DE202015007404U1

DE202015007404U1 - Apparatus for coating overlong sheet-like substrates, in particular glass sheets, in a vacuum coating installation

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Publication number: DE202015007404U1
Application number: DE202015007404.9U
Authority: DE
Original assignee: Grenzebach Maschinenbau GmbH
Current assignee: Grenzebach Maschinenbau GmbH
Priority date: 2015-10-26
Filing date: 2015-10-26
Publication date: 2015-11-11
Anticipated expiration: 2025-10-27

Abstract

Vorrichtung zum Beschichten überlanger flächenhafter Substrate, insbesondere Glasscheiben, in einer Vakuum-Beschichtungsanlage, mit den folgenden Merkmalen: a) einer Hintereinanderschaltung von eingangsseitig angeordneten, von der jeweiligen Substratplatte (9) zu durchlaufenden, Kammern, nämlich einer Schleusenkammer (1), einer Pufferkammer (2) und einer Transferkammer (3), wobei jede dieser Kammern eingangsseitig mittels eines Klappenventils (8, 11, 15) luftdicht verschließbar ist und wobei der Transferkammer (3) ein Bereich von Prozesskammern (4) und den Prozesskammern (4) eine ausgangsseitige Hintereinanderschaltung einer Transferkammer (5), einer Pufferkammer (7) und einer Schleusenkammer (8) folgen, b) einer auf Rollen aufgebauten Transportvorrichtung (10), c) einer einzigen Hochleistungs-Vakuumpumpe (13) mit einem Adapterflansch (14) in dem Bereich der Pufferkammer (2), d) mindestens einer Strömungsblende (12) in dem Bereich der Pufferkammer (2), e) eine Einrichtung (16) zur Längsverschiebung der Strömungsblenden (12) und eine Einrichtung (17) zur Höhenverstellung der Strömungsblenden (12), f) eine Anordnung zur Steuerung der Bewegungsvorgänge.Apparatus for coating overlong sheet-like substrates, in particular glass panes, in a vacuum coating installation, having the following features: a) a series connection of chambers arranged on the input side, to be passed by the respective substrate plate (9), namely a lock chamber (1), a buffer chamber (2) and a transfer chamber (3), wherein each of these chambers on the input side by means of a flap valve (8, 11, 15) is hermetically closed and the transfer chamber (3) a range of process chambers (4) and the process chambers (4) an output side Connecting a transfer chamber (5), a buffer chamber (7) and a lock chamber (8) in series, b) a roll-mounted transport device (10), c) a single high-performance vacuum pump (13) with an adapter flange (14) in the area the buffer chamber (2), d) at least one flow aperture (12) in the region of the buffer chamber (2), e) a device (16) for Longitudinal displacement of the flow orifices (12) and means (17) for adjusting the height of the flow orifices (12), f) an arrangement for controlling the motions.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten überlanger flächenhafter Substrate, insbesondere Glasscheiben in einer Vakuum-Beschichtungsanlage.The invention relates to a device for coating overlong sheet-like substrates, in particular glass sheets in a vacuum coating system.

