DE20321073U1 - Device for accommodating substrates, especially for making photovoltaic elements, has carrier counter element arranged to limit vertical movement of substrate relative to walls - Google Patents

Device for accommodating substrates, especially for making photovoltaic elements, has carrier counter element arranged to limit vertical movement of substrate relative to walls Download PDF

Info

Publication number
DE20321073U1
DE20321073U1 DE20321073U DE20321073U DE20321073U1 DE 20321073 U1 DE20321073 U1 DE 20321073U1 DE 20321073 U DE20321073 U DE 20321073U DE 20321073 U DE20321073 U DE 20321073U DE 20321073 U1 DE20321073 U1 DE 20321073U1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
carrier
walls
substrates
counter
carrier element
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE20321073U
Other languages
German (de)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Astec Halbleitertechnologie GmbH
Original Assignee
Astec Halbleitertechnologie GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19873720395 external-priority patent/DE3720395A1/en
Application filed by Astec Halbleitertechnologie GmbH filed Critical Astec Halbleitertechnologie GmbH
Priority to DE20321073U priority Critical patent/DE20321073U1/en
Publication of DE20321073U1 publication Critical patent/DE20321073U1/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67313Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6734Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders specially adapted for supporting large square shaped substrates

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

The device has two opposing walls (1) joined by at least two rod-shaped carrying elements (2,3) with a holding arrangement (5) for holding substrates supported on them in a vertical position parallel to the walls. At least one carrier counter element (4) is arranged relative to the carrier elements so that vertical movement of the substrate relative to the walls is limited and the substrate can be loaded or unloaded at an angle to the vertical.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Aufnahme von Substraten nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.The The invention relates to a device for receiving substrates according to the preamble of claim 1.

Eine derartige Vorrichtung dient zum senkrechten bzw. vertikalen Einstellen einer Vielzahl von Substraten, wie Wafern oder Substraten zur Herstellung photovoltaischer Elemente. Die Vorrichtung wird mit den darin aufgenommenen Substraten zum Ätzen, Reinigen oder zum Trocknen in Behandlungsbäder getaucht und anschließend daraus wieder herausgehoben.A Such device serves for vertical or vertical adjustment a variety of substrates, such as wafers or substrates for the production photovoltaic elements. The device is recorded with the therein Substrates for etching, Clean or dipped in treatment baths for drying and then from it lifted out again.

Nach dem Stand der Technik bestehen solche Vorrichtungen, die auch als Horden oder Carrier bezeichnet werden, üblicherweise aus vier umlaufenden Wänden. An der Innenseite der einander gegenüberliegenden Längswände befinden sich vertikal verlaufende Schlitze, in welche die Substrate randlich eingesteckt werden. Die Längswände können im Bereich ihrer Unterkanten nach innen hin umgebogen sein, damit die Substrate nach unten nicht herausfallen. Eine derartige Vorrichtung ist z. B. aus der US 5,299,901 bekannt. Ähnliche Vorrichtungen sind in der EP 0 385 536 , der US 4,963,069 sowie der US 4,722,752 beschrieben.According to the prior art, such devices, which are also referred to as hordes or carriers, usually consist of four circumferential walls. On the inside of the opposite longitudinal walls are vertically extending slots into which the substrates are inserted randlich. The longitudinal walls may be bent inwards in the region of their lower edges so that the substrates do not fall downwards. Such a device is z. B. from the US 5,299,901 known. Similar devices are in the EP 0 385 536 , of the US 4,963,069 as well as the US 4,722,752 described.

Eine gattungsgemäße Vorrichtung ist z. B. aus der DE 42 23 326 B1 sowie der DE 44 28 169 C2 bekannt. Dabei werden die Substrate auf mehreren stabartigen Trägerelementen abgestützt, welche zwei aneinander gegenüberliegende Wände miteinander verbinden. Längswände mit darin vorgesehenen Schlitzen weisen diese Vorrichtungen nicht auf.A generic device is z. B. from the DE 42 23 326 B1 as well as the DE 44 28 169 C2 known. The substrates are supported on a plurality of rod-like support elements, which connect two mutually opposite walls together. Longitudinal walls with slots provided therein do not have these devices.

In der Praxis kommt es mitunter vor, dass in einem Ätzbad beim Ätzvorgang gebildeter Wasserstoff in Form von Blasen an der Oberfläche der Substrate anhaftet. Die Substrate können infolgedessen aus der Vorrichtung herausgehoben werden und im Ätzbad aufschwimmen. Das Entfernen solcher aufschwimmender Substrate erfordert einen zusätzlichen Aufwand. Es kann dabei zu unerwünschten Kontaminationen der Behandlungsflüssigkeiten kommen.In In practice it sometimes happens that hydrogen formed in an etching bath during the etching process in the form of bubbles on the surface adheres to the substrates. As a result, the substrates can be removed from the Be lifted device and float in the etching bath. The removal such floating substrates requires an additional Effort. It can cause unwanted contamination the treatment liquids come.

Aus der DE 43 00 205 A1 ist eine Kassette zur Aufnahme von Substraten bekannt. Die Kassette weist einen Einsatz auf, in dem die Substrate auf zwei Trägerelementen abgestützt sind. Zur Arretierung der Substrate ist ein Trägergegenelement vorgesehen. Mit der vorgeschlagenen Kassette wird ein Aufschwimmen der Substrate im Ätzbad verhindert. Das Be- oder Entladen der Substrate ist allerdings zeitaufwändig. Es muss zunächst der Einsatz aus der Kassette gehoben und anschließend das Trägergegenelement entfernt werden.From the DE 43 00 205 A1 a cassette for receiving substrates is known. The cassette has an insert in which the substrates are supported on two carrier elements. For locking the substrates, a counter carrier element is provided. With the proposed cassette, a floating of the substrates in the etching bath is prevented. The loading or unloading of the substrates, however, is time consuming. First, the insert must be lifted out of the cassette and then the carrier counter-element must be removed.

