DE202019102081U1

DE202019102081U1 - synthesis plate

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Publication number: DE202019102081U1
Application number: DE202019102081.4U
Authority: DE
Original assignee: Thermo Fisher Scientific Geneart GmbH
Current assignee: Thermo Fisher Scientific Geneart GmbH
Priority date: 2019-04-11
Filing date: 2019-04-11
Publication date: 2019-10-18
Anticipated expiration: 2029-04-12

Abstract

Platte für Festphasensynthese auf einer Syntheseplattform mit einer Oberseite (a), einer Unterseite (b) und einem unteren Rand (c), dadurch gekennzeichnet, dass sie einen äußeren Randbereich (d) und einen inneren Wellbereich (e) aufweist,wobei der äußere Randbereich (d) ein Außenmaß (f × g) zwischen ungefähr 166 mm × 127 mm und ungefähr 142 mm × 104 mm hat und zwei unterschiedlich große zylindrische Durchbrüche (h) und (i) zur lagerichtigen Positionierung aufweist, welche diagonal auf der Platte angeordnet sindund der innere Wellbereich (e) 8 Reihen in 12 Spalten mit Vertiefungen (k) in einem Rastermaß von 9 mm aufweist, mittig im äußeren Randbereich (d) angeordnet ist und ein Außenmaß (1 × m) zwischen ungefähr 108 mm × 72 mm und ungefähr 102 mm × 66 mm hat,die Unterseite (b) Aussteifungen (n) aufweist,und der untere Rand (c) eine Dichtfläche zwischen dem inneren Wellbereich und dem äußeren Randbereich bereitstellt, die geeignet ist, die Unterseite des inneren Wellbereichs von der Umgebung abzudichten, wenn die Platte auf einem Syntheseinstrument befestigt ist.Plate for solid phase synthesis on a synthesis platform with a top (a), a bottom (b) and a bottom edge (c), characterized in that it has an outer edge region (d) and an inner wave region (e), wherein the outer edge region (d) has an outer dimension (f × g) between about 166 mm × 127 mm and about 142 mm × 104 mm and has two differently sized cylindrical openings (h) and (i) for positionally correct positioning, which are arranged diagonally on the plate and the inner corrugated region (e) has 8 rows in 12 columns of indentations (k) of 9 mm pitch, centered on the outer periphery (d), and an outer dimension (1 x m) of between about 108 mm x 72 mm and about 102 mm × 66 mm, the underside (b) has stiffeners (n), and the lower edge (c) provides a sealing surface between the inner corrugated region and the outer peripheral region which is suitable for the underside of the inner n Well area of the environment seal when the plate is mounted on a synthesis instrument.

Description

ZusammenfassungSummary

Die Erfindung betrifft eine Multi-Well-Platte, die in einem Syntheseinstrument angeordnet werden kann. Die Multi-Well-Platte umfasst einen inneren Wellbereich und einen äußeren Randbereich, der den inneren Wellbereich umgibt.The invention relates to a multi-well plate which can be arranged in a synthesis instrument. The multi-well plate includes an inner well region and an outer peripheral region surrounding the inner well region.

Stand der TechnikState of the art

Multi-Well-Platten, auch Mikrotiterplatten genannt, werden für die unterschiedlichsten biologischen oder biochemischen Verfahren eingesetzt. Typische Anwendungen sind PCR, Kultivierung von Zellen oder das Screening von molekulargenetischen und biochemischen Reaktionen. Durch die große Anzahl der Vertiefungen (engl.: wells) und der Verwendung gleicher Typen eignen sich Multi-Well-Platten für Anwendungen mit großer Probenanzahl auf automatisierten Plattformen.Multi-well plates, also called microtiter plates, are used for a wide variety of biological or biochemical processes. Typical applications are PCR, cell culture or the screening of molecular genetic and biochemical reactions. Due to the large number of wells and the use of the same types, multi-well plates are suitable for applications with large numbers of samples on automated platforms.

Die meist rechteckigen Multi-Well-Platten bestehen in der Regel aus Kunststoff (häufig Polystyrol, manchmal auch Polyvinylchlorid), für sehr spezielle Anwendungen auch aus Glas. Sie enthalten viele voneinander isolierte Vertiefungen (wells), die in normierten Reihen und Spalten angeordnet sind und als Reaktionsräume dienen. Die genauen Abmessungen (Länge×Breite×Höhe) betragen gemäß ANSI-Standard auf Empfehlung der Society for Biomolecular Screening (SBS) 127,76 mm × 85,48 mm × 14,35 mm.The usually rectangular multi-well plates are usually made of plastic (often polystyrene, sometimes polyvinyl chloride), for very special applications also made of glass. They contain many mutually isolated wells (wells), which are arranged in normalized rows and columns and serve as reaction spaces. The exact dimensions (length × width × height) are 127.76 mm × 85.48 mm × 14.35 mm according to the ANSI standard recommended by the Society for Biomolecular Screening (SBS).

