DE19847991A1 - Optical signal within a reflectometry interference spectroscopy facilitates local, simultaneous reference classification over the entire illuminated micro-titration tray - Google Patents

Optical signal within a reflectometry interference spectroscopy facilitates local, simultaneous reference classification over the entire illuminated micro-titration tray

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DE19847991A1 DE1998147991 DE19847991A DE19847991A1 DE 19847991 A1 DE19847991 A1 DE 19847991A1 DE 1998147991 DE1998147991 DE 1998147991 DE 19847991 A DE19847991 A DE 19847991A DE 19847991 A1 DE19847991 A1 DE 19847991A1
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Abstract

A process classifies a signal measured within a reflectometry interference spectroscopy process. In the process, a number of samples are held on a sample tray, which has an upper surface bearing a number of layers of defined optical qualities positioned between the samples. The optical surface qualities between the samples have the required fixed reflective and/or interference characteristics to provide the reference values.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Anordnung zur Referenzierung des Meßsignals bei einem reflektometrischen Interferenz-Spektroskopie-Verfahren (RIfS-Verfahren) zum Nachweis von physikalischen, chemischen, biologischen oder biochemischen Reaktionen und Wechselwirkungen.The invention relates to an arrangement for referencing the measurement signal a reflectometric interference spectroscopy method (RIfS method) for Evidence of physical, chemical, biological or biochemical reactions and interactions.

Ein Verfahren und eine Einrichtung zur Durchführung von Tests physikalischer, chemischer, biologischer oder biochemischer Reaktionen und Wechselwirkungen nach dem RIfS-Verfahren sind in der DE 196 15 366 A1 beschrieben. Dabei wird eine Vielzahl von Proben, die auf einer Probenträgerplatte flächenhaft oder matrixartig angeordnet sind, mit Licht unterschiedlicher Wellenlänge bestrahlt und die reflektierten Strahlintensitäten, die durch Interferenzen an der RIfS-Schicht der Probenträgerplatte und der darüberliegenden sensitiven Schicht beeinflußt werden, als wellenlängenabhängiges Interferenzspektrum aufgezeichnet und zur Ableitung von Parametern, die die zu untersuchenden Reaktionen und Wechselwirkungen kennzeichnen, benutzt. Die eigentlichen Messungen erfolgen in Bruchteilen einer Sekunde. Störende Schwankungen der Farbtemperatur, der Intensität und der lokalen Ausleuchtung, verursacht durch Schwankungen der Beleuchtung, liegen in diesem Zeitbereich. Für hochgenaue Messungen mit einem bei dem RIfS-Verfahren nach DE 196 15 366 A1 verwendeten RIfS- Screening-Modul ist daher eine präzise Referenzierung des Meßsignals notwendig.A method and a device for performing tests of physical, chemical, biological or biochemical reactions and interactions the RIfS method is described in DE 196 15 366 A1. Doing a variety of samples that are arranged in a flat or matrix-like manner on a sample carrier plate, irradiated with light of different wavelengths and the reflected beam intensities, caused by interference on the RIfS layer of the sample carrier plate and the sensitive layer above can be influenced as a wavelength-dependent Interference spectrum recorded and used to derive parameters that lead to the identify investigating reactions and interactions. The actual measurements take place in fractions of a second. Disturbing fluctuations the color temperature, the intensity and the local illumination caused by Lighting fluctuations are within this time range. For highly accurate Measurements with an RIfS used in the RIfS method according to DE 196 15 366 A1 Screening module therefore requires a precise referencing of the measurement signal.

