DE2029675A1 - Process for the production of a recessed, concave supply cathode with a grid - Google Patents
Process for the production of a recessed, concave supply cathode with a gridInfo
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Description
DR. CLAUS REINLANDER DIPL.-ING. KLAUS BERNHARDTDR. CLAUS REINLANDER DIPL.-ING. KLAUS BERNHARDT
D-8 MÖNCHEN 60 D-8 MONKS 60 20296752029675
Varian AssociatesVarian Associates
611 Hansen Way611 Hansen Way
Palo Alto, Calif. 94-303, USAPalo Alto, Calif. 94-303, USA
Verfahren zur Herstellung einer vertieften, konkaven Vorratskathode mit einem GitterProcess for the manufacture of a recessed, concave supply cathode with a grid
Priorität: 16. Juni 1969 USA 833 458Priority: June 16, 1969 USA 833 458
Ss werden Verfahren zur Herstellung von konkaven, mit Vertiefungen versehenen Vorratskathoden angegeben. In der konkaven Stirnfläche des Kathodenrohstückes wird ein Butenmuster mit mehreren Zellen ausgebildet. In den zellenförmigen Bereichen der konkaven Emitterstirnfläche wird eine Anordnung von konkaven Vertiefungen ausgebildet, die durch die Zellen des Nutenmusters begrenzt werden. In dem Butenouster wird eine Gitteranordnung mit mehreren Zellen vorgesehen. Das Butenmuster wird durch Fotoätzung, ein elektrisches Entladeverfahren oder durch Elnfräsung ausgebildet. Die Gitteranordnung kann in die Buten eingelötet oder lediglich in einer die Buten nicht berührenden Stellung angeordnet werden.Methods are given for the production of concave, depressed supply cathodes. A butene pattern with several cells is formed in the concave end face of the cathode blank. In the cell-shaped areas of the concave emitter end face, an arrangement of concave depressions is formed, which are delimited by the cells of the groove pattern. A grid array with multiple cells is provided in the butenouster. The butene pattern is formed by photo-etching, an electrical discharge process, or by milling. The grid arrangement can be soldered into the butes or simply arranged in a position not in contact with the butts.
Bisher wurde eine Gitteranordnung alt mehreren Zellen auf oder in der Oberflache einer konkaven und alt Vertiefungen vergebenen lathodtnemitterfläche vorgeschlagen, bei der dl« Zellen der Gitteranordnung «it Öffnungen in «int« Steuergitter Hitherto, a grid arrangement of several cells on or in the surface of a concave cathode emitter surface allocated to depressions has been proposed, in which the cells of the grid arrangement have openings in "int" control grids
009884/1478 bad original009884/1478 bad original
ausgerichtet sind. Eine derartige Kethole ist in der älteren Anmeldung F 17 64 594.2 der jtaieltoim -Τ»- schrieben worden. Derartige Kathoden eiffiea sich insbesondere für Elektronenkanone!! in linearstrablrollueeii alt forkonvergenss und hoher leistung, da die Aufnahme eines Steuergittersstroms weitgehend verringert ist» Dies rührt iati«, äaß die Gitteranordnung in oder auf äer Kathode äasia beiträgt 0 die Elektronen-= strahlen durch die ausgerichteten Öffnungen dea Steuergittera zu fokussieren» Darüber hinaus trägt ias Eotasaiergitter dazu bei, eine Elektronenemission aus dea Berelefeea der Kathode zu verhindern, die mit den Stegen dee Stemergitters ausgerichtet sind· Bisher sind jedoch keine pr&ktiseti verwertbaren Herstellungsverfahren für derartige forratstoatlioden nit einem solchen Fokusaierungsgitterare aligned. Such a kethole was written in the earlier application F 17 64 594.2 of the jtaieltoim -Τ »-. Such cathodes are particularly suitable for electron guns! in linearstrablrollueeii old forkonvergenss and high performance, as the inclusion of a control grid current is greatly reduced "This is because IATI" äaß the grid arrangement in or on OCE cathode äasia contributes 0 to focus through the aligned openings dea Steuergittera the electron = radiate "In addition, contributes to prevent ias Eotasaiergitter role in an electron emission from the cathode Berelefeea dea, the dee to the webs Stemergitters aligned · are However, so far there are no pr & ktiseti usable production processes for such forratstoatlioden nit such Fokusaierungsgitter
Zusaamenfaggunjg^gr Together menfaggunjg ^ gr
Die vorliegende Erfinäung strebt tia aemes ferfaliren zur Herstellung einer konlca¥en9 ¥<irtl©ft©a ¥©3f3?atsfeatliofle an, in der eine Gitteranordaung vorgeaelen ist.The present invention aims at tia aemes ferfaliren for the production of a konlca ¥ en 9 ¥ <irtl © ft © a ¥ © 3f3? Atsfeatliofle in which a grid arrangement is provided.