Es gibt eine Vielzahl an Formaten, die alle auf dieser Grundfläche beruhen. Am häufigsten ist das 96-well Format mit 8 Reihen und 12 Spalten, wobei jedes Well i.d.R. ein Volumen von 0,1-0,3 Milliliter fasst. Für spezielle Anwendungen sind auch variable Höhen mit entsprechendem Volumen erhältlich (z.B. deepwell-Platten).There are a variety of formats, all based on this base. The most common is the 96-well format with 8 rows and 12 columns, each well i.d.R. a volume of 0.1-0.3 milliliters. For specific applications, variable heights of appropriate volume are also available (e.g., deepwell plates).

Die üblichen Multi-Well-Platten weisen nur eine Öffnung auf. Der Boden der Vertiefungen kann verschiedene Formen haben: F-Boden (Flachboden), C-Boden (Flachboden mit minimal abgerundeten Ecken), V-Boden (konisch zulaufender Boden) und U-Boden (U-förmige Vertiefung).The usual multi-well plates have only one opening. The bottom of the indentations can have different shapes: F-bottom (flat bottom), C-bottom (flat bottom with slightly rounded corners), V-bottom (tapered bottom) and U-bottom (U-shaped recess).

Die Befüllung geschieht manuell üblicherweise mit Mehrkanalpipetten, im Hochdurchsatz meistens mit Pipettierrobotern.The filling is done manually usually with multichannel pipettes, in high throughput mostly with pipetting robots.

Multi-Well-Platten für die Verwendung in der Polymerasekettenreaktion (PCR) werden typischerweise aus einem nicht wärmeleitenden Polymermaterial hergestellt und so dünn wie möglich gestaltet, damit der Thermocycler den Inhalt der Vertiefungen schnell erwärmen und abkühlen kann. Die relativ dünnen Wannenwände neigen jedoch dazu, sich als Reaktion auf die wiederholten thermischen Zyklen zu verformen.Multi-well plates for use in the polymerase chain reaction (PCR) are typically made of a non-thermally conductive polymeric material and made as thin as possible so that the thermal cycler can quickly heat and cool the contents of the wells. However, the relatively thin well walls tend to deform in response to repeated thermal cycling.

WO 2016/094460 und WO 2015/200788 offenbaren verstärkte Multi-Well-Platten. WO 2016/094460 and WO 2015/200788 reveal reinforced multi-well plates.

Die offenbarten Verstärkungselemente verbessern die Steifigkeit und minimieren die Verformung der Multi-Well-Platte, insbesondere die thermisch induzierte Verformung. Die Verstärkungselemente umfassen Rippen oder Streben, die integral an einer Bodenfläche der Multi-Well-Platte ausgebildet sind und eine rechteckige Leiste, die den inneren Wannenbereich von dem äußeren Randbereich trennt.The disclosed reinforcing elements improve the rigidity and minimize the deformation of the multi-well plate, in particular the thermally induced deformation. The reinforcing members include ribs or struts integrally formed on a bottom surface of the multi-well plate and a rectangular bar that separates the inner tub portion from the outer periphery.

In Zusammenarbeit mit den Verstärkungselementen kann der Multi-Well-Plattenrahmen einen oder mehrere Schlitze aufweisen, die die Auswirkungen der Wärmeausdehnung stören und die durch Wärme induzierte Belastung begrenzen. Trotz verstärktem Rahmen entsprechen die äußeren Maße denen einer Standard-96-well Multi-Well-Platte.In cooperation with the reinforcing elements, the multi-well plate frame may have one or more slots that interfere with the effects of thermal expansion and limit heat induced stress. Despite the reinforced frame, the outer dimensions correspond to those of a standard 96-well multi-well plate.

Im Stand der Technik sind auch Multi-Well-Platten bekannt, deren Vertiefungen (wells) zwei Öffnungen aufweisen. Die Öffnung am Boden der Vertiefung kann beispielsweise einen Filter oder eine Fritte enthalten. US 2006/198765 offenbart z.B. eine solche Filter-Multi-Well-Platte. WO 98/22219 offenbart eine Filter-Multi-Well-Platte mit Randbereich und Wellbereich. Die Vertiefungen im Wellbereich umfassen jeweils eine Öffnung mit bekannter, leicht konisch zulaufender „Luer-Tip“ -Form, die zur Anbringung von Standard-Laborspritzen geeignet ist. Speziell gefertigte Oligonukleotide sind zunehmend gefragt, insbesondere als Primer für die PCR-Amplifikation, als Hybridisierungssonden und für die Neusynthese von Genen.In the prior art, multi-well plates are known, the wells (wells) have two openings. The opening at the bottom of the recess may contain, for example, a filter or a frit. US 2006/198765 For example, discloses such a filter multi-well plate. WO 98/22219 discloses a filter multi-well plate with edge region and well region. The wells in the well region each include an opening with a known, slightly tapered "luer-tip" shape suitable for mounting standard laboratory syringes. Specially engineered oligonucleotides are increasingly in demand, in particular as primers for PCR amplification, as hybridization probes and for the new synthesis of genes.

