DE202007007709U1

DE202007007709U1 - Vacuum device for e.g. cleaning surface of substrate, has displacement device for displacing transport units to sealing surface at work stations, so that sealing unit at transport units seals workstations in vacuum-sealed manner

Info

Publication number: DE202007007709U1
Application number: DE202007007709U
Authority: DE
Original assignee: Hochvakuum Dresden VEB; VTD Vakuumtechnik Dresden GmbH
Current assignee: Hochvakuum Dresden VEB; VTD Vakuumtechnik Dresden GmbH
Priority date: 2006-06-01
Filing date: 2007-05-31
Publication date: 2007-08-09
Anticipated expiration: 2017-06-01

Abstract

The device has transport units (16) removably supported at supporting arms of a transport table (6). The table transports a substrate carrier (10) to individual work stations (1, 2) and to a lock chamber (3). The carrier is detachably held at a retaining plate, and a slide valve is provided between the lock chamber and an annular chamber (5). A displacement device displaces the units to a sealing surface at the work stations, so that a sealing unit at the transport units seals the workstations in a vacuum-sealed manner. The plate is connected with a vacuum generator and/or ventilation devices.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vakuumeinrichtung zur Behandlung von Substraten mit einer Schleusenkammer in mindestens einer Arbeitsstation nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.The The invention relates to a vacuum device for the treatment of substrates with a lock chamber in at least one workstation the preamble of claim 1.

Nach dem Stand der Technik sind verschiedene Einrichtungen bekannt, bei denen Substrate in unmittelbarer Folge zu mehreren Kammern befördert werden, in denen die Substrate unterschiedlichsten Behandlungen ausgesetzt werden. Die Behandlung der Substrate kann dabei auch in Vakuumkammern durchgeführt werden, z.B. eine Reinigung der Oberflächen durch Ionenbeschuss und eine Beschichtung aus Vakuumbeschichtungsquellen.To The prior art, various devices are known in which substrates are transported in immediate succession to several chambers, in which the substrates are exposed to a wide variety of treatments become. The treatment of the substrates can also be carried out in vacuum chambers, e.g. a cleaning of the surfaces by ion bombardment and a coating of vacuum coating sources.

Die DE 102 15 040 A1 gibt eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Be- und Entladen einer Vakuumkammer mit zu behandelnden Werkstücken an. Die Werkstücke befinden sich dabei in einem Korb, der am Ende einer heb- und drehbaren Traverse angeordnet ist. Der Korb ist dabei auf der Unterseite eines Deckels zum Abdichten der Vakuumkammer angeordnet. Der Deckel selbst weist auf seiner Unterseite eine Glimmeinrichtung auf, die nach Verschluss der Vakuumkammer aktiviert wird.The DE 102 15 040 A1 discloses an apparatus and method for loading and unloading a vacuum chamber with workpieces to be treated. The workpieces are in a basket, which is located at the end of a liftable and rotatable crosshead. The basket is arranged on the underside of a lid for sealing the vacuum chamber. The lid itself has on its underside a glow device, which is activated after closure of the vacuum chamber.

Die DE 43 41 635 C2 gibt eine Vakuumbeschichtungsanlage an, bei der Substrate in einem topfartigen Behälter angeordnet sind, der auf einer schwenkbaren Halterung in einer Transportkammer wenigstens von einer Ein-/Austrittsöffnung zu einer Behandlungskammer bewegt werden kann.The DE 43 41 635 C2 discloses a vacuum coating apparatus in which substrates are arranged in a pot-like container which can be moved on a pivotable mount in a transport chamber at least from an inlet / outlet opening to a treatment chamber.

In den Positionen unter der Ein-/Austrittsöffnung kann die schwenkbare Halterung dichtend an die Öffnung angelegt werden. In der Position unter der Behandlungskammer kann der obere Rand des topfartigen Behälters dichtend an deren Öffnung angelegt werden.In The positions below the inlet / outlet can be swiveled Holder sealed to the opening be created. In the position below the treatment chamber can the upper edge of the pot-like container sealingly created at the opening become.

