular a sufficient thermal stability for implementation the transfer process should be guaranteed.

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.8AD ORfGJNAL.8AD ORfGJNAL

Die Erfindung geht dementsprechend aus von einer flexiblen, thermoplastischen, lichtempfindlichen, vernetzbaren, positive Bilder liefernde, gegebere rifalls auf einen Schichtträger aufgetragenen Masse, bestehend ausThe invention is accordingly based on a flexible, thermoplastic, photosensitive, crosslinkable, positive Images providing, given rifalls on a layer support applied mass, consisting of

a) einer vernetzbaren polymeren synthetischen oder natürlich vorkommenden, im wesentlichen ungehärteten Verbindung mit anhaftenden, wiederkehrenden Hydroxylgruppen oder Aminogruppen unda) a crosslinkable polymeric synthetic or naturally occurring, essentially uncured compound with adhering, repeating hydroxyl groups or amino groups and

b) einer lichtempfindlichen, bifunktionellen Verbindung, die bei Behandlung mit basischen Substanzen vernetzend wirkt.b) a photosensitive, bifunctional compound that has a crosslinking effect when treated with basic substances.

Kennzeichnend ist, daß die Masse als Bestandteil b) ein lichtempfindliches bis-Diazoniumsalz enthält, in dem der kationische Anteil des Salzes der FormelIt is characteristic that the mass as component b) is a photosensitive Contains bis-diazonium salt, in which the cationic portion of the salt of the formula

+li jj N - R - (XR) - N ^N+ + li jj N - R - (XR) - N ^ N +

entspricht, worin q = O oder 1 ist und R für einen aromatischen Kohlenwa.ssersto.ff, ein mehrkerniges Chinon oder einen heterocyclischen Ring von aromatischem Charakter steht und die Bindungen an dessen cyclischen Kohlenstoffatomen haften, X ein Alkylenrest mit wenigstens 2 C-Atomen oder ein Arylen-, Azo- oder Sulfonrest ist, wobei aber bei q = 1, X auch einem Alkylendioxy- oder Arylendioxyrest entsprechen kann und dann ™corresponds to where q = O or 1 and R is an aromatic one Kohlwa.ssersto.ff, a polynuclear quinone or a heterocyclic ring of aromatic character and the bonds adhere to its cyclic carbon atoms, X is an alkylene radical having at least 2 carbon atoms or an arylene, azo or sulfone radical, but where q = 1, X is also one Alkylenedioxy or arylenedioxy and then ™

R für einen Aroyl- oder Arylsulfonylrest steht, wobei der anionische Anteil der Salze ein Anion eines anorganischen Salzes ist.R stands for an aroyl or arylsulfonyl radical, where the anionic portion of the salts is an anion of an inorganic salt.

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SAD ORIGINALSAD ORIGINAL

_ G _ 20659U_ G _ 20659U

Geeignete aromatische Ringe sind solche des Benzols. Naphthalins, Acenaphthens, Anthracene und Phenanthrens. Geeignete mehrringige Chinone sind Anthrachinon und Phenanthrachinon, geeignete heterocyclische Ringe enthaltende Verbindungen sind Pyrazol und Acridin. Die Ringe können substituiert sein, beispielsweise durch Cl, Br, einen Alkylrest mit 1-4 Kohlenstoffatomen und einen Alkoxyrest mit 1 - 4 Kohlenstoffatomen. Beispiele sind: Der Methyl-, Äthyl-, Propyl- und Butylrest und die entsprechenden Alkoxyreste. Zu den brauchbaren Alkylenresten mit wenigstens 2 C-Atomen gehören der Äthylenrest, der Isobutylenrest, der Tetramethylenrest und Polymethylenreste mit 5-8 Kohlenstoffatomen, geeignete Arylene sind Phenylen und Naphthylen.Suitable aromatic rings are those of benzene. Naphthalene, acenaphthene, anthracene and phenanthrene. Suitable multi-ring quinones are anthraquinone and phenanthraquinone, suitable compounds containing heterocyclic rings are pyrazole and acridine. The rings can be substituted, for example by Cl, Br, an alkyl radical with 1-4 Carbon atoms and an alkoxy radical with 1 - 4 carbon atoms. Examples are: The methyl, ethyl, propyl and butyl radicals and the corresponding alkoxy radicals. To the Useful alkylene radicals with at least 2 carbon atoms include the ethylene radical, the isobutylene radical and the tetramethylene radical and polymethylene radicals with 5-8 carbon atoms, suitable arylenes are phenylene and naphthylene.

Für die Zwecke der Erfindung besonders geeignete lichtempfindlicho bis-Diazoniumsalze - d.h. als zuvor erwähnte Komponente b) besonders geeignete bis-Diazoniumsalze - sind dadurch gekennzeichnet, daß der kationische Teil des Salzos der FormelPhotosensitive particularly suitable for the purposes of the invention bis-diazonium salts - i.e. as the aforementioned component b) particularly suitable bis-diazonium salts - are characterized in that the cationic part of the salt formula

U ^N-R' - Y - (CHp)n -Y-R' -N=N !U ^ NR '- Y - (CHp) n -YR' -N = N!

! ι entspricht, worin R' für einen substituierton oder unsübstituierten Benzol-, naphthalin-, Anthracen- oder Phenanthrenrest steht, ;! ι corresponds to where R 'is a substituted or unsubstituted Benzene, naphthalene, anthracene or phenanthrene radical stands, ;

Y für die -COO-Gruppe oder die -SO^-Gruppe, wobei R' am Kohlenstoffato;Y is the -COO group or the -SO ^ group, where R 'is at Carbonato;

Gruppe haftet,Group is liable,

Kohlenstoffatom bzw. Schwefelatom der -COO- oder -SO,-Carbon atom or sulfur atom of -COO- or -SO, -

n ist eine ganze Zahl von mindestens 4, vorzugsweise - 18, n is an integer of at least 4, preferably - 18,

v/!ihrend der anionische Teil des Salzes ein Anion eines anorganischen Sa]ses ist. Bevorzugte salzbildcnde Verbindungen sind Zinkchlorid sowie Säuren oder Salze, bei denenThe anionic part of the salt is an anion of an inorganic one Sa] ses is. Preferred salt-forming compounds are zinc chloride and acids or salts in which

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das Anion ein Fluorboratrest, ein Sulfatrest, ein Fluorsulf onatresfc, ein Oxalatrest und ein Citratrest istJthe anion is a fluoroborate residue, a sulfate residue, a fluorosulf onatresfc, an oxalate residue and a citrate residue isJ

Die nachstehenden bis-Diazoniumsalze sind für die Verwendung im Rahmen der Erfindung von besonderer Bedeutung:The following bis-diazonium salts are for use Of particular importance in the context of the invention:

(l,4-Butandiol)-dibenzoat-4,4'-bis(diazoniumzinkchlorid), (1,5-Pentandiol) -dinaphthoat-5,5 ' -bis (diazoniumzinkchlorid), (l,4-Butandiol)-dinaphthylsulfonat-4,4' -bis (diazonium-(1,4-butanediol) dibenzoate 4,4'-bis (diazonium zinc chloride), (1,5-pentanediol) -dinaphthoate-5,5'-bis (diazonium zinc chloride), (1,4-Butanediol) -dinaphthylsulfonate-4,4'-bis (diazonium-

fluorborat),fluoroborate),

(l,4-Butandiol)-dinaphthyl-6~sulfonat-2,2' -bis/~metliyl_.7-1,1'-bis(diazoniumfluorborat), (1,4-Butanediol) -dinaphthyl-6 ~ sulfonate-2,2'-bis / ~ metliyl_.7-1,1'-bis (diazonium fluoroborate),

Resorzinoldibenzoat-4,4'-bis(diazoniumzinkchlorid), (2,4-Pyridindiol)-dibenzoat-4,4'-bis(diazoniumzinkchlorid),Resorcinol dibenzoate 4,4'-bis (diazonium zinc chloride), (2,4-pyridinediol) -dibenzoate-4,4'-bis (diazonium zinc chloride),

