DE19954355A1 - Polierteller und Verfahren zur Einstellung und Regelung der Planarität eines Poliertellers - Google Patents
Polierteller und Verfahren zur Einstellung und Regelung der Planarität eines PoliertellersInfo
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Abstract
Die Erfindung bezieht sich auf einen Polierteller zum Läppen, Schleifen oder Polieren scheibenförmiger Werkstücke, der gekennzeichnet ist, durch eine obere Schicht ("Oberteller") (3), die von einem Kühllabyrinth durchzogen ist, eine thermisch isolierende Zwischenlage (4) und eine untere Schicht ("Unterteller") (5), die von einem zweiten Kühllabyrinth durchzogen ist. Die Erfindung bezieht sich auch auf ein Verfahren zur Einstellung und Regelung der Planarität eines Poliertellers zum Läppen, Schleifen oder Polieren von Substratscheiben.
Description
Die Erfindung betrifft einen Polierteller zum Läppen, Schleifen
oder Polieren von Substratscheiben. Die Erfindung betrifft auch
ein Verfahren zur Einstellung und Regelung der Planarität eines
Poliertellers zum Läppen, Schleifen oder Polieren von Substrat
scheiben.
Die Planparallelisierung, beispielsweise mittels Läppen,
Schleifen oder Polieren, bildet einen wichtigen Bearbeitungs
schritt im Prozeßablauf zur Herstellung von Substratscheiben
aus beispielsweise Silicium oder Siliciumcarbid. Insbesondere
die Politur bestimmt als letzter, maßgeblich formgebender Bear
beitungsschritt die Ebenheit, Defektfreiheit und (Mikro-)Rau
higkeit dieser Substratscheiben. Im Stand der Technik sind ver
schiedene Verfahren und Vorrichtungen zum Polieren von Sub
stratscheiben, insbesondere von Halbleiterscheiben, bekannt.
Die EP 0 773 270 A2 beispielsweise offenbart ein Verfahren mit
tels einer chemo-mechanischen Politur auf rotierenden, ebenen
Arbeitsscheiben, den sogenannten Poliertellern, die mit Polier
tüchern bespannt sind. Zum Einsatz kommen dabei Einseiten- und
Doppelseitenpolier-Verfahren und Vorrichtungen, die die Scheibe
einseitig oder simultan beidseitig planarisieren
(vgl. EP 0 776 030 A2 und US 5,389,579).
Die Planarität des Poliertellers wird mittels Stützrippen, Tem
perierung und/oder durch die Verwendung von thermostabilen
Werkstoffen während des Polierprozesses konstant gehalten. Die
Temperierung erfolgt dabei in der Regel durch eine Kühlflüssig
keit, die in Kühlkanälen oder Kühllabyrinthen den Polierteller
durchströmt. Die Einstellung und Regelung (d. h. der Ausgleich
von Abweichungen bei thermischen und mechanischen Lastwechseln
im Prozeß durch Nachführung geeigneter Stellgrößen an geeignete
"Ist"-Meßgrößen) der Planarität des Poliertellers erfolgt dann
über die Durchflußmenge des Kühlmittels oder über andere Stell
größen, wie beispielsweise Druck, Auflast oder mechanische
Stellelemente.
Nachteilig an diesen Vorrichtungen und Verfahren zur Einstel
lung, Nachführung und somit geregelten Beibehaltung der Plana
rität des Poliertellers ist, daß bei Poliertellern gemäß dem
Stand der Technik die Tellerkonstruktion aus Gründen der mecha
nischen Stabilität und Steifigkeit sehr massiv ausgelegt ist
(große Materialstärken und -massen). Damit ist auch die thermi
sche Masse des an diese konstruktive Ausführung gebundenen
Kühlsystems konventioneller Polierteller sehr hoch. Der Teller
reagiert thermisch sehr träge mit Response-Zeiten von typi
scherweise < 10-20 min und erlaubt keine schnelle Regelung,
gezielte Nachführung und Anpassung an Wechselbelastungen wäh
rend des Prozesses. Die Zeitskala einer schnellen Regelung ist
durch die typische Prozeßzeitdauer und die typische Zahl der
darin stattfindenden Last- und Temperaturwechsel eines Polier-,
Schleif- oder Läpprozesses gegeben. Im Rahmen der Erfindung ist
demnach unter "schnell" ein Zeitraum von etwa 1 min zu verste
hen.
Aufgrund dieser Effekte ist der Grad der erreichbaren Planari
tät der Telleroberfläche begrenzt. Insbesondere das meistver
wendete Verfahren der Tellertemperierung, das prozeßbedingt
zeitlich und räumlich schwankende Temperatureinträge in das Ge
samtsystem korrigieren soll, führt maschinenseitig bei Änderun
gen der Poliertellertemperatur zu zeitlich und räumlich insta
tionären Wärmeflüssen innerhalb der gesamten Poliermaschine.
Die Ausdehnung bzw. das Zusammenziehen unterschiedlicher Po
liermaschinenteile aus unterschiedlichen Werkstoffen steht da
mit der Planarität des Poliertellers entgegen. Zeitlich und
räumlich schwankende Temperatureinträge ergeben sich beispiels
weise durch geringfügige Dickenabweichungen der Werkstücke zu
Beginn des Polierprozesses, die zu räumlich ungleich verteilter
Druck- und Reibungswärmebelastung des Poliertellers führen
(Tellerverbiegung, inhomogene Erwärmung), ferner durch die sich
während des Prozesses ändernde Oberflächenrauhigkeit mit unter
schiedlichen Gleitreibungskoeffizienten und somit zeitlich ver
änderlichen Reibungswärmeeinträgen, durch beispielsweise ver
schiedene Polierdruck-Zyklen (Auflastwechsel) oder Änderungen
der Polierkinematik.