Der Erfindung liegt damit als Aufgabe zugrunde, eine Vakuumeinrichtung zur sicheren und schnellen Behandlung von Substraten mit einer Schleusenkammer und mindestens einer Arbeitsstation anzugeben, in der beliebige Substrate mit Substratträgern in einfacher Weise von der Schleusenkammer zur Arbeitsstation und zurück befördert werden können, ohne dass die Vakuumeinrichtung insgesamt belüftet werden muss.Of the Invention is therefore an object of a vacuum device for safe and quick treatment of substrates with a lock chamber and specify at least one workstation in which any Substrates with substrate carriers in a simple way from the lock chamber to the workstation and back promoted can be without the vacuum device must be ventilated as a whole.

Die Erfindung löst die Aufgabe durch die im Anspruch 1 angegebenen Merkmale. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet und werden nachstehend zusammen mit der Beschreibung der bevorzugten Ausführung der Erfindung, einschließlich der Zeichnung, näher dargestellt.The Invention solves the task by the features specified in claim 1. Advantageous developments The invention are characterized in the subclaims and become together with the description of the preferred embodiment of the Invention, including the drawing, closer shown.

Erfindungsgemäß ist in Achse zwischen der Schleusenkammer und der Ringkammer ein Schieberventil vorgesehen. In der Ringkammer ist ein Transporttisch mit Tragarmen zur Aufnahme je eines Transportelementes zur Lagerung eines Substratträgers vorhanden.According to the invention is in Axle between the lock chamber and the annular chamber a slide valve intended. In the annular chamber is a transport table with support arms for receiving ever a transport element for supporting a substrate carrier available.

Die Transportelemente sind lösbar an Tragarmen des Transporttisches gelagert und geeignet, den Substratträger mit den Substraten zu haltern und zur Arbeitsstation sowie zur Schleusenkammer zu positionieren.The Transport elements are detachable stored on support arms of the transport table and suitable with the substrate carrier to support the substrates and the workstation and the lock chamber to position.

Zur Arbeitsstation ist eine Bewegungseinrichtung vorhanden, die geeignet ist, das jeweilige Transportelement von der Lagerung am Tragarm des Transporttisches zu einer Dichtfläche an der Arbeitsstation zu bewegen, wobei an den Transportelementen Dichtelemente vorhanden sind, mit denen die Arbeitsstation vakuumdicht verschlossen werden kann.to Workstation is a moving device that is suitable is, the respective transport element from the storage on the support arm the transport table to a sealing surface at the workstation move, wherein on the transport elements sealing elements present are, with which the workstation are sealed vacuum-tight can.

In entsprechender Weise ist auch der Schleusenkammer eine Bewegungseinrichtung zugeordnet, die geeignet ist, das jeweilige Transportelement bei geöffnetem Schieberventil vom Tragarm am Transporttisch in die Schleusenkammer zu bewegen bis der Substratträger an der Aufnahmeplatte gehaltert ist oder der Substratträger mit dem Transportelement von der Aufnahmeplatte gelöst und aus der Schleusenkammer auf den Tragarm am Transporttisch bewegt und dort gelagert ist.In Similarly, the lock chamber is a moving device assigned, which is suitable, the respective transport element at open Slide valve from the support arm at the transport table into the lock chamber to move up to the substrate carrier is supported on the receiving plate or the substrate carrier with the transport element of the receiving plate and released from the lock chamber moved to the support arm on the transport table and stored there.

Die vom Transportelement abgedichtete Arbeitsstation sowie die Schleusenkammer bei geschlossenem Schieberventil und dichtend anliegender Aufnahmeplatte können mit Vakuumerzeugern und/oder Belüftungseinrichtungen verbunden werden.The From the transport element sealed workstation and the lock chamber with slide valve closed and sealingly fitting receiving plate can with vacuum generators and / or aeration devices get connected.