Benzol-l,^-bis(diazoniumfluorborat), Denzol-1,^-bis(diazoniumfluorborat), Naphthalin-l^-bi^ (diazoniumf luorborat), Naphthalin-l,5-bis(diazoniumfluorborat)-7-sulfonsäure, Anthracen-l,6-bis(diazoniumfluorborat), Anthranen-l,5-bis(diazoniumfluorborat)-7-sulfonsäure, Anthrachinon-l,6-bis(diazoniumfluorborat), Phenanthren-1,5-bis(diazoniumfluorborat), Fluoren-2,7-bis(diazoniumfluorborat), Acenaphthen-4,6-bis(diazoniumfluorborat), 2, e-Dimethoxypyridin-^,5-bis(diazoniumfluorborat), Pyrazol-3,5-bis(diazoniumfluorborat), Acridin-3,6-bis(diazoniumfluorborat), Biphenyl—Ί,4'-bis(diazoniumfluorborat), Biphenyl—'i,4' -bis (diazoniumf luorborat) -2., 2' -bis-sulf onsäure, 2,2'-Dimethyl-biphenyl-4,4'-bis(diazoniumfluorborat), 1,2-Diphenyl:ithan-4,4 ' -bis (diazoniumf luorborat), l,3-Diphenylisobutan-4,4'-bis(diazoniumfluorborat), p-Terphenyl-4,4'-bis(diazoniumf}uorborat), Diphenylsulfon-4,4'-bis(diazoniumfluorborat), Azobenzol-4,4'-bis(diazoniumfluorborat).Benzene-l, ^ - bis (diazonium fluoroborate), Denzol-1, ^ - bis (diazonium fluoroborate), naphthalene-l ^ -bi ^ (diazonium fluoroborate), naphthalene-1,5-bis (diazonium fluoroborate) -7-sulfonic acid, anthracene -l, 6-bis (diazonium fluoroborate ), anthranes-1,5-bis (diazonium fluoroborate) -7-sulfonic acid, anthraquinone-1,6-bis (diazonium fluoroborate), phenanthrene-1,5-bis (diazonium fluoroborate), fluorene-2 , 7-bis (diazonium fluoroborate), acenaphthene-4,6-bis (diazonium fluoroborate), 2, e-dimethoxypyridine - ^, 5-bis (diazonium fluoroborate), pyrazole-3,5-bis (diazonium fluoroborate), acridine-3,6 -bis (diazonium fluoroborate ), biphenyl-Ί, 4'-bis (diazonium fluoroborate), biphenyl-'i, 4 '-bis (diazonium fluoroborate) -2., 2' -bis-sulfonic acid, 2,2'-dimethyl- biphenyl-4,4'-bis (diazonium fluoroborate), 1,2-diphenyl : ithan-4,4'-bis (diazonium fluoroborate), 1,3-diphenylisobutane-4,4'-bis (diazonium fluoroborate), p-terphenyl -4,4'-bis (diazonium fluoroborate), diphenylsulfone-4,4'-bis (diazonium fluoroborate), azobenzene-4,4'-bis (diazonium fluoroborate).

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20659U20659U

Ein geeignetes Verfahren zur Herstellung der Salze besteht darin, die entsprechenden bis-Amine zu diazotieren; spezielle Be!spiele zur Herstellung der Salze und zu ihrer Verwendung sind nachstehend beschrieben. Die gemäß der Erfindung eingesetzten bis-Diazoniumsalze sind thermisch stabil und können daher mit Vorteil in den vernetzbaren lichtempfindlichen Massen und Materialien eingesetzt werden.One suitable method for preparing the salts is in diazotizing the corresponding bis-amines; special examples for the production of the salts and for their use are described below. The bis-diazonium salts used according to the invention are thermally stable and can therefore with advantage in the crosslinkable photosensitive Masses and materials are used.

Die im Rahmen der Erfindung anzuwendenden Kolloide sind synthetischer oder natürlicher Art und weisen wiederkehrende Hydroxylgruppen oder Aminogrunpen auf. Beispiele sind polymere mehrwertige Alkohole, natürliche Kolloide wie Gelatine, Leim, Schellack; außerdem durch Additionspolymerisation erhaltene Polyester, wie Polyester der Acrylsäure und der Methacrylsäure; weiterhin Polyvinylalkohol, Poly-p-aminostyrol. The colloids to be used in the context of the invention are more synthetic or natural and have repeating hydroxyl groups or amino groups. Examples are polymeric polyhydric alcohols, natural colloids such as gelatin, glue, shellac; also obtained by addition polymerization Polyesters such as polyesters of acrylic acid and methacrylic acid; furthermore polyvinyl alcohol, poly-p-aminostyrene.

Die vernetzbare lichtempfindliche Schicht hat vorzugsweise eine Dicke von 1 bis 75 /U oder mehr; ein Schichtträger oder ein gegebenenfalls aufzubringender Schutzfilm liegt in einer Dicke von 6 bis 125 /u vor.The crosslinkable photosensitive layer preferably has a thickness of 1 to 75 / U or more; a support or a protective film to be applied if necessary lies in one Thickness from 6 to 125 / u before.

Die erfindungsgemäß eingesetzten vernetzbaren, lichtempfindlichen Materialien lassen sich herstellen, indem man eine Lösung oder eine Dispersion der vernetzbaren, lichtempfindliehen organischen Masse auf einen dünnen, flexiblen, glatten Träger aufbringt und die Schicht durch Entfernung oder Verdampfung noch vorliegenden flüchtigen Lösungsmittels oder Verdünnungsmittels trocknet. Der Träger soll vorzugsweise fest, gegenüber aktinischem Licht transparent, bei Temperaturänderungen formfest und gegenüber der Einwirkung üblicher Lösungsmittel beständig sein. Der Träger soll so beschaffen sein, daß zwischen dem Überzug und dem Träger nur eine mäßige Haftung oder Klebneigung gegeben ist, so daß er sich bei Trockenbedingungen leicht von der vernetzbaren, lichtempfindlichen, organischen Schicht abziehen läßt.The crosslinkable, photosensitive ones used according to the invention Materials can be produced by adding a solution or a dispersion of the crosslinkable, light-sensitive organic mass applied to a thin, flexible, smooth support and the layer by removal or evaporation any volatile solvent or diluent still present dries. The carrier should preferably solid, transparent to actinic light, with temperature changes dimensionally stable and resistant to the action of common solvents. The carrier is supposed to do so be that there is only a moderate adhesion or tendency to stick between the coating and the carrier, so that it differs easily from the networkable, light-sensitive, organic layer can be peeled off.

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BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

Ein Schutzfilm läßt sich durch Aufpressen oder Auflaminieren anbringen, beispielsweise, indem man die Folie oder den Film und das beschichtete, vernetzbare Material durch Walzen laufen läßt. Wird ein Schutzfilm angewandt, so soll er auf der Schicht eine geringere Haftfestigkeit aufweisen als ' der "Schichtträger.A protective film can be pressed on or laminated on attach, for example, by removing the film or the Runs the film and the coated, crosslinkable material through rollers. If a protective film is used, it should have a lower adhesive strength on the layer than ' the "support.

Nach einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung liegt die Schicht der lichtvernetzbaren, lichtempfindlichen Masse auf einem transparenten Schichtträgerfilm vor und ist auf der Oberfläche mit einem abziehbaren Schutzfilm abgedeckt. Die vernetzbare, lichtempfindliche Masse wird dabei mit einer Trockenstärke der Schicht von etwa 13 /u eingesetzt, obgleich die Schichtdicke zwischen 3 λχ oder weniger und 127 /U. oder mehr variieren kann.According to a preferred embodiment of the invention, the layer of the photo-crosslinkable, photosensitive composition is present on a transparent base film and is covered on the surface with a removable protective film. The crosslinkable, photosensitive mass is used with a dry thickness of the layer of about 13 / u, although the layer thickness is between 3 λχ or less and 127 / u. or more can vary.