Andere Anwendungen von Peptiden und Oligonukleotiden, einschließlich Mikroarrays und Genbildung, erhöhen diesen Bedarf. Die neue Generation von Nukleinsäure-Syntheseinstrumenten arbeitet daher im Hochdurchsatzverfahren. Other applications of peptides and oligonucleotides, including microarrays and gene formation, increase this need. The new generation of nucleic acid synthesis instruments therefore operates in a high-throughput process.

Die chemische Synthese von DNA wird typischerweise mit einer Reihe chemischer Reaktionen durchgeführt, die nacheinander für jede Monomereinheit (Adenin (A), Guanin (G), Cytosin (C), Uracil (U) und Thymin (T)) wiederholt werden zur wachsenden Kette von DNA hinzugefügt. Die Synthese wird auf einem festen Träger (typischerweise kontrolliertes Porenglas (CPG) oder Polystyrol (PS) initiiert. Die erste Reaktion „entblockt“ oder entschützt die Schutzgruppe am ersten Monomer oder Universallinker und macht sie für die Reaktion mit der nächsten Monomereinheit verfügbar. Die nächste Monomereinheit wird als reaktives Phosphoramidit an das entschützte Ende gekoppelt und nicht umgesetzte Termini werden anschließend acetyliert, um die Ausbreitung von Synthesefehlern in späteren Schritten zu verhindern. Die mit dem Phosphoramidit gebildete neue chemische Bindung wird oxidiert, um eine stabile Verbindung zu schaffen. Ein weiterer Kopplungszyklus beginnt mit dem Entschützen des Endes des verlängerten Strangs.The chemical synthesis of DNA is typically performed by a series of chemical reactions that are repeated sequentially for each monomer unit (adenine (A), guanine (G), cytosine (C), uracil (U) and thymine (T)) to the growing chain added by DNA. The synthesis is initiated on a solid support (typically controlled pore glass (CPG) or polystyrene (PS).) The first reaction "deblocks" or deprotects the first monomer or universal linker and makes them available for reaction with the next monomer unit Monomer unit is coupled to the deprotected end as a reactive phosphoramidite, and unreacted termini are subsequently acetylated to prevent the propagation of synthetic errors in later steps The new chemical bond formed with the phosphoramidite is oxidized to provide a stable compound begins by deprotecting the end of the elongated strand.

Derzeit verfügbare DNA-Syntheseinstrumente mit hohem Durchsatz verwenden diese Zyklen chemischer Reaktionen auf eine von zwei Arten: Entweder der feste Träger wird in einer Säule immobilisiert, und ein System aus Ventilen und Schläuchen wird verwendet, um die geeigneten Reagenzien zuzuführen (z. B. ein Applied Biosystems-Synthesizer, siehe US-Patent Nr. 5,681,534 ) oder ein XY-Positionierungssystem wird verwendet, um eine Multi-Well-Platte mit CPG enthaltenden Wells unter Reagenz-Injektorventilen zu bewegen (z. B. das Mermade-System, siehe US-Pat Nr. 5,368,823 und 5,541,314 ). Den höchsten Durchsatz bieten derzeit Maschinen, die den letzteren Ansatz verwenden. Dabei kommen Multi-Well-Platten zum Einsatz, die eine obere und eine untere Öffnung aufweisen. Die Platten werden in ein System mit Druckdifferenz (z.B. eine Vakuumvorrichtung) eingespannt um Reagenzien nach jedem Syntheseschritt vollständig absaugen zu können. Eine genaue Platzierung der Platten und des Spannrahmens ist erforderlich um ausreichenden Unterdruck zum Absaugen zu erzielen.High throughput DNA synthesis instruments currently available use these cycles of chemical reactions in one of two ways: either the solid support is immobilized in a column and a system of valves and tubing is used to deliver the appropriate reagents (e.g. Applied Biosystems Synthesizer, see U.S. Patent No. 5,681,534 ) or an XY positioning system is used to move a multi-well plate with wells containing CPG under reagent injector valves (e.g., the Mermade system, see U.S. Pat U.S. Pat No. 5,368,823 and 5,541,314 ). The highest throughput is currently offered by machines using the latter approach. This multi-well plates are used, which have an upper and a lower opening. The plates are clamped in a system with pressure difference (eg a vacuum device) to be able to completely aspirate reagents after each synthesis step. Accurate placement of the plates and tenter is required to achieve sufficient negative pressure for suction.