Aufgabe der Erfindung ist es, die Nachteile nach dem Stand der Technik zu beseitigen. Es soll insbesondere eine Vorrichtung angegeben werden, mit der ein Aufschwimmen von Substraten verhindert werden kann und die möglichst einfach handhabbar ist.task The invention is to the disadvantages of the prior art remove. It should be specified in particular a device with the floating of substrates can be prevented and the preferably easy to handle.

Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Zweckmäßige Ausgestaltungen ergeben sich aus den Merkmalen der Ansprüche 2 bis 25.These The object is solved by the features of claim 1. Expedient refinements result arising from the features of the claims 2 to 25.

Nach Maßgabe der Erfindung ist vorgesehen, dass mindestens ein die beiden Wände verbindendes Trägergegenelement vorgesehen ist, welches bezüglich der Trägerelemente so angeordnet ist, dass damit eine Vertikalbewegung der Substrate relativ zu den Wänden begrenzt und ein Be- oder Entladen der Substrate schräg bezüglich der Vertikalrichtung ermöglicht wird.To proviso The invention provides that at least one connecting the two walls Counter carrier element is provided, which respect the support elements is arranged so that thereby a vertical movement of the substrates relative to the walls limited and loading or unloading of the substrates obliquely with respect to the Vertical direction allows becomes.

Damit wird auf einfache Weise erreicht, dass die Substrate im Behandlungsbad nicht aus der Vorrichtung gehoben werden. Eine zur Flüssigkeitsoberfläche gerichtete Vertikalbewegung der Substrate wird durch das Trägergegenelement begrenzt. D.h. ein Abheben der Substrate von den Trägerelementen ist nur so weit möglich, dass sie noch sicher in den Haltemitteln gehalten und ein Entweichen aus der Vorrichtung unmöglich ist. Die Vorrichtung ist üblicherweise so ausgeführt, dass die Substrate im untergetauchten Zustand um wenige Millimeter von den Trägerelementen abheben können. Auch bei einer schräg nach oben zur Flüssigkeitsoberfläche gerichteten Bewegung der Substrate im Behandlungsbad können diese aus der Vorrichtung nicht entweichen, weil sie in diesem Fall an der Wand des Behandlungsbeckens anstoßen würden. Dagegen können die Substrate bei aus dem Behandlungsbad herausgehobener Vorrichtung schräg be- oder entladen werden. Es ist insbesondere nicht erforderlich, zum Be- oder Entladen das Trägergegenelement von der Vorrichtung zu entfernen.In order to is achieved in a simple way that the substrates in the treatment bath not be lifted out of the device. A directed to the liquid surface Vertical movement of the substrates is limited by the counter carrier element. That one Lifting the substrates from the support elements is only as far as possible that they are still safely held in the holding means and an escape impossible from the device is. The device is conventional so executed, that the substrates in the submerged state by a few millimeters from the carrier elements can take off. Even at an angle directed upward to the liquid surface Movement of the substrates in the treatment bath can remove these from the device Do not escape because in this case they are on the wall of the treatment tank nudge would. In contrast, the Substrates in lifted out of the treatment bath device aslant be loaded or unloaded. In particular, it is not necessary for loading or unloading the carrier counter-element to remove from the device.

Unter einem "stabartigen Trägerelement" wird allgemein ein langgestrecktes Trägerelement verstanden. Der Querschnitt eines solchen Trägerelements kann rund, rechteckig, polygonal oder auch andere Formen annehmen. Wesentlich für die Ausgestaltung der Trägerelemente ist, dass beim Herausheben der Vorrichtung aus dem Behandlungsbad daran haftende Behandlungsflüssigkeit vollständig und ungehindert abfließt.Under a "rod-like Carrier element "is generally a understood elongated support member. The cross section of such a support element can be round, rectangular, polygonal or other shapes. Essential for the embodiment of the support elements is that when lifting the device from the treatment bath on it adhesive treatment liquid completely and flows away unhindered.

Das Trägergegenelement kann an den Wänden, vorzugsweise lösbar, befestigt sein. Bei einer lösbaren Befestigung des Trägergegenelements kann das Trägergegenelement nach dem Heraus heben der Vorrichtung aus dem Behandlungsbad entfernt und nachfolgend können die Substrate auch in vertikaler Richtung be- oder entladen werden. Eine lösbare Befestigung kann beispielsweise mittels einer geeigneten Rastvorrichtung realisiert werden, die so ausgebildet ist, dass das Trägergegenelement mit einem Roboter gelöst und nachfolgend wieder befestigt werden kann. Die vorgeschlagene Vorrichtung ist besonders universell.The carrier counter-element may be attached to the walls, preferably detachably. In a releasable attachment of the carrier counter-element, the carrier counter-element can be removed after lifting out of the device from the treatment bath and subsequently the substrates can also in be loaded or unloaded in the vertical direction. A detachable attachment can be realized for example by means of a suitable locking device, which is designed so that the counter carrier element can be solved with a robot and subsequently re-attached. The proposed device is particularly universal.

Nach einer Ausgestaltung weist zumindest eines der Trägerelemente als Haltemittel schlitzartige Ausnehmungen oder Zähne auf. Das Trägerelement kann z. B. ein zylindrischer Stab sein, der als Haltemittel nebeneinander liegende Einschnitte aufweist. Es kann aber auch sein, dass auf dem Stab sägezahnartig Zähne nebeneinander vorgesehen sind.To An embodiment has at least one of the support elements as a holding means slit-like recesses or teeth. The carrier element can z. B. be a cylindrical rod, the side by side as a holding means having lying incisions. But it can also be that up the staff sawtooth Teeth next to each other are provided.

Die Zähne sind zweckmäßigerweise so auf dem Trägerelement angebracht, dass ein Zahngrund der Zähne auf einer oberen Scheitellinie des Trägerelements liegt. Dadurch wird sichergestellt, dass bei einem Herausheben eines mit solchen Zähnen versehenen Trägerelements die Behandlungsflüssigkeit vollständig davon abfließt.The Teeth are expediently so on the carrier element Attached to a tooth base of the teeth on an upper crest line the carrier element lies. This will ensure that when you lift a with such teeth provided carrier element the treatment liquid completely flows.