Mit einer solchen Referenzierung muß erreicht werden, daß lokale laterale und zeitliche Schwankungen in der eingestrahlten Lichtintensität sicher erfaßt werden. Um dieses zu erreichen, ist eine Signalreferenzierung zeitgleich zur Messung über lokale Bereiche notwendig, welche in ihrer Summe eine lokale und zeitlich gleiche Referenzierung über die Fläche der verwendeten Probenträgerplatte ermöglicht. Die Probenträgerplatte kann dabei die Form einer Mikrotiterplatte oder die Form einer einfachen ebenen Platte besitzen. Die Mikrotiterplatte kann aus einer Bodenplatte und einer Kavitätenplatte zusammengesetzt sein.Such referencing must ensure that local lateral and temporal Fluctuations in the incident light intensity can be reliably detected. To do this signal referencing is simultaneous with measurement over local areas necessary, which in their total has a local and temporally identical referencing via the Surface of the sample carrier plate used allows. The sample carrier plate can have the shape of a microtiter plate or the shape of a simple flat plate. The Microtiter plates can be composed of a base plate and a cavity plate his.

Beim Verfahren und bei einer Einrichtung zum Nachweis physikalischer, chemischer, biologischer und biochemischer Reaktionen und Wechselwirkungen nach der DE 196 15 366 A1 ist eine keilförmige, optisch wirksame Platte zur Ausblendung eines Referenzstrahlenganges und zur Erzeugung eines Referenzsignals vorgesehen. Durch die beschriebene Einrichtung ist jedoch je nach Ausführung lediglich ein sequentieller Meß- und Referenzierungsprozeß möglich, ohne eine lokale, simultane Referenzierung über die gesamte, ausgeleuchtete Mikrotiterplatte zu ermöglichen.In the method and in a device for the detection of physical, chemical, biological and biochemical reactions and interactions after the DE 196 15 366 A1 is a wedge-shaped, optically effective plate for hiding a Reference beam path and provided for generating a reference signal. By  However, the device described is only a sequential, depending on the version Measuring and referencing process possible without local, simultaneous referencing across the entire illuminated microtiter plate.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Anordnung zur Referenzierung des Meßsignals bei einem RIfS-Verfahren zum Nachweis von physikalischen, chemischen, biologischen oder biochemischen Reaktionen und Wechselwirkungen zu schaffen, welche eine lokale, simultane Referenzierung über die gesamte, ausgeleuchtete Mikrotiterplatte ermöglicht.The invention has for its object an arrangement for referencing the Measurement signal in an RIfS method for the detection of physical, chemical, to create biological or biochemical reactions and interactions which local, simultaneous referencing across the entire illuminated microtiter plate enables.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe bei einer Anordnung zur Referenzierung des Meßsignals gemäß dem Oberbegriff des ersten Patentanspruchs mit den im kennzeichnenden Teil dieses Anspruchs angegebenen Mitteln gelöst. In den weiteren Unteransprüchen sind weitere Ausgestaltungen der Erfindung und Einzelheiten beschrieben.According to the invention, this object is achieved with an arrangement for referencing the Measuring signal according to the preamble of the first claim with the im characterizing part of this claim specified means solved. In the rest Sub-claims are further refinements of the invention and details described.

So ergibt sich eine vorteilhafte Anordnung mit einer Probenträgerplatte, welche als eine aus Boden- und Kavitätenplatte zusammengesetzte Mikrotiterplatte ausgebildet ist, wobei Boden- und Kavitätenplatte miteinander durch eine Klebe- oder Kittschicht flüssigkeitsdicht verbunden sind, wenn die Klebe- oder Kittschicht auf den miteinander verbundenen Platten und/oder die Bodenplatte selbst mindestens im Bereich zwischen den Kavitäten und/oder in einem über den Kavitätenbereich der Kavitätenplatte hinausreichenden Bereich (Rand) der Bodenplatte derart optisch wirksam ausgebildet ist, daß in diesen Bereichen für die Referenzierung geeignete feste Reflexions- und Interferenzverhältnisse existieren.This results in an advantageous arrangement with a sample carrier plate, which as one microtiter plate composed of bottom and cavity plate is formed, wherein Base and cavity plate with each other through an adhesive or kit layer are connected liquid-tight when the adhesive or kit layer on the with each other connected plates and / or the base plate itself at least in the area between the cavities and / or in one over the cavity area of the cavity plate extending area (edge) of the base plate is optically effective, that in these areas suitable for the referencing fixed reflection and Interference conditions exist.