Gemäß einem Merkmal der vorliegenden Erfindung wird in der konkaven Stirnfläche eines Yonatstethodenrohstückes ein futenmuster mit mehreren Zellen ausgeTbiläet v in dem eine Gitteran™ Ordnung mit mehreren Öffnungen angeordnet werden kann9 und In der konkaven Stirnfläche des Eathod@nrohsttt@kee wird eine Anordnung aus vertieften Facetten ausgebildet, wobei diese Facetten durch die einzelnen Zellen den lateiimuaters mit mehreren Zellen begrenzt werden»According to a feature of the present invention a Yonatstethodenrohstückes a futenmuster v ausgeTbiläet with several cells in the concave face in which a Gitteran ™ order can be arranged with a plurality of openings 9 and in the concave face of the Eathod @ nrohsttt @ kee is an array of recessed facets formed, whereby these facets are limited by the individual cells the lateiimuaters with several cells »
Vorzugsweise werden die Hüten in der konkaven Stirnfläche des Kathodenrohstückee eingefräst.Preferably, the hats are in the concave face of the Milled cathode blanks.
Bs kann jedoch ebenso swecküädig nein, da® ÜntaiORteter «heroisch in dl« konkav· Stirnfläche am foi&odei&rohetitek«© oimstiätzen.B's can, however, just as swecküädig no, because ÜntaiORteter «heroic in dl« concave face on foi & odei & rohetitek «© oimstiätz.
BAD ORIGINALBATH ORIGINAL
009884/1476009884/1476
In gewissen Fällen kann es gleichfalle τorteilhaft sein, das Hutenauster nit Hilfe einer elektrischen Entladung auszubilden, wobei die Entladangeelektrode ein Master aufweist, das wenigstens mit eines Teil des auszubildenden ffutennusters übereinstimmt.In certain cases it can also be advantageous to form the hat oyster with the aid of an electrical discharge, the discharge range electrode having a master, that with at least part of the groove pattern to be formed matches.
Im folgenden soll die Erfindung näher anhand von in der Zeichnung dargestellten Vortragsweisen Ausführungsbelspielen erläutert werden. In der Zeichnung zeigen:In the following, the invention will be explained in more detail with reference to the modes of presentation shown in the drawing. In the drawing show:
Flg. 1 einen Tel!langeschnitt durch eine Elektronenkanone, die ( nach den erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt ist,Flg. 1 is a Tel! Long section through an electron gun is the (according to the method of this invention prepared
führungBformen, wobei das dargestellte Detail dee Teil der in Flg. 1 gezeigten Anordnung entspricht, der durch die Linien 2-2 und 4-4 eingekreist ist,Guide forms, the detail shown being the part the one in Flg. 1 corresponds to the arrangement shown circled by lines 2-2 and 4-4,
Fig. 3 und 5 vergrößerte Detailansichten von Teilen der Flg. und 4, die alt den Linien 3-3 bzw· 5-5 eingekreist sind,3 and 5 enlarged detailed views of parts of the Flg. and 4, which are circled along lines 3-3 and 5-5 respectively,
Arbeitsablauf s, in des ein erfindungegemäßes Verfahren rar Herstellung von Vorratskafhoden dargestellt ist,Workflow s in which a method according to the invention rar production of cafeteria is shown,
Fig. 7 ein Fließschema in Blockbilddarstellung zur Erläuterung eines Kathodenherstellungsverfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung, "7 shows a flow chart in a block diagram for the purpose of explanation of a cathode manufacturing process according to the present invention, "
Fig. 8 ein Fließschema in Blockbllddarstellung, in der best imate Schritte eines Verfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung dargestellt sind, und8 shows a flow diagram in block form, in which the best imate steps of a method according to the present invention Invention are shown, and
Fig. 9 eine Schnittansicht eines Werkzeuges einer elektrischen Entladungsmaschine, in der dargestellt ist, wie diese Maschine bei der Durchführung eines erfindungsgemäSen Verfahrens verwandt wird.9 is a sectional view of a tool of an electrical Discharge machine, in which it is shown how this machine in the implementation of an inventive Procedure is used.