In ähnlicher Weise kann auch das Trägergegenelement in Richtung des Trägerelements weisende als schlitzartige Ausnehmungen oder Zähne ausgebildete Haltemittel aufweisen. Die Zähne sind auf dem Trägergegenelement zweckmäßigerweise so angebracht, dass ein Zahngrund der Zähne auf der unteren Scheitellinie des Trägergegenelements liegt. Diese Maßnahme gewährleistet ebenfalls ein vollständiges sicheres Ablaufen von Behandlungsflüssigkeit beim Herausheben des Trägergegenelements aus dem Behandlungsbad.In similar Way can also the carrier counter-element in the direction of the carrier element pointing as a slot-like recesses or teeth trained holding means exhibit. The teeth are on the counter carrier element expediently so attached, that a tooth base of the teeth on the lower crest line of the counter carrier element lies. This measure guaranteed also a complete one safe drainage of treatment liquid when lifting the Carrier counter element the treatment bath.

Nach einer weiteren besonders vorteilhaften Ausgestaltung ist das Trägergegenelement bezüglich des Trägerelements so angeordnet oder ausgebildet, dass die Substrate bei einer Bewegung in die Vertikalrichtung stets in den Haltemitteln gehalten werden. In diesem Fall wird in der Behandlungsflüssigkeit nicht nur ein unerwünschtes Herausheben der Substrate aus der Vorrichtung vermieden, sondern es wird auch sichergestellt, dass die Substrate voneinander beabstandet parallel in der Vorrichtung gehalten werden. Eine Vertikalbewegung der Substrate in einem vorgegebenen begrenzten Maß innerhalb der Halteelemente ermöglicht während des Ätzens auch einen Flüssigkeitsaustausch und damit einen Ätzabtrag im Bereich der Auflagepunkte der Substrate und damit also ein vollflächiges Ätzen der Substrate. Abgesehen davon ermöglicht ein geringfügiges Abheben der Substrate in Vertikalrichtung ein vollständiges Trocknen der Substrate. Mittels einer geeigneten Vorrichtung können dazu die Substrate langsam aus dem Behandlungsbad herausgehoben werden. Während des Durchtritts der Substrate durch die Oberfläche der Behandlungsflüssigkeit können diese von den Trägerelementen kurzzeitig abgehoben und nach dem Durchtritt der Trägerelemente durch die Behandlungsflüssigkeit wieder auf diese aufgesetzt werden.To Another particularly advantageous embodiment is the counter carrier element concerning the support element arranged or formed so that the substrates in one movement are always held in the vertical direction in the holding means. In this case, not only undesirable in the treatment liquid Removing the substrates from the device avoided, but it It also ensures that the substrates are spaced apart be held parallel in the device. A vertical movement the substrates within a given limited extent within the Holding elements allows while of the etching too a fluid exchange and thus a Ätzabtrag in the region of the contact points of the substrates and thus therefore a full-surface etching of the Substrates. Apart from that allows a slight lift off the substrates in the vertical direction complete drying of the substrates. By means of a suitable device, the substrates can be slow be lifted out of the treatment bath. During the passage of the substrates through the surface the treatment liquid can this from the carrier elements briefly lifted and after the passage of the support elements through the treatment fluid be put back on this again.

Zweckmäßigerweise weist das Trägerelement einen im Wesentlichen vertikal nach unten sich erstreckenden Ablaufsteg auf. In ähnlicher Weise kann das Trägergegenelement einen im Wesentlichen vertikal nach oben sich erstreckenden weiteren Ablaufsteg aufweisen. Eine Breite des Ablaufstegs und/oder des weiteren Ablaufstegs kann zur Mitte des Trägerelements bzw. des Trägergegenelements hin zunehmen. Das Vorsehen eines derartigen Ablaufstegs und weiteren Ablaufstegs trägt dazu bei, dass beim Herausheben des Trägerelements bzw. des Trägergegenelements aus der Behandlungsflüssigkeit diese vollständig vom Trägerelement bzw. Trägergegenelement abläuft. Es ist sichergestellt, dass das Trägerelement bzw. das Trägergegenelement vollständig trocken aus der Behandlungsflüssigkeit herausgehoben werden können.Conveniently, has the carrier element a substantially vertically downwardly extending gutter on. In similar Way, the carrier counter element a substantially vertically upwardly extending further gutter exhibit. A width of the gutter and / or the further gutter can be to the middle of the support element or the counter carrier element increase. The provision of such a gutter and more Carrying gutter in that when lifting out of the carrier element or the counter carrier element from the treatment liquid these completely from support element or carrier counter element expires. It is ensured that the carrier element or the counter carrier element Completely dry from the treatment liquid can be lifted out.

Die Kanten der Wände können abgeschrägt sein. Des Weiteren ist es zweckmäßig, dass die Unterkanten der Wände beiderseits einer mittig angeordneten U-förmigen ersten Ausnehmung schräg abfallen. Die U-förmige erste Ausnehmung dient als Zentriermittel zum Einsetzen der Vorrichtung in eine korrespondierende Haltevorrichtung im Bewegungsbecken. Die vorgeschlagene Ausbildung der Kanten sowie der Unterkanten trägt dazu bei, dass die Behandlungsflüssigkeit vollständig von den Wänden beim Herausheben der Vorrichtung abläuft.The Edges of the walls can beveled. Furthermore, it is appropriate that the lower edges of the walls fall obliquely on both sides of a centrally located U-shaped first recess. The U-shaped first recess serves as a centering means for inserting the device in a corresponding holding device in the exercise pool. The Proposed training of the edges and the lower edges contributes to it at that the treatment liquid Completely from the walls at Lifting out of the device expires.

Nach einer weiteren Ausgestaltung weisen die Seitenkanten der Wände in einem oberen Abschnitt in einander gegenüberliegender Anordnung zweite Ausnehmungen zum Eingriff einer Greifvorrichtung auf. Des Weiteren kann eine Oberkante der Wände eine dritte Ausnehmung zum Eingreifen einer Be- bzw. Entladevorrichtung für Substrate aufweist. Die dritte Ausnehmung wird zweckmäßigerweise durch wenigstens zwei schräg zu den Seitenkanten verlaufende Ausnehmungskanten begrenzt.To a further embodiment, the side edges of the walls in one upper section in opposing arrangement second Recesses for engagement of a gripping device. Furthermore can be a top of the walls a third recess for engaging a loading and unloading device for substrates having. The third recess is expediently by at least two at an angle limited to the side edges extending recess edges.