Die Lage der Vakuumeinrichtung ist grundsätzlich beliebig. Vorteilhaft ist jedoch eine vertikale Anordnung der Zentralachse, da dann die Halterung der Substrate, der Substrathalter sowie der Transportelemente wesentlich vereinfacht wird. Auch wird es in der Praxis erforderlich sein zwei oder mehr Arbeitsstationen kreisförmig um die Zentralachse anzuordnen.The Location of the vacuum device is basically arbitrary. Advantageous is however a vertical arrangement of the central axis, since then the Mounting the substrates, the substrate holder and the transport elements is greatly simplified. It will also be necessary in practice two or more workstations to arrange circularly about the central axis.

Die geometrische Ausbildung der Substrate, die in einer erfindungsgemäßen Einrichtung behandelt werden können, ist beliebig, soweit diese in die Schleusenkammer sowie in die Arbeitsstation eingebracht werden können. Unterschiedliche Substrate können leicht mit spezifisch angepassten Substratträgern transportiert werden. In Ausnahmefällen, kann es auch möglich sein, ohne Substratträger die Substrate als solche nur mit den Transportelementen innerhalb der Ringkammer zu bewegen.The geometric design of the substrates used in a device according to the invention can be treated is arbitrary, as far as these in the lock chamber as well as in the workstation can be introduced. Different substrates can be easily transported with specifically adapted substrate carriers. In exceptional cases, can it also possible be without substrate carrier the substrates as such only with the transport elements within to move the ring chamber.

Die Ringkammer ist mit einem Vakuumerzeuger zur Erzeugung eines Vorvakuums verbunden, wodurch in der Ringkammer ständig ein Vorvakuum aufrechterhalten werden kann.The ring chamber is with a vacuum grower connected to generate a preliminary vacuum, whereby in the annular chamber constantly a pre-vacuum can be maintained.

In Abhängigkeit von den konkreten technologischen Aufgaben weisen die Tragarme für die Transportelemente und/oder die Transportelemente für die Substratträger Positionierungselemente auf, mit denen die Substratträger vor dem Einbringen in die Arbeitsstation und zur Schleusenkammer ausgerichtet werden. Die Transportelemente und/oder die Bewegungseinrichtungen können axial in der Bewegungsrichtung Dämpfungselemente aufweisen, damit die Kupplung der Transportelemente mit der Arbeitsstation und der Schleusenkammer weitgehend stoßfrei erfolgt.In dependence Of the concrete technological tasks, the support arms for the transport elements and / or the transport elements for the substrate carriers Positioning elements, with which the substrate carrier before aligned with the introduction into the workstation and the lock chamber become. The transport elements and / or the movement devices can axially in the direction of movement damping elements have, thus the coupling of the transport elements with the workstation and the lock chamber is largely bum-free.

Die Bewegungseinrichtungen können grundsätzlich in beliebiger und bekannter Art ausgeführt sein. Vorteilhaft sind jedoch meist hydraulisch oder pneumatisch bewegte Kolben, wobei nur der Kolben die Wandung der Ringkammer vakuumdicht durchdringt. Der Zylinder und die Medienzuführung werden außerhalb der Ringkammer angeordnet.The Movement devices can in principle be executed in any known and kind. Are advantageous However, usually hydraulically or pneumatically moving piston, wherein only the piston penetrates the wall of the annular chamber vacuum-tight. The cylinder and the media feeder be outside arranged the annular chamber.

Die Erfindung wird nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. Die zugehörige Zeichnung zeigt einen Querschnitt durch eine erfindungsgemäße Vakuumeinrichtung zur Behandlung von Substraten mit drei Arbeitsstationen und einer Schleusenkammer sowie vertikaler Zentralachse.The Invention will be explained in more detail using an exemplary embodiment. The associated drawing shows a cross section through a vacuum device according to the invention for the treatment of Substrates with three workstations and a lock chamber as well vertical central axis.