In Fig. 1 ist eine Elektronenkanone 1 dargestelltv die einem konkaven Vorratskathodeneaitter 2 verwendet· Der Slitter weistIn Fig. 1, an electron gun 1 is shown a concave v Vorratskathodeneaitter 2 · The Slitter used comprises
0098 84/147.6 BM) okqinal0098 84 / 147.6 BM) okqinal
eine - Form auf« wie sie in der oben gesamten USA-Patentanmeldung
650 893 beschrieben let, und ©r besteht kurz gesagt
aus einem kugelförmigen Abschnitt ans einem porösen Wolfram, das mit Barium imprägniert istv und in der konkaven Stirnseite
4 des Emitters 2 eine! Betaere» in einer dichten An»
Ordnung angeordnete» vertiefte Faeettem 3 ausgebildet.
der konkaven Stirnseite 4 dee Emittera 2 ist eiae Im fier Mitte
mit einer öffnung verseheae
konkaven Oberfläche 4 ist eina - shape on «as described in the entire US patent application 650 893 above, and © r consists briefly of a spherical section on a porous tungsten, which is impregnated with barium v and in the concave face 4 of the emitter 2 a ! Betaere »in a tight» arrangement »recessed facets 3 formed. The concave face 4 of the emitter 2 is provided with an opening in the middle
concave surface 4 is a
Steuergitter 6 aageorimet, Äas &οέ IJqtm der feontewem Oberfläche
4 angepasst ist» BIc
sind vorzugsweise heasagooal^ w&ü
Facetten 3 auegerlelrte'i9 αΛο älo !Sitte» äos ©ItteröffnsaBgea 7
fällt mit eimer EleMromomflugtelaa jaooMie»» ilo v®a äer Mitte
der Etteette 3 auegeht« BIe J?a@ottoa 3 kSjaaoa Ineoisfösmli
hexagonal lsegrenBt ooln wa& JmgolMsM.Q Isoifewo
beeitsezit die einem suooeiitlisLi IzloikiosOni BstiZias ___
weisen ale der ErtaEsu^oraalmD £te ülo gooomi-o Seoulsavo
flache 4.Control grid 6 aageorimet, Äas & οέ IJqtm of the feontewem surface 4 is adapted »BIc
are preferably heasagooal ^ w & ü
Facets 3 auegerlelrte'i 9 αΛο AELO! Custom "AEOS © ItteröffnsaBgea 7 coincides with bucket EleMromomflugtelaa jaooMie» »ilo v®a OCE mid Etteette 3 auegeht" Bie J? A @ ottoa 3 kSjaaoa Ineoisfösmli hexagonal lsegrenBt ooln wa & JmgolMsM.Q Isoifewo besides the one suooeiitlisLi IzloikiosOni BstiZias ___ wise ale der ErtaEsu ^ oraalmD £ te ülo gooomi-o Seoulsavo flat 4.