Die magnetfeldunterstützte Kathodenzerstäubung (Magnetron Sputtering) hat Eingang gefunden in viele Bereichen der modernen Oberflächentechnik. Ausgehend von Anwendungen in der Halbleiterelektronik ist die magnetfeldunterstützte Kathodenzerstäubung heute als industrielles Beschichtungsverfahren für Architekturglas, Flachbildschirme, Brillengläser, Bandmaterialien, Werkzeug, dekorative Gegenstände und funktionelle Bauteile etabliert. Die größten Vakuum-Beschichtungsanlagen, und damit oftmals auch die Anlagen mit dem höchsten Energiebedarf, sind die typischen horizontalen In-Line-Anlagen für die Architekturglas-Beschichtung. Im Laufe der Entwicklung haben sich Standardscheibenformate sowohl für die Beschichtung als auch für die weitere Verarbeitung und Logistik etabliert. Die Beschichtungsanlagen werden in der Regel für die Standardscheibenformate (z. B. Länge 6,00 m × Breite 3,21 m) ausgelegt. Zusätzlich werden in den Beschichtungsanlagen übergroße Scheibenformate beschichtet. Der prozentuale Anteil diese übergroßen Scheibenformate am gesamten Produktionsvolumen ist eher gering, so das mittels technischer und steuerungstechnischer Anpassungen der Anlage Möglichkeiten geschaffen werden, auch überlange Scheibenformate (z. B. Länge 12,00 m × Breite 3,21 m) ohne nennenswerte Investitionen zu beschichten. Gemäß dem Stand der Technik werden spezifische Anordnungen von Vakuumpumpen bzw. Vakuumpumpständen und auch Strömungsblenden innerhalb von Vakuumkammern benutzt, um eine Beschichtungsanlage sowohl für Standardscheiben als auch für überlange Scheibenformate benutzen.Magnetic field assisted sputtering (magnetron sputtering) has found its way into many areas of modern surface technology. Starting from applications in semiconductor electronics, magnetic field assisted sputtering is established today as an industrial coating method for architectural glass, flat screens, spectacle lenses, strip materials, tools, decorative objects and functional components. The largest vacuum coating systems, and thus often the most energy-demanding systems, are the typical horizontal in-line systems for architectural glass coating. In the course of development, standard disc formats have become established both for coating and for further processing and logistics. The coating systems are usually designed for the standard disc formats (eg length 6.00 m × width 3.21 m). In addition, oversized disc formats are coated in the coating equipment. The percentage of these oversized disc formats in the total production volume is rather low, so that possibilities are created by means of technical and control-technical adaptations of the system, even overlong disc formats (eg length 12.00 m × width 3.21 m) without significant investments coat. In the prior art, specific arrangements of vacuum pumps and also flow diaphragms within vacuum chambers are used to utilize a coating equipment for both standard and long wafer formats.

Aus dem Stand der Technik wird auf die folgenden Druckschriften verwiesen:
In der EP 1 571 234 B1 wird ein Verfahren für den Betrieb einer Inline-Beschichtungsanlage beschrieben. Um flächenhafte Substrate, insbesondere Glasscheiben, zu beschichten, werden in der Beschichtungsanlage Substrate unter Vakuumbedingungen beschichtet, wobei sich vom Target abgetragenes Material auf dem betreffenden Substrat niederschlägt. Dem hier vorgestellten Verfahren liegt die Zielsetzung zugrunde, mit nur einer Beschichtungsanlage sowohl normale Substrate als auch Substrate mit Überlänge beschichten zu können. Bei diesem Verfahren wird im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 folgender Stand der Technik behandelt. Hierbei wird von einem Verfahren für den Betrieb einer Inline-Beschichtungsanlage mit einer Einschleuskammer, einer daran anschließenden Pufferkammer, einer daran anschließenden Prozesskammer, einer weiter daran anschließenden Pufferkammer und einer hieran anschließenden Ausschleuskammer ausgegangen. Bei diesem Verfahren sind zwischen den Kammern Tore vorgesehen, die geöffnet und geschlossen werden können, wobei die Einschleuskammer, die Pufferkammer und die Ausschleuskammer als gleichartige Module und für die Aufnahme von Substraten bis zu einer vorgegebenen Maximalgröße vorgegeben sind. Zur Erreichung der genannten Zielsetzung wird im Kennzeichen des Patentannspruchs 1 beansprucht, dass für die Beschichtung von Substraten die größer als die Module sind, das Tor zwischen der Einschleuskammer und der Pufferkammer, sowie das Tor zwischen der Pufferkammer und der Ausschleuskammer, sowie das Tor zwischen der Pufferkammer und der Ausschleuskammer geöffnet werden und die Druckverhältnisse der Pufferkammer und der Einschleus- bzw. Ausschleuskammer aneinander angepasst werden.From the prior art reference is made to the following documents:
In the EP 1 571 234 B1 a method for the operation of an in-line coating system is described. In order to coat planar substrates, in particular glass panes, substrates are coated under vacuum conditions in the coating system, whereby material removed from the target is deposited on the relevant substrate. The objective of the method presented here is to be able to coat both normal substrates and substrates with excess length with only one coating system. In this method, the following prior art is treated in the preamble of patent claim 1. This is based on a method for operating an inline coating system with a Einschleuskammer, an adjoining buffer chamber, an adjoining process chamber, a further adjoining buffer chamber and an adjoining discharge chamber. In this method, gates are provided between the chambers, which can be opened and closed, wherein the Einschleuskammer, the buffer chamber and the discharge chamber are given as similar modules and for receiving substrates up to a predetermined maximum size. To achieve the stated objective is claimed in the characterizing part of patent claim 1, that for the coating of substrates which are larger than the modules, the gate between the Einschleuskammer and the buffer chamber, and the gate between the buffer chamber and the discharge chamber, and the gate between the Buffer chamber and the discharge chamber are opened and the pressure conditions of the buffer chamber and the Einschleus- or discharge chamber are adapted to each other.