Die vorliegende Erfindung betrifft Multi-Well-Platten mit einem Randbereich, der so ausgestaltet ist, dass er als Spannrahmen und Abdichtung dient und somit das Einsetzen der Platten in das Syntheseinstrument vereinfacht.The present invention relates to multi-well plates having an edge portion adapted to serve as a tenter and seal and thus facilitate insertion of the plates into the synthesis instrument.

Beschreibungdescription

Die Erfindung bezieht sich auf eine Multi-Well-Platte (8 × 12), die in einem Syntheseinstrument angeordnet werden kann (z.B. mindestens 1, 2, 3, 4, 5, 10, 15, 20, bevorzugt vier Multi-Well-Platten gleichzeitig).The invention relates to a multi-well plate (8 × 12), which can be arranged in a synthesis instrument (eg at least 1, 2, 3, 4, 5, 10, 15, 20, preferably four multi-well plates simultaneously).

Die Platte für die Festphasensynthese weist einen inneren Wellbereich (e) und einen Randbereich auf. Der Randbereich (d) auf der Oberseite (a) kann als ebene Auflage für einen Spannrahmen dienen. Der Rand (c) auf der Unterseite (b) ist geeignet, den Bereich unter dem inneren Wellbereich von der Umgebungsatmosphäre abzudichten, wenn die Platte auf dem Syntheseinstrument, oder sonstigen zur Plattform gehörenden Instrumenten, befestigt ist.The plate for the solid phase synthesis has an inner wave region ( e ) and a border area. The border area ( d ) on the top ( a ) can serve as a flat support for a tenter. The edge ( c ) on the bottom ( b ) is adapted to seal the area below the inner well region from the ambient atmosphere when the plate is mounted on the synthesis instrument or other instrumentation associated with the platform.

Zur Plattform gehörende Instrumente sind beispielsweise alle Systeme zur Vor- bzw. Nachbearbeitung der Platten bzw. der synthetisierten Oligonukleotide. Beispiele für diese Instrumente sind Pipettier- und Elutionsroboter.Instruments belonging to the platform are, for example, all systems for pre- and post-processing of the plates or of the synthesized oligonucleotides. Examples of these instruments are pipetting and elution robots.

In einer bevorzugten Ausführungsform weist der untere Rand (c) eine Erhöhung (q) zur Ausbildung eines definierten Dichtbereichs auf.In a preferred embodiment, the lower edge ( c ) an increase ( q ) to form a defined sealing area.

Weiter bevorzugt ragt die Erhöhung (q) um mindestens 0,1 mm, bevorzugt mindestens 0,2 mm über den unteren Rand (c), der die Auflagefläche auf dem Syntheseinstrument darstellt, hinaus und drückt sich beim Fixieren der erfindungsgemäßen Platte in eine Dichtung der Plattenaufnahme. Dadurch wird eine gasdichte Trennung gegenüber der Umgebung gewährleistet und das Syntheseinstrument kann den Durchfluss der entsprechenden Reagenzien optimal steuern.More preferably, the increase ( q ) by at least 0.1 mm, preferably at least 0.2 mm above the lower edge ( c ), which represents the bearing surface on the synthesis instrument, and presses when fixing the plate according to the invention in a seal of the disc holder. This ensures a gas-tight separation from the environment and the synthesis instrument can optimally control the flow of the corresponding reagents.

Die erfindungsgemäße Multi-Well-Platte hat einen äußeren Randbereich (d) mit einem Außenmaß (f × g) zwischen ungefähr 166 mm × 127 mm und ungefähr 142 mm × 104 mm. In einer bevorzugten Ausführungsform beträgt das Außenmaß (f × g) des äußeren Randbereichs (d) 158 mm × 120 mm.The multi-well plate according to the invention has an outer edge region ( d ) having an outer dimension (f × g) between about 166 mm × 127 mm and about 142 mm × 104 mm. In a preferred embodiment, the outer dimension (f × g) of the outer edge region ( d ) 158 mm × 120 mm.

Der äußere Randbereich (d) weist außerdem mindestens zwei unterschiedlich große zylindrische Durchbrüche (h) und (i) auf, welche diagonal auf der Platte angeordnet sind. In einer bevorzugten Ausführungsform sind diese Durchbrüche unterscheidbar, beispielsweise unterschiedlich groß. Diese dienen der lagerichtigen Positionierung. The outer edge area ( d ) also has at least two differently sized cylindrical openings ( H ) and ( i ), which are arranged diagonally on the plate. In a preferred embodiment, these breakthroughs are distinguishable, for example, different sizes. These serve for correct positioning.