Ausführungsbeispielembodiment

Die Vakuumeinrichtung entsprechend dem Ausführungsbeispiel weist drei Arbeitsstationen auf, wobei in der Zeichnung nur die zwei Arbeitsstationen 1 und 2 und die Schleusenkammer 3 sichtbar sind. Die Arbeitsstationen 1 und 2 und die Schleusenkammer 3 sind symmetrisch und kreisförmig im gleichen Abstand um eine Zentralachse 4 angeordnet. Unterhalb der Arbeitsstationen 1 und 2 und der Schleusenkammer 3 befindet sich eine Ringkammer 5 mit einem Transporttisch 6, an dem vier gleiche Tragarme 7 vorhanden sind.The vacuum device according to the embodiment has three workstations, wherein in the drawing only the two workstations 1 and 2 and the lock chamber 3 are visible. The workstations 1 and 2 and the lock chamber 3 are symmetrical and circular at the same distance around a central axis 4 arranged. Below the workstations 1 and 2 and the lock chamber 3 there is an annular chamber 5 with a transport table 6 , on which four equal support arms 7 available.

Zwischen der Schleusenkammer 3 und der Ringkammer 5 ist in einer vertikalen Achse 8 die Durchgangsöffnung eines Schieberventils 9 angeordnet, mit dem entsprechende Öffnungen an der Schleusenkammer 3 und der Ringkammer 5 gegeneinander verschlossen oder geöffnet werden können.Between the lock chamber 3 and the annular chamber 5 is in a vertical axis 8th the passage opening of a slide valve 9 arranged, with the appropriate openings at the lock chamber 3 and the annular chamber 5 closed against each other or can be opened.

Zur Aufnahme der zu behandelnden Substrate sind Substratträger 10 vorhanden. Die Substratträger 10 werden über ein Transportband 11 einem Umsetzer 12 mit zwei Tragarmen 13 und 14 zugeführt. Mit je einer Aufnahmeplatte 15 kann der Substratträger 10 vom Transportband 11 abgehoben und in die Schleusenkammer 3 eingesetzt werden. Dabei dichtet die Aufnahmeplatte 15 die Schleusenkammer 3 vakuumdicht ab. Die Schleusenkammer 3 ist mit einer in der Zeichnung nicht dargestellten Vakuumpumpe sowie einer Belüftungseinrichtung verbunden. Damit kann die Schleusenkammer 3 unabhängig von den anderen Einrichtungen wahlweise mindestens auf Vorvakuum evakuiert und auf Atmosphärendruck belüftet werden.For receiving the substrates to be treated are substrate carrier 10 available. The substrate carriers 10 be via a conveyor belt 11 a converter 12 with two support arms 13 and 14 fed. Each with a receiving plate 15 may be the substrate carrier 10 from the conveyor belt 11 lifted and into the lock chamber 3 be used. This seals the receiving plate 15 the lock chamber 3 vacuum-tight. The lock chamber 3 is connected to a vacuum pump not shown in the drawing and a ventilation device. This allows the lock chamber 3 optionally evacuated at least to pre-vacuum and vented to atmospheric pressure independently of the other facilities.

Auf den Tragarmen 7 am Transporttisch 6 sind Transportelemente 16 vorgesehen. Jeweils in der vertikalen Achse der Arbeitsstationen 1 und 2 sowie der Schleusenkammer 3 sind identische pneumatische Hubeinrichtungen 17 vorhanden.On the carrying arms 7 at the transport table 6 are transport elements 16 intended. Each in the vertical axis of the workstations 1 and 2 as well as the lock chamber 3 are identical pneumatic lifting devices 17 available.

Nachfolgend wird die erfindungsgemäße Vakuumeinrichtung in der Anwendung näher beschrieben.following becomes the vacuum device according to the invention closer in the application described.