So ist es vorteilhaft für die Erzeugung geeigneter auswertbarer Meß- und Interferenzsignale, daß Meß- und Referenzstrahlengang bezüglich ihres Abstandes zur optischen Achse an dicht benachbarten Orten im Strahlengang erzeugt werden. Auf diese Weise werden örtlich bedingte, die Meß- und Referenzsignal beeinflussende Schwankungen lokal erfaßt. Dies erfolgt vorteilhaft durch die Erzeugung des Referenzsignals in den Zwischenräumen zwischen den matrixförmig angeordneten Proben auf der Probenträgerplatte und/oder im über den Bereich der Proben hinausreichenden Randbereich.So it is advantageous for the generation of suitable evaluable measuring and Interference signals that measuring and reference beam path with respect to their distance from optical axis are generated at closely adjacent locations in the beam path. To this Local, influencing the measurement and reference signal are thus Fluctuations recorded locally. This is advantageously done by generating the Reference signal in the spaces between the arrayed Samples on the sample carrier plate and / or in the area of the samples extending edge area.

So ergibt sich auch eine vorteilhafte Anordnung mit einer Klebe- oder Kittschicht zwischen den miteinander verbundenen Platten, wenn diese Schicht mindestens im Bereich zwischen den Kavitäten und/oder in dem über den Bereich der Kavitäten hinausreichenden Bereich (Rand) der Bodenplatte an in der Kavitätenplatte in diesen Bereichen vorgesehene, gasgefüllte Hohlräume grenzt und für die Referenzierung geeignete feste Reflexions- und Interferenzverhältnisse besitzt. Diese Hohlräume können luftgefüllt sein oder ein anderes Gas, z. B. Stickstoff, enthalten. Auch kann es von Vorteil sein, diese Hohlräume zu evakuieren, um in diesen Bereichen genau definierte Reflexions- und Interferenzbedingungen zu erzeugen.This also results in an advantageous arrangement with an adhesive or kit layer between the interconnected panels if this layer is at least in the area between the cavities and / or in the over the area of the cavities  Extending area (edge) of the base plate in the cavity plate in this Areas provided, gas-filled cavities and borders for referencing has suitable fixed reflection and interference ratios. These cavities can be filled with air or another gas, e.g. B. nitrogen. It can also be beneficial be to evacuate these cavities to precisely defined in these areas To generate reflection and interference conditions.

Bei einer Anordnung einer aus Boden- und Kavitätenplatte zusammengesetzten Probenträgerplatte, ist es vorteilhaft, der optisch wirksamen, zwischen Boden- und Kavitätenplatte angeordneten Klebe- oder Kittschicht gezielte Reflexions- oder Absorptionseigenschaften zu geben. Auf diese Weise kann diese Schicht allein oder zusammen mit der darüberliegenden Kavitätenplatte definiert oder diffus reflektierend ausgebildet sein. Dadurch entstehen im Bereich zwischen den Kavitäten wieder feste und definierte Reflexions- und Interferenzbedingungen, so daß das Signal, welches aus diesem Bereich gewonnen wird, zur Referenzierung verwendet werden kann.In the case of an arrangement of a base and cavity plate Sample carrier plate, it is advantageous to optically effective, between bottom and Cavity plate arranged adhesive or kit layer targeted reflection or To give absorption properties. In this way, this layer alone or defined together with the overlying cavity plate or diffusely reflective be trained. This creates solid and in the area between the cavities Defined reflection and interference conditions, so that the signal that comes from this area is obtained, can be used for referencing.