Geeignete Trägerfolien können aus vielen Metallen oder Hochpolymeren bestehen, beispielsweise aus Polyamiden, Polyolefinen, Polyestern, Viny!polymeren und Celluloseestern; die Trägerfolien können in einer Stärke von G bis 127 /U vorliegen. Belichtet man vor der Entfernung des Schichtträgerfilms, so muß dieser natürlich einen wesentlichen Anteil der einfallenden aktinischen Strahlung durchlassen. Diese Forderung entfällt, wenn der Trägerfilm vor der Belichtung entfernt wird. Transparente Filme aus Polyäthylenterephthalat haben sich als Schichtträger besonders bewährt, sie werden zweckmäßig in einer Dicke von etwa 25 /U angewandt. Wenn man mit entfernbaren Schutzfilmen arbeitet, so können diese aus den gleichen Stoffen bestehen wie die Schichttäger und von gleicher Dicke sein. Der Schutzfilm soll vorzugsweise weniger stark an der vernetzbaren, lichtempfindlichen Schicht haften als der Schichtträger. Schichtträger und Schutzfilm sichern den Schutz der lichtvernetzbaren Masse.Suitable carrier films can be made from many metals or high polymers consist, for example, of polyamides, polyolefins, polyesters, vinyl polymers and cellulose esters; the Carrier foils can have a thickness of G to 127 / U. If one exposes before the removal of the base film, so it must of course allow a substantial portion of the incident actinic radiation to pass through. This requirement not applicable if the carrier film is removed before exposure. Have transparent films made of polyethylene terephthalate It has proven particularly useful as a layer support; it is expedient to use it in a thickness of about 25 / U. If you are with Removable protective films works, so these can consist of the same materials as the layer carriers and from be of the same thickness. The protective film should preferably be less strongly attached to the crosslinkable, photosensitive layer adhere as the substrate. The substrate and protective film protect the light-crosslinkable compound.

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Ist das Material arbeitsbereit, so wird der Schutzfilm abgezogen. Der vernetzbare, lichtempfindliche Film wird dann auf einen festen Träger mit glatter Oberfläche, beispielsweise einen solchen aus Metall oder Glas, mit Hilfe erhitzter federnder Druckwalzen auflaminiert. Auf diesem Wege erhält man ein vernetzbares, lichtempfindliches Material, das nunmehr belichtet werden kann, jedoch gegen schädigende Einflüsse der Umgebung durch den ursprünglichen Trägerfilm geschützt ist.When the material is ready for use, the protective film is removed. The crosslinkable, photosensitive film is then on a solid support with a smooth surface, for example one made of metal or glass, with the aid of heated laminated on resilient pressure rollers. In this way receives a crosslinkable, photosensitive material that can now be exposed, but against harmful influences the environment through the original carrier film is protected.

Diese erfindungsgemäß eingesetzten lichtempfindlichen vernetzbaren Massen und Materialien unterscheiden sich von denen des Standes der Technik dadurch, daß bei bildmäßiger Belichtung die belichteten Bereiche desensibilisiert werden. Die desensibilisierten Bereiche vernetzen nicht und bleiben löslich, wenn das Material anschließend mit basischen Dämpfen oder einer basischen Lösung behandelt wird. Auf diese V/eise ist es möglich, die belichteten Bereiche bei der Entvjicklung des Materials mit einem organischen oder wässrigen Lösungsmittel auszuwaschen.These photosensitive crosslinkable compositions and materials used according to the invention differ from them of the prior art in that the exposed areas are desensitized on imagewise exposure. the Desensitized areas do not crosslink and remain soluble if the material is subsequently exposed to basic vapors or a basic solution. In this way it is possible to use the exposed areas during development wash off the material with an organic or aqueous solvent.

Die Verarbeitung des erfindungsgemäßen Materials erfolgt beispie lsweise wie folgt:The processing of the material according to the invention takes place example as follows:

Es wird bildweise belichtet, vorzugsweise durch den Schichtträger hindurch, dieser wird dann abgezogen und die nicht belichteten Bereiche mit den Dämpfen von Ammoniak oder eines organischen Amins behandelt. Die Dämpfe vernetzen das unbelichtete bis-Diazoniumsalz mit beispielsweise einer angehängten Hydroxylgruppe, wobei eine Härtung dieser Bereiche stattfindet. Dann wird das Material durch Auswaschen der ungehärteten, belichteten Bereiche mit einem Lösungsmittel entwickelt. Man kann bei der Entwicklung sowohl mit wässrigen als auch mit nichtwässrigen, organischen Lösungsmitteln arbeiten, je nach der Art des angewandten Kolloids in der ! vernetzbaren, lichtempfindlichen Masse. Stellt das KolloidIt is exposed imagewise, preferably through the support, this is then peeled off and the unexposed Areas treated with the fumes of ammonia or an organic amine. The vapors network the unexposed bis-diazonium salt with, for example, a pendant hydroxyl group, with a hardening of these areas takes place. Then the material is washed out by washing out the uncured, exposed areas with a solvent developed. You can develop with both aqueous and non-aqueous organic solvents work, depending on the type of colloid applied in the! crosslinkable, photosensitive mass. Represents the colloid

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ßADßAD

eine hydrophile Verbindung dar, so verwendet nan. ein wässrigen Lönungnmittel, während man mit einem organischen Lösungsmittel arbeitet, wenn das Kolloid eine hydrophobe, oleophilc Verbindu'ig ist. represents a hydrophilic compound, so used nan. an aqueous solvent, while an organic solvent is used if the colloid is a hydrophobic, oleophilic compound.

Das ausgewaschene ilaterial ist als Relief oder als positives Resistbild brauchbar.The washed out material is as relief or as positive Resist image usable.

In den nachstehenden Versuchen und Beispielen werden die Herstellung von besonders geeigneten Tetrazoniumsalzen (Versuche A und B) und der Aufbau sowie die Verwendung erfindungsgemäßer lichtempfindlijier Materialien geschildert.In the experiments and examples below, the preparation of particularly suitable tetrazonium salts (experiments A and B) and the structure and use of the invention photosensitive materials described.

Versuch Λ ' .. Try Λ '..

Ein neuer. Tetrazoniumsalz wurde wie folgt hergestellt: 0,5 Mole p-Mitrobenzoylchlorid und 0,2 Mole 1,4-Butandiol wurden 18 Stunden unter Rückfluß in Benzol erhitzt. WieA new. Tetrazonium salt was prepared as follows: 0.5 mole of p-mitrobenzoyl chloride and 0.2 mole of 1,4-butanediol were refluxed in benzene for 18 hours. As

durch Infrarotspektra nachgewiesen, wurde durch Zugabe von ! detected by infrared spectra, was confirmed by the addition of !

η-Hexan ein Diester ausgefällt. Der weiße Niederschlag |η-hexane precipitated a diester. The white precipitation |

(20 g) wurde in 250 ml Äthanol mit 1 g Palladium auf Kohle(20 g) was dissolved in 250 ml of ethanol with 1 g of palladium on charcoal

reduziert. (Wasserstoffdruck: 4 Atm bei Raumtemperatur). jreduced. (Hydrogen pressure: 4 atm at room temperature). j

Infrarotspektroskopie des Produktes belegte das Verschwinden der Spitze bei 7,45 /u (N0o-Bande) und das Auftreten einer Bande bei 5,1 /u (NH?-Bande). 0,1 Mole des (1,^-Butandiol)-dibenzoat-4,4'-bis-amins wurden mit Natriumnitrit und Zinkchlorid in 25 ml Chlorwasserstoffsäure bei 10° C diazotiertDas Frodukt wurde indentifiziert als (1,4-Butandiol)-dibenzoat-4,4'-bis(diazoniumzinkehlorid). Infrared spectroscopy of the product demonstrated the disappearance of the peak at 7.45 / u (N0 o band) and the appearance of a band at 5.1 / u (NH ? Band). 0.1 moles of the (1,4-butanediol) dibenzoate-4,4'-bis-amine was diazotized with sodium nitrite and zinc chloride in 25 ml of hydrochloric acid at 10 ° C. The product was identified as (1,4-butanediol) dibenzoate -4,4'-bis (diazonium zinc chloride).