Voraussetzung für die Planparallelisierung der Substratscheiben
durch o. g. Polierverfahren und -vorrichtungen ist eine mög
lichst gute Einstellung, Nachführung und somit Regelung (gere
gelte Aufrechterhaltung) der Planarität des Poliertellers, ins
besondere der Oberfläche des Poliertellers, die die scheiben
förmigen Werkstücke, beispielsweise Halbleiterscheiben, bear
beitet.
Unter "Einstellung" im Rahmen der Erfindung wird die anfängli
che Vorgabe der Planarität des Poliertellers, beispielsweise
durch Temperierung, vor dem Polierprozeß verstanden (Stellgrö
ßen). Unter "Regelung" ist die Nachführung und der gezielte
Ausgleich von Abweichungen der "Ist"-Planarität von der "Soll"-
Planarität unter Wechselbelastungen während des Polierprozesses
nach während des Prozesses erhaltenen Meßgrößen zu verstehen
(Regelgrößen).
Die Aufgabe der Erfindung bestand daher darin, einen Poliertel
ler und ein Verfahren zur Einstellung und Regelung der Planari
tät eines Poliertellers anzugeben, die die oben genannten Nach
teile vermeiden.
Gelöst wird die Aufgabe durch einen Polierteller zum Läppen,
Schleifen oder Polieren scheibenförmiger Werkstücke, der ge
kennzeichnet ist, durch eine obere Schicht ("Oberteller") (3),
die von einem Kühllabyrinth durchzogen ist, eine thermisch iso
lierende Zwischenlage (4) und eine untere Schicht ("Untertel
ler") (5), die von einem zweiten, Kühllabyrinth durchzogen ist.
Der erfindungsgemäße, mehrlagige Polierteller wird von zumin
dest zwei unabhängigen Kühllabyrinthen durchzogen. Ein weiteres
Kennzeichen der vorliegenden Erfindung ist die durch diesen la
genweisen Schichtaufbau erzielte "Sandwich"-Konstruktion in
Form eines Stapels von Schichten, die jeweils unterschiedliche
Aufgaben übernehmen und deren Wirken gezielt miteinander ge-
oder entkoppelt ist.
Maßgeblich für die Eignung eines derartigen mehrlagigen "Sand
wich"-Aufbaus des Poliertellers zum Erreichen der geforderten
Ziele (konstante bzw. gezielt steuerbare Planarität) ist insbe
sondere die unabhängige Kühlbarkeit von oberer (werkstück
zugewandter) und unterer (Stütz-, Unterteller) Lage und die
thermische Trennung der beiden durch die dazwischen befindliche
Zwischenlage. Die untere Lage ist vorzugsweise massiv und ther
misch träge, um die mechanische Stabilität des Gesamtaufbaus
sicherzustellen (Steifigkeit), während die obere Lage vorzugs
weise dünn und von geringer Masse und thermischer Trägheit ist,
um schnell temperiert werden zu können.
Es zeigt sich, daß bereits eine aus nur drei Lagen bestehende
Schichtkonstruktion des Poliertellers die Planarität der Ober
fläche der gesamten Arbeitsscheibe gewährleistet, insbesondere
dann, wenn geeignete Materialien für die einzelnen Schichten
verwendet werden und der Unterteller und der Oberteller jeweils
von eigenen, voneinander unabhängigen Kühllabyrinthen durchzo
gen sind. Als Arbeitsscheibe wird die gesamte, das Werkstück
bearbeitende, bewegliche Vorrichtung bezeichnet.
Die Arbeitsscheibe, die die scheibenförmigen Werkstücke (Sub
stratscheiben, z. B. Halbleiterscheiben) bearbeitet, ist bevor
zugt mit einem Poliertuch bespannt und von einem unabhängigen
Kühllabyrinth durchzogen. Die Materialstärke ist so gewählt,
daß sich der Oberteller (d. h. die der Werkstücke zugewandte
obere Schicht) aufgrund der elastischen Eigenschaften des Mate
rials dem formgebenden und formerhaltenden Unterteller anpaßt.
Vorzugsweise handelt es sich dabei um ein mechanisch steifes
Material mit einem hohen Elastizitätsmodul, geringer spezifi
scher Wärmekapazität, hoher Wärmeleitfähigkeit und großer Här
te. Zweckmäßigerweise ist das Material auch inert gegenüber
Chemikalien.
Der Oberteller ist kompakt aus einem Stück oder aus mehreren
Stücken, beispielsweise Kacheln gefertigt. Im Fall einer Ausle
gung des Obertellers in Form von zusammengesetzten Kacheln par
kettieren diese Kacheln die Oberseite der Arbeitsscheibe voll
ständig, d. h. vorzugsweise lückenlos.
Die Kacheln sind vorzugsweise steif, hart, chemisch inert und
von hoher Wärmeleitfähigkeit und geringer spezifischer Wärme.
Sie bestehen bevorzugt aus Sinterkeramik, beispielsweise aus
Siliciumcarbid.
Die thermisch isolierende Zwischenlage bildet bevorzugt eine
form- und kraftschlüssige Verbindung zwischen Oberteller und
Unterteller. Idealerweise hat die Zwischenschicht einen mit dem
Oberteller übereinstimmenden Wärmeausdehnungskoeffizienten oder
große laterale Elastizität, um ein Aufwölben dieser Schichtkon
struktion zu verhindern. Bevorzugt ist weiterhin ein Material
mit geringer vertikaler Elastizität und Plastizität und guter
Gleitfähigkeit, gegebenenfalls unterstützt durch einen rei
bungsvermindernden Schmierzwischenfilm zwischen Zwischenlage
und Unterteller. Bei unterschiedlichen Wärmeausdehnungskoeffi
zienten der Lagen kann durch Gleitung ausgeglichen werden. Be
vorzugt handelt es sich bei der Zwischenlage um Kunststoffe,
besonders bevorzugt faserverstärkte Verbundwerkstoffe mit du
roplastischer oder elastomerer Verbundmatrix. Diese zeichnen
sich durch hohe Formstabilität in Faserrichtung und durch Art
und Verarbeitung von Matrix und Faserfüllstoff über weite Be
reiche maßgeschneidert veränderbare thermische und mechanische
Eigenschaften aus.