Auf ilie iienkairo FlSetio 4 floo ΕπΙ-δΰοΐΌ 2 lot oia
gitier 8f iaa oiiae Ia woooatli©kon
Stötterrgltter 6 at1 AfGIaSs0 fezrrö o-ofGooo^c^» ^Q-ß ölo
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Stötterrgltter 6 at 1 AfGIaSs 0 fezrrö o-ofGooo ^ c ^ "^ Q-ß ölo de" folraiiolorfilttcipa B aiu floa Ot> ml £ © lios! I S-bO {jfeoilon äoo lattice Lr & w: q triefe bot olael Έ ^ ο Volmoolo ^ ßlttös S io "ö ίiij.Te ι Ij. Icr iraÄairen OTjoz? £ lCi © ia.o 4 öogj eel! JueI Jcsa Cl ^ röOL f, oi
Gitter 8 tuna oo Gotmluoa ooln0 floß co nloM Di^ Soia la DerQhxuBg a^efetg cioi? oo Izinsio ο'δυο. <SlTX?öTä. Ki'feoso äa <üonLattice 8 tuna oo Gotmluoa ooln 0 raft co nloM Di ^ Soia la DerQhxuBg a ^ efetg cioi? oo Izinsio ο'δυο. <SlTX? ÖTä. Ki'feoso äa <üon
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Jftti^n ibefeefeJft eeia Siooc Loiüon
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'Dai! folßifisiisrglttoF ülont OGCn0 cllo olncolsioa
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fokueeioron» JoB öle ±3 cioacQ'^läction 3ΜΙ©ΐ2'δJftti ^ n ibefeefeJft eeia Siooc Loiüon
foraen clai aeiir ia eisffiolaoffi fin Qca Γ1β ο 2 Mo 'Dai! folßifisiisrglttoF ülont OGCn 0 cllo olncolsioa by äie emtsprecfeccüo ΰ ^ ΣΣΠβ 1 to cicn fokueeioron »JoB oils ± 3 cioacQ '^ läction 3ΜΙ © ΐ2'δ
6 a© zm CJOS-JOa ο6 a © zm CJOS - JOa ο
BAD ORIGINALBATH ORIGINAL
Das Fokuseiergitter 8, das z.B. aus Molybdän besteht, ist mit einem eine Elektronenemission verhindernden Material, wie etwa Kohlenstoff, Titan, Zirkon, Iridium usw. überzogen, um zu verhindern, daß ein Strom von dem Steuergitter 6 abgefangen wird, da der Überzug eine Emission aus solchen Teilen der Kathodenoberfläche 4 unterbindet, deren Elektronenflugbahnen auf die Stegteile des Gitters 6 auftreffen wurden.The focusing grating 8, which is made of molybdenum, for example covered with an electron emission preventing material such as carbon, titanium, zirconium, iridium, etc., to prevent a current from being intercepted by the control grid 6 as the coating emits from such parts of the cathode surface 4, the electron trajectories of which would impinge on the web parts of the grid 6.