Die WO 2009/004048 A1 behandelt ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Schleusen überlanger Substrate in einer Vakuumbeschichtungsanlage. Üblicherweise kommen bei solchen Verfahren Drei-Kammer-Vakuumbeschichtungsanlagen oder Fünf-Kammer-Beschichtungsanlagen zum Einsatz. Im Unterschied zur Fünf-Kammer-Beschichtungsanlage besitzt die Drei-Kammer-Beschichtungsanlage keine Pufferkammer. In dieser Druckschrift ist zwar konkret keine Zielsetzung angegeben, jedoch lässt sich der Beschreibung insbesondere auf der Seite 5, oben, entnehmen, dass neben der im Titel angegebenen Verwendung dieses Verfahrens zur Beschichtung überlanger Substrate mittels einer Druckentkopplung innerhalb eines Schleusensystems die Pumpzeiten für das Schleusensystem und somit die Taktzeiten der Anlage im Vergleich zum Betrieb als Dreikammeranlage verringert werden. Im Patentanspruch 1 der WO 2009/004048 A1 wird ein Verfahren zum Einschleusen eines Substrats in eine oder aus einer Vakuumbeschichtungsanlage beansprucht, wobei in dieser Anlage an eine Schleusenkammer eine Pufferkammer und daran ein Prozessbereich angrenzt, die Schleusenkammer und Pufferkammer voneinander durch jeweils ein schließbares Zwischentor zu trennen sind und die Schleusenkammer ein erstes Pumpsystem sowie die Pufferkammer ein zweites Pumpsystem umfassen, mit den folgenden Verfahrensschritten:

a) Transportieren des Substrats durch ein geöffnetes, vakuumdicht schließbares eingangsseitiges Tor in eine verlängerte Schleusenkammer, gebildet aus Schleusenkammer und Pufferkammer bei geöffnetem Zwischentor, wobei ein die verlängerte Schleusenkammer ausgangsseitig abschließendes Tor vakuumdicht verschlossen ist,
b) Schließen des eingangsseitigen Tores und Einstellen von Druckverhältnissen in der verlängerten Schleusenkammer mit einer Druckdifferenz zwischen Schleusenkammer und Pufferkammer mit geringerem Druck in der Pufferkammer unter Verwendung eines Strömungswiderstandes, welcher in der verlängerten Schleusenkammer angeordnet ist, und
c) Öffnen des ausgangsseitigen Tores und Transportieren des Substrats aus der verlängerten Schleusenkammer.

The WO 2009/004048 A1 describes a method and apparatus for slugging overly long substrates in a vacuum coating facility. Typically, three-chamber vacuum coating equipment or five-chamber coating equipment is used in such processes. In contrast to the five-chamber coating system, the three-chamber coating system has no buffer chamber. Although there is no concrete objective stated in this document, it can be inferred from the description, in particular on page 5, that in addition to the use of this method for coating overlong substrates by means of pressure decoupling within a lock system, the pumping times for the lock system and Thus, the cycle times of the system compared to the operation as a three-chamber system can be reduced. In claim 1 of WO 2009/004048 A1 a method for introducing a substrate into or out of a vacuum coating system is claimed, wherein in this plant to a lock chamber adjacent a buffer chamber and a process area, the lock chamber and buffer chamber to be separated from each other by a closable intermediate gate and the lock chamber, a first pumping system and the buffer chamber comprise a second pumping system, comprising the following process steps:

a) transporting the substrate through an open, vacuum-tight closable input-side gate in an extended lock chamber, formed from lock chamber and buffer chamber with an open intermediate gate, wherein the extended lock chamber on the output side final gate is vacuum-tight,
b) closing the entrance gate and adjusting pressure conditions in the extended lock chamber with a pressure difference between the lock chamber and the buffer chamber with lower pressure in the buffer chamber using a flow resistance, which is arranged in the extended lock chamber, and
c) opening the exit gate and transporting the substrate from the extended lock chamber.

Nachteilig bei der in der WO 2009/004048 A1 beschriebenen Vakuumbeschichtungsanlage ist, dass ein erstes Pumpsystem in der Schleusenkammer und ein zweites Pumpsystem in der Pufferkammer, jeweils bestehend aus vielen Pumpen, notwendig ist. In der Regel wird dabei das gesamte Volumen gebildet aus der Schleusenkammer und der Pufferkammer zuerst vom Pumpsystem der Schleusenkammer auf einen Druck von p < 20 mbar evakuiert. Dann übernimmt das Pumpsystem der Pufferkammer und evakuiert das Volumen weiter bis auf einen Druck p < 0,02 mbar.Disadvantageous in the WO 2009/004048 A1 described vacuum coating system is that a first pumping system in the lock chamber and a second pumping system in the buffer chamber, each consisting of many pumps, is necessary. As a rule, the entire volume is formed from the lock chamber and the buffer chamber first evacuated by the pumping system of the lock chamber to a pressure of p <20 mbar. Then the pumping system takes over the buffer chamber and evacuates the volume further to a pressure p <0.02 mbar.

Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine kostengünstige und zuverlässige Möglichkeit zu schaffen dass die Anzahl der Pumpen stark reduziert wird, wobei die Produktivität erhalten bleibt und die Zuverlässigkeit und die Sicherheit der Anlage erhöht wird.It is the object of the present invention to provide a cost effective and reliable way that the number of pumps is greatly reduced while maintaining productivity and increasing the reliability and safety of the equipment.

Diese Aufgabe wird durch die Vorrichtung nach Anspruch 1, gelöst.This object is achieved by the device according to claim 1.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung wird im Folgenden näher beschrieben. Es zeigen im Einzelnen:The device according to the invention will be described in more detail below. They show in detail:

1: eine erfindungsgemäße Vorrichtung im Längsschnitt 1 : a device according to the invention in longitudinal section

2: einen Querschnitt aus dem Eingangsbereich der erfindungsgemäßen Vakuum-Beschichtungsanlage. 2 : a cross section from the entrance of the vacuum coating system according to the invention.

3: einen Querschnitt aus dem Bereich der Pufferkammer 3 : a cross-section from the area of the buffer chamber

4: die Ausgestaltung eines Adapterflansches 4 : the design of an adapter flange

Die 1: zeigt eine erfindungsgemäße Vorrichtung im Längsschnitt. Die gesamte Vakuum-Beschichtungsanlage besteht in der Durchlaufrichtung aus einer eingangsseitigen Schleusenkammer 1, in die das zu beschichtende Substrat aus dem Bereich der normalen Atmosphäre eintritt, einer folgenden Pufferkammer 2 und einer, auf diese beiden Kammern folgenden, Transferkammer 3. Im weiteren Verlauf des Beschichtungsprozesses gelangt das Substrat in den Bereich der beiden Prozesskammern 4, in denen der eigentliche Prozess der Beschichtung stattfindet. Nach der erfolgten Beschichtung wird das Substrat wieder, umgekehrt wie im Bereich der eingangsseitigen Kammern 1, 2 und 3, über die ausgangsseitige Transferkammer 5 in die ausgangsseitige Pufferkammer 6 und dann in die ausgangsseitige Schleusenkammer 7 geführt. Bei dem Austritt aus der ausgangsseitigen Schleusenkammer 7 gelangt das beschichtete Substrat wieder in den Bereich der normalen Atmosphäre.The 1 shows a device according to the invention in longitudinal section. The entire vacuum coating system consists in the passage direction of an input-side lock chamber 1 into which the substrate to be coated enters from the area of the normal atmosphere, a following buffer chamber 2 and a transfer chamber following these two chambers 3 , In the further course of the coating process, the substrate enters the region of the two process chambers 4 in which the actual process of coating takes place. After the coating has taken place, the substrate is restored, in the same way as in the area of the input-side chambers 1 . 2 and 3 , via the output-side transfer chamber 5 in the output side buffer chamber 6 and then into the exit-side lock chamber 7 guided. At the exit from the exit-side lock chamber 7 the coated substrate returns to the normal atmosphere.