Nach einer weiteren Ausgestaltung ist vorgesehen, dass ein wesentlicher Abschnitt der Seitenkanten der Wände vertikal verläuft. Die vertikale Ausrichtung der Seitenkanten entspricht der vertikalen Bewegungsrichtung der Vorrichtung im Bewegungsbad. Durch die vertikale Ausbildung der Seitenkanten ist ein problemloses Ablaufen daran anhaftender Behandlungsflüssigkeit beim Herausheben der Vorrichtung, aus der Behandlungsflüssigkeit gewährleistet.To A further embodiment provides that an essential Section of the side edges of the walls runs vertically. The vertical orientation of the side edges corresponds to the vertical direction of movement the device in the exercise bath. Due to the vertical training the side edges is a problem-free drain on it treatment liquid when lifting the device, from the treatment liquid guaranteed.

Nach einer weiteren Ausgestaltung sind das Trägerelement und/oder das Trägergegenelement aus einer, vorzugsweise mit einem ersten Kunststoff ummantelten, Versteifungsstruktur gebildet. Die Versteifungsstruktur kann aus Metall, Glas, Keramik oder einem, vorzugsweise mit Fasern verstärkten, zweiten Kunststoff hergestellt sein. Die Versteifungsstruktur kann beispielsweise aus einer Siliziumkarbid-Keramik oder aus Quarzglas hergestellt sein. Die Wände können ebenfalls aus dem ersten Kunststoff hergestellt sein. Dabei handelt es sich vorzugsweise um einen gegen Säuren und Basen resistenten Kunststoff, der aus der folgenden Gruppe ausgewählt sein kann: PFA (Perfluor-Alkoxy-Polymer), PTFE (Polyvinyldienedifluorid), PVDF (Polytetrafluorethylen), PP (Polypropylen).In accordance with a further embodiment, the carrier element and / or the counter carrier element are formed from a stiffening structure which is preferably sheathed with a first plastic. The stiffening structure can be made of metal, glass, ceramics or a, preferably reinforced with fibers, second plastic. The stiffening structure may for example be made of a silicon carbide ceramic or quartz glass. The walls can also be made of the first plastic. It is preferably an acid and base resistant plastic which may be selected from the following group: PFA (perfluoroalkoxy polymer), PTFE (polyvinyldiene difluoride), PVDF (polytetrafluoroethylene), PP (polypropylene).

Auch der erste Kunststoff kann mit Fasern verstärkt sein. Als Fasern eignen sich insbesondere aus Kohle oder Glas hergestellte Fasern.Also the first plastic can be reinforced with fibers. Suitable as fibers in particular made of carbon or glass fibers.

Nach einer besonderen Ausgestaltung ist vorgesehen, dass vier Trägerelemente die Wände verbinden. Die Trägerelemente sind üblicherweise parallel angeordnet. Deren Haltemittel weisen etwa in Richtung einer parallel zu den Trägerelementen verlaufenden gedachten zentralen Achse der Vorrichtung. Es können zwei untere Trägerelemente in der Nähe einer Unterkante der Wände und zwei obere Trägerelemente in der Nähe eines unteren Abschnitts der Seitenkanten der Wände angebracht sein.To a particular embodiment is provided that four support elements connect the walls. The carrier elements are usually parallel arranged. Their holding means point approximately in the direction of a parallel extending to the support elements imaginary central axis of the device. There can be two lower support elements near a bottom edge of the walls and two upper support members near be attached to a lower portion of the side edges of the walls.

Das Trägergegenelement kann in der Nähe einer Oberkante der Seitenwände angebracht sein. Das Trägergegenelement ist zweckmäßigerweise bezüglich einer die Anordnung oder die Ausbildung des/der Trägerelement/Trägerelemente betreffenden und parallel zu dieser/diesen verlaufenden Symmetrieebene versetzt angeordnet. Durch diese besondere Anordnung wird eine Vertikalbewegung der Substrate im Behandlungsbad unterbunden. Gleichzeitig wird ein schräges Be- oder Entladen der Substrate außerhalb des Behandlungsbads gewährleistet. Das mindestens eine Trägergegenelement kann fest mit den Wänden verbunden sein. Es kann aber auch lösbar an den Wänden z. B. mittels einer Schraub-, Klemm- oder Rastverbindung befestigt sein.The Counter carrier element can be near one Top edge of the side walls to be appropriate. The carrier counter element is expediently with respect to a the arrangement or the formation of the / the carrier element / carrier elements relevant and parallel to this / these running symmetry plane staggered. By this particular arrangement is a vertical movement prevented the substrates in the treatment. At the same time, a sloping Loading or unloading the substrates outside the treatment bath guaranteed. The at least one counter carrier element can get stuck with the walls be connected. But it can also be releasably attached to the walls z. B. fastened by means of a screw, clamp or locking connection be.

Nachfolgend wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung näher erläutert. Hier zeigenfollowing is an embodiment of Invention closer explained. Show here

1 eine Ansicht auf die Längsseite einer Vorrichtung, 1 a view on the longitudinal side of a device,

2 die Ansicht A gemäß 1, 2 the view A according to 1 .

3 die Ansicht B gemäß 1 und 3 the view B according to 1 and

4 eine schematische Querschnittsansicht eines Trägerelements bzw. eines Trägergegenelements. 4 a schematic cross-sectional view of a carrier element or a counter carrier element.