Nachdem die Strahlen durch die öffnungen 7 hindurchgelaufen sind, vereinigen sie sich zu einem einzigen Strahl, der durch die Hittelöffnung in der Anode 5 hindurchläuft. Entsprechend einem typischen Beispiel erzeugt die Elektronenkanone 1 einen Elektronenstrahl von 1 Ampere bei 10 kV mit einer Mikroraumladungskonstante von 1,0 und einer Kathodenbelaetungsstromdichte von 1,2 Ampere pro cm . Es wurden 0,8 # des Strahlenstromes von dem Gitter aufgefangen*After the rays have passed through the openings 7 they combine to form a single jet which passes through the central opening in the anode 5. Corresponding In a typical example, the electron gun 1 generates an electron beam of 1 ampere at 10 kV with a microspace charge constant of 1.0 and a cathode load current density of 1.2 amps per cm. 0.8 # of the beam current was captured by the grid *
In den Pig· 2 und 3 ist eine Ausführungeform der Torratskathode2 dargestellt. Bei dieser Ausführungeform wird das Fokussiergitter 8 an seinem Rand von einer verhältnismäßig schweren röhrenförmigen, thermisch leitenden Halterung 11 gehalten, die zur Abführung der Wärme und zur Kühlung des Gitters 8 dient. Das Gitter 8 wird so gehalten, daß es nicht in Berührung mit dem Hutenmuster 9 steht, um eine Wlnieableltung von der Kathode 2, die normalerweise im Bereich von 900 bis 11000C arbeitet, auf das Gitter 8 zu unterbinden. Diese Anordnung, bei der keine Berührung zwischen der Kathode und dem Gitter besteht, dient auch dazu, eine Wanderung der Bariumimprägnierung von der Kathode 2 auf das Gitter 8 zu unterbinden. Gemäß einem typischen Beispiel besitzen die Hüten 9 eine Breite von 0,040 cm und eine liefe von 0,012 cm, und , das Gitter 8 weist eine Stegbreite von 0t025 ca und eine Tiefe in Riohtung des Stahls von 0,0225 cm auf, und es befindet sich von des Boden der Säten 9 in einem Abstand von 0,0025 em.In Figures 2 and 3, an embodiment of the gate cathode 2 is shown. In this embodiment, the focusing grating 8 is held at its edge by a relatively heavy tubular, thermally conductive holder 11, which serves to dissipate the heat and to cool the grating 8. The grating 8 is held so that it is not in contact with the Hutenmuster 9 to a Wlnieableltung of the cathode 2, which normally operates in the range of 900 to 1100 0 C to suppress the grating. 8 This arrangement, in which there is no contact between the cathode and the grid, also serves to prevent the barium impregnation from migrating from the cathode 2 to the grid 8. According to a typical example, the hats 9 have a width of 0.040 cm and a supplying of 0.012 cm, and the grating 8 has a web width of 025 ca 0 t and a depth in the steel Riohtung of 0.0225 cm, and it is from the bottom of the seed 9 at a distance of 0.0025 em.
9884/U769884 / U76
BAD CRiGlWALBAD CRiGlWAL
In den Pig. 4 und 5 let Torratekathode 2 dargestellt» bei Äor dem Kathodenkiirpei? überIn the pig. 4 and 5 let torrate cathode 2 shown »at Äor the Kathodenkiirpei? above
Boden der Inten 9 «ad der oaüoeomiem FlSAo ios ©itters 8 gehalten wird· Heeigaot© EStetöffe mofGsoea Ifelyfeääa«=Bottom of the Inten 9 «ad of the oaüoeomiem FlSAo ios © itters 8 is held · Heeigaot © EStetöffe mofGsoea Ifelyfeääa «=
In Fig. 6 ist ein ]flioSo©lieo3 "tojo oi®In Fig. 6 is a] flioSo © lieo3 "tojo oi®
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ratskathodenrohsiüelseo 2Ό lao otüQ qtso g>©i?ioon Uolfeoa 1 der mit eine» letaalfraron 1bct7o ocstnloäfeci^osi ED.tosiolo α£ο lupf er oder KunetBtofffic^iScl^iios?^ iot0 im oiaon sehritt (a) Baten 9 in olmca notecolläßoa &oiag@3sal(ioratskathodenrohsiüelseo 2 Ό lao otüQ qtso g> i ©? ioon Uolfeoa 1 with a "letaalfraron 1bct7o ocstnloäfeci ^ osi ED.tosiolo α £ ο lupf he or KunetBtofffic ^ ^ ISCL IIOS? ^ iot 0 in oiaon sehritt (a) Baten 9 in olmca notecolläßoa & oiag @ 3sal (io
eiogelaeeeas θοΙ&οΙ ilooeo Ita-öoEEBo-feos1 Di-Oeiogelaeeea s θοΙ & οΙ ilooeo Ita-öoEEBo-feos 1 Tue - O
iea Stemerglttora 6 aaä üoa imatos üoo PoImooiQiOlttoie1 8 einstiantf äae in äc5m ISffl^oa 9 Qisgo©3?eliiicrö uosäom o@ll0 BI© Muten 9 können durch ©Im©» ©1äCDio@lkoia α%3Χ7@£ΌΟ3θ§0 ämEi©fe Eis= fräsen oder durch eine Boasisol'iiiüaß taittolo oümeE1 IEA Stemerglttora 6 ãAä üoa imatos üoo PoImooiQiOlttoie 1 8 einstiantf ÄÄ in äc5m ISffl ^ oa 9 Qisgo © 3? eliiicrö uosäom o @ ll 0 BI © mute 9 can © In © »© 1äCDio @ lkoia α% 3Χ7 @ £ ΌΟ3θ§ 0 ämE i © fe ice = mill or through a Boasisol'iiiüaß taittolo oumeE 1
Entladung hergestellt worioa» aao toDischarge made worioa »aao to
unten anhaiad äer Fig., 1 IbIo 3 tossteloboa wosiom s@llcbelow anhaiad äer Fig., 1 IbIo 3 tossteloboa wosiom s @ llc
Hachiea das Glttemastei?Hachiea the Glttemastei?