Die mechanischen und thermischen Eigenschaften sind gezielt,
anisotrop einstellbar (Vorzugsrichtungen für thermische und me
chanische Eigenschaften), wie beispielsweise eine gute Wärmelei
tung und hohe mechanische Stabilität in Faserrichtung und eine
schlechte senkrecht dazu.
Kohlenstoffasern: gute Wärmeleitung, mechanisch steif; Glasfa
sern: schlechte Wärmeleitung, hohe Haftung zwischen Faser und
Matrix; Synthesefasern: schlechte Wärmeleitung, hohe Schlagzä
higkeit. Bevorzugt sind Kohlestoffaser-gefüllte Epoxydharz-
Verbundsysteme die mit einem verschwindenden thermischen Aus
dehnungskoeffizienten hergestellt werden können. Durch die
Klebstoffwirkung während der Verbundkunststoffherstellung (La
minat) wird bevorzugt eine dauerhaft form- und kraftschlüssige
Verbindung zwischen der Zwischenlage und dem Oberteller herge
stellt.
Eine dichtschließend aufgebrachte Zwischenlage kann mit Vorteil
dazu verwendet werden, ein auf der Unterseite des Obertellers
eingefrästes, eingeformtes oder eingesintertes (d. h. in den
Grünling eingeprägtes), offen liegendes Kühllabyrinth
abzudecken, so daß Oberteller und Zwischenlage, nachfolgend als Ober
lage bezeichnet, aus einem Stück gefertigt sind und eine gerin
ge Materialstärke aufweisen.
Der selbsttragende Unterteller ist von einem groß dimensionier
ten, unabhängigen Kühllabyrinth durchzogen. Die Materialstärke
ist so gewählt, daß eine selbsttragende, formstabile und stabi
litätsvermittelnde Konstruktion entsteht; gegebenenfalls sind
lastausgleichende Stützrippen integriert. Das Material hat be
vorzugt eine hohe mechanische Steifigkeit (Elastizitätsmodul;
Young'sches Modul), gute Wärmeleitfähigkeit bei gleichzeitig
hoher materialspezifischer Wärmekapazität. Daraus resultiert
eine gleichmäßige Erwärmung (zu Beginn des Polierprozesses) und
die Möglichkeit der Temperierung auch unter extremer thermi
scher Belastung. Vorzugsweise stimmt der Wärmeausdehnungs
koeffizient des Materials des Untertellers mit dem des Materi
als der Restkonstruktion der Poliermaschine, wie beispielsweise
des Gestells überein. Ein unvermeidlich verbleibender Unter
schied in den Wärmeausdehnungskoeffizienten von Unterteller und
Maschinenkonstruktion kann aber zur besonders feinfühligen Ein
stellung der Tellerplanarität genutzt werden.
Bevorzugt werden für den Unterteller die gleichen Materialien
wie für konventionelle einlagige Tellerkonstruktionen nach dem
Stand der Technik, wie beispielsweise Kugelgraphit verwendet.
Dies hat darüber hinaus den Vorteil, daß vorhandene Einlagen
teller nachträglich ohne großen Aufwand zu einem mehrlagigen
Poliertellersystem gemäß der vorliegenden Erfindung nachgerü
stet werden können.
Erfindungsgemäß entsteht wesentlich durch den massiven, stei
fen, selbsttragenden Unterteller, jedoch auch durch den Verbund
selbst dieser zumindest dreilagigen Schichtkonstruktion ein
hochsteifer, selbsttragender Gesamt-Polierteller (Arbeitsschei
be). Der Oberteller (oberste Schicht einer mehrlagigen Arbeits
scheibe) kann aufgrund seiner geringen Masse, geringen Wärmeka
pazität, hohen Wärmeleitfähigkeit und aufgrund der isolierenden
Zwischenlage schnell mittels eines unabhängigen Kühllabyrinths
temperiert werden. Die Zwischenlage verhindert dabei einen Wär
meaustausch zwischen Oberteller und Unterteller. Die Oberlage,
bestehend aus dem Oberteller und zumindest einer Zwischenlage
ist bevorzugt auf dem Unterteller schwimmend gelagert, gegebe
nenfalls mittels einer reibungsvermindernden Schmiermittelzwi
schenschicht. Dadurch kann die Oberlage in lateraler Richtung
reibungskräftearm Lastwechseln und Spannungen verformungsfrei
folgen, gleichzeitig aber die Drehmomente des Untertelleran
triebs weitestgehend spielfrei auf den Oberteller, der in mate
rialbearbeitendem Kontakt mit den Werkstücken steht.
Erfindungsgemäß wird auch der thermisch isolierte Unterteller
mittels eines unabhängigen Kühllabyrinths temperiert. Diese
Temperierung erfolgt aufgrund der thermischen Isolationszwi
schenlage weitgehend ohne thermische Beeinflussung durch die
obere Tellerlage und umgekehrt. Insbesondere kann die Tempera
tur des Untertellers konstant auf einer, für die Planarität des
Untertellers und die Wärmeflüsse innerhalb der Poliermaschine
bevorzugten Temperatur gehalten werden. Die genaue Wahl dieser
Temperatur ist dann nicht mehr konstruktiv vorbestimmt. Sie
wird erfindungsgemäß frei und nur nach den Erfordernissen des
gewünschten Prozesses gewählt. Dadurch steht ein neuer, weitge
hend von anderen Größen unabhängiger Prozeßparamter zur Verfü
gung, nämlich der der unabhängigen Temperierung der Arbeitszone
selbst; besonders vorteilhaft wirkt sich dieser Prozeßparameter
bei einer chemo-mechanischen Politur aus.