In den Figuren ist eine Vorrichtung zur Aufnahme von Substraten und dgl. in verschiedenen Ansichten gezeigt. Zwei Wände 1 sind unlösbar verbunden mit zwei unteren Trägerelementen 2, zwei oberen Trägerelementen 3 sowie einem Trägergegenelement 4. Die unteren 2 und/oder oberen Trägerelemente 3 sind bezüglich einer Symmetrieebene E symmetrisch angeordnet. Das Trägergegenelement 4 ist bezüglich der Symmetrieebene E versetzt angeordnet. Es ist hier ebenfalls unlösbar mit den Wänden 1 verbunden. Selbstverständlich ist es auch möglich, dass das Trägergegenelement 4 lösbar mit den Wänden 1 verbunden ist. Dazu kann das Trägergegenelement 4 beispielsweise mit herkömmlichen Rastverbindungen an den Wänden 1 befestigt werden.In the figures, a device for receiving substrates and the like. In various views. Two walls 1 are permanently connected to two lower support elements 2 , two upper support elements 3 and a counter carrier element 4 , The lower 2 and / or upper support elements 3 are arranged symmetrically with respect to a plane of symmetry E. The carrier counter element 4 is offset with respect to the plane of symmetry E. It is also insoluble here with the walls 1 connected. Of course, it is also possible that the counter carrier element 4 detachable with the walls 1 connected is. For this purpose, the carrier counter element 4 for example, with conventional locking connections on the walls 1 be attached.

Wie insbesondere aus den 2 und 3 ersichtlich ist, sind die Wände 1 spiegelbildlich ausgebildet. Ein in der Vorrichtung aufgenommenes Substrat ist mit S bezeichnet. Das Substrat S ist abgestützt auf den unteren 2 und den oberen Trägerelementen 3. Eine Bewegung des Substrats S in eine mit V bezeichnete Vertikalrichtung wird durch das Trägergegenelement 4 begrenzt. Dagegen ist ein Be- bzw. Entladen der Vorrichtung in einer mit SR bezeichneten Schrägrichtung möglich.As in particular from the 2 and 3 it can be seen, are the walls 1 formed mirror image. A substrate received in the device is designated S. The substrate S is supported on the lower one 2 and the upper support members 3 , A movement of the substrate S in a vertical direction denoted by V by the carrier counter-element 4 limited. In contrast, loading or unloading of the device in a direction designated by SR oblique direction is possible.

Sofern das Trägergegenelement 4 lösbar an den Wänden 1 angebracht ist, ist es auch möglich, nach einem Entfernen des Trägergegenelements 4 die Substrate S in Vertikalrichtung zu be- und entladen.If the carrier counter element 4 detachable on the walls 1 is attached, it is also possible after removing the carrier counter-element 4 Loading and unloading the substrates S in the vertical direction.

Auf den Trägerelementen 2, 3 sind als Haltemittel Zähne 5 vorgesehen. Die Zähne 5 sind hier vertikal nach oben angeordnet. Es ist aber auch möglich, dass die Zähne 5 in Richtung in einer mit ZA bezeichneten Zentralachse weisen. Die an den Trägergegenelementen 4 vorgesehenen Zähne 5 weisen vertikal nach unten. Auch hier ist es möglich, dass die Zähne 5 in Richtung der Zentralachse ZA weisen. Ein durch zwei nebeneinander liegende Zähne 5 gebildeter Schlitz verjüngt sich in Richtung des Trägerelements 2, 3 bzw. des Trägerelements 4.On the carrier elements 2 . 3 are as holding means teeth 5 intended. The teeth 5 are arranged vertically up here. It is also possible that the teeth 5 pointing in the direction of a central axis designated ZA. The on the counter-elements 4 provided teeth 5 point vertically downwards. Again, it is possible that the teeth 5 pointing in the direction of the central axis ZA. A through two adjacent teeth 5 formed slot tapers in the direction of the support element 2 . 3 or of the carrier element 4 ,

Die an den Wänden 1 befindlichen umlaufenden Kanten sind mit Abschrägungen 6 versehen.The on the walls 1 located circumferential edges are with bevels 6 Mistake.

Die Trägerelemente 2, 3 weisen jeweils vertikal nach unten sich erstreckende Ablaufstege 7a, das Trägergegenelement 4 einen sich vertikal nach oben erstreckenden weiteren Ablaufsteg 7b auf. Eine Breite bzw. Höhe der Ablaufstege 7a, 7b Unterkanten 8 der Wände 1 weisen mittig eine U-förmige erste Ausnehmung 9 auf. Die Unterkanten 8 fallen beiderseits der U-förmigen ersten Ausnehmung 9 nach außen hin ab.The carrier elements 2 . 3 each have vertically downwardly extending gutters 7a , the carrier counter element 4 a vertically upwardly extending further gutter 7b on. A width or height of the gutters 7a . 7b lower edges 8th the walls 1 have centrally a U-shaped first recess 9 on. The lower edges 8th fall on both sides of the U-shaped first recess 9 towards the outside.

Seitenkanten 10 verlaufen im Wesentlichen vertikal, d.h. parallel zur Vertikalrichtung V. Sie weisen in einem oberen Abschnitt zweite Ausnehmungen 11 zum Eingriff einer (hier nicht gezeigten) Greifeinrichtung zum Greifen der Vorrichtung auf.side edges 10 are substantially vertical, ie parallel to the vertical direction V. They have in an upper portion second recesses 11 to engage a Grei (not shown here) device for gripping the device.

An einer Oberkante 12 der Wände 1 ist außerdem eine dritte Ausnehmung 13. Die dritte Ausnehmung 13 ermöglicht das Eingreifen eines Greifarms zum Be- und Entladen der Vorrichtung mit Substraten S. Mindestens zwei der die dritte Ausnehmung begrenzenden Ausnehmungskanten 14a, 14b verlaufen schräg zu den Seitenkanten 10. Die so gebildete schräge dritte Ausnehmung 13 ermöglicht ein Be- und Entladen der Vorrichtung mit Substraten S in der Schrägrichtung SR.At a top edge 12 the walls 1 is also a third recess 13 , The third recess 13 allows the engagement of a gripping arm for loading and unloading the device with substrates S. At least two of the recesses limiting the third recess 14a . 14b run obliquely to the side edges 10 , The oblique third recess thus formed 13 allows loading and unloading of the device with substrates S in the oblique direction SR.