werden in einen Terfatec in jeder der Zellen des fctöassiaters tiefungen 3 tmvten eattmdoZ oder durch eine Bearbeitung ladung hergestellt·are made in a Terfatec in each of the cells of the fctöassiaters 3 tmvten eattmdoZ or by a processing charge
Xn eins« Terfa'hreneaeltiapi'feife (©) trftai Siae l'etaESoiepgi'ö'feoff 8 emt—Xn eins «Terfa'hreneaeltiapi'feife (©) trftai Siae l'etaESoiepgi'ö'feoff 8 emt—
weder in einer die üttea oben anhand der ?lg» 2 «si 3 toatetelotom iwiet neither in one of the üttea above using the? lg »2« si 3 toatetelotom iwie t
BAD ORIGINAL 0 U 1J H iU / H 7 6BAD ORIGINAL 0 U 1 JH iU / H 7 6
die Nuten berührenden Stellung, wie es oben anhand der Fig. 4 und 5 beschrieben wurde, in des Butenmuster 9 angeordnet.the position touching the grooves, as described above with reference to FIG. 4 and 5, arranged in the butene pattern 9.
In der Fig. 7 ist das allgemeine in Fig. 6 beschriebene Verfahren näher anhand eines Verfahrene beschrieben, bei des eine chemische itsung dasu verwandt wird, in des Kathodenrohstück 2 das gitterförsige Muster der Buten 9 auszubilden.In FIG. 7, the general method described in FIG. 6 is described in more detail using a method in which one chemical treatment that is used in the cathode blank 2 to form the grid-like pattern of the butes 9.
Im eineeinen wird in einer Arbeitsstufe (a) auf der konkaven Oberfläche 4 des Xathodenrohetttokes 2, etwa slt Hilfe eines Klebemittels oder durch Festklemmen,eine Gittermaske befestigt, die im wesentlichen gleich des Gitter 8 ist und in der Tat durch " das Gitter 8 selbst gebildet werden kann. In eines Verfahreneschritt (b) wird auf die konkave Oberfläche 4 des Kathodenrohstückes 2 durch die öffnungen in der Gittersaske ein säureresiatenter Esuleionsttbersug aufgebracht, der etwa aus des A-Z 111 Fotoresistübersug bestehen kann, der von der firsa Shipley Company hergestellt wird. In des Verfahrenssohritt (c) wird die Glttersaske entfernt, wodurch das freiliegende Gittermuster auf der Oberfläche 4 des Kathodenrobatückes verbleibt.In one work step (a) on the concave surface 4 of the Xathodenrohetttokes 2, about with the help of a Adhesive or by clamping, a grid mask attached, which is essentially equal to the grid 8 and in fact by " the grid 8 itself can be formed. In a process step (b), an acid-resistant Esuleionsttbersug is applied to the concave surface 4 of the cathode blank 2 through the openings in the grid mask, which is approximately from the A-Z 111 photoresist overlap, which is provided by firsa Shipley Company is manufactured. In the process step (c) the smoothing mask is removed, whereby the exposed grid pattern remains on the surface 4 of the cathode piece.