In den bevorzugten Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Multi-Well-Platte liegen diese zylindrischen Durchbrüche (h) und (i) links oben und rechts unten auf einem gedachtem zentrischem Rechteck der Größe 142 mm × 104 mm und haben einen Durchmesser von ungefähr 6 mm und ungefähr 8 mm. Die Durchbrüche (h) und (i) dienen der Aufnahme von Zentrierstiften des Syntheseinstruments und der anderen zur Plattform gehörenden Instrumente und gewährleisten eine exakte Positionierung und Ausrichtung der Platte, so dass sie beim Befestigen nicht verrutscht. Die Befestigung der Platte auf dem Syntheseinstrument ist daher einfacher und ein Testen der gasdichten Trennung des Wellbereichs von der Umgebungsatmosphäre nicht zwingend notwendig.In the preferred embodiments of the multi-well plate according to the invention, these cylindrical openings ( H ) and ( i ) at the top left and bottom right on a contemplated centric rectangle of size 142mm x 104mm and have a diameter of about 6mm and about 8mm. The breakthroughs ( H ) and ( i ) are used to accommodate the centering pins of the synthesizer and the other belonging to the platform instruments and ensure accurate positioning and orientation of the plate so that it does not slip during mounting. The attachment of the plate on the synthesis instrument is therefore easier and testing the gas-tight separation of the well region from the ambient atmosphere is not mandatory.

In den bevorzugten Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Multi-Well-Platte weist der äußere Randbereich (d) zusätzlich sechs Befestigungslöcher (L1-L6) für geeignete Befestigungsmittel auf. In der bevorzugten Ausführungsform sind die Befestigungslöcher nach DIN EN ISO 10642 fein zur Aufnahme von Senkkopfschrauben ausgeführt. Die sechs Befestigungslöcher (L1-L6) liegen vorzugsweise auf einem gedachten zentrischen Rechteck der Größe 142 mm × 104 mm.In the preferred embodiments of the multi-well plate according to the invention, the outer edge region ( d ) additionally has six mounting holes (L1-L6) for suitable fasteners. In the preferred embodiment, the mounting holes are after DIN EN ISO 10642 Finely designed to accommodate countersunk screws. The six attachment holes (L1-L6) are preferably located on an imaginary centric rectangle of size 142 mm × 104 mm.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Multi-Well-Platte sind auf den langen Seiten je zwei Befestigungslöcher zentrisch mit einem Abstand von 76,2 mm, und auf den kurzen Seiten je ein Befestigungsloch in der Mitte angeordnet.In a further preferred embodiment of the multi-well plate according to the invention two mounting holes are arranged centrally on the long sides with a distance of 76.2 mm, and on the short sides each have a mounting hole in the middle.

In bevorzugten Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Multi-Well-Platte hat der äußere Randbereich (d) eine Höhe (p) von ungefähr 11,8 bis 12,2 mm.In preferred embodiments of the multi-well plate according to the invention, the outer edge region ( d ) a height ( p ) of about 11.8 to 12.2 mm.

Außerdem kann der äußere Randbereich (d) von außen bis an den Wellbereich (e), aber mindestens bis an ein gedachtes Rechteck von 130 mm × 106 mm heranreichen.In addition, the outer edge area ( d ) from the outside to the well region ( e ), but at least up to a conceived rectangle of 130 mm × 106 mm.

In einer bevorzugten Ausführungsform wird der äußere Randbereich (d) durch eine Wand (s) zur Seite und eine Deckschicht (t) nach oben begrenzt. In der bevorzugten Ausführungsform hat die Wand eine Dicke von ungefähr 1 mm und die Deckschicht ungefähr 1,6 mm.In a preferred embodiment, the outer edge region ( d ) through a wall ( s ) to the side and a cover layer ( t ) is limited to the top. In the preferred embodiment, the wall has a thickness of about 1 mm and the cover layer about 1.6 mm.

Der innere Wellbereich (e) der erfindungsgemäßen Multi-Well-Platte weist 8 Reihen in 12 Spalten mit Vertiefungen (k) in einem Rastermaß von 9 mm auf, die mittig im äußeren Randbereich (d) angeordnet sind. Der innere Wellbereich (e) hat ein Außenmaß (1 × m) zwischen ungefähr 116 mm × 80 mm und ungefähr 109 mm × 73 mm. Es ergeben sich Maße für den inneren Wellbereich (e) von 106,4 × 70,4 mm bei einem Wellaußendurchmesser von 7,4 mm für den Einlassbereich (k1) der Vertiefungen (k), oder 102 × 66 mm bei einem Durchmesser von 3 mm oder 108 × 72 bei einem Durchmesser von 9 mm.The inner wave area ( e ) of the multi-well plate according to the invention has 8 rows in 12 columns with depressions ( k ) in a pitch of 9 mm, the center in the outer edge region ( d ) are arranged. The inner wave area ( e ) has an outer dimension (1 × m) between about 116 mm × 80 mm and about 109 mm × 73 mm. This results in dimensions for the inner wave region ( e ) of 106.4 × 70.4 mm at a Wellaußendurchmesser of 7.4 mm for the inlet area ( k1 ) of the depressions ( k ), or 102 × 66 mm with a diameter of 3 mm or 108 × 72 with a diameter of 9 mm.