Die 2: zeigt einen Querschnitt aus dem Eingangsbereich der erfindungsgemäßen Vakuum-Beschichtungsanlage, wobei die Bereiche der Schleusenkammer 1, der folgenden Pufferkammer 2 und eines Teils der weiterhin folgenden Transferkammer 3 im oberen Teil der 2 mittels entsprechend gekennzeichneten Bereichsgrenzen markiert sind. Hier ist eine Substratplatte 9 im Querschnitt auf einer Transportvorrichtung 10 zu erkennen, wobei die Transportvorrichtung 10 im Querschnitt mittels kreisförmig dargestellten Laufrollen symbolisiert ist und die Substratplatte 9 den, den Eingangsbereich der Vakuum-Beschichtungsanlage vakuumdicht von der normalen Atmosphäre abschließenden, Bereich hinter sich hat. Dieser Eingangsbereich wird von der normalen Atmosphäre mittels des eingangsseitigen Klappenventils 8 der Schleusenkammer 1 gebildet. Die gesamte Länge der Substratplatte 9 ist in diesem gezeigten Beispiel als überlang zu erkennen, denn sie reicht in der Läge vom Beginn der Schleusenkammer 1 über deren gesamte Länge bis fast zum Ende der anschließenden Pufferkammer 2. Die Richtung der Bewegung der Substratplatte 9 ist hierbei mittels eines Pfeils in der Schleusenkammer 1 gekennzeichnet. Das am Beginn der Pufferkammer 2 vorgesehene Klappenventil 11 ist in der 2 gestrichelt, und damit als geöffnet, dargestellt, denn die Überlänge der Substratplatte 9 erfordert eine Öffnung dieses Klappenventils 11. Im Bereich der Pufferkammer 2 sind Strömungsblenden 12 symbolisch als zwei Linien dargestellt die parallel zu Teilbereichen der beiden Oberflächen der Substratplatte 9 verlaufen wobei deren Abstand zu diesen beiden Oberflächen variabel einstellbar ist. Eine Strömungsblende verringert den offenen Querschnitt um die, durch die Vakuum-Beschichtungsanlage zu transportierende, Substratplatte derart, dass in den angrenzenden Kammerbereichen in Abhängigkeit von den Druckverhältnissen ein Gasaustausch erschwert wird und somit ein Druckausgleich verhindert wird. Je nach der Lage einer oder mehrerer Strömungsblenden können verschieden hohe Druckdifferenzen mit einer oder mehr Abstufungen des Drucks innerhalb eines Schleusensystems erzeugt werden. Eine solche Strömungsblende bewirkt, dass, bei der Beschichtung einer überlangen Substratplatte 9, im Bereich der durch ein offenes Klappenventil 11 verbundenen Schleusenkammer 1 und einer Pufferkammer 2 eine Druckdifferenz erzeugt wird die den Druckverhältnissen entspricht wie sie bei geschlossenem Klappenventil 11 herrschen.The 2 shows a cross section from the entrance of the vacuum coating system according to the invention, wherein the areas of the lock chamber 1 , the following buffer chamber 2 and part of the following transfer chamber 3 in the upper part of the 2 are marked by means of appropriately marked area boundaries. Here is a substrate plate 9 in cross-section on a transport device 10 to recognize, with the transport device 10 is symbolized in cross section by circular rollers shown and the substrate plate 9 which has the input area of the vacuum coating system vacuum-tight from the normal atmosphere final, area behind it. This entrance area is from the normal atmosphere by means of the inlet flap valve 8th the lock chamber 1 educated. The entire length of the substrate plate 9 In this example shown, it can be recognized as being too long, as it lasts enough from the beginning of the lock chamber 1 over its entire length almost to the end of the subsequent buffer chamber 2 , The direction of movement of the substrate plate 9 is here by means of an arrow in the lock chamber 1 characterized. That at the beginning of the buffer chamber 2 provided flap valve 11 is in the 2 dashed, and thus shown as open, because the excess length of the substrate plate 9 requires an opening of this flapper valve 11 , In the area of the buffer chamber 2 are flow restrictors 12 symbolically represented as two lines parallel to partial areas of the two surfaces of the substrate plate 9 extend whose distance to these two surfaces is variably adjustable. A flow restrictor reduces the open cross-section around the substrate plate to be transported by the vacuum coating system such that gas exchange in the adjoining chamber regions is impeded depending on the pressure conditions and thus pressure equalization is prevented. Depending on the position of one or more flow orifices, different levels of pressure differences can be generated with one or more levels of pressure within a lock system. Such a flow restriction causes, when coating an overlong substrate plate 9 , in the area of by an open flap valve 11 connected lock chamber 1 and a buffer chamber 2 a pressure difference is generated which corresponds to the pressure conditions as they are with the flap valve closed 11 to rule.