In 4 ist ein Querschnitt durch ein unteres Trägerelement 2 gezeigt. Das untere Trägerelement 2 ist gebildet aus einer zentralen Versteifungsstruktur 15, die zweckmäßigerweise aus einem mit Kohlefaser verstärkten zweiten Kunststoff hergestellt ist. Selbstverständlich kann die Versteifungsstruktur auch aus anderen Materialien hergestellt sein, wobei nichtmetallische Materialien bevorzugt sind. Die Versteifungsstruktur 15 weist eine aus einem ersten Kunststoff hergestellte Ummantelung 16 auf. Der erste Kunststoff ist zweckmäßigerweise resistent gegen Säuren und Basen. Es kann sich dabei beispielsweise handeln um PFA (Perfluor-Alkoxy.-Polymer), PTFE (Polyvinyldienedifluorid), PVDF (Polytetrafluorethylen), PP (Polypropylen).In 4 is a cross section through a lower support element 2 shown. The lower support element 2 is formed of a central stiffening structure 15 , which is conveniently made of a carbon fiber reinforced second plastic. Of course, the stiffening structure can also be made of other materials, non-metallic materials are preferred. The stiffening structure 15 has a sheath made of a first plastic 16 on. The first plastic is suitably resistant to acids and bases. These may be, for example, PFA (perfluoroalkoxy polymer), PTFE (polyvinyldiene difluoride), PVDF (polytetrafluoroethylene), PP (polypropylene).

Die Zähne 5 und die Ablaufstege 7a, 7b sind zweckmäßigerweise in einstückiger Ausbildung mit der Ummantelung 16 hergestellt. Mit 17 ist ein oberer Scheitelpunkt des hier zylindrisch ausgebildeten unteren Trägerelements 2 bezeichnet. Ein Zahngrund 18 ist im Querschnitt die hier kreissegmentförmige ausgebildete Kontaktlinie zwischen dem Zahn 5 und dem unteren Trägerelement 2. Damit stets ein vollständiger Ablauf von Reinigungsflüssigkeit gewährleistet ist, sind die Zähne 5 so anzuordnen, dass der obere Scheitelpunkt 17 Bestandteil des Zahngrunds 18 ist.The teeth 5 and the gutters 7a . 7b are expediently in one-piece training with the sheath 16 produced. With 17 is an upper vertex of the here cylindrically shaped lower support member 2 designated. A tooth base 18 is in cross section the here circular segment-shaped formed contact line between the tooth 5 and the lower support member 2 , So that a complete flow of cleaning fluid is guaranteed, the teeth are 5 arrange so that the upper vertex 17 Part of the tooth base 18 is.

Die gezeigte Anordnungen der Zähne 5 gilt in gleicher Weise für die oberen Trägerelemente 3. Sie gilt in analoger Weise für das Trägergegenelement 4, wobei hier bezüglich der Anordnung der Zähne 5 auf einem unteren Scheitelpunkt abzustellen ist, der in 4 mit dem Bezugszeichen 19 angedeutet ist.The arrangements of the teeth shown 5 applies in the same way for the upper support elements 3 , It applies analogously to the carrier counter-element 4 Here, with respect to the arrangement of the teeth 5 on a lower vertex that is in 4 with the reference number 19 is indicated.

Im Rahmen der vorliegenden Erfindung ist es selbstverständlich möglich, die Anzahl und Ausbildung der Trägerelemente 2, 3 sowie des Trägergegenelements 4 zu ändern, insbesondere an die Geometrie des jeweils zu transportierenden Substrats S anzupassen. So ist es beispielsweise auch möglich, statt der im vorliegenden Ausführungsbeispiel beschriebenen vier Trägerelemente nur zwei oder ein Trägerelement/e zu verwenden.In the context of the present invention, it is of course possible, the number and design of the support elements 2 . 3 and the counter carrier element 4 to change, in particular to adapt to the geometry of the respective substrate S to be transported. For example, it is also possible to use only two or one carrier element / s instead of the four carrier elements described in the present exemplary embodiment.

Mit der vorliegenden Erfindung wird auf einfache Weise eine unerwünschte Vertikalbewegung von Substraten S in einem Behandlungsbad unterbunden. Gleichzeitig ist ein einfaches Be- und Entladen der Vorrichtung möglich, ohne dass dazu ein Niederhalteelement, wie das Trägergegenelement 4, von der Vorrichtung entfernt werden muss.With the present invention, undesired vertical movement of substrates S in a treatment bath is prevented in a simple manner. At the same time a simple loading and unloading of the device is possible without the need for a hold-down element, such as the counter carrier element 4 , must be removed from the device.

11
Wandwall
22
unteres Trägerelementlower support element
33
oberes Trägerelementupper support element
44
TrägergegenelementCounter carrier element
55
Zahntooth
66
Abschrägungbevel
7a,b7a, b
Ablaufstegdrain away
88th
Unterkantelower edge
99
erste Ausnehmungfirst recess
1010
Seitenkanteside edge
1111
zweite Ausnehmungsecond recess
1212
Oberkantetop edge
1313
dritte Ausnehmungthird recess
14a,b14a, b
AusnehmungskantenAusnehmungskanten
1515
Versteifungsstrukturstiffening structure
1616
Ummantelungjacket
1717
oberer Scheitelpunktupper vertex
1818
Zahngrundtooth root
1919
unterer Scheitelpunktlower vertex
VV
Vertikalrichtungvertical direction
SRSR
Schrägrichtungoblique direction
SS
Substratsubstratum
Ee
Symmetrieebeneplane of symmetry
ZAZA
Zentralachsecentral axis

Claims (25)