Die Temperierung von Oberteller und Unterteller erfolgt bevor
zugt über die Durchflußmenge oder die Durchflußtemperatur des
Kühlmittels, das die unabhängigen Kühllabyrinthe durchströmt.
Das Kühlmittel dient nicht notwendigerweise zum Kühlen, sondern
zum Temperieren, d. h. zur Einstellung einer bestimmten Tempe
ratur.
Während des Polierprozesses kommt es, insbesondere im Po
lierspalt, zu Temperaturschwankungen, beispielsweise durch ver
änderte Reaktionsgeschwindigkeiten, durch exotherme chemische
Reaktionen des Poliermittels mit der Substratscheibe oder durch
einen höheren Auflagedruck. Durch den einmal temperierten und
dann temperaturkonstant gehaltenen Unterteller bilden sich sta
tionäre, von den Prozeßbedingungen unabhängige Wärmeflüsse
durch die gesamte Poliermaschine aus.
Die Temperatur des selbsttragenden Arbeitsscheiben-Untertellers
wird einmal gewählt, so daß die Maschine in einem optimalen me
chanischen und thermischen Parameterbereich arbeitet. Sie kann
gegebenenfalls auf langsamer Zeitskala zum Ausgleich allgemei
ner Erwärmung der Maschine bei Dauernutzung verändert werden,
um die Gesamtwärmeströme weiterhin stationär zu halten. Die
Temperatur wird so gewählt, daß stabile Wärmeströme bestehen.
Davon unabhängig und weitgehend unbeeinflußt wird der Arbeits
scheiben-Oberteller, der mit den Werkstücken in materialbear
beitendem Kontakt steht, frei nach den gewünschten Prozeßeigen
schaften und -erfordernissen gewählt, ohne von den Eigenschaf
ten der Maschine eingeschränkt oder gar festgelegt zu werden.
Gelöst wird die Aufgabe der Erfindung auch durch ein Verfahren
zur Einstellung und Regelung der Planarität eines Poliertellers
zum Läppen, Schleifen oder Polieren von Substratscheiben, das
dadurch gekennzeichnet ist, daß der Unterteller eines zumindest
dreilagigen Poliertellers temperiert wird und dann die Tempera
tur konstant gehalten wird und der Oberteller der gesamten Ar
beitsscheibe temperiert wird und die Temperatur dem jeweiligen
Polierprozeß angepaßt wird.
Erfindungsgemäß erfolgt auch eine gezielte Nachführung von
Steuergrößen, wie beispielsweise die Durchflußmenge des Kühl
mittels durch Meßgrößen, beispielsweise die Temperatur im Po
lierspalt, die während des Polierprozesses ermittelt werden.
Der Unter- und Oberteller wird beispielsweise mittels Durch
flußmenge und/oder Durchflußtemperatur des Kühlmittels tempe
riert.
Das erfindungsgemäße Verfahren beruht auf der Temperierung des
Untertellers und der unabhängigen Temperierung des Obertellers
mittels einer Kühlflüssigkeit, die durch die unabhängigen Kühl
labyrinthe strömt. Der Unterteller wird beispielsweise so tem
periert, daß Planparallelität zwischen der Untertelleroberflä
che und der Ebene, in der die scheibenförmigen Werkstücke wäh
rend des Prozesses geführt werden, besteht. Diese Referenzebene
ist beispielsweise ein Werkstückträger, auf den die Werkstücke
montiert sind.
Diese Situation liegt im Anwendungsfall der Einseitenbearbei
tung vor. Diese Referenzebene kann jedoch auch in einem weite
ren, vorzugsweise gleichartigen Polierteller bestehen, der der
erstgenannten gesamten Arbeitsscheibe gegenübersteht. Die Werk
stücke liegen dann in dem von den gegenüberstehenden Arbeits
scheiben gebildeten Spalt und werden, gegebenenfalls durch Füh
rungskäfige, weitgehend frei beweglich simultan beidseitig be
arbeitet.
Für Polieranwendungen liegen die Tellertemperaturen etwa bei 40°C,
für Läpp- und Schleifanwendungen aufgrund des geringeren
Gleitreibungseintrags während der Bearbeitung etwa bei Raumtem
peratur. Dies sind jedoch nur Anhaltswerte, die prozeß-, werk
stoff- und anwendungsspezifisch mehr oder weniger stark abwei
chen.
Die Planparallelität wird in der Regel für den Belastungsfall,
d. h. während des Prozesses gefordert, zumindest wenn Plan
parallelität von der Endgeometrie der Werkstücke nach Prozeßen
de als Ziel gefordert ist. Der erfindungsgemäße Polierteller
ist auch für die Bearbeitung von Werkstücken mit bestimmter
sphärisch gekrümmter Oberflächen-Zielform anzuwenden, bei
spielsweise Linsen für optische Anwendungen. Die erforderliche
Krümmungsmaßhaltigkeit wird in vollständiger Analogie zu dem
für planparallele Bearbeitung Ausgeführten ebenfalls durch ei
nen Mehrlagen-Polierteller gemäß der Erfindung erzielt.