Beispiel 1 Example 1

0,5 g des Zinkchloridsalzes des l,4-Butylen-(4,4'-tetrazonium)-dibenzoats wurden in 25 ml Azeton aufgelöst, enthaltend :0.5 g of the zinc chloride salt of 1,4-butylene (4,4'-tetrazonium) dibenzoate were dissolved in 25 ml of acetone containing:

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BADBATH

- lp- - 20659U - lp - - 20659U

2,5 g .Poly (methylrnethacrylat/hydroxyäthylmethacrylat) mit einem mittleren Molekulargewicht von etwa 30 000; (90 Mol.-Ji Methylmethacrylat).2.5 g of poly (methyl methacrylate / hydroxyethyl methacrylate) with an average molecular weight of about 30,000; (90 Mol.-Ji methyl methacrylate).

0.5 g p-Toluolsulfonsnure,
1,0 g Triäthylenglykoldiacetat, 2 cm"" Äthanol,
1 ml Wasser.
0.5 g p-toluenesulfonic acid,
1.0 g triethylene glycol diacetate, 2 cm "" ethanol,
1 ml of water.

Das Material wurde auf einen 25 /U dicken Polyäthy!enterephthalatfilm zu einer Dicke von I3 /U aufgebracht.The material was applied to a 25 / U thick polyethylene enterephthalate film applied to a thickness of I3 / U.

Das beschichtete Material wurde bei Raumtemperatur trocknen gelassen und dann auf eine mit Kupfer überzogene Epoxidharz-Faserglasplatte mit Hilfe beheizter Walzen bei 120° C auflaminicrt, wobei die lichtempfindliche Schicht unmittelbar auf dem Kupfpr haftete. Der Polyester-Schichtträgerfilm wurde abgezogen und die auf dem Kupfer haftende vernetzbare, licht-The coated material was allowed to dry at room temperature and then placed on a copper-clad epoxy fiberglass panel laminate with the help of heated rollers at 120 ° C, the photosensitive layer adhering directly to the copper. The polyester base film was peeled off and the crosslinkable, light-

empfindliche Schicht dann 2 Min. durch ein Prozeßnegativ : sensitive layer then 2 min. through a process negative :

unter Einhaltung eines Abstandes von 6l cm mit Hilfe einer jwhile maintaining a distance of 6l cm with the help of a j

Kohlebogenlampe (2500 Watt; 14 Ampere) belichtet. Nunmehr jCarbon arc lamp (2500 watts; 14 amps) exposed. Now j

wurde die Schicht mit Ammoniakdämpfen behandelt und das er- I i · the layer was treated with ammonia vapors and the

haltene Bild in den belichteten Bereichen mit Hilfe von 1keep image in the exposed areas with the help of 1

1,1,1-Trichloräthylen ausgewaschen. Nach Ätzung mit Eisen-(III)-chlorid verblieb ein positives Kupferbild.1,1,1-trichlorethylene washed out. After etching with Iron (III) chloride remained a positive copper image.

Beispiel 2Example 2

Es wurde eine Mischung entsprechend Beispiel 1 hergestellt mit der Ausnahme, daß anstelle des Mischpolymeren 2,0 g Polyvinylalkohol (99 bis 100 % hydrolysiert; Viskosität in H 9o-iger wässriger Lösung = 55 - 65 Centipoise) angewandt wurden. Diese Masse wurde analog Beispiel 1 aufgeschichtet und getrocknet.A mixture was prepared according to Example 1 with the exception that 2.0 g of polyvinyl alcohol (99 to 100 % hydrolyzed; viscosity in H 90 aqueous solution = 55-65 centipoise) were used instead of the mixed polymer. This mass was coated and dried in the same way as in Example 1.

Das beschichtete Material wurde dann auf eine Glasplatte auflaminiert, belichtet und, wie im Beispiel 1 erläutert, weiterbehandelt mit der Ausnahme, daß zum Auswaschen derThe coated material was then laminated onto a glass plate, exposed and, as explained in Example 1, further treated with the exception that for washing out the

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BAD ORiGiWAi.BAD ORiGiWAi.

belichteten Bereiche heißes V/asser benutzt wurde. Die Platte eignete sich als positiv arbeitendes Reliefbild.exposed areas hot water was used. The plate was suitable as a positive working relief image.

Be is pie IBe is pie I

Beispiel ? wurde wiederholt mit der Ausnahme, daß ein beschichtetes Material auf eine Stahlplatte und eine Aluininiumplatte jeweils zu einer Dicke von 0,102 mm auflaminiert wurde. Die erhaltenen Platten eigneten sich zur Verwendung als positiv arbeitende Reliefbilder.Example ? was repeated except that a coated material was laminated on a steel plate and an aluminum plate each to a thickness of 0.102 mm. The plates obtained were suitable for use as positive-working relief images.

Beispiel example HH

Gemäß den Angaben des Versuchs wurden die nachstehenden, zur Gewinnung vernetzbarer, lichtempfindlicher Massen geeigneten Salze hergestellt, indem 1,4-Butandiol und p-iJitrobenzoylchlorid durch die entsprechenden Dialkohole uid Mitroaroylchloride ersetzt wurden:According to the information given in the experiment, the following were suitable for obtaining crosslinkable, photosensitive compositions Salts prepared by adding 1,4-butanediol and p-iJitrobenzoyl chloride have been replaced by the corresponding dialcohols and mitroaroyl chlorides:

(l,5-Pentandiol)-dinaphtboat-5,5'-bis(diazoniumzinkchlorld), (I,j5-Isobutandlol )-dibenzoat-4 ,H ' -bis (diazoniumzinkchlorld ), Resorcirioldibenzoat-4 ,4 ' -bis (diazoniumzinkchlorid ).(1,5-Pentanediol) -dinaphtboat-5,5'-bis (diazoniumzinkchlorld), (I, j5-isobutanediol) -dibenzoate-4 , H'-bis (diazoniumzinkchlorld), resorcirioldibenzoate-4,4'-bis (diazoniumzinc chloride ).

Andere brauchbare Salze können hergestellt «erden, indem man andere Polymethylenglykole oder aromatische Dihydroxyverbindungen anstelle der vorstehenden Diole sowie andere Nitroaroylchloride einsetzt.Other useful salts can be prepared by "grounding" one other polymethylene glycols or aromatic dihydroxy compounds instead of the above diols and other nitroaroyl chlorides.

Eine Mischung eines jeden dieser Salze mit FoIy-(methylmethacrylat/hydroxyrithylmethacrylat) wurde, wie in Beispiel 1 beschrieben, hergestellt, aufgeschichtet und auflaminiert. Nach analoger Jfelichtung und Behandlung mit Methylamindämpfen konnte das erhaltene Bild in den belichteten Bereichen mit Hilfe von 1,1,1-Trichloräthan ausgewaschen werden. Wach dem A'tzen mit Eisen-(III)-Chlorid verblieb ein positives Kupferbild.A mixture of each of these salts with foil (methyl methacrylate / hydroxyrithyl methacrylate) was, as described in Example 1, prepared, coated and laminated. After an analogous exposure and treatment with methylamine vapors, the image obtained could be used in the exposed Areas washed out with the help of 1,1,1-trichloroethane will. A'tzen was awake with ferric chloride a positive copper image.

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SAD OFItGINM.SAD OFItGINM.

