DE20220125U1 - NC-gesteuerte Belichtungseinrichtung für lichtempfindliche Materialien - Google Patents

NC-gesteuerte Belichtungseinrichtung für lichtempfindliche Materialien

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DE20220125U1 DE20220125U DE20220125U DE20220125U1 DE 20220125 U1 DE20220125 U1 DE 20220125U1 DE 20220125 U DE20220125 U DE 20220125U DE 20220125 U DE20220125 U DE 20220125U DE 20220125 U1 DE20220125 U1 DE 20220125U1
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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Description

Der Beschreibungstext wurde nicht elektronisch erfaßt
Der Beschreibungstext wurde nicht elektronisch erfaßt

Claims (6)

1. NC-gesteuerte Belichtungseinrichtung für lichtempfindliche Materialien, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung aus einem Belichtungskopf und einer Tages­ lichtkassette besteht und auf einer Fräs-/Bohranlage/Werkzeugmaschine eingesetzt, die Funktionen eines Photoplotters/Belichters ausführt und der Belichtungskopf im Direktkontakt mit dem lichtempfindlichen Material verfährt.
2. NC-gesteuerte Belichtungseinrichtung für lichtempfindliche Materialien nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß damit verschiedene lichtempfindliche Materialien belichtet werden können.
3. NC-gesteuerte Belichtungseinrichtung für lichtempfindliche Materialien nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß für die Belichtungsbreite verschiedene röhrenförmige Blenden eingesetzt werden können.
4. NC-gesteuerte Belichtungseinrichtung für lichtempfindliche Materialien nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß für die Verfahrwege in drei Dimensionen Dateien in einer gebräuchlichen Grafiksprache abgearbeitet werden.
5. NC-gesteuerte Belichtungseinrichtung für lichtempfindliche Materialien nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Belichtungsbahnen kontinuierlich und nicht pixelförmig belichtet werden.
6. NC-gesteuerte Belichtungseinrichtung für lichtempfindliche Materialien nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß für die Belichtung Lichtquellen mit verschiedenen Wellenlängen eingesetzt werden können.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008018763A1 (de) * 2008-04-14 2009-11-05 Kristin Bartsch Lithografiebelichtungseinrichtung
DE102008044456A1 (de) * 2008-08-22 2010-02-25 Dr. Granitzki Beteiligungs- Verwaltungs-Gesellschaft Mbh Verfahren zur Herstellung einer Leiterplatte

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DE102008018763A1 (de) * 2008-04-14 2009-11-05 Kristin Bartsch Lithografiebelichtungseinrichtung
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