Die vorzugsweise schwimmend gelagerten, nicht selbsttragenden,
oberen Tellerlagen folgen elastisch der Referenzfläche. Während
des Polierens wird die Temperatur und damit die Form des Unter
tellers stets konstant gehalten, so daß sich konstante, statio
näre Wärmeströme innerhalb der gesamten Poliermaschine ausbil
den und in Folge konstant bestehen bleiben. Damit unterliegt
die gesamte Poliermaschine selbst, trotz Wechselbelastungen in
der Arbeitszone, insbesondere im Polierspalt, keinerlei thermi
schen Wechselbelastungen und damit auch keinerlei thermisch be
dingten Formänderungen. Erfindungsgemäß erfolgt die Temperie
rung des Obertellers unabhängig von der Temperierung des Unter
tellers und ohne Veränderung der thermischen Verhältnisse in
der Poliermaschine. Gegenüber dem Stand der Technik steht da
durch ein zusätzlicher frei wählbarer Parameter zur thermischen
Regelung des Polierprozesses zur Verfügung.
Insbesondere ergeben sich gegenüber dem Stand der Technik Vor
teile des erfindungsgemäßen Verfahrens und der erfindungsgemä
ßen Vorrichtung in der Temperierung des Untertellers, die kon
stante thermische Verhältnisse in der gesamten Poliermaschine
schaffen, die thermische Formänderungen, Drift, Verwerfung oder
Abweichungen unterbinden und den Polierprozeß stabil und steu
erbar halten. Die Temperierung des Untertellers kann auf großer
Zeitskala, d. h. beispielsweise von Polierfahrt zu Polierfahrt
zum Ausgleich von Ergebnisabweichungen der Kenngrößen der bear
beiteten Substratscheiben geändert werden, ohne daß sich die
thermischen Verhältnisse in der Arbeitszone, insbesondere im
Polierspalt ändern, da diese ja von einer unabhängigen Tempe
rierung des Werkstück-zugewandten Obertellers bestimmt werden.
Die Temperierung des Obertellers wird als zusätzlicher frei
wählbarer Parameter zur thermischen Regelung des Polierprozes
ses verwendet. Beispielsweise kann wahlweise ein Hochtempera
tur- (hohe Abtragsrate) oder ein Niedertemperatur-Polierprozeß
gefahren werden. Insbesondere ist hier die Regelung der effek
tiven Poliermitteltemperatur am Ort des Poliervorganges zu nen
nen, die beispielsweise einer von der Prozeßlaufzeit abhängigen
Erwärmung des Poliertuchs gegensteuert. Aus der konstanten Tem
peratur resultiert ein zeitlich (globale Abtragsrate) und räum
lich (lokale Abtragsrate) konstanter Polierabtrag. Die Tempe
rierung kann aber beispielsweise auch dafür genutzt werden, daß
während des Bearbeitungsvorganges auftretende thermische Wech
selbelastungen aufgrund des Bearbeitungsvorganges selbst ausge
glichen werden.
In den Fig. 1 bis 5 sind bevorzugte Ausgestaltungen eines
erfindungsgemäßen Poliertellers dargestellt; in den Figuren
sind gleiche Merkmale mit gleichen Bezugsziffern versehen.
Es zeigen:
Fig. 1 einen dreilagigen Polierteller;
Fig. 2 eine bevorzugte Ausführungsform eines Obertellers;
Fig. 3(a) eine dreilagig zusammengesetzte Arbeitsscheibe
(Polierteller) in Explosionsdarstellung, (b) den
Oberteller dieser dreilagig zusammengesetzten Ar
beitsscheibe in Aufsicht, (c) Ausführungsbeispiele
einzelner Kacheln, aus denen sich der hier parket
tiert ausgeführte Oberteller zusammensetzt;
Fig. 4 einen mehrlagigen Polierteller;
Fig. 5 Ausführungsbeispiele der Parkettierung einer Arbeits
scheibe.
Der obere Bildteil in Fig. 1 zeigt die dreilagige Schichtkon
struktion eines erfindungsgemäßen Poliertellers in einer Explo
sionsdarstellung; der Polierteller setzt sich aus dem Obertel
ler 3, der Zwischenlage 4, dem Unterteller 5 und dem Außen- 1
und Innenantrieb 2 der Abwälzvorrichtung zusammen. Eine verti
kal spiegelbildliche Anordnung des Poliertellers (Arbeitsschei
be) kommt in einer Doppelseiten-Polier-, Läpp- oder Schleifma
schine zum Einsatz.
Fig. 2 zeigt eine bevorzugte Ausführungsform eines Obertel
lers, der von einem Kühllabyrinth 6 durchzogen ist. Das mäan
derförmig angelegte Kühllabyrinth besteht bevorzugt aus mehre
ren einzeln gespeisten Segmenten und ermöglicht die schnelle
Temperierung des den Werkstücken nächstgelegenen Obertellers
der gesamten Arbeitsscheibe. Die mäanderförmige Gestaltung der
Kühlkanäle 6 führt zu lokal gegenläufigen Flüssen des Kühlmit
tels, wodurch ein maximaler Wärmeaustausch stattfindet. Die in
Umfangsrichtung alternierend nach innen und außen gerichteten
Kühlmittelströme 7 unterbinden radiale Wärmegradienten in der
Arbeitsscheibe. Inhärent kann eine derartige Anordnung der
Kühlkanäle jedoch zur Ausbildung von Wärmegradienten in Um
fangsrichtung 8 führen. Dieser wirkt die in Fig. 2 gezeigte
Segmentierung des Kühlmäanders in mehrere identisch aufgebaute,
einzeln mit Kühlmittel gespeiste Kreissektoren entgegen, wes
halb eine derartige Ausführungsform bevorzugt ist. Die Anzahl
der Segmente richtet sich nach den Erfordernissen der Anwen
dung, insbesondere nach der abzuführenden Wärmemenge und -ver
teilung über den Oberteller; durch zusätzliche Segmente nimmt
der Kühlmittelfluß aufgrund der Mehrfachspeisung zu. Dies er
möglicht eine schnellere Temperierung und reduziert die Ausbil
dung von Wärmegradienten. Die allgemein zweckmäßige Ausführung
von Kühllabyrinthen als Mäander mit lokaler Gegenströmung ist
Stand der Technik.