Weiter sind im Bereich der Pufferkammer 2 ein Adapterflansch 14 für den Betrieb einer Hochleistungs-Vakuumpumpe 13 und das eingangsseitige Klappenventil 15 der Transferkammer dargestellt. Next are in the area of the buffer chamber 2 an adapter flange 14 for the operation of a high-performance vacuum pump 13 and the input-side flapper valve 15 represented the transfer chamber.

Die 3: zeigt einen Querschnitt aus dem Bereich der Pufferkammer. Hier sind besonders die Verhältnisse um die Strömungsblenden 12 detaillierter dargestellt. Wie schon bei der Beschreibung der 2 bemerkt, sind die Abstände der Strömungsblenden 12 zu den beiden Oberflächen der zu beschichtenden Substratplatte 9 variabel ausgestattet, was durch eine Einrichtung 17 zur Höhenverstellung der Strömungsblenden 12 bewirkt wird. Dies dient zum einen der Anpassung der Strömungsblenden 12 an die Dicke der jeweiligen Substratplatte 9. Zum anderen beeinflusst der Abstand der beiden Strömungsblenden 12 zu den beiden Oberflächen der Substratplatte 9 die durch die Anordnung der Strömungsblenden 12 hervorgerufene Druckdifferenz innerhalb des Schleusensystems. Demselben Zweck dient auch eine Einrichtung 16 die die Fläche der Strömungsblende 12 in horizontaler Richtung, also längsverschieblich parallel zu der Oberfläche der jeweiligen Substratplatte 9 vergrößert oder verkleinert. Als Mechanismus für eine solche Anordnung kann eine Blechfläche dienen die in einer eng anliegenden weiteren Blechtasche horizontal verschiebbar gestaltet ist. Als Antrieb für die vertikale und horizontale Verschiebbarkeit einer oder mehrerer Strömungsblenden 12 sind nicht näher bezeichnete Servomotoren vorgesehen. Die Steuerung dieser Servomotoren wird durch Sensoren 19 zur Abstandsmessung und der Längsverstellung der Strömungsblenden 12 unterstützt. Die konstruktive Ausgestaltung entsprechender Verstell-Mechanismen zur beschriebenen Verstellbarkeit der Strömungsblenden 12 sind einem Fachmann geläufig. Zur weiteren steuerungstechnischen Kontrolle des gesamten Beschichtungsprozesses dienen die beispielhaft in der 3 dargestellten Lichtfeldsensoren 20. Hinsichtlich dieser verwendeten Lichtfeld-Sensoren 20, wird auf die Entwicklung der so genannten Minilinsen verwiesen, die in der Form von hunderten von Minilinsen nach dem Lichtfeldprinzip optische Informationen sammeln die dann später zu Bildern mit einer gewünschten Auflösung und/oder einem gewünschten Blickwinkel datentechnisch zusammengestellt werden können. Solche Minilinsen sind 3-D-fähig, billig herzustellen und folgen dem Prinzip eines Insektenauges. Mit Hilfe dieser Lichtfeldsensoren 30 kann somit, neben der normalen Schwenkbarkeit, der gewünschte Blickwinkel und/oder die gewünschte Vergrößerung eines Bildausschnitts auf rein elektronischem Weg erreicht werden.The 3 : shows a cross section from the area of the buffer chamber. Here are the conditions around the flow panels 12 shown in more detail. As with the description of the 2 noticed, are the distances of the flow panels 12 to the two surfaces of the substrate plate to be coated 9 variably equipped, thanks to a device 17 for height adjustment of the flow panels 12 is effected. This serves on the one hand to adapt the flow diaphragms 12 to the thickness of the respective substrate plate 9 , On the other hand affects the distance