Eine andere Anordnung zur Referenzierung des Meßsignals bei dem RIfS-Verfahren ergibt sich, wenn auf der Probenträgerplatte im Bereich zwischen den Wells oder in ihrem Randbereich auf der der Lichtquelle zugewandten Oberfläche (Unterseite) eine Beschichtung vorgesehen ist, die definierte Reflexions- und/oder Interferenzverhältnisse bewirkt. Eine solche Beschichtung kann z. B. in Siebdrucktechnik auf die entsprechenden Oberflächen aufgebracht werden. Auch ist es möglich, eine für das eingestrahlte Licht nicht transparente Schicht mit einem dem Tintenstrahldruckverfahren analogen Verfahren zu erzeugen. Die der Referenzierung dienende Beschichtung kann auch durch Aufdampfung als eine strukturierte, nicht transparente Schicht auf die Bodenplatte aufgebracht sein.Another arrangement for referencing the measurement signal in the RIfS method arises if on the sample carrier plate in the area between the wells or in their Edge area on the surface facing the light source (underside) Coating is provided, the defined reflection and / or interference ratios causes. Such a coating can e.g. B. in screen printing on the corresponding Surfaces are applied. It is also possible to use one for the incident light non-transparent layer with a method analogous to the inkjet printing process to create. The coating used for referencing can also be made by Evaporation as a structured, non-transparent layer on the base plate be upset.

Die Erfindung soll nachstehend an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert werden. In der Zeichnung zeigenThe invention will be explained in more detail below using an exemplary embodiment. In show the drawing

Fig. 1 eine Explosivdarstellung einer Mikrotiterplatte mit Kavitäten- und Bodenplatte, Fig. 1 is an exploded view of a microtiter plate with cavity and the bottom plate,

Fig. 2 einen Schnitt A durch die Bodenplatte, Fig. 2 is a section A through the bottom plate,

Fig. 3 den Strahlengang innerhalb der Bodenplatte und Referenzierung zwischen den Wells, Fig. 3 shows the optical path within the base plate and referencing between the wells,

Fig. 4 den Strahlengang innerhalb der Bodenplatte und Referenzierung im Bereich eines gasgefüllten Hohlraums zwischen den Wells, Fig. 4 shows the optical path within the base plate and referencing the region of a gas-filled cavity between the wells,

Fig. 5 den Strahlengang mit Referenzierung an nicht transparenter, reflektierender Bedruckung an der Unterseite der Bodenplatte, Fig. 5 shows the beam path with referencing to non-transparent reflective printing on the underside of the bottom plate,

Fig. 6 eine Ansicht auf einen Teil der Bodenplatte mit Reflexionsschicht von unten und Fig. 6 is a view of part of the base plate with a reflective layer from below and

Fig. 7 den Strahlengang bei einer Referenzierung im Randbereich der matrixartig angeordneten Proben. Fig. 7 shows the beam path at a referencing the periphery of the arrayed samples.

Die Explosivdarstellung nach Fig. 1 zeigt eine bei dem RIfS-Verfahren verwendete Mikrotiterplatte, bestehend aus einer Bodenplatte 1 und einer Kavitätenplatte 2, welche durch eine Verklebung 3 fest und flüssigkeitsdicht miteinander verbunden sind. In der Kavitätenplatte 2 sind die Kavitäten oder Wells 4 in der Form durchgehender Löcher angeordnet, in denen die zu untersuchenden Proben eingefüllt werden können. Die Verklebung 3 oder Kittung erfolgt nur an den einander zugekehrten Flächen der Boden- 1 und Kavitätenplatte 2, die Bereiche 5 der Bodenplatte, welche den Boden der Wells 4 bilden, bleiben davon ausgespart und sind nicht von einer Klebe- oder Kittschicht belegt.The exploded view of Fig. 1 shows a microtiter plate used in the RIfS method, consisting of a base plate 1 and a cavity plate 2, which are joined together by an adhesive 3 firm and liquid-tight. The cavities or wells 4 are arranged in the form of through holes in the cavity plate 2 , in which the samples to be examined can be filled. The gluing 3 or cementing takes place only on the mutually facing surfaces of the base plate 1 and cavity plate 2 , the regions 5 of the base plate, which form the base of the wells 4 , remain free of this and are not covered by an adhesive or kit layer.