Neu im Sinne der Erfindung sind die Ausführungsformen des Kühl
mittellabyrints als ein Verbund aus einzelnen "Kacheln", wo
durch das Kühlsystem sehr variabel wird. Insbesondere ist es
möglich, unter Verwendung weniger verschiedener Kachel-
Grundtypen, die kostengünstig in entsprechend großen Stückzah
len hergestellt werden können, eine Vielzahl unterschiedlich
großer Arbeitsscheiben zu parkettieren und eine Vielzahl unter
schiedlicher Kühlkanal-Topologien, -Formen, -Segmente und wirk
samer Kühlquerschnitte herzustellen. Ferner können durch die
Ausführung des Kühlsystems in Form eines Verbundes aus einzel
nen "Kacheln" auch Werkstoffe zum Einsatz kommen, deren Verwen
dung bei konventionellen, aus einem Stück bestehenden ("mono
lithischen") Poliertellern aufgrund von herstellungsbedingten
Größenbeschränkungen der Tellerhalbzeuge aus dem gewünschten
Werkstoff nicht möglich ist. (Sinterkeramikplatten sind bspw.
nur bis max. Durchmesser ~70 cm, meist jedoch gar nur bis ~20
~30 cm aus einem Stück herstellbar).
Eine besonders bevorzugte Ausführungsform des Obertellers, als
Verbundschicht aus gleichartigen Kacheln mit Bohrungen, die
sich zu einem durchgängigen Kühllabyrinth aneinanderreihen las
sen, ist in Fig. 3(c) dargestellt. Fig. 3a zeigt die dreila
gige Schichtkonstruktion eines Poliertellers in einer Explosi
onsdarstellung.
Beispielsweise wird durch die Verwendung von vorzugsweise
sechseckigen Kacheln mit einer 60°-, einer 120°- und einer
180°-Bohrung (12, 13, 14) für den Kühlmitteldurchgang, wie in
Fig. 3(c) gezeigt, eine lückenlose Parkettierung der Ober
schicht mit einem geschlossenen Kühllabyrinth (6, 11) ermög
licht (vgl. 3(b)). In Fig. 3(b) ist zudem eine geeignete Seg
mentierung der Kühllabyrinthe gezeigt. Die Kacheln sind bevor
zugt aus Materialien hoher mechanischer Steifigkeit, Härte, Ab
rieb- und Bruchfestigkeit (geforderte Langlebigkeit für
Schleif-/Läppanwendungen; geringe Schädigungsneigung bei Werk
stückbruch unter der Bearbeitung), chemisch resistent (chemo-
mechanische Politur), von guter Wärmeleitfähigkeit und geringer
Wärmekapazität (schnelle Temperierbarkeit) und möglichst gerin
ger Abweichung des Wärmeausdehnungskoeffizienten von dem des
Untertellers der mehrlagigen Arbeitsscheibe. Bevorzugt ist Si
liciumkarbid als Material für die Kacheln. Form, Größe und 00
Dicke der Kacheln sowie deren Herstellung sind nicht Gegenstand
der Erfindung. Die bevorzugte Ausführung der Kacheln in Form
gleichseitiger Sechsecke ist herstellungsmäßig einfach zu rea
lisieren (einfache, konvexe Formbegrenzung der Werkstücke) und
ermöglicht schnittverlust-ärmste lückenlose Parkettierung der
fast ausschließlich runden Arbeitsscheiben (wenig "Überhänge").
Jedoch sind auch alle anderen Formen oder mehrförmigen Formsät
ze von Kacheln, die eine lückenlose Parkettierung liefern, im
Sinne der Erfindung verwendbar. Die spezifische Formwahl kann
hier mit Vorteil also den Erfordernissen eines einfachen oder
kostengünstigen Herstellungsprozesses angepaßt werden, was eine
weitere Zunahme an Flexibilität dieser bevorzugten Telleraus
führung aus Kacheln bedeutet.
In Fig. 5 sind Ausführungsbeispiele der Parkettierung eines
Obertellers dargestellt. In Fig. 5a ist eine Parkettierung mit
kleinen Kacheln und einem sechsfach segmentierten Kühllabyrinth
(15) und sechs Kühlmittelzu- und sechs Kühlmittelabführungen
(10) dargestellt. Diese Mehrfach-Segmentierung und damit Mehr
fachspeisung des Kühlmittelkreislaufs sowie die Mäanderfaltung
unterbinden die Ausbildung von Wärmegradienten auf bzw. in dem
Oberteller. Als Parkettierungselemente sind ohne Einschränkung
identisch geformte (beispielsweise gleichseitige Dreiecke, Qua
drate oder Sechsecke oder auch unregelmäßig berandete Formen)
oder Sätze aus mehreren unterschiedlich geformten und einander
komplettierenden Kacheln verwendbar, die eine lückenlos ge
schlossene Parkettierung liefern.
Die Verbindungsfugen zwischen den Kacheln können, wenn der An
wendung zuträglich, auch dazu benutzt werden, ein Netzwerk von
Gräben (Strukturierung der Arbeitsscheiben-Oberseite, "gewaf
felte" Arbeitsscheiben) zum gleichmäßigeren Verteilen von Po
lier-, Läpp- oder Schleifmittel oder zum schnelleren Abtrans
port von Abrieb aus der Bearbeitungszone zu formen. Dazu können
mit Vorteil für eine vereinfachte Handhabung bereits während
des Herstellungsprozesses einfach Fasen (Abschrägungen; Brechen
der Kanten) oder Falze (Gräben) an den Kachelkanten angebracht
werden.