In einer bevorzugten Ausführungsform wird der innere Wellbereich (e) an der langen Seite mit 1 bis 12 und an der kurzen Seite mit A bis H gekennzeichnet. Zusätzlich können auf der Oberfläche des Randbereichs (d) ein oder zwei Bereiche für Etiketten oder Beschriftungen markiert sein.In a preferred embodiment, the inner wave region ( e ) is marked 1 to 12 on the long side and A to H on the short side. In addition, on the surface of the edge area ( d ) one or two areas for labels or labels.

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Multi-Well-Platte weisen die Vertiefungen (k) des inneren Wellbereichs (e) einen Einlassbereich (k1) auf der Oberseite, einen Reaktionsbereich (k2) in der Mitte und einen Auslassbereich (k3) an der Unterseite auf.In a further preferred embodiment of the multi-well plate according to the invention, the depressions ( k ) of the inner wave region ( e ) an inlet area ( k1 ) on the top, a reaction area ( k2 ) in the middle and an outlet area ( k3 ) on the bottom.

Der obere Rand des Einlassbereichs (k1) der Vertiefungen liegt bevorzugt 3 bis 3,4 mm über der Oberfläche des Randbereichs (d).The upper edge of the inlet area ( k1 ) of the recesses is preferably 3 to 3.4 mm above the surface of the edge region ( d ).

Der Einlassbereich (k1) der Vertiefungen (k) weist oben bevorzugt einen Innendurchmesser von 6 mm +/- 3 mm auf und verjüngt sich auf den Innendurchmesser des Reaktionsbereichs (k2), während der zylindrische Reaktionsbereich (k2) der Vertiefungen (k) bevorzugt einen Durchmesser von 2,55 mm +0,25/-0,2 mm und eine Höhe von 6,5 mm aufweist.The inlet area ( k1 ) of the depressions ( k ) preferably has an inner diameter of 6 mm +/- 3 mm above and tapers to the inner diameter of the reaction region ( k2 ), while the cylindrical reaction region ( k2 ) of the depressions ( k ) preferably has a diameter of 2.55 mm + 0.25 / -0.2 mm and a height of 6.5 mm.

Der Auslassbereich (k3) der Vertiefungen (k) kann so ausgestaltet sein, dass er einen kontrollierten Fluss der Reagenzien durch den Reaktionsbereich (k2) ermöglicht. Der Fachmann kann den Durchmesser des Auslassbereichs (k3) beispielsweise in Abhängigkeit vom anzulegenden Unterdruck, dem Widerstand der Fritten (o) und/oder Filter in den Vertiefungen (k) und/oder der Viskosität der verwendeten Reagenzien anpassen.The outlet area ( k3 ) of the depressions ( k ) can be configured to provide a controlled flow of reagents through the reaction zone (FIG. k2 ). The expert can determine the diameter of the Outlet area ( k3 ), for example, depending on the applied negative pressure, the resistance of the frits ( O ) and / or filters in the wells ( k ) and / or the viscosity of the reagents used.

In einer besonders bevorzugten Ausführungsform hat der Auslassbereich (k3) der Vertiefungen (k) am unteren Ende einen Innendurchmesser von 1,2 mm.In a particularly preferred embodiment, the outlet region ( k3 ) of the depressions ( k ) at the lower end an inner diameter of 1.2 mm.

Der Auslassbereich ragt nicht mehr als 13,5 mm (r) unter den unteren Rand (c). In einer bevorzugten Ausführungsform ragt der Auslassbereich 9,8 mm unter den unteren Rand (c).The outlet area does not protrude more than 13.5 mm (r) below the lower edge ( c ). In a preferred embodiment, the outlet area protrudes 9.8 mm below the lower edge (FIG. c ).

In einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Multi-Well-Platte sind die Vertiefungen (k) so gestaltet, dass Fritten (o) und/oder Filtermaterial oder ein Sandwich aus Filtermaterial, Syntheseträgermaterial bevorzugt CPG und Filtermaterial am Boden (o2) des Reaktionsbereichs (k2) fixiert werden kann.In a further preferred embodiment of the multi-well plate according to the invention, the depressions ( k ) designed so that frits ( O ) and / or filter material or a sandwich of filter material, synthetic carrier material preferably CPG and filter material on the bottom ( o2 ) of the reaction area ( k2 ) can be fixed.