Beispiel 5Example 5

Ein neues SuIfonatester-bis(diazoniumsalz) wurde wie folgt hergestellt: 0,1 Mol l~Nitro-2-methylnaphthalin-6-sulfonylchlorid in 100 ml itenzol wurden 24 Stunden mit 0,04 Molen 1,4-p.utancJiol unter Rückfluß erhitzt. Ein durch Infrarotspektra identifizierter Disulfonatester wurde durch Zugabe von 30 ml n-FFexan ausgefällt. Dann wurden 0,02 Mole des bis-Mitro-diesters in 200 ml Äthanol mit 10 Gevi.-7b Palladium auf Kohle unter einem Druck von 5 atm Wasserstoff bei 45 C reduziert. Das durch Infrarotspektra identifizierte bis-ΛπιΙη wurde durch Zugabe von Wasser ausgefällt. Der Niederschlag wurde in überschüssiger Chlorwasserstoffsäure gelöst und mit IJatriumnitrit diazotiert. Das salzsaure Salz wurde mit '(O ml einer 40 Sj-igen Fluorborsäure behandelt, um das Fluorboratsalz, nämlich (l,4-Butandiol)-dinaphthyl-G-sulfonat-2,2'-bis-/methy1_/-1,1'-bis(diazoniumfluorborat), auszubilden.A new sulfonate ester bis (diazonium salt) was prepared as follows: 0.1 mol of 1-nitro-2-methylnaphthalene-6-sulfonyl chloride in 100 ml of itenzene was refluxed for 24 hours with 0.04 mol of 1,4-p.utanic jiol . A disulfonate ester identified by infrared spectra was precipitated by adding 30 ml of n-FFexane. Then 0.02 moles of the bis-mitro-diester in 200 ml of ethanol were reduced with 10 Gevi.-7b of palladium on carbon under a pressure of 5 atm of hydrogen at 45 ° C. The bis-ΛπιΙη identified by infrared spectra was precipitated by adding water. The precipitate was dissolved in excess hydrochloric acid and diazotized with sodium nitrite. The hydrochloric acid salt was treated with '(0 ml of a 40% strength fluoroboric acid to give the fluoroborate salt, namely (1,4-butanediol) dinaphthyl-G-sulfonate-2,2'-bis- / methy1_ / -1.1 '-bis (diazonium fluoroborate) to form.

0,5 g dieses bis-Diazoniumsalzes in einer 5 g Wasser und 1 g Methanol enthaltenden Lösung wurden mit nachstehenden Substanzen vermischt:0.5 g of this bis-diazonium salt in a 5 g of water and A solution containing 1 g of methanol was mixed with the following substances:

5 g Polyvinylalkohol, der zu 88,2 s£ bis 89,2 % 5 g polyvinyl alcohol, which is 88.2 % to 89.2%

hydrolysiert war,
50 g V/asser,
0,2 g Zitronensäure,
1,0 g Triäthylenglykoldiacetat.
was hydrolyzed,
50 g v / ater,
0.2 g citric acid,
1.0 g of triethylene glycol diacetate.

Diese Masse wurde dann auf einen 25 M dicken Polyäthylenterephthalat-Schichtträger zu einer Dicke von 13 /U aufgebracht und nach dem Trocknen bei Raumtemperatur mit einem /U dicken Schutzfilm aus Polyäthylen laminiert.This mass was then applied to a 25 M thick polyethylene terephthalate support to a thickness of 13 / U and, after drying at room temperature, laminated with a / U thick protective film made of polyethylene.

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■" 15 " 20659H■ " 15 " 20659H

Nach j5 Tagen wurde der Polyäthylen-Schutzfilm abgezogen und das vernetzbare, lichtempfindliche Material auflaminiert, belichtet und weiterbehandelt wie in Beispiel 1 beschrieben mit der Ausnahme, daß zur Auswaschung der belichteten Bereiche heißes Wasser verwendet wurde. Die Platte eignete sich zur Verwendung als positiv arbeitendes Ke lief bild.After 15 days the protective polyethylene film was peeled off and laminated the crosslinkable, photosensitive material, exposed and further treated as described in Example 1 with the exception that for washing out the exposed Areas hot water was used. The plate was suitable for use as a positive working Ke ran picture.

Versuch BAttempt B

Naphthalin-1,5-bis(diazoniumfluorborat), das sich für die Verwendung im Verfahren der Erfindung eignet, wurde wie folgt hergestellt: 0.1 Mol 1,5-Naphthylendiamin wurden mit 28 g Natriumnitrit in 250 ml konz. Schwefelsäure bei 10° C 1 Std. gerührt und dann in 1 Liter Eiswasser gegeben. Das erhaltene bis-(Diazoniumsulfat), gelöst in 2 Liter Wasser) wurde durch Zugabe von 70 ml l\0 £-iger Plucrborsäure in Maphthalin-1,5-bis- (diazoniumf luorborat) verwandelt.Naphthalene-1,5-bis (diazonium fluoroborate), which is suitable for use in the process of the invention, was prepared as follows: 0.1 mol of 1,5-naphthylenediamine was mixed with 28 g of sodium nitrite in 250 ml of conc. Sulfuric acid at 10 ° C for 1 hour. Stirred and then poured into 1 liter of ice water. The obtained bis- (diazonium sulfate) dissolved in 2 liters of water) was transformed by addition of 70 ml of l \ 0 £ sodium Plucrborsäure in Maphthalin-1,5-bis- (diazoniumf luorborat).

Nachstehende bis-(Diazoniumfluorborat)-salze, die für die Verwendung im Verfahren der Erfindung geeignet sind, können aus den entsprechenden Diaminen nach der gleichen Arbeitsweise hergestellt werden:The following bis (diazonium fluoroborate) salts which are suitable for the Suitable use in the process of the invention can be prepared from the corresponding diamines by the same procedure getting produced:

Benzol-1,H-bis(diazoniumfluorborat), Berizol-l,3-bis (diazoniumf luorborat), Naphthalin-1,5-bis(diazoniumfluorborat)-7-sulfonsäure, Anthracen-l,6-bis(diazoniumfluorborat)s Anthracen-1,5-bis(diazoniumfluorborat)-7-sulfonsäurc, Anthrachinone,6-bis (diazoniumf luorborat), Phenanthren-1,5-bis(diazoniumfluorborat), Fluoren-2,7-bis(diazoniumfluorborat), Acenaphthen-4,6-bis(diazoniumfluorborat), 2,6-Dimethoxypyridin-j5j5-kis (diazoniumf luorborat), Pyrazol-3,5-bis(diazoniumfluorborat), Bi phenyl-J-J, 4' -bis (diazoniumf luorborat) -2,2' -bis-sulf onsäure,Benzene-1, H -bis (diazonium fluoroborate), berizol-1,3-bis (diazonium fluoroborate) , naphthalene-1,5-bis (diazonium fluoroborate) -7-sulfonic acid , anthracene-1,6-bis (diazonium fluoroborate ) s anthracene -1,5-bis (diazonium fluoroborate) -7-sulfonic acid, anthraquinones, 6-bis (diazonium fluoroborate), phenanthrene-1,5-bis (diazonium fluoroborate), fluorene-2,7-bis (diazonium fluoroborate), acenaphthene-4, 6-bis (diazonium fluoroborate), 2,6-dimethoxypyridine-j5j5-kis (diazonium fluoroborate), pyrazole-3,5-bis (diazonium fluoroborate), bi phenyl-J, 4 '-bis (diazonium fluoroborate) -2, 2' -bis-sulfonic acid,

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SAO 0RK3INALSAO 0RK3INAL

2,2'-Dimethyl-bisphenyl-4,4'-bis(diazoniumfluorborat), l,2-Diphenyläthan-4,4 ' -bis (diazoniumf luorborat), l,3-Diphenylisobutan-4,4'-bis(diazoniumfluorborat), ρ-Terphenyl-4,4'-bis(diazoniumfluorborat), Diphenylsulfon-4,4'-bis(diazoniumfluorborat).2,2'-dimethyl-bisphenyl-4,4'-bis (diazonium fluoroborate), 1,2-diphenylethane-4,4'-bis (diazonium fluoroborate), 1,3-diphenylisobutane-4,4'-bis (diazonium fluoroborate), ρ-terphenyl-4,4'-bis (diazonium fluoroborate), Diphenylsulfone-4,4'-bis (diazonium fluoroborate).