Vorrichtung zur Aufnahme von Substraten (S), insbesondere Wafern oder Siliziumsubstraten zur Herstellung photovoltaischer Elemente, mit zwei einander gegenüberliegenden Wänden (1), wobei mindestens zwei die Wände (1) verbindende stabartige Trägerelemente (2, 3) vorgesehen sind, wobei die Trägerelemente (2, 3) zum Halten darauf abgestützter Substrate (S) in einer vertikalen, parallel zu den Wänden (1) orientierten Stellung mit Haltemitteln (5) versehen ist, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein, die beiden Wände (1) verbindendes stabartiges Trägergegenelement (4) vorgesehen ist, welches bezüglich der Trägerelemente (2, 3) so angeordnet ist, dass damit eine Vertikalbewegung der Substrate (S) relativ zu den Wänden (1) begrenzt und ein Be- oder Entladen der Substrate (S) schräg bezüglich der Vertikalrichtung (V) ermöglicht wird.Device for receiving substrates (S), in particular wafers or silicon substrates for producing photovoltaic elements, with two walls ( 1 ), whereby at least two of the walls ( 1 ) connecting rod-like carrier elements ( 2 . 3 ) are provided, wherein the support elements ( 2 . 3 ) for supporting substrates (S) supported thereon in a vertical, parallel to the walls ( 1 ) oriented position with holding means ( 5 ), characterized in that at least one, the two walls ( 1 ) connecting rod-like carrier counter element ( 4 ) is provided, which with respect to the carrier elements ( 2 . 3 ) is arranged so that thereby a vertical movement of the substrates (S) relative to the walls ( 1 ) and loading or unloading of the substrates (S) obliquely with respect to the vertical direction (V) is made possible. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Trägergegenelement (4) an den Wänden (1), vorzugsweise lösbar, befestigt ist.Device according to Claim 1, in which the counter-carrier element ( 4 ) on the walls ( 1 ), preferably releasably, is attached. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Substrate (S) bei entferntem Trägergegenelement (4) außerdem in Vertikalrichtung (V) be- oder entladbar sind.Apparatus according to claim 1 or 2, wherein the substrates (S) with the carrier counter element ( 4 ) are also loading or unloading in the vertical direction (V). Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zumindest eines der Trägerelemente (2, 3) als Haltemittel schlitzartige Ausnehmungen oder Zähne (5) aufweist.Device according to one of the preceding claims, wherein at least one of the carrier elements ( 2 . 3 ) as holding means slit-like recesses or teeth ( 5 ) having. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Zähne (5) so auf dem Trägerelement (2, 3) angebracht sind, dass ein Zahngrund (18) der Zähne (5) auf der oberen Scheitellinie (17) des Trägerelements (2, 3) liegt.Device according to one of the preceding claims, wherein the teeth ( 5 ) so on the support element ( 2 . 3 ), that a tooth base ( 18 ) the teeth ( 5 ) on the top crest line ( 17 ) of the carrier element ( 2 . 3 ) lies. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Trägergegenelement (4) in Richtung des Trägerelements (2, 3) weisende als schlitzartige Ausnehmungen oder Zähne (5) ausgebildete Haltemittel aufweist.Device according to one of the preceding claims, wherein the carrier counter element ( 4 ) in the direction of the carrier element ( 2 . 3 ) pointing as slot-like recesses or teeth ( 5 ) has formed holding means. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Zähne (5) so auf dem Trägergegenelement (4) angebracht sind, dass ein Zahngrund (18) der Zähne (5) auf der unteren Scheitellinie (19) des Trägergegenelements (4) liegt.'Device according to one of the preceding claims, wherein the teeth ( 5 ) so on the counter carrier element ( 4 ), that a tooth base ( 18 ) the teeth ( 5 ) on the lower crest line ( 19 ) of the counter carrier element ( 4 ) lies.' Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Trägergegenelement (4) bezüglich des Trägerelements (2, 3) so angeordnet oder ausgebildet ist, dass die Substrate (S) bei einer Bewegung in die Vertikalrichtung (V) stets in den Haltemitteln (5) gehalten werden.Device according to one of the preceding claims, wherein the carrier counter element ( 4 ) with respect to the carrier element ( 2 . 3 ) is arranged or designed such that the substrates (S) always move in the vertical direction (V) in the holding means ( 5 ) being held. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Trägerelement (2, 3) einen im Wesentlichen vertikal nach unten sich erstreckenden Ablaufsteg (7a) aufweist.Device according to one of the preceding claims, wherein the carrier element ( 2 . 3 ) a substantially vertically downwardly extending gutter ( 7a ) having. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Trägergegenelement (4) einen im Wesentlichen vertikal nach oben sich erstreckenden weiteren Ablaufsteg (7b) aufweist.Device according to one of the preceding claims, wherein the carrier counter element ( 4 ) a substantially vertically upwardly extending further runway ( 7b ) having. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei eine Breite des Ablaufstegs (7a) und/oder des weiteren Ablaufstegs (7b) zur Mitte des Trägerelements (2, 3) bzw. des Trägergegenelements (4) hin zunimmt.Device according to one of the preceding claims, wherein a width of the gutter ( 7a ) and / or the further runway ( 7b ) to the center of the carrier element ( 2 . 3 ) or of the counter carrier element ( 4 ) increases. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Kanten (8, 10, 12) der Wände (1) abgeschrägt sind.Device according to one of the preceding claims, wherein the edges ( 8th . 10 . 12 ) of the walls ( 1 ) are bevelled. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Unterkanten (8) der Wände (1) beiderseits einer mittig angeordneten U-förmigen ersten Ausnehmung (9) schräg abfallen.Device according to one of the preceding claims, wherein the lower edges ( 8th ) of the walls ( 1 ) on both sides of a centrally arranged U-shaped first recess ( 9 ) sloping down. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Seitenkanten (10) in einem oberen Abschnitt in einander gegenüberliegenden Anordnung zweite Ausnehmungen (11) zum Eingriff einer Greifvorrichtung aufweisen.Device according to one of the preceding claims, wherein the side edges ( 10 ) in an upper portion in opposed arrangement second recesses ( 11 ) for engaging a gripping device. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei eine Oberkante (12) der Wände (1) eine dritte Ausnehmung (13) zum Eingreifen einer Be- bzw. Entladeeinrichtung für Substrate (S) aufweist.Device according to one of the preceding claims, wherein an upper edge ( 12 ) of the walls ( 1 ) a third recess ( 13 ) for engaging a loading and unloading device for substrates (S). Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die dritte Ausnehmung (13) durch wenigstens zwei schräg zu den Seitenkanten (10) verlaufenden Ausnehmungskanten (14a, 14b) begrenzt ist.Device according to one of the preceding claims, wherein the third recess ( 13 ) by at least two obliquely to the side edges ( 10 ) extending recess edges ( 14a . 14b ) is limited. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Trägerelement (2, 3) und/oder das Trägergegenelement (4) aus einer, vorzugsweise mit einem ersten Kunststoff ummantelten, Versteifungsstruktur (15) gebildet sind.Device according to one of the preceding claims, wherein the carrier element ( 2 . 3 ) and / or the counter carrier element ( 4 ) made of a, preferably with a first plastic encased, stiffening structure ( 15 ) are formed. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Versteifungsstruktur (15) aus Metall, Glas, Keramik oder einem, vorzugsweise mit Fasern verstärkten, zweiten Kunststoff hergestellt ist.Device according to one of the preceding claims, wherein the stiffening structure ( 15 ) made of metal, glass, ceramic or a, preferably reinforced with fibers, second plastic. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Wände (1) aus dem ersten Kunststoff hergestellt sind.Device according to one of the preceding claims, wherein the walls ( 1 ) are made of the first plastic. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erste Kunststoff ein gegen Säuren und Basen resistenter Kunststoff ist, der vorzugsweise aus der folgenden Gruppe ausgewählt ist: PFA, PTFE, PVDF.Device according to one of the preceding claims, wherein the first plastic against acids and bases is resistant plastic, preferably from the following Group selected is: PFA, PTFE, PVDF. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der erste Kunststoff mit Fasern verstärkt ist.Device according to one of the preceding claims, wherein the first plastic is reinforced with fibers. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei vier Trägerelemente (2, 3) die Wände (1) verbinden.Device according to one of the preceding claims, wherein four support elements ( 2 . 3 ) the walls ( 1 ) connect. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei zwei untere Trägerelemente (2) in der Nähe einer Unterkante (8) der Wände (1) und zwei obere Trägerelemente (3) in der Nähe eines unteren Abschnitts der Seitenkanten (10) der Wände (1) angebracht sind.Device according to one of the preceding claims, wherein two lower support elements ( 2 ) near a lower edge ( 8th ) of the walls ( 1 ) and two upper support elements ( 3 ) near a lower portion of the side edges ( 10 ) of the walls ( 1 ) are mounted. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Trägergegenelement (4) in der Nähe einer Oberkante (12) der Wände (1) angebracht ist.Device according to one of the preceding claims, wherein the carrier counter element ( 4 ) near a top edge ( 12 ) of the walls ( 1 ) is attached. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Trägergegenelement (4) bezüglich einer die Anord nung oder Ausbildung des/der Trägerelements/Trägerelemente (2, 3) betreffenden und parallel zu dieser/diesen verlaufenden Symmetrieebene (E) versetzt angeordnet ist.Device according to one of the preceding Claims, wherein the carrier counter element ( 4 ) with respect to a Anord tion or training of / the carrier element / carrier elements ( 2 . 3 ) and offset parallel to this / these extending symmetry plane (E) is arranged offset.
DE20321073U 1987-06-19 2003-03-31 Device for accommodating substrates, especially for making photovoltaic elements, has carrier counter element arranged to limit vertical movement of substrate relative to walls Expired - Lifetime DE20321073U1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE20321073U DE20321073U1 (en) 1987-06-19 2003-03-31 Device for accommodating substrates, especially for making photovoltaic elements, has carrier counter element arranged to limit vertical movement of substrate relative to walls