In weiteren bevorzugten Ausführungsformen enthält jede Vertiefung (k) mindestens ein erstes Filtermaterial (o2) am unteren Ende des Reaktionsbereichs (k2) oberhalb des Auslassbereichs (k3). Außerdem kann der Reaktionsbereich mindestens durch ein zweites Filtermaterial (o1) nach oben abgeschlossen werden.In further preferred embodiments, each well ( k ) at least a first filter material ( o2 ) at the lower end of the reaction zone ( k2 ) above the outlet area ( k3 ). In addition, the reaction region can be characterized at least by a second filter material ( o1 ) to the top.

Die Unterseite (b) der erfindungsgemäßen Multi-Well-Platte weist Aussteifungen (n) auf. In einer bevorzugten Ausführungsform sind die Aussteifungen (n) als ein Gitter aus Leisten / Querstreben ausgestaltet, die diagonal über die gesamte Bodenfläche angeordnet sind. Durch diese Versteifungen kann die Multi-Well-Platte und insbesondere Rand (d), der den inneren Wellbereich vom äußeren Randbereich trennt und eine Dichtfläche darstellt, sich nicht verformen und gewährt eine bessere Passgenauigkeit beim Einsetzen der Platte und eine gasdichte Trennung der beiden Bereiche auch bei Temperatur- und/oder Druckschwankungen.The bottom ( b ) of the multi-well plate according to the invention has stiffeners ( n ) on. In a preferred embodiment, the stiffeners ( n ) is configured as a grid of strips / transverse struts which are arranged diagonally over the entire floor surface. Due to these stiffeners, the multi-well plate and especially edge ( d ), which separates the inner corrugated area from the outer edge area and forms a sealing surface, does not deform and provides a better fit accuracy when inserting the plate and a gas-tight separation of the two areas even with temperature and / or pressure fluctuations.

Bevorzugte Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Multi-Well-Platte sind aus einem für die verwendeten Chemikalien beständigem Material gefertigt. Beispielsweise kann die Platte aus Polycarbonat, Polystyrol, Polypropylen, Polyvinylchlorid, Polyethylenterephthalat, Cycloolefinen Polysulfon, Polyethylen, Polyethersulfon, Polytetrafluorethylen, Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat, Acrylnitril-PVC-Copolymer, Polystyrol / Acrylnitril-Copolymer, Polyvinylidenfluorid, Glas, Metall, Siliciumdioxid oder Kombinationen davon gefertigt werden, je nachdem welche zusätzlichen Anforderungen, wie beispielsweise thermoplastische Formbarkeit, optische Transluzenz oder Transparenz, das Material erfüllen muss.Preferred embodiments of the multi-well plate according to the invention are made of a material resistant to the chemicals used. For example, the plate may be made of polycarbonate, polystyrene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, cycloolefins polysulfone, polyethylene, polyethersulfone, polytetrafluoroethylene, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, acrylonitrile-PVC copolymer, polystyrene / acrylonitrile copolymer, polyvinylidene fluoride, glass, metal, silica, or combinations thereof Depending on which additional requirements, such as thermoplastic formability, optical translucence or transparency, the material must meet.

Besonders bevorzugte Materialien sind PP (Polypropylen), PE (Polyethylen), Polytetrafluorethylen (PTFE; „Teflon“) oder PA (Polyamid).Particularly preferred materials are PP (polypropylene), PE (polyethylene), polytetrafluoroethylene (PTFE, "Teflon") or PA (polyamide).

Eine Herstellung ist mit gängigen Verfahren, wie Spritzguss oder 3-D-Druck möglich.Production is possible with common methods, such as injection molding or 3-D printing.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

aa: Darstellung OberseitePresentation top
bb: Darstellung UnterseitePresentation bottom
cc: unterer Rand / Auflageflächelower edge / bearing surface
dd: äusserer Randbereichouter border area
ee: innerer Wellbereichinner well area
ff: Außenmaß lange SeiteExternal dimension long side
gG: Außenmaß kurze SeiteExternal dimension short side
hH: Befestigungsloch 6 mmMounting hole 6 mm
ii: Befestigungsloch 8 mmMounting hole 8 mm
jj: (nicht vergeben)(not awarded)
kk: WellsWells
k1k1: EinlassberreichEinlassberreich
k2k2: Reaktionsbereichreaction region
k3k3: Auslassbereich innerer Wellbereich langeOutlet area inner well area long
l l: Seite innerer Wellbereich kurzeSide of inner well short
mm: Seitepage
nn: Aussteifungstiffening
oO: Frittefrit
o1o1: obere Fritteupper frit
o2o2: untere Frittelower frit
pp: Höhe Rand Erhöhung über unterenHeight edge increase over lower
qq: Randedge
rr: Maß Well von C nach untenMeasure Well from C down
ss: Wand RandbereichWall edge area
tt: Deckschichttopcoat

: Top a : Section view : Top a : Sectional view single wave : Bottom b : Sectional view single well with filter material (o) : Side view : Sectional view border area