Beispiel 6Example 6

Eine 10 g Äthanol und 2 g Wasser enthaltende Lösung von 1 g 'iaphthalin-l,5-bis (diazoniumf luorborat) wurde einer gut durchgerührten Lösung von 2,5 g Polyvinylbutyral (HydroxylgehaIt: 18 bis 20 r/? und Dutyralgehalt 80 %) mit 0,3 ß Zitronensäure α und 0,8 g Triäthylenglykoldiacetat in 50 g Äthanol zugefügt. Diese Lösung wurde auf einen 19 /U dicken Trägerfilm aus Polyethylenterephthalat zu einer Dicke von 51 ,u aufgetragen und nach dem Trocknen bei Raumtemperatur wurde ein Stück davon auf eine Folie aus rotem, anodisiertem Aluminiumblech auflaminiert, indem das Blech auf die auf dem Schichtträger j liegende vernetzbare, lichtempfindliche Masse langsam zwi- ι sehen zwei auf 110° C aufgeheizte Walzen hindurchgeführt ! wurde. Das Material wurde dann durch ein Verfahrensnegativ : und den transparenten Polyesterschichtträger 1 Min. mit j einer 500-Watt-Quecksilberbogenlampe (PEK 500) im Abstand von 4O,64 cm belichtet. Dann wurde der Polyesterfilm entfernt und das beschichtete Blech mit Ammoniakdämpfen behan- W delt, die die unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen, vernetzbaren Schicht vernetzten. Die nicht vernetzten Bereiche wurden durch Besprühen mit 2- (2-Ä'thoxy)-äthanol aus~ gewaschen. Die Platte wurde dann mit V/asser gespült und bei | 70° C mit 5 io-iger Natriumhydroxydlösung behandelt unter J Ausbildung eines leuchtenden Aluminiumbildes in den belichteten Bereichen. Das Resist wurde dann mit Methylenchlorid entfernt.A 10 g of ethanol and 2 g of water-containing solution of 1 g 'iaphthalin-l, 5-bis (diazoniumf luorborat) was added to a well stirred solution of 2.5 g of polyvinyl butyral (HydroxylgehaIt: 18 to 20 r / and Dutyralgehalt 80%) with 0.3 ß citric acid α and 0.8 g of triethylene glycol diacetate in 50 g of ethanol are added. This solution was coated on a 19 / U support film made of polyethylene terephthalate to a thickness of 51 u is applied and, after drying at room temperature, a piece of it to a sheet of red, anodized aluminum sheet was laminated by the sheet j on the on the support lying crosslinkable, photosensitive mass slowly passed between two rollers heated to 110 ° C! became. The material was then exposed through a process negative: and the transparent polyester layer support for 1 min. With a 500 watt mercury arc lamp (PEK 500) at a distance of 40.64 cm. Then, the polyester film was removed and the coated sheet punched with ammonia vapors behan- W, the crosslinked, the unexposed areas of the photosensitive, crosslinkable layer. The non-crosslinked areas were washed out by spraying with 2- (2-ethoxy) ethanol. The plate was then rinsed with water and at | Treated at 70 ° C. with 5 strength sodium hydroxide solution with formation of a luminous aluminum image in the exposed areas. The resist was then removed with methylene chloride.

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Beispiel 7Example 7

Dlphenylmethan—'ί ,4 '-bis (diazoniumf luorborat) wurde nach der Arbeitsweise des Versuchs B aus dem entsprechenden Diamin hergestellt. Das Verfahren entsprechend Beispiel 6 ν;urde mit diesem Salz wiederholt mit der Ausnahme, daß das polymere Bindemittel Polyvinylformal war mit einem Gehalt an Hydroxyl von 7 - 9 ^ und 80 % Formalanteil.Dlphenylmethane-'ί, 4'-bis (diazonium fluoroborate) was prepared from the corresponding diamine according to the procedure of Experiment B. The process according to Example 6 was repeated with this salt with the exception that the polymeric binder was polyvinyl formal with a hydroxyl content of 7-9 ^ and 80% formal content.

Beispiel 8Example 8

1 g Biphenyl-4 ,4 ' -bis (diazoniumfluorborat), gelöst in einer Mischung von 10 g Äthanol und 1 g V/asser,- das aus dem entsprechenden Diamin wie in Versuch B beschrieben hergestellt worden war, wurde einer Lösung von 2,5 G flydroxypropylcellulose, 0;5 G Propylenglykol und 0,5 g Zitronensäure in 50 g Äthanol zugefügt. Die erhaltene vernetzbare, lichtempfindliche Masse wurde wie in Beispiel 6 angegeben aufgebracht und getrocknet. Das Material wurde dann bei 50 C mit einem 6/U dicken Polyäthylen-Schutzfilm laminiert. 2 Tage später wurde der Schutz- . film abgezogen und das vernetzbare, lichtempfindliche Material unter Anwendung von auf 130 C erhitzten V/a 1 ze η auf eine mit ■ Säure gereinigte Glasplatte auflaminiert, so daß die vernetzbare, lichtempfindliche Schicht auf dem Glas haftete. Dann j wurde der Polyester-Schichtträgerfilm abgezogen und die Plafc- ' te durch ein Verfahrensnegativ 1,5 Min. im Abstand von 40,64 cm mit einer 1000 W-Xenonbogenlampe belichtet. Mach J Min. Behandlung mit Ammoniakdämpfen wurden die belichteten Bereiche durch Aufspritzen von 2-Mothoxyäthanol ausgewaschen. Die Uberschichtete Platte wurde 10 Min. bei I5O0 C erhitzt und dann mit einer wässrigen, 25 $-igen Fluorwasserstoffsäure 1 geätzt unter Ausbildung eines positiven Bildes nach Entfernung des zurückbleibenden Resists.1 g of biphenyl-4, 4 '-bis (diazonium fluoroborate), dissolved in a mixture of 10 g of ethanol and 1 g of water / water, - which had been prepared from the corresponding diamine as described in Experiment B, was a solution of 2, 5 g flydroxypropyl cellulose, 0.5 g propylene glycol and 0.5 g citric acid in 50 g ethanol were added. The crosslinkable, photosensitive composition obtained was applied as indicated in Example 6 and dried. The material was then laminated with a 6 / U thick polyethylene protective film at 50 ° C. 2 days later the protective. film is peeled off and the crosslinkable, photosensitive material using V / a 1 ze η heated to 130 ° C. is laminated onto a glass plate cleaned with acid, so that the crosslinkable, photosensitive layer adhered to the glass. Then the polyester base film was peeled off and the plafc- 'te exposed to a process negative for 1.5 minutes at a distance of 40.64 cm with a 1000 W xenon arc lamp. Mach J Min. Treatment with ammonia vapors, the exposed areas were washed out by spraying 2-Mothoxyethanol. The Uber-coated plate was heated for 10 min. At I5O 0 C and then with an aqueous, 25 $ strength hydrofluoric acid 1 etched to form a positive image after removal of the remaining resist.

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Beispiel 9Example 9

Azobenzol-Ή,4'-bis(diazoniumfluorborat), das sich für die Verwendung in den vernetzbaren., lichtempfindlichen Massen der Erfindung eignet, wurde wie folgt hergestellt: p-i'iitroanilin (2J,^ g) wurde mit übe rschüssigem Essigsäureanhydrid acetyliert und die Nitrogruppen des erhaltenen p-Mitroacetanilids entsprechend Beispiel 5 zum Amin reduziert. Dann wurden 0,2 Mole p-Aminoacetanilid in Chlorwasserstoffsäure mit Hatriumnitrit diazotiert und mit 0,2 Mol p-Aminoacetanilid gekuppelt unter Ausbildung eines symmetrischen Azoacetanilids. Diese Azoverbindung wurde in Säure hydrolysiert und weiter diazotiert unter Anwendung des vorstehend beschriebenen Verfahrens unter Bildung von Azobenzol—'1,H ' -bis (diazoniumhydrochlorid ), das durch Behandlung mit 70 ml einer 40 5^-igen Fluorborsäure in das Fluorboratsalz überführt wurde.Azobenzene-Ή, 4'-bis (diazonium fluoroborate), which is suitable for use in the crosslinkable, photosensitive compositions of the invention, was prepared as follows: p-i'iitroaniline (2J, ^ g) was acetylated with excess acetic anhydride and reducing the nitro groups of the resulting p-mitroacetanilide according to Example 5 to the amine. Then 0.2 mole of p-aminoacetanilide in hydrochloric acid was diazotized with sodium nitrite and coupled with 0.2 mole of p-aminoacetanilide to form a symmetrical azoacetanilide. This azo compound was hydrolyzed in acid and further diazotized using the procedure described above to produce azobenzene- '1, H ' -bis (diazonium hydrochloride) which was converted to the fluoroborate salt by treatment with 70 ml of a 40 5% fluoroboric acid.