Nachdem die Ringkammer 5 der Vakuumeinrichtung bei geschlossenem Schieberventil 9 evakuiert wurde, können die ersten Substrate der Vakuumeinrichtung zugeführt werden. Dazu wird über den Umsetzer 12 ein Haltearm, z.B. Haltearm 13, an dem eine Aufnahmeplatte 15 lösbar gehaltert ist, über einen Substratträger 10 auf dem Transportband 11 bewegt, abgesenkt und die Aufnahmeplatte 15 wird mechanisch mit dem Substratträger 10 gekuppelt. Der Umsetzer 12 wird angehoben, um 180 Grad geschwenkt und der Haltearm 13 wird über der Schleusenkammer 3 positioniert. Nach Absenken des Umsetzers 12 wird die Aufnahmeplatte 15 vakuumdicht auf eine obere Öffnung der Schleusenkammer 3 aufgesetzt. Danach wird die Schleusenkammer 3 auf Vorvakuum evakuiert, so dass in der Schleusenkammer 3 und in der Ringkammer 5 annähernd gleiche Drücke herrschen. Unter dieser Bedingung wird das Schieberventil 9 geöffnet und die Kolbenstange der darunter befindlichen Hubeinrichtung 17 wird angehoben. Dabei hebt die Kolbenstange zuerst das auf dem entsprechenden Tragarm 7 befindliche Transportelement 16 an und bewegt diese so weit nach oben, bis es an den Substratträger 10 anstößt, wodurch die Verriegelung zwischen dem Substratträger 10 und der Aufnahmeplatte 15 gelöst wird. Die Kolbenstange wird mit dem Transportelement 16 und dem Substratträger 10 wieder nach unten bewegt bis das Transportelement 16 auf dem Tragarm 7 aufliegt. Die Kupplung zwischen Kolbenstange Transportelement 16 und dem Substratträger 10 erfolgt dabei stoßgeschützt, da das Transportelement 16 beidseitig stoßdämpfende Elemente aufweist. Weiterhin weist das Transportelement 16 beidseitig Positionierhilfen auf, wodurch im Moment der Kupplung der Kolbenstange mit dem Transportelement 16 und dieses mit dem Substratträger 10 sowie dem Transportelement 16 zueinander axial ausgerichtet werden.After the annular chamber 5 the vacuum device with the slide valve closed 9 was evacuated, the first substrates of the vacuum device can be supplied. This is done via the converter 12 a holding arm, eg holding arm 13 to which a receiving plate 15 is releasably supported, via a substrate carrier 10 on the conveyor belt 11 moved, lowered and the receiving plate 15 becomes mechanically with the substrate carrier 10 coupled. The converter 12 is raised, pivoted 180 degrees and the arm 13 is above the lock chamber 3 positioned. After lowering the converter 12 becomes the receiving plate 15 vacuum-tight on an upper opening of the lock chamber 3 placed. After that, the lock chamber 3 evacuated to pre-vacuum, leaving in the lock chamber 3 and in the annular chamber 5 approximately equal pressures prevail. Under this condition, the gate valve 9 opened and the piston rod of the underlying lifting device 17 is raised. The piston rod first raises this on the corresponding support arm 7 located transport element 16 and moves it up until it reaches the substrate carrier 10 abuts, causing the latch between the substrate carrier 10 and the receiving plate 15 is solved. The piston rod is connected to the transport element 16 and the substrate carrier 10 moved back down to the transport element 16 on the support arm 7 rests. The coupling between piston rod transport element 16 and the substrate carrier 10 takes place shockproof, since the transport element 16 has shock absorbing elements on both sides. Furthermore, the transport element 16 Positioning aids on both sides, whereby at the moment of coupling the piston rod with the transport element 16 and this with the substrate carrier 10 and the transport element 16 be aligned axially with each other.