In dem Verfahrenssohritt (d) wird die Oberfläche 4 sit eines chemischen Säureät«mittel, wie etwa Ealiusferrosyanid,und eines Ätzmittel behandelt, us das Butexsmeter 3 in die konkave Oberfläche 4 einsuätsen. In «Ines Vwrfahrenseeliritt (e) werden in | der Oberfläche 4, wie es oben beschrieben wurde, Vertiefungen angebracht. In eines Verfahrenseohrltt (f) wird das dehnbare Imprägniermittel für den porösen Wolframkörper etwa durch einen chemischen itsvorgang oder durch eine Aufhelsung, bei der das Imprägniermittel ausgetrieben wird, entfernt.In the process step (d), the surface 4 is treated with a chemical acid agent, such as Ealius ferrosyanide, and an etchant, so that the butex meter 3 is inserted into the concave surface 4. In «Ines Vwrfahrtseeliritt (e) are in | the surface 4, as described above, provided with recesses. In one process, the expandable impregnating agent for the porous tungsten body is removed, for example, by a chemical process or by a treatment in which the impregnating agent is expelled.
In einem Verfahrenesohrltt (g) wird der poröse YolfraskUrper mit eines Elektronen emittierenden Material, wie etwa Barim, nach eines herkömmlichen Verfahren imprägniert. In eines Verfahreneschritt (h) wird das Gitter 8 sit seines ein« Elektronenemission verhindernden Überzug in des Gittermueter der Buten 9 entweder so angeordnet, dmj es die Buten nicht berührt» wie"esIn one process, the porous tungsten body with an electron-emitting material such as Barim, impregnated by a conventional method. In a method step (h), the grid 8 is placed in its electron emission-preventing coating in the grid pattern of the butene 9 either arranged in such a way that it does not touch the butes "like" it
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oben anhand clef flg. 2 und 3 besölirieben wurde, oder so, daß es die Hüten berührt, trie @s oben anhand der Fig. 4 und beschrieben wurde» Der Yerfahrenseehritt (β), bei dem die ' Vertiefungen ausgebildet werten,, lana entweder ausgeführt werden ,bevor das Gitter 8 eingebaut istfoier nachdem das Gitter 8 eingebaut worden ist« Wenn iieser Arbeitsvorgang ausgeführt wird» nachdem ias Gifter 8 angeordnet; »orden ist, wlvü das ¥erkJE®ug sur Herstellung eimer Yertieftm« lediglieb dureh die entsprechende Öffnung in ä&m öiitf» 8above with reference to clef fl. 2 and 3, or so that it touches the hats, trie @s above with reference to FIG be carried out before the grille 8 is installed f or after the grille 8 has been installed «When this operation is carried out» after the gifter 8 is arranged; »Order is, wlvü the ¥ ErkJE®ug sur production bucket Yertieftm« single through the corresponding opening in ä & m öiitf »8