Beispiel 10Example 10

Eine 10 g Äthanol und 0,5 g V/asser enthaltende Lösung von 1 g Azobenzol-4,k'-bis(diazoniumfluorborat) wurde zu einer gut durchgerührten Lösung von 25 g Celluloseacetatbutyrat (50 % Butyrat), 0,5 g p-Toluolsulfonsäure und 0,5 g Triäthylenglykoldiacetat in 30 g Aceton gegeben.A 10 g ethanol and 0.5 g V / ater containing solution of 1 g of azobenzene-4, k '-bis (diazonium) was added to a well stirred solution of 25 g cellulose acetate butyrate (50% butyrate), 0.5 g of p- Toluenesulfonic acid and 0.5 g of triethylene glycol diacetate in 30 g of acetone.

Die vernetzbare, lichtempfindliche Masse wurde auf einen 25 /U dicken Trägerfilm aus Polyäthylenterephthalat unter Einstellung einer Dicke von 51 /U aufgezogen und auf eine mit Kupfer überzogene Epoxidharz-Faserglasplatte mit Hilfe von auf 1^0 C erhitzten Walzen auflaminiert, wobei die vernetzbare, lichtempfindliche Schicht auf dem Kupfer haftete. Die gefärbte Schicht wurde 30 Sek. durch ein Verfahrensnegativ im Abstand von 40,64 cm von einer 1000 Watt-Quarzjodlampe belichtet, wobei ein sichtbares Bild durch Ausbleichung der belichteten Bereiche gewonnen wurde. Der Polyester-Schichtträgerfilm wurde" abgezogen, die belichtete SchichtThe crosslinkable, photosensitive composition was drawn onto a 25 / U thick carrier film made of polyethylene terephthalate with a thickness of 51 / U and laminated onto a copper-coated epoxy resin fiberglass plate with the aid of rollers heated to 1 ^ 0 C, the crosslinkable, photosensitive Layer adhered to the copper. The colored layer was exposed for 30 seconds through a process negative at a distance of 40.64 cm from a 1000 watt quartz iodine lamp, a visible image being obtained by bleaching the exposed areas. The polyester base film was "peeled off, the exposed layer

609853/0851 bad609853/0851 bathroom

haftete auf dem Kupfer und wurde mit Ammoniakdämpfen behandelt, die das sichtbare Bild hervorhoben. Dann wurden die belichteten Bereiche mit Hilfe von 2-(2-Äthoxy)-äthanol ausgewaschen, !lach dem Ätzen in Eisen- (Ill)-chlorid bei 6j5 C und anschließender Entfernung der vernetzten, unbelichteten Bereiche mit Methylenchlorid verblieb ein Kupferbild auf der Faserglasplatte, das sich als Karte für gedruckte Schaltungen verwenden ließ.adhered to the copper and was treated with ammonia vapors which enhanced the visible image. Then the exposed areas washed out with the help of 2- (2-ethoxy) -ethanol, I laugh at the etching in iron (III) chloride at 65 ° C and subsequent removal of the crosslinked, unexposed areas with methylene chloride, a copper image remained on the Fiberglass sheet that can be used as a card for printed circuits let use.

Beispiel 11Example 11

1,5 g Acridin-J>,6-bis-(diazoniumfluorborat) wurden in einer Mischung von 15 g Äthanol mit 1 g Wasser aufgelöst. Das Fluorborat war aus dem Diamin nach der Arbeitsweise -des Versuchs B hergestellt worden, die beschriebene Lösung wurde einer gut durchgerührten Lösung von 15 g teilweise acetylierten Polyvinylalkohole (Viskosität: 900 bis 1200 Centipoise) zugefügt, die außerdem 1 g Triäthylenglykoldiacetat und 0,5 g Zitronensäure in 33 g Wasser enthielt.1.5 g of acridine-J>, 6-bis- (diazonium fluoroborate) were in a Mixture of 15 g of ethanol dissolved with 1 g of water. That Fluoroborate was from the diamine according to the procedure -des Experiment B has been prepared, the solution described was partially acetylated from a well-stirred solution of 15 g Polyvinyl alcohols (viscosity: 900 to 1200 centipoise) added, which also contained 1 g of triethylene glycol diacetate and 0.5 g of citric acid in 33 g of water.

Die vernetzbare, lichtempfindliche Masse wurde aufgebracht und mit einer Schutzfolie laminiert, wie in Beispiel 6 angegeben. Später wurde die schützende Deckfolie abgezogen und der beschichtete Schichtträger auf eine Magnesiummetallplatte auflaminiert, wobei mit auf 80° C erhitzten Walzen gearbeitet wurde. Der aus Polyester bestehende Schichtträgerfilm wurde abgezogen und die auf dem Magnesiumblech haftende vernetzbare, lichtempfindliche Schicht 2,5 Min. durch ein HaIbtonnegativ belichtet, wobei mit einem Abstand von 60,96 cm von einer 2500 Watt-Kohlenbogenlampe (.14 Ampere) gearbeitet wurde. Die belichtete Schicht wurde mit Methylamin behandelt und die belichteten, unvernetzten Bereiche mit einer Mischung von 50 Gew.-Teilen 2-(2-A'thoxy)-äthanol und 50 Gew.-Teilen Wasser ausgewaschen. Das Magnesiumblech wurde mit V/asser gespült und die belichteten Anteile 5 Mon. mit 10 $-iger Sälpetersäurelösung geätzt. Mach Entfernung der zurückbleibenden,vernetzten Schicht ist das mit dem geätzten Bild ausgestattete Blech für Drucke verwendbar. 60985 3/085 1The crosslinkable, photosensitive composition was applied and laminated with a protective film as indicated in Example 6. Later the protective cover sheet was peeled off and the coated substrate laminated to a magnesium metal plate, heated to 80 ° C with Rolling was worked. The base film made of polyester was peeled off, and that on the magnesium sheet Adhesive, crosslinkable, photosensitive layer exposed for 2.5 minutes through a halftone negative, with a Distance of 60.96 cm from a 2500 watt carbon arc lamp (.14 amps) was worked. The exposed layer was treated with methylamine and the exposed, uncrosslinked areas with a mixture of 50 parts by weight of 2- (2-ethoxy) ethanol and 50 parts by weight of water washed out. The magnesium sheet was rinsed with water and the exposed parts were etched for 5 months with 10% nitric acid solution. Mach removal of the remaining, cross-linked layer is the sheet metal equipped with the etched image can be used for prints. 60985 3/085 1

BADBATH

20659H20659H

Deisplel 12Deisplel 12

Eine Lösung von 7 g (l,4-Butandiol)-dibenzoat-4,4'-bis(diazoniumzinkchlorid), 1 g Zitronensäure in 20 ml Äthanol und 30 ml V/asser wurde einer auf 27 C gehaltenen Lösung von 30 G Gelatine in 300 ml deionisiertem Wasser und 1 ml 10 'j-igen wässrigen Saponin zugegeben. Nach 30 Min. Rühren wurde die Lösung unter Abstreichen auf einen 25 /U dicken, mit der Flamme vorbehandelten Polyäthylenterephthalatflim aufgebracht. Die erhaltene Schicht wurde abgekühlt, getrocknet und dann auf eine mit Kupfer überzogene Epoxidharz-Glasfaserplatte auflaminiert, was unter Verwendung von auf 50 C erhitzten Walzen erfolgte, und die vernetzbare, lichtempfindliche Schicht auf dem Kupfer haftete. 2 Stunden später wurde die Schicht belichtet, der Trägerfilm abgezogen und wie in Beispiel 1 beschrieben eine Behandlung mit Ammoniakdämpfen vorgenommen. Das erhaltene Bild wurde sorgfältig mit Wasser von 6o° C ausgewaschen. Nach dem Atzen in Eisen-(III)-chlorid verblieb ein positives Kupferbild.A solution of 7 g of (1,4-butanediol) -dibenzoate-4,4'-bis (diazonium zinc chloride), 1 g of citric acid in 20 ml of ethanol and 30 ml of v / ater was kept at 27 C solution of 30 g of gelatin in 300 ml of deionized water and 1 ml of 10% aqueous saponin were added. After stirring for 30 minutes, the solution was applied with wiping to a 25 / U thick, flame-pretreated polyethylene terephthalate film. The resulting layer was cooled, dried and then laminated to a copper-clad epoxy resin fiberglass plate using rollers heated to 50 ° C., and the crosslinkable, photosensitive layer was adhered to the copper. 2 hours later, the layer was exposed, the carrier film peeled off and, as described in Example 1, a treatment with ammonia vapors was carried out. The image obtained was carefully washed out with water at 60 ° C. After etching in ferric chloride, a positive copper image remained.