Fig. 5(b) zeigt die Parkettierung eines Obertellers mit gro
ßen Kacheln, ohne Segmentierung; d. h. mit nur einer Kühlmit
telzu- und einer Kühlmittelabführung. Bei der Verwendung derar
tig großer Kacheln wird zweckmäßigerweise, für eine Mäandierung
des Kühllabyrinths innerhalb einer jeden Kachel gesorgt, bei
spielsweise durch Doppelkanäle, wie in Fig. 5(a) dargestellt.
Bei dieser Ausführungsform der Parkettierung sind vier unter
schiedliche Kacheltypen zu verwenden. Der Typ A mit einer Kühl
mittelzu- und einer Kühlmittelabführung wird einmal für den
zentralen Mittelring verwendet; Typ B wird sechsmal für die
Parkettierung des Obertellerringes gebraucht; Typ C und Typ D
werden je sechsmal für den Randbereich verwendet. Fig. 5(c)
zeigt die Parkettierung eines Obertellers mit mittelgroßen Ka
cheln und einem dreifach segmentierten Kühllabyrinth.
Die Kacheln sind vorzugsweise über die Fugen, mit beispielswei
se Epoxydharz, Silicon oder durch Hartlötung verklebt bzw. ver
lötet, wodurch eine geschlossene, kompakte Lage entsteht. Wenn
die Kacheln aus Sinterkeramik hergestellt werden, ist die Maß
haltigkeit aufgrund der Reproduzierbarkeit des Sinterprozesses
sehr groß. Es resultiert eine sehr geringe Fugenbreite, so daß
der laterale Wärmeaustausch innerhalb der Kachelschicht, d. h.
von Kachel zu Kachel, hoch bleibt, und zwar auch bei Wahl eines
Verbindungsstoffes mit an sich schlechter Wärmeleitung. Zusätz
lich erhöht sich durch schmale Fugen die Gesamtsteifigkeit der
Kachellage in vorteilhafter Weise. Zweckmäßigerweise erfolgt
die Montage der einzelnen Kacheln zum Verbund eines geschlosse
nen Obertellers in einer externen Montage- oder Aufspannvor
richtung mit gleichem Wärmeausdehnungskoeffizienten oder wäh
rend der Verklebung mit einer thermisch isolierenden Zwischen
schicht. Eine weitere Erhöhung der Gesamtsteifigkeit, einer
Verbesserung des Wärmeüberganges zwischen den Kacheln und einer
Entlastung der die Kacheln verbindenden Klebefuge wird in einer
aus Kacheln zusammengesetzten Arbeitsscheibenlage durch Kacheln
mit komplementär ineinandergreifenden Seiten ("Verzahnen") er
zielt (beispielsweise "Nut und Feder" oder "Schwalbenschwanz"
usw.).
Fig. 4 zeigt einen mehrlagigen Polierteller im unteren Bild
teil; im oberen Bildteil dessen Explosionsdarstellung. In die
ser bevorzugten Ausführungsform ist die Oberfläche des wiederum
aus mehreren Einzellagen aufgebauten Obertellers 3 mit einem
Poliertuch bespannt. Dargestellt sind die Außen- (1) und Innen
verzahnung (2) der Abwälzvorrichtung für die Läpp- oder Polier
käfige zur Aufnahme der Substratscheiben. Das luftundurchlässi
ge Poliertuch (3) ist vorzugsweise durch Vakuumansaugung auf
der Oberfläche des Obertellers befestigt. Die Außen- (5) und
Innendichtringe dienen als Abschluß zwischen dem Poliertuch und
einer porösen, luftdurchlässigen Schicht (20) aus beispielswei
se SiC. Diese Schicht ist aus einem Stück oder aus Kacheln auf
gebaut und gegebenenfalls mit Luftkanälen durchzogen, um eine
gleichmäßige Evakuierung auf der gesamten Fläche zu gewährlei
sten. Unterhalb der porösen Schicht (20) befindet sich eine
Zwischenlage (21) aus einem Material mit guter Wärmeleitfähig
keit, geringem Wärmeausdehnungskoeffizienten und geringer Wär
mekapazität. Dies kann beispielsweise eine einfache Epoxydharz
verklebung sein, deren Schichtdicke aufgrund der Maßhaltigkeit
der u. a. deshalb auch bevorzugt verwendeten Sinterkeramiken so
gering ausfällt, daß eine gute Wärmebrücke zur darunterliegen
den Schicht (3) gewährleistet ist. Die Schicht (3), die erfin
dungsgemäß aus einem Stück oder aus Kacheln besteht, ist funk
tionell und in der Ausführung identisch mit dem Oberteller im
oben beschriebenen Ausführungsfall eines lagenweise zusammenge
setzten Poliertellers mit genau nur drei Lagen gemäß Fig. 1
(dreilagiger Polierteller mit durchgehendem Oberteller) und
Fig. 3 (dreilagiger Polierteller mit aus Kacheln (9) zusammenge
setztem Oberteller (3)).
Für einen dreilagigen Polierteller (Fig. 1 und 3) ist der Ober
teller (3) bevorzugt mit einem "vergrabenen" Kühllabyrinth ver
sehen oder er trägt das Kühllabyrinth auf seiner Unterseite, da
dann das Labyrinth durch die untergeklebte thermisch isolieren
de Zwischenlage (4) abgedichtet wird. Unter einem "vergrabenen"
Labyrinth sei hier ein solches verstanden, das sich ergibt,
wenn die einzelnen Kacheln (9) in Fig. 1 bzw. der durchgängig
ausgeführte Oberteller (3) in Fig. 2 aus spiegelsymmetrischen
oberen und unteren jeweiligen Kachelhälften bzw. Schichthälften
bestehen, die innenseitig auf der Oberhälfte, der Unterhälfte
oder auf beiden den vollständigen Kühlkanal bzw. die Hälfte
desselben besitzen. Diese Kachelhälften werden dauerhaft zusam
mengefügt, beispielsweise geklebt oder gelötet und weisen damit
eine ober- und unterseitig geschlossene ("vergrabene") Kühlka
nalbohrung auf.