In der flg. 8 eiad Me AAeiieeelwitte eiaes Verfahrens wir Herstellung iee !Stetere der Buten 9 la dem Sathodenrohstlek 2 iargeotellt* MslbeiioiiÄere essoteom il© Arbeitsschritte (a-d) tie AAelteeefceitte (a-i) 1» <äea ia Pig· 7 geseigten AAelteafeleitf» Im fle» Arlieiteeeteitt (α) wird ebene© wie IeI ttae JkÄolioeeteltt (e.) dec Im H geetellten irbelteverfatacsM o&ao ©£tto3a»efeo am Ion rotoetielc 2 befestigt· M fiean Aeboiusseetel-fet {fe) wtei ämseek die Meter im den· ditteseaal» ein Εΐο?Ιΐ1βηΐϊ!ββ£ι»1)θ%©1ί ©&os ola© larbe aafgebracht y so «taS iurcsfe ftas aiebt ralt Eas?te Stegpaater la, der mit feste CborL©camoii ΙΜβΐ&ο toes GitterHOster fite il© natea 9 aasgotelöet witeüo Sa ica sobxltt (c) wiM die GiStcCTOdEso GftßöiBOBisseißo oo ScD äloIn the fl »Arlieiteeeteitt (α) is flat © like IeI ttae JkÄolioeeteltt (e.) Dec In the H geetellt irbelteverfatacsM o & ao © £ tto3a» efeo attached to the ion rotoetielc 2 · M fiean Aeboiusseetel-fet {fe) wittesea im ämseek die a Εΐο? Ιΐ1βηΐϊ! ββ £ ι »1) θ% © 1ί © & os ola © larbe aaf brought y so« taS iurcsfe ftas aieben ralt Eas? te Stegpaater la, the with fixed CborL © camoii ΙΜβΐ & ο toes lattice HOster fite il © natea 9 aasgotelöet witeüo Sa ica sobxltt (c) wiM die GiStcCTOdEso GftßöiBOBisseißo oo ScD älo
In iee JkÄei»aJCta?2"to5 (Q) üfcul (QiLo IseaiBav© ^sosSMlQho 4 1111» «l'»r yjAleiaseMno ca'üfcrG Qu^ inioM r&fö I?o2%o JLfIiJ am d«8 getiltesA'ifCa ϋΐ'υυοττηαΰο^ϋ oissoiSrClo^o Εοσ? T#i«falirtm*iiiMc"i£ Lloiüa üocuCiLto oio tcd fln Sn l^lßo ? 7uz. iiifer qo In iee JkÄei »aJCta? 2" to5 (Q) üfcul (QiLo IseaiBav © ^ sosSMlQho 4 1111 »« l '»r yjAleiaseMno ca'üfcrG Qu ^ inioM r & fö I? O2% o JLfIiJ am d« 8'ifCa'ifCa υυοττηαΰο ^ ϋ oissoiSrClo ^ o Εοσ? T # i "falirtm * iiiMc" i £ Lloiüa üocuCiLto oio tcd fln Sn l ^ LSSO? 7uz. iiifer q o
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badbath
dee In Flg. 7 gezeigten Terf ahrens dadurch ersetzt, daß das Haster für die Buten 9 alt Hilfe eines elektrischen Entladungsvorganges in der konkaven Oberfläche 4 des Xathodenrohstüekes 2 ausgebildet werden. Sie elektrische Entladungselektrode 15 besitzt eine kugelförmig gebogene Oberfläche 16, die entsprechend der Oberfläche 4 des Kathodenrohstüelces 2 ausgebildet ist· Auf der Oberfläche 16 der Elektrode 15 ist ein erhabenes Gitter» muster 17 ausgebildet, das dem Gittermuster der Buten 9 entspricht, die in dem Xathodenrohstück 2 ausgebildet werden sollen. Bas Elektrodentrerkzeug 15 zur Ausbildung der elektrischen Entladung wird sodann gegen die Oberfläche 4 des ZathodenrohstUekes 2 bewegt, damit sich in diese Oberfläche das Gittermuster 9 einfressen kann. Der übrige Terfahrensablauf 1st derselbe wie bei dem oben anhand der Pig. 7 beschriebenen Verfahren.dee In Flg. 7 is replaced by the fact that the Haster for the butene 9 old help of an electrical discharge process in the concave surface 4 of the Xathodenrohstüekes 2 be formed. You electrical discharge electrode 15 has a spherically curved surface 16, the corresponding of the surface 4 of the cathode blank 2 is formed · On the surface 16 of the electrode 15 is a raised grid » Pattern 17 is formed, which corresponds to the grid pattern of the butene 9 to be formed in the Xathode blank 2. The electrode removal tool 15 for forming the electrical discharge is then pressed against the surface 4 of the ZathodenrohstUekes 2 moves so that the grid pattern 9 can eat into this surface. The rest of the procedure is the same as in the one above based on the Pig. 7 procedure.
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