Beispiel 13Example 13

5 g Naphthalin-l,5-bis(diazoniumfluorborat) in einer Mischung von 10 g Äthanol und 10 g Wasser wurden einer Lösung zugefügt, die 20 g Poly-p-aminostyrol, 5 g Polymethyl- , W methacrylat (durchschnittliches Molekulargewicht: 60 000), 7 g Triätliylenglykoldiacetat und 0, 7 g p-Toluolsulf onsäure in 50 g Aceton und 10 g Äthanol enthnLt. Diese vernetzbare, j lichtempfindliche Masse wurde entsprechend Beispiel 1 auf- ■5 g of naphthalene-1,5-bis (diazonium fluoroborate) in a mixture of 10 g of ethanol and 10 g of water were added to a solution containing 20 g of poly-p-aminostyrene, 5 g of polymethyl-, W methacrylate (average molecular weight: 60,000 ), 7 g of triethyl glycol diacetate and 0.7 g of p-toluenesulphonic acid in 50 g of acetone and 10 g of ethanol. This crosslinkable, light-sensitive composition was prepared according to Example 1

ο 'ο '

gebracht und bei 120 C auf ein Zinkmetallblech auflaminiert, jbrought and laminated to a zinc metal sheet at 120 C, j

das mit Bimsstein gereinigt worden war. Das Material wurde dann durch ein Verfahrensnegativ und den transparenten Schichtträger aus Polyester hindurch 10 Sek. mit einer · 500 Watt-Quecksilberlampe (PEK 500) im Abstand von 40,64 cm belichtet. Der Trägerfilm wurde abgezogen und die Schicht mit Ammoniakdämpfen behandelt. Das erhaltene Bild wurde mit Methylchloroform ausgewaschen und das erzeugte positive Bild unter Verwendung von 5 ^-iger Salpetersäure geätzt.that had been cleaned with pumice stone. The material was then processed through a negative and the transparent Polyester support through 10 seconds with a 500 watt mercury lamp (PEK 500) at a distance of 40.64 cm exposed. The carrier film was peeled off and the layer treated with ammonia vapors. The image obtained was washed out with methyl chloroform and the positive image produced is etched using 5 ^ nitric acid.

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BAD ORfGJWALBAD ORfGJWAL

Claims (1)

20659U20659U PatentansprücheClaims 1. Flexible, thermoplastische, lichtempfindliche, vernetzbare, positive Bilder liefernde, gegebenenfalls auf einem Schicht'-träger aufgetragene Masse, bestehend aus1.Flexible, thermoplastic, photosensitive, crosslinkable, positive images, if necessary on a layer carrier applied mass, consisting of a) einer vernetzbaren, polymeren, synthetischen oder natürlich vorkommenden, im wesentlichen ungehärteten Verbindung mit anhaftenden, wiederkehrenden Hydroxylgruppen oder Aminogruppen unda) a crosslinkable, polymeric, synthetic or natural occurring, essentially uncured compound with adhering, repeating hydroxyl groups or amino groups and b) einer lichtempfindlichen, bifunktioneilen Verbindung, die bei Behandlung mit basischen Substanzen vernetzend wirkt,b) a light-sensitive, bifunctional compound that has a crosslinking effect when treated with basic substances, dadurch gekennzeichnet, daß die Masse als Bestandteil b) ein lichtempfindliches bis-Diazoniumsalz enthält, in dem der kationische Anteil des Salzes der Formelcharacterized in that the mass as component b) contains a photosensitive bis-diazonium salt in which the cationic portion of the salt of the formula +N=N -R- (XR) - N 5 N+ + N = N -R- (XR) -N 5 N + entspricht, worin q = 0 oder 1 ist und R für einen aromatischen Kohlenwasserstoff, ein mehrkerniges Chinon oder einen heterocyclischen Ring von aromatischem Charakter steht und die Bindungen an dessen cyclischen Kohlenstoffatomen haften, worin außerdem X ein Alkylenrest mit wenigstens 2 C-Atomen oder ein Arylen-, Azo- oder Sulfonrest ist, wobei aber bei q = 1, X auch einem Alkylendioxy- oder Arylendioxyrest entsprechen kann und dann R für einen Aroyl- oder Arylsulfonylrest steht, wobei der anionische Anteil der Salze ein Anion eines anorganischen Salzes ist.corresponds to where q = 0 or 1 and R is an aromatic one Hydrocarbon, a polynuclear quinone or a heterocyclic ring of aromatic character and the bonds adhere to its cyclic carbon atoms, in which, in addition, X is an alkylene radical having at least 2 carbon atoms or an arylene, azo or sulfone radical, but where q = 1, X also corresponds to an alkylenedioxy or arylenedioxy radical can and then R for an aroyl or arylsulfonyl radical stands, the anionic portion of the salts being an anion of an inorganic salt. : 2. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich: 2. Photosensitive composition according to claim 1, characterized ! net, daß der kationische Anteil des Salzes der Formel! net that the cationic portion of the salt of the formula "N+ "N + "N1N - R1 - Y - (CHp)n -Y-R1 - N1 "N 1 N - R 1 - Y - (CHp) n -YR 1 - N 1 entspricht, worin R' ein substituierter oder unsubstituier-corresponds to where R 'is a substituted or unsubstituted 609853/0851609853/0851 _ 22 _ 20659U_ 22 _ 20659U ter Benzol-, Naphthalin-, Anthracen- oder Phenanthrenrest ist, während Y für -COO- oder -SO,- steht und dabei Rf am Kohlenstoffatom bzw. am Schwefelatom dieser Gruppen haftet, η für eine ganze Zahl von mindestens 4 steht und der anionische Anteil des Salzes ein Anion aus einem anorganischen Salz ist.ter benzene, naphthalene, anthracene or phenanthrene radical, while Y stands for -COO- or -SO, - and R f is attached to the carbon atom or the sulfur atom of these groups, η stands for an integer of at least 4 and the anionic portion of the salt is an anion from an inorganic salt. j5. Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche bis-Diazoniumsalz ein Zinkchloridsalz oder ein Fluorboratsalz ist.j5. Photosensitive composition according to Claims 1 and 2, characterized in that that the photosensitive bis-diazonium salt is a zinc chloride salt or a fluoroborate salt. 4. Lichtempfindliche Masse nach Ansprüchen 1 bis 3>, dadurch Wr gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche bis-Diazonium-4. The photosensitive composition according to claims 1 to 3> characterized Wr, that the photosensitive bis-diazonium salz (l,4-Butandiol)~dibenzoat-4,4'-bis-(diazoniumzinkchlorid), (1,5-Pentandiöl)-dinaphthoat-5>5'-bis-(diazoniumzinkchlorid) oder (L,4-Butandiol)-dinaphthylsulf onat-4,4 ' -Ms-(diazoniumfluorborat) ist.salt (1,4-butanediol) dibenzoate-4,4'-bis (diazonium zinc chloride), (1,5-pentanediol) -dinaphthoate-5> 5'-bis- (diazonium zinc chloride) or (L, 4-butanediol) -dinaphthylsulfonate-4,4 '-Ms- (diazonium fluoroborate) is. 5· Lichtempfindliche Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die polymere, vernetzbare Verbindung Gelatine oder Polyvinylalkohol ist.5 · Photosensitive composition according to claim 1, characterized in that that the polymeric, crosslinkable compound is gelatin or polyvinyl alcohol. 609853/0851609853/0851
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