DE20306904U1 - Vorrichtung zur Messung der Schichtdicke und der Krümmung von mindestens teilweise reflektierenden Oberflächen von Schichten - Google Patents

Vorrichtung zur Messung der Schichtdicke und der Krümmung von mindestens teilweise reflektierenden Oberflächen von Schichten

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Description

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Claims (10)

1. Vorrichtung zur Messung der Schichtdicke und der Krümmung von mindestens teilweise reflektierenden Oberflächen von Schichten, insbesondere während der Schichtherstellung in einer Beschichtungsapparatur, gekennzeichnet durch
  • a) Mittel zum Beleuchten der Schichtoberfläche mit mindestens zwei nahezu parallelen Lichtstrahlen,
  • b) die nahezu parallele Führung der einfallenden und der an der Schichtoberfläche reflektierten Lichtstrahlen in der Beschichtungsapparatur,
  • c) einen Strahlteiler zur Trennung der einfallenden und der an der Schichtoberfläche reflektierten Lichtstrahlen voneinander,
  • d) einen Zeilen- oder Flächendetektor zum Messen des Abstands von mindestens zwei an der Schichtoberfläche reflektierten und auf den Detektor auftreffenden Lichtstrahlen,
  • e) Mittel zur Messung der Intensität der an der Schicht reflektierten Lichtstrahlen oder der Gesamtintensität als Maß für die Schichtdicke.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch das Verwenden eines Etalons zur Aufspaltung und damit zur Erzeugung mehrerer Lichtstrahlen.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch das Verwenden von mehreren Lichtquellen zur Erzeugung mehrerer Lichtstrahlen.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch das Verwenden einer Beugungsanordnung oder eines holographischen Gitters, das ein Punkt- oder Linienmuster erzeugt, zur Erzeugung mehrerer Lichtstrahlen.
5. Vorrichtung nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch der Verwendung eines Spiegels zur Erhöhung der Lichtintensität durch Rückreflektion des ersten, am Etalon reflektierten, Strahls.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, 2 und/oder 5, gekennzeichnet durch der Verwendung eines Spiegels zur Erzeugung einer oder mehrerer versetzten Lichtpunktlinien analog zu den primär erzeugten Lichtpunkten.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die Verwendung eines optischen Bandpasses im reflektierten Strahlengang.
8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die Bestimmung der Oberflächentemperatur der zu vermessenden Schicht durch Messung der Hintergrundstrahlung.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die Verwendung eines entspiegelten Eintrittsfensters in die Beschichtungsapparatur.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die Verwendung eines Eintrittsfensters in die Beschichtungsapparatur, das um wenige Grad gegenüber der Oberfläche der zu vermessenden Schicht verkippt ist.
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