between the two flow panels 12 to the two surfaces of the substrate plate 9 the through the arrangement of the flow panels 12 caused pressure difference within the lock system. The same purpose is also a device 16 the area of the flow aperture 12 in the horizontal direction, ie longitudinally displaceable parallel to the surface of the respective substrate plate 9 enlarged or reduced. As a mechanism for such an arrangement can serve a sheet metal surface which is designed to be horizontally displaceable in a closely fitting further sheet metal pocket. As a drive for the vertical and horizontal displacement of one or more flow panels 12 unspecified servomotors are provided. The control of these servomotors is by sensors 19 for distance measurement and the longitudinal adjustment of the flow panels 12 supported. The structural design of corresponding adjustment mechanisms for the described adjustability of the flow panels 12 are familiar to a person skilled in the art. For further control technology control of the entire coating process are exemplified in the 3 illustrated light field sensors 20 , With regard to these light field sensors used 20 , reference is made to the development of the so-called mini-lenses, which collect in the form of hundreds of mini-lenses according to the light field principle optical information which can then later be compiled into images with a desired resolution and / or a desired perspective data. Such mini-lenses are 3-D capable, inexpensive to manufacture and follow the principle of an insect eye. With the help of these light field sensors 30 Thus, in addition to the normal pivotability, the desired viewing angle and / or the desired magnification of an image section can be achieved in a purely electronic way.

Die 4: zeigt die Ausgestaltung eines Adapterflansches. Der aus der Beschreibung der 2 bekannte Adapterflansch 14 ist mittels eines Anschlussrings 18 an der eingangsseitigen Pufferkammer 2 befestigt und weist einen Querschnitt auf der der Hochleistungs-Vakuumpumpe 13 einen geringen Strömungswiderstand entgegensetzt, bevorzugt ist hier an die Form eine hyperbolischen Zylinders gedacht. Als Hochleistungs-Vakuumpumpe 13 sind derzeit zweistufige Vakuumsysteme mit gegen Atmosphärendruck arbeitenden Vorpumpen und nachfolgenden Schrauben- oder Wälzkolbenpumpen im Einsatz, die über einen Arbeitsdruckbereich von 1013 mbar bis 0,003 mbar aufweisen und dabei einen Ansaugvolumenstrom von 2700 bis 5700 m³/h, in einzelnen Fällen auch einen zusätzlichen dynamischen Volumenstrom von bis zu 20000 m³/h liefern können.The 4 : shows the configuration of an adapter flange. The from the description of the 2 known adapter flange 14 is by means of a connection ring 18 at the input side buffer chamber 2 attached and has a cross section on the high-performance vacuum pump 13 opposes a low flow resistance, preferably here is thought of the shape of a hyperbolic cylinder. As a high performance vacuum pump 13 At present, two-stage vacuum systems are used with backing pumps and following screw or Roots pumps operating against atmospheric pressure, which have a working pressure range of 1013 mbar to 0.003 mbar and an intake volume flow of 2700 to 5700 m ³ / h, in some cases also an additional dynamic volume flow of up to 20000 m ³ / h can deliver.