Nachdem die Substrate im Substratträger 10 in die Ringkammer 5 eingebracht wurden, kann das Schieberventil 9 geschlossen werden und das Transportelement 16 mit dem Substratträger 10 unter eine Arbeitsstation, z.B. die Arbeitsstation 2 bewegt werden. In entsprechender Weise wie vorstehend beschrieben, wird die Kolbenstange der unter der Arbeitsstation 2 befindlichen Hubeinrichtung 17 angehoben. Die Kolbenstande hebt zuerst das auf dem entsprechenden Tragarm 7 befindliche Transportelement 16 mit dem darauf befindlichen Substratträger 10 an und bewegt diese bis das Transportelement 16 mit einer Ringdichtung an eine untere Dichtfläche der Arbeitsstation 2 anstößt. In dieser Position befindet sich der Substratträger 10 mit den Substraten innerhalb der Arbeitsstation 2. Dort können die Substrate der technologisch vorgegebenen Behandlung unterzogen werden, wobei die Arbeitsstation 2 z.B. auch auf Hochvakuum evakuiert werden kann.After the substrates in the substrate carrier 10 in the ring chamber 5 may have been introduced spool valve 9 be closed and the transport element 16 with the substrate carrier 10 under a workstation, eg the workstation 2 to be moved. In a similar manner as described above, the piston rod is under the workstation 2 located lifting device 17 raised. The piston raises first on the corresponding support arm 7 located transport element 16 with the substrate carrier thereon 10 and moves them to the transport element 16 with a ring seal to a lower sealing surface of the workstation 2 abuts. In this position is the substrate carrier 10 with the substrates inside the workstation 2 , There, the substrates of the technologically predetermined treatment can be subjected, the workstation 2 eg can be evacuated to high vacuum.

Nach der Behandlung der Substrate in der Arbeitsstation 2 wird die Kolbenstange der Hubeinrichtung 17 wieder abgesenkt und das Transportelement 16 mit dem Substratträger 10 auf dem Tragarm 7 abgesetzt. In der Folge kann das Transportelement 16 mit dem Substratträger 10 der Arbeitsstation 1 sowie der nicht dargestellten Arbeitsstation (3) zugeführt werden. Nach Abschluss der vorgesehenen Behandlung der Substrate wird das Transportelement 16 mit dem Substratträger 10 unter der Schleusenkammer 3 positioniert, das Schieberventil 9 geöffnet und die Kolbenstange der Hubeinrichtung 17 so weit angehoben, bis der Substratträger 10 mit der Aufnahmeplatte 15 kuppelt. Danach wird die Kolbenstange der Hubeinrichtung 17 mit dem Transportelement 16 abgesenkt, das Schieberventil 9 geschlossen, die Schleusenkammer 3 belüftet und der Substratträger 10 kann mit der Aufnahmeplatte 15 in umgekehrter Reihenfolge wieder auf das Transportband 11 abgesetzt werden. Parallel wird ein anderer Substratträger 10 mit einer Aufnahmeplatte 15 vom Haltearm 14 in die Schleusenkammer 3 eingesetzt.After the treatment of the substrates in the workstation 2 becomes the piston rod of the lifting device 17 lowered again and the transport element 16 with the substrate carrier 10 on the support arm 7 discontinued. As a result, the transport element 16 with the substrate carrier 10 the workstation 1 and the workstation, not shown ( 3 ). After completion of the intended treatment of the substrates becomes the transport element 16 with the substrate carrier 10 under the lock chamber 3 positioned, the slide valve 9 opened and the piston rod of the lifting device 17 raised so far until the substrate carrier 10 with the receiving plate 15 couples. Thereafter, the piston rod of the lifting device 17 with the transport element 16 lowered, the slide valve 9 closed, the lock chamber 3 ventilated and the substrate carrier 10 can with the receiving plate 15 in reverse order on the conveyor belt again 11 be dropped off; be discontinued; be deducted; be dismissed. Parallel becomes another substrate carrier 10 with a receiving plate 15 from the holding arm 14 into the lock chamber 3 used.

Die erfindungsgemäße Einrichtung kann sehr einfach bedient werden. Die Einschleusung der Substrate in die Ringkammer 5 und zu den Arbeitsstationen 1 und 2 (3) ist einfach, sicher und kann mit kurzen Taktzeiten realisiert werden.The device according to the invention can be operated very easily. The introduction of the substrates into the annular chamber 5 and to the workstations 1 and 2 ( 3 ) is simple, safe and can be realized with short cycle times.