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19873720395 DE3720395A1 (en) 1986-06-20 1987-06-19 CIRCUIT FOR DETECTING STANDARDIZED AND NON-STANDARDIZED TV SIGNALS
DE20321073U DE20321073U1 (en) 1987-06-19 2003-03-31 Device for accommodating substrates, especially for making photovoltaic elements, has carrier counter element arranged to limit vertical movement of substrate relative to walls

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE20321073U1 true DE20321073U1 (en) 2006-03-09

Family

ID=36089244

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE20321073U Expired - Lifetime DE20321073U1 (en) 1987-06-19 2003-03-31 Device for accommodating substrates, especially for making photovoltaic elements, has carrier counter element arranged to limit vertical movement of substrate relative to walls

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE20321073U1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1493176B1 (en) Device for accommodating substrates
EP0801814B1 (en) Wet chemical treatment installation
EP0343261B1 (en) Dissolution testing machine
DE60123353T2 (en) VESSEL AND BAR
DE19546990C2 (en) Chemical wet treatment plant
EP0894337A2 (en) Installation for wet-treating substrates
DE20321073U1 (en) Device for accommodating substrates, especially for making photovoltaic elements, has carrier counter element arranged to limit vertical movement of substrate relative to walls
DE4106733A1 (en) DEVICE FOR DIMMING FIELD LINES IN A GALVANIC SYSTEM (III)
DE10215044B4 (en) Process for etching and drying substrates
DE10215284B4 (en) Method and apparatus for drying substrates
EP2036624A2 (en) Handling device for handling workpiece carriers
DE102008004548A1 (en) Wafer batch cleaning
EP0458254A2 (en) Fixing device for fixing a grip to a cooking vessel
DE102021110026B4 (en) Device for treating objects with a treatment liquid
WO1996005611A1 (en) Support for substrates
EP0176624A1 (en) Wringer device
DE3612375C2 (en)
DE19639019A1 (en) Machine for cleaning e.g. baker's, cheese or butcher's knives or cutters
DE60113827T2 (en) DISH BASKET WITH FOLDING GLASSHOLDERS
AT409368B (en) Device for connecting to a hoist a workpiece which can be inserted into a dip bath
WO2018024871A1 (en) Matching apparatus for substrate carriers
DE19757022C2 (en) Lowering and lifting and swiveling gassing device for clarifiers
DE2846486C2 (en) Melt epitaxy method and apparatus
DE215330C (en)
DE8810867U1 (en) Device for holding semiconductor wafers

Legal Events

Date Code Title Description
R207 Utility model specification

Effective date: 20060413

R150 Term of protection extended to 6 years

Effective date: 20060613

R151 Term of protection extended to 8 years

Effective date: 20090508

R152 Term of protection extended to 10 years

Effective date: 20110301

R071 Expiry of right
R071 Expiry of right