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

WO 2016/094460 [0008]
WO 2015/200788 [0008]
US 2006198765 [0011]
WO 9822219 [0011]
US 5681534 [0014]
US 5368823 [0014]
US 5541314 [0014]

Zitierte Nicht-PatentliteraturCited non-patent literature

DIN EN ISO 10642 [0024]

Claims

Plate for solid phase synthesis on a synthesis platform with a top (a), a bottom (b) and a bottom edge (c), characterized in that it has an outer edge region (d) and an inner wave region (e), wherein the outer edge region (d) has an outer dimension (f × g) between about 166 mm × 127 mm and about 142 mm × 104 mm and has two differently sized cylindrical openings (h) and (i) for positionally correct positioning, which are arranged diagonally on the plate and the inner corrugated region (e) has 8 rows in 12 columns of recesses (k) of 9 mm pitch, centered on the outer periphery (d), and an outer dimension (1 x m) of between about 108 mm x 72 mm and 102 mm × 66 mm, the underside (b) has stiffeners (n), and the lower edge (c) provides a sealing surface between the inner corrugated area and the outer edge area suitable for supporting the underside of the i To seal the inner well area of the environment, when the plate is mounted on a synthesis instrument.

Plate after Claim 1 , wherein the differently sized cylindrical openings (h) and (i) are located on the top left and bottom right on an imaginary centric rectangle of size 142 mm × 104 mm and have a diameter of approximately 6 mm and approximately 8 mm.

Plate after Claim 1 or 2 wherein the outer peripheral portion (d) has an outer dimension (f × g) of 158 mm × 120 mm.

Plate according to one of the preceding claims, whose height (o) measured from the sealing surface (c) does not exceed 27 mm.

Plate according to one of the preceding claims, whose outlet region (k3) of the recesses (k) do not project deeper than 13.5 mm (r) measured from the lower edge (c).

A panel according to any one of the preceding claims, wherein the outer edge portion (d) has a height (p) of about 11.8 to 12.2 mm.

Plate according to one of the preceding claims, whose outer edge region (d) from the outside to the well region (e) but reaches at least up to a imaginary rectangle of 130 mm × 106 mm.

Plate according to one of the preceding claims, with additionally 6 fixing holes (L1-L6) for screws lying on an imaginary centric rectangle of size 142 mm × 104 mm.

Plate after Claim 8 , wherein on the long sides each 2 mounting holes centric with a distance of 76.2 mm, and on the short sides each a mounting hole in the middle is arranged.

A plate according to any one of the preceding claims, wherein the lower edge (c) comprises an elevation (q) which seals the underside of the inner well region from the environment when the plate is mounted on a synthesis instrument.

A plate as claimed in any one of the preceding claims, wherein each recess (k) has an inlet area (k1) on the top, a reaction area (k2) in the center and an outlet area (k3) on the bottom.

Plate according to one of the preceding claims, wherein the inlet area (k1) of the recess (k) at the top has an inner diameter of 6 mm +/- 3 mm and tapers to the inner diameter of the reaction area (k2).

Plate after Claim 12 , wherein the upper edge of the inlet region (k1) of the depressions (k) is 3 to 3.4 mm above the surface of the edge region (d).

Plate after Claim 12 or 13 wherein the cylindrical reaction area (k2) of the recesses (k) has a diameter of 2.55 mm + 0.25 / -0.2 mm and a height of 6.5 mm.

Plate after Claim 12 . 13 or 14 wherein the outlet region (k3) of the recesses (k) is designed to allow a controlled flow of the reagents through the reaction region (k2).

Plate after one of the Claims 12 to 15 , wherein the outlet region (k3) of the recesses (k) has an inner diameter of 1.2 mm at the lower end.

Plate after one of the Claims 12 to 16 , wherein the depressions (k) are designed such that filter material or a sandwich of filter material, synthesis support material, preferably CPG, and filter material in the reaction region (k2) can be fixed.

A plate according to any one of the preceding claims, wherein the corrugation area (e) is marked 1 to 12 on the long side and A to H on the short side.

Plate according to one of the preceding claims, wherein on the surface of the edge region (d) one or two areas for labels or labels are marked.

Plate according to one of the preceding claims, made of a material resistant to the chemicals used.

Plate after Claim 20 , made of PP (polypropylene), PE (polyethylene) PA (polyamide) or PTFE (polytetrafluoroethylene, teflon).

Plate according to one of the preceding claims, wherein each depression (k) contains at least one first filter material (o2) at the lower end of the reaction region (k2) above the outlet region (k3).

A plate according to any one of the preceding claims, wherein each reaction region (k2) of the recesses (k) terminates at the top by at least one second filter material (o1) and the synthetic carrier material is fixed therebetween

Oligonucleotide synthesizer with one or more plates according to one of the preceding claims.