11: Arbeitsstationworkstation
22: Arbeitsstationworkstation
33: Schleusenkammerlock chamber
44: Zentralachsecentral axis
55: Ringkammerannular chamber
66: Transporttischtransport table
77: Tragarmecarrying arms
88th: Achseaxis
99: Schieberventilspool valve
1010: Substratträgersubstrate carrier
1111: Transportbandconveyor belt
1212: Umsetzerconverter
1313: Haltearmholding arm
1414: Haltearmholding arm
1515: Aufnahmeplattemounting plate
1616: Transportelementetransport elements
1717: Hubeinrichtungenlifting devices

Claims

Vacuum device for the treatment of substrates, consisting of an annular chamber ( 5 ) with a central axis ( 4 ), at least one workstation ( 1 . 2 ) and a lock chamber ( 3 ), which are circular to the central axis ( 4 ) are arranged, a device for feeding the substrates into the lock chamber ( 3 ) with a substrate carrier ( 10 ), wherein the substrate carrier ( 10 ) detachable on a receiving plate ( 15 ) can be held, which after the introduction of the substrate carrier ( 10 ) into the lock chamber ( 3 ) acts as a sealing plate, as well as a transport table ( 6 ) for transporting the substrate carrier ( 10 ) to the individual workstations ( 1 . 2 ) and the lock chamber ( 3 ), which in the annular chamber ( 5 ) around the central axis ( 4 ) is rotatably mounted, characterized in that between the lock chamber ( 3 ) and the annular chamber ( 5 ) a slide valve ( 9 ) is provided that transport elements ( 16 ) which are detachable on supporting arms ( 7 ) of the transport table ( 6 ) and are suitable, the substrate carrier ( 10 ) with the substrates and to the workstation ( 1 . 2 ) as well as the lock chamber ( 3 ) to position that to the workstation ( 1 . 2 ) a movement device is provided, which is suitable, the transport elements ( 16 ) from the storage on the support arms ( 7 ) of the transport table ( 6 ) to a sealing surface at the workstation ( 1 . 2 ), wherein sealing elements on the transport elements ( 16 ) the workstations ( 1 . 2 ) vacuum-tight, that assigned to the lock chamber ( 3 ) there is a movement device which is suitable for transporting the respective transport element ( 16 ) with open slide valve ( 9 ) of the support arm ( 7 ) at the transport table ( 6 ) in the locks chamber ( 3 ) until the substrate carrier ( 10 ) on the receiving plate ( 15 ) is held or the substrate carrier ( 10 ) with the transport element ( 16 ) from the receiving plate ( 15 ) and out of the lock chamber ( 3 ) on the support arm ( 7 ) at the transport table ( 6 ) and stored there and that the workstation ( 1 . 2 ) when sealed by a transport element ( 16 ) as well as the lock chamber ( 3 ) with the slide valve closed ( 9 ) and sealingly fitting receiving plate ( 15 ) can be connected to vacuum generators and / or ventilation devices.

Vacuum device according to claim 1, characterized in that the annular chamber ( 5 ) with a vacuum generator to generate an advance vacuum connected is.

Vacuum device according to claim 1 or 2, characterized in that the support arms ( 7 ) for the transport elements ( 16 ) and / or the transport elements ( 16 ) for the substrate carriers ( 10 ) Have positioning elements, with which the substrate carrier ( 10 ) before insertion to the workstation ( 1 . 2 ) and the lock chamber ( 3 ).

Vacuum device according to one of claims 1 to 3, characterized in that the transport elements ( 16 ) and / or the movement devices have damping elements axially in the direction of movement.

Vacuum device according to one of the preceding claims, characterized in that the movement means within the annular chamber ( 5 ) or a part of each movement device inside and another part outside the annular chamber ( 5 ) are arranged.