Fig. 2 zeigt einen vergrößerten Schnitt A durch die Bodenplatte 1, die mit entsprechenden Beschichtungen belegt ist. Auf der Bodenplatte 1, vorzugsweise aus Floatglas oder BK7 bestehend, ist auf der unteren, einer nicht dargestellten Lichtquelle zugewandten Oberfläche eine Antireflexionsschicht 6 aufgebracht, welche einen weitgehend verlustarmen Eintritt des Lichtes in die Bodenplatte 1 gewährleistet. Auf der oberen, der Probe zugewandten Oberfläche der Bodenplatte 1 sind in einer vorteilhaften Ausgestaltung in der Reihenfolge vorteilhaft eine Schicht 7 aus einem hochbrechenden Material, wie z. B. Ta2O5 oder TiO2, eine Schicht 8 aus einem niedrigbrechenden Material, wie z. B. SiO2, und darauf eine sog. Sensibilisierungsschicht 9, vorteilhaft ein an sich bekanntes Hydrogel, wie Dextran, Polyethylenglycol u. a., angeordnet. Diese Sensibilisierungsschicht 9 erstreckt sich vorteilhaft nur in dem Bereich der Böden der Wells oder Kavitäten 4, kann aber auch als eine durchgehende Schicht ausgebildet sein. Fig. 2 shows an enlarged section A through the base plate 1 , which is covered with appropriate coatings. On the base plate 1 , preferably consisting of float glass or BK7, an antireflection layer 6 is applied to the lower surface facing a light source, not shown, which ensures a largely low-loss entry of the light into the base plate 1 . On the upper surface of the base plate 1 facing the sample, a layer 7 made of a highly refractive material, such as, for example, is advantageous in the sequence in an advantageous embodiment. B. Ta 2 O 5 or TiO 2 , a layer 8 of a low-index material, such as. B. SiO 2 , and a so-called. Sensitization layer 9 , advantageously a hydrogel known per se, such as dextran, polyethylene glycol, etc., is arranged. This sensitization layer 9 advantageously extends only in the area of the bottoms of the wells or cavities 4 , but can also be designed as a continuous layer.

Bei der Anordnung gemäß der Fig. 3 ist der Strahlengang innerhalb der Bodenplatte 1 dargestellt, wobei gleiche Bezugszeichen für gleiche Teile wie in den Fig. 1 und 2 verwendet werden. Hierbei sind entsprechende Maßnahmen im Bereich zwischen den Wells oder Kavitäten 4 zur Erzeugung des für die Referenzierung notwendigen Referenzstrahls getroffen. Das ist durch eine geeignete Gestaltung der Klebe- oder Kittschicht zwischen der Bodenplatte 1 und der Kavitätenplatte 2 erfolgt, derart, daß im Bereich zwischen den Wells oder Kavitäten 4 die Klebe- oder Kittschicht 3.1 nicht oder diffus reflektierend oder auch definiert reflektierend oder absorbierend ausgebildet ist, um zu erreichen, daß an der Grenzschicht zwischen SiO2/Sensibilisierungsschicht und der Klebe- oder Kittschicht definierte und feste Reflexions- und Interferenzverhältnisse vorliegen. In the arrangement according to FIG. 3, the beam path is shown within the base plate 1 , the same reference numerals being used for the same parts as in FIGS. 1 and 2. Corresponding measures have been taken in the area between the wells or cavities 4 to generate the reference beam necessary for the referencing. This is done by a suitable design of the adhesive or kit layer between the base plate 1 and the cavity plate 2 , such that in the area between the wells or cavities 4 the adhesive or kit layer 3.1 is not or diffusely reflective or also defined reflective or absorbent in order to ensure that defined and fixed reflection and interference conditions are present at the boundary layer between SiO 2 / sensitizing layer and the adhesive or kit layer.

Das eingestrahlte Licht Imess des Meßstrahls wird nach Durchgang durch die Bodenplatte 1 mit den aufgebrachten Schichten 6, 7 und 8 und durch die Sensibilisierungsschicht 9 an der Grenzfläche Probe 10 - Schicht 9 reflektiert und verläßt nach abermaligem Durchlauf der obigen Schichten 9 bis 6 als Lichtbündel Irmess die Bodenplatte 1 in Richtung einer nicht dargestellten Auswerteeinrichtung. Ein Teil des eingestrahlten Lichtes Iref trifft nach dem Durchlaufen der Bodenplatte 1 und der Schichten 7 und 8 auf einen zwischen den Wells oder Kavitäten 4 liegenden Bereich 11 zwischen Bodenplatte 1 und Kavitätenplatte 2 und verläßt als Lichtbündel Irref ebenfalls die Bodenplatte 1 in Richtung Auswerteeinrichtung. Je nach Ausbildung der Klebe- oder Kittschicht werden so die Teilstrahlen erzeugt oder sie werden unterdrückt. Das definierte Referenzsignal wird durch Interferenz der Teilstrahlen a, b, c und optional d und e erzeugt. In Fig. 3 sind Mehrfachreflexionen nicht eingezeichnet. Irmess und Irref werden in einem nicht dargestellten Auswertestrahlengang jeweils für sich zur Interferenz gebracht und aus den Interferenzsignalen wird ein Meßsignale erzeugt, welches als Nachweis für physikalische, chemische, biochemische und biologische Reaktionen und Wechselwirkungen dienen kann. Interferometrisch ausgewertet werden dadurch Dicken- und Brechungsindexveränderungen der Sensibilisierungsschicht 9, die sich infolge der Ein- oder Anlagerung bzw. des umgekehrten Prozesses des zu untersuchenden Stoffes ergeben.The incident light I measurement of the measuring beam, after passing through the base plate 1 with the applied layers 6, 7 and 8 and by the sensitizing layer 9 at the interface Sample 10 - reflecting layer 9 and exits After re-run of the above layers 9 to 6 as a light beam I rmess the base plate 1 in the direction of an evaluation device, not shown. After passing through the base plate 1 and the layers 7 and 8, part of the incident light I ref strikes an area 11 between the base plate 1 and the cavity plate 2 lying between the wells or cavities 4 and, as a light bundle I rref, likewise leaves the base plate 1 in the direction of the evaluation device . Depending on the formation of the adhesive or kit layer, the partial beams are generated or suppressed. The defined reference signal is generated by interference of the partial beams a, b, c and optionally d and e. Multiple reflections are not shown in FIG. 3. I rmess and I rref are individually brought to interference in an evaluation beam path , not shown, and a measurement signal is generated from the interference signals, which can serve as evidence for physical, chemical, biochemical and biological reactions and interactions. Changes in the thickness and refractive index of the sensitization layer 9 , which result as a result of the incorporation or attachment or the reverse process of the substance to be examined, are evaluated interferometrically.

Bei der Anordnung nach Fig. 4 sind im Bereich zwischen den Wells 4 im Bereich der Verklebung zwischen Bodenplatte 1 und Kavitätenplatte 2 Hohlräume 12 vorgesehen, derart, daß das die Bodenplatte 1 und die darauf befindlichen Schichten 7 und 8 durchlaufende Referenzlichtbündel Iref an einer gegen ein Gas oder gegen ein evakuiertes Volumen grenzende Fläche 13 reflektiert wird und als Beitrag zum Referenzstrahl Irref die Bodenplatte 1 wieder verläßt. Durch die Schaffung dieses gasgefüllten oder evakuierten Hohlraumes 12 werden für den Referenzstrahl konstante optische Verhältnisse geschaffen, so daß definierte Reflexions- und Interferenzverhältnisse vorliegen. Die Klebe- oder Kittschicht 3.2 kann im Bereich der Hohlräume 12 unterbrochen oder auch durchgehend sein. In Fig. 4 ist diese Schicht 3.2 unterbrochen. Irmess und Irref werden auch hier wieder in einem nachfolgenden, nicht dargestellten Strahlengang jeweils für sich zur Interferenz gebracht zwecks Erzeugung von Meßsignalen.In the arrangement according to FIG. 4, cavities 12 are provided in the area between the wells 4 in the region of the adhesive bond between the base plate 1 and the cavity plate 2 , such that the reference light beam I ref passing through the base plate 1 and the layers 7 and 8 located thereon is in a counter a gas or against an evacuated volume bordering surface 13 is reflected and leaves the base plate 1 again as a contribution to the reference beam I rref . By creating this gas-filled or evacuated cavity 12 , constant optical conditions are created for the reference beam, so that defined reflection and interference conditions are present. The adhesive or kit layer 3.2 can be interrupted or continuous in the area of the cavities 12 . In FIG. 4, this layer is interrupted 3.2. I rmess and I rref are again brought to interference in a subsequent beam path , not shown, for the purpose of generating measurement signals.

Bei der in Fig. 5 gezeigten Anordnung verläuft die Strahlenführung des einfallenden Lichtes Imess wie in Fig. 3 dargestellt. Das Referenzlichtbündel Iref wird an einer auf der der Lichtquelle (nicht dargestellt) zugewandten Oberfläche der Bodenplatte 1 aufgebrachten Reflexionsschicht 14 reflektiert. Diese Schicht 14 ist auf der Bodenplatte 1 aufgebracht und verläuft zur Vermeidung von Schatten streifenweise in Richtung des einfallenden Lichtes zwischen den Wells 4, Wie es aus Fig. 6 ersichtlich ist. Gestrichelt sind in dieser Fig. 6 die durch die Bodenplatte 1 hindurch sichtbaren Wells 4 dargestellt. Die reflektierten Lichtbündel Irmess und Irref werden auch bei dieser Anordnung nach Fig. 5, wie oben beschrieben, in an sich bekannter Weise zur nachfolgenden Auswertung verwendet.In the arrangement shown in FIG. 5, the beam guidance of the incident light I mess is as shown in FIG. 3. The reference light beam I ref is reflected on a reflection layer 14 applied to the surface of the base plate 1 facing the light source (not shown). This layer 14 is applied to the base plate 1 and, in order to avoid shadows, extends in strips in the direction of the incident light between the wells 4 , as can be seen from FIG. 6. The wells 4 visible through the base plate 1 are shown in dashed lines in FIG. 6. The reflected light beams I rmess and I rref are also used in this arrangement according to FIG. 5, as described above, in a manner known per se for the subsequent evaluation.

Fig. 7 zeigt eine aus Bodenplatte 1 und Kavitätenplatte 2 bestehende Mikrotiterplatte für das RIfS-Verfahren, bei welcher der zur Referenzierung erforderliche Referenzstrahl Irref durch Reflexion des einfallenden, die Bodenplatte 1 durchdringenden Lichtbündels Iref an einem Oberflächenbereich 15, welcher über den Bereich der Kavitäten (Randbereich) hinausreicht, erzeugt wird. FIG. 7 shows a microtiter plate consisting of base plate 1 and cavity plate 2 for the RIfS method, in which the reference beam I rref required for referencing by reflection of the incident light beam I ref penetrating the base plate 1 at a surface area 15 which extends over the area of Cavities (edge area) extends, is generated.

Claims (8)

1. Anordnung zur Referenzierung des Meßsignals an einer, eine Anzahl Proben tragenden Probenträgerplatte zur Durchführung des RIfS-Verfahrens, dadurch gekennzeichnet,
daß die Probenträgerplatte mit optisch wirksamen Schichten versehene Oberflächen besitzt
und daß mindestens der Bereich zwischen den auf der einen Oberfläche der Probenträgerplatte angeordneten Proben derart optisch wirksam ausgebildet ist, daß in diesem Bereich für die Referenzierung geeignete, feste Reflexions- und/oder Interferenzverhältnisse vorhanden sind.1. Arrangement for referencing the measurement signal on a sample carrier plate carrying a number of samples for carrying out the RIfS method, characterized in that
that the sample support plate has surfaces provided with optically effective layers
and that at least the area between the samples arranged on the one surface of the sample carrier plate is designed to be optically effective in such a way that there are suitable fixed reflection and / or interference ratios for the referencing in this area. 2. Anordnung nach Anspruch 1 mit einer Probenträgerplatte, welche als eine aus Boden- und Kavitätenplatte zusammengesetzte Mikrotiterplatte ausgebildet ist, wobei Boden- und Kavitätenplatte miteinander durch eine Klebe- oder Kittschicht flüssigkeitsdicht verbunden sind, dadurch gekennzeichnet, daß die Klebe- oder Kittschicht auf den miteinander verbundenen Platten und/oder die Bodenplatte selbst mindestens im Bereich zwischen den Wells oder Kavitäten und/oder in einem sich über den Kavitätenbereich der Kavitätenplatte hinaus erstreckenden Bereich (Rand) der Bodenplatte derart optisch wirksam ausgebildet sind, daß in diesen Bereichen für die Referenzierung geeignete feste Reflexions- und Interferenzverhältnisse existieren.2. Arrangement according to claim 1 with a sample support plate, which as a bottom and Cavity plate composite microtiter plate is formed, with bottom and Cavity plate connected to each other in a liquid-tight manner by an adhesive or kit layer are, characterized, that the adhesive or kit layer on the interconnected plates and / or the Bottom plate itself at least in the area between the wells or cavities and / or in an area extending beyond the cavity area of the cavity plate (Edge) of the base plate are so optically effective that in these areas There are suitable fixed reflection and interference ratios for referencing. 3. Anordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, mindestens in dem Bereich der Kavitätenplatte, welcher sich zwischen den Wells oder Kavitäten befindet, in der Kavitätenplatte nach unten durch die Bodenplatte abgeschlossene, gasgefüllte oder evakuierte Hohlräume vorgesehen sind und daß zur Schaffung geeigneter fester Reflexions- und Interferenzverhältnisse im Bereich dieser Hohlräume die Kitt- oder Klebeschicht ausgespart ist.3. Arrangement according to claim 2, characterized in at least in the area of the cavity plate which is between the wells or Cavities located in the cavity plate down through the bottom plate closed, gas-filled or evacuated cavities are provided and that to create suitable fixed reflection and interference ratios in Area of these cavities the putty or adhesive layer is left out. 4. Anordnung nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die optisch wirksam ausgebildete Klebe- oder Kittschicht diffus oder definiert reflektierend ist. 4. Arrangement according to one of the preceding claims, characterized in that the optically effective adhesive or kit layer diffuse or defined reflective is.   5. Anordnung nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die optisch wirksam ausgebildete Klebe- oder Kittschicht als Lichtabsorptionsschicht ausgebildet ist.5. Arrangement according to one of the preceding claims, characterized in that the optically effective adhesive or kit layer as a light absorption layer is trained. 6. Anordnung nach einem der vorgehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Bodenplatte im Bereich zwischen den Wells oder in ihrem Randbereich auf der der Lichtquelle zugewandten Oberfläche (Unterseite) eine, definierte Reflexions- und/oder Interferenzverhältnisse bewirkende Beschichtung vorgesehen ist.6. Arrangement according to one of the preceding claims, characterized in that on the base plate in the area between the wells or in its edge area on the Surface facing the light source (underside) has a defined reflection and / or Coating causing interference is provided. 7. Anordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung eine Siebdruckschicht oder eine Schicht, die mit einem dem Tintenstrahldruckverfahren analogen Verfahren erzeugt wurde, ist und für das eingestrahlte Licht nicht transparent ist.7. Arrangement according to claim 6, characterized in that the coating is a screen printing layer or a layer that is coated with a Inkjet printing process analog process was created, and for that radiated light is not transparent. 8. Anordnung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Beschichtung eine strukturierte, nicht transparente Bedampfungsschicht ist.8. Arrangement according to claim 6, characterized in that the coating is a structured, non-transparent vapor deposition layer.
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