Die Anordnung zur Steuerung der Bewegungsvorgänge, insbesondere der Transportvorrichtung (10), der Betätigung der Klappenventile, der Verstellung der Strömungsblenden und der Betätigung der Hochleistungs-Vakuumpumpe ist nicht gesondert bezeichnet.The arrangement for controlling the movement processes, in particular the transport device ( 10 ), the operation of the flap valves, the adjustment of the flow orifice and the operation of the high-performance vacuum pump is not separately designated.

Die komplexe Steuerung der beschriebenen Bewegungsabläufe erfordert ein speziellen Steuerungsalgorithmus.The complex control of the described movements requires a special control algorithm.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11: Bereich der eingangsseitigen SchleusenkammerArea of the entrance-side lock chamber
22: Bereich der eingangsseitigen PufferkammerArea of the input side buffer chamber
33: Bereich der eingangsseitigen TransferkammerArea of the input side transfer chamber
44: Bereich der ProzesskammernArea of process chambers
55: Bereich der ausgangsseitigen TransferkammerArea of the output-side transfer chamber
66: Bereich der ausgangsseitigen PufferkammerArea of the output side buffer chamber
77: Bereich der ausgangsseitigen SchleusenkammerArea of the exit-side lock chamber
88th: eingangsseitiges Klappenventil der SchleusenkammerInput-side flap valve of the lock chamber
99: Substratplatte (übergroße Abmessung)Substrate plate (oversized size)
1010: Transportvorrichtungtransport device
1111: eingangsseitiges Klappenventil der PufferkammerInput-side flap valve of the buffer chamber
1212: Strömungsblendenflow aperture
1313: Hochleistungs-VakuumpumpeHigh-performance vacuum pump
1414: Adapterflanschadapter flange
1515: eingangsseitiges Klappenventil der TransferkammerInput-side flap valve of the transfer chamber
1616: Einrichtung zur Längsverschiebung der StrömungsblendeDevice for longitudinal displacement of the flow diaphragm
1717: Einrichtung zur Höhenverstellung der StrömungsblendeDevice for adjusting the height of the flow aperture
1818: Anschlussring für den Adapterflansch 14 Connection ring for the adapter flange 14
1919: Sensoren zur AbstandsmessungSensors for distance measurement
2020: LichtfeldsensorenLight field sensors

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

EP 1571234 B1 [0003]
WO 2009/004048 A1 [0004, 0004, 0005]

Claims

Apparatus for coating overlong planar substrates, in particular glass panes, in a vacuum coating installation, with the following features: a) a series connection of the input side arranged, of the respective substrate plate ( 9 ) to be traversed, chambers, namely a lock chamber ( 1 ), a buffer chamber ( 2 ) and a transfer chamber ( 3 ), each of these chambers on the input side by means of a flap valve ( 8th . 11 . 15 ) is hermetically sealed and wherein the transfer chamber ( 3 ) a range of process chambers ( 4 ) and the process chambers ( 4 ) an output-side series connection of a transfer chamber ( 5 ), a buffer chamber ( 7 ) and a lock chamber ( 8th ), b) a roll-mounted transport device ( 10 ), c) a single high performance vacuum pump ( 13 ) with an adapter flange ( 14 ) in the region of the buffer chamber ( 2 ), d) at least one flow diaphragm ( 12 ) in the region of the buffer chamber ( 2 ), e) a facility ( 16 ) for longitudinal displacement of the flow diaphragm ( 12 ) and a facility ( 17 ) for height adjustment of the flow diaphragm ( 12 ), f) an arrangement for controlling the motions.

Device according to claim 1, characterized in that sensors ( 19 ) for the control of facilities ( 16 ) to longitudinal displacement of the flow diaphragm ( 12 ) and / or the institution ( 17 ) for height adjustment of the flow diaphragm ( 12 ) are provided.

Apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the control technical control of the entire coating process light field sensors ( 20 ) are provided.