Hierbei wird die Ausführung von Halbkacheln mit symmetrischer
Verteilung des Kühlkanalquerschnitts auf obere und untere Ka
chelhälfte bevorzugt, da die dann zum Einsatz kommenden Kacheln
genau spiegelsymmetrisch und in einigen Fällen daher sogar
identisch sind (beispielsweise Kachel (14) in Fig. 3; abhängig
von der Auslegung des Kühllabyrinths) und somit vorteilhaft mit
einem Sinterformensatz hergestellt werden können. Ferner ist
bei Kachelhälften mit symmetrischen Kühlkanalhalbprofilen das
Aspektverhältnis aus (halber) Kühlkanaltiefe zu Kühlkanalbreite
kleiner, was Vorteile beim Pressen und Entformen der Sinter
grünlinge mit sich bringt.
Bei einer Ausführung des Poliertellers (3), (4), (5) mit mehr
als drei Lagen (Oberste Schicht (20) des Obertellers = Vakuum
ansaugung zum klebefilmfreien Halten des Poliertuchs) (17);
Fig. 4 kann diese Einschränkung in der Ausführung von Schicht (3)
mit einem vergrabenen oder auf der Unterseite eingeformten
Kühlkanal entfallen, und Schicht (3) auch oberseitig mit einem
Kühllabyrinth versehen werden, falls die dann zusätzlich erfor
derliche Dichtungsschicht (20) gleichzeitig vorteilhafterweise
zum Dichten der porösen Vakuumansaugschicht (20) verwendet wer
den kann. Die Dichtungsschicht (21) kann somit auch mit dem
Vorteil einer einfacheren Gesamt-Konstruktion entfallen, wenn
eine der folgenden Bedingungen an die konstruktive Ausführung
der Schichten erfüllt ist:
- - entweder: Schicht (20) besitzt keinen, einen vergrabenen oder einen unterseitigen Vakuumverteilkanal und Ober teller (3) besitzt ein vergrabenes oder unterseitiges Kühllabyrinth;
- - oder: Schicht (20) besitzt keinen oder einen vergrabenen Vakuumverteilkanal und Oberteller (3) besitzt ein ober seitiges, vergrabenes oder unterseitiges Kühllabyrinth.
Der besondere Vorteil liegt in der Flexibilität der Konstrukti
on. Die Wahl kann also flexibel den Erfordernissen des Prozes
ses und dem Vorteil einer möglichst einfachen und kostengünsti
gen Kachel- oder Schichtherstellung gehorchen (Sinterformen bei
Sinterkeramik; Fräsen, Gießen bei Metallen usw.). Der erfin
dungsgemäße Polierteller kann in allen Vorrichtungen Verwendung
finden, die eine Planarisierung von Werkstücken, wie beispiels
weise Halbleiterscheiben oder Computerfestplatten, sogenannten
Hard-Disks, die als durch ein- oder doppelseitige Bearbeitung
mit einer Arbeitsscheibe bzw. zwischen zwei Arbeitsscheiben zum
Ziel haben. Unter anderem sind hier zu nennen Einseiten- und
Zweiseiten-Polier-, Schleif- oder Läppmaschinen.
Claims (6)
1. Polierteller zum Läppen, Schleifen oder Polieren scheiben
förmiger Werkstücke, gekennzeichnet durch eine obere Schicht
("Oberteller") (3), die von einem Kühllabyrinth durchzogen ist,
eine thermisch isolierende Zwischenlage (4) und eine untere
Schicht ("Unterteller") (5), die von einem zweiten, Kühllaby
rinth durchzogen ist.
2. Polierteller nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der Oberteller ein- oder mehrteilig ausgebildet ist und von zu
mindest einem unabhängigen Kühllabyrinth durchzogen ist.
3. Verfahren zur Einstellung und Regelung der Planarität ei
nes Poliertellers zum Läppen, Schleifen oder Polieren von Sub
stratscheiben, dadurch gekennzeichnet, daß der Unterteller ei
nes zumindest dreilagigen Poliertellers temperiert wird und
dann die Temperatur konstant gehalten wird und der Oberteller
der gesamten Arbeitsscheibe temperiert wird und die Temperatur
dem jeweiligen Polierprozeß angepaßt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die
Temperierung des Untertellers und des Obertellers über die
Durchflußmenge oder die Durchflußtemperatur des Kühlmittels,
das die unabhängigen Kühllabyrinthe durchströmt, erfolgt.
5. Verfahren nach Anspruch 3 oder Anspruch 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß durch die Temperierung des Untertellers stationä
re Wärmeverhältnisse in der Poliervorrichtung geschaffen wer
den.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch ge
kennzeichnet, daß durch die Temperierung des Obertellers varia
ble Wärmeverhältnisse in dem Polierspalt geschaffen werden.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1999154355 DE19954355A1 (de) | 1999-11-11 | 1999-11-11 | Polierteller und Verfahren zur Einstellung und Regelung der Planarität eines Poliertellers |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE1999154355 DE19954355A1 (de) | 1999-11-11 | 1999-11-11 | Polierteller und Verfahren zur Einstellung und Regelung der Planarität eines Poliertellers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19954355A1 true DE19954355A1 (de) | 2001-05-23 |
Family
ID=7928742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE1999154355 Withdrawn DE19954355A1 (de) | 1999-11-11 | 1999-11-11 | Polierteller und Verfahren zur Einstellung und Regelung der Planarität eines Poliertellers |
Country Status (1)